KR0165559B1 - 반송장치 - Google Patents

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KR0165559B1
KR0165559B1 KR1019920015418A KR920015418A KR0165559B1 KR 0165559 B1 KR0165559 B1 KR 0165559B1 KR 1019920015418 A KR1019920015418 A KR 1019920015418A KR 920015418 A KR920015418 A KR 920015418A KR 0165559 B1 KR0165559 B1 KR 0165559B1
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미쓰오 니시
류이치 미조구치
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이노우에 아키라
도오교오 에레구토론 가부시끼 가이샤
다카시마 히로시
도오교오 에레구토론 사가 가부시끼 가이샤
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Abstract

반도체 웨이퍼를 반송하는 회전반송아암이 밀폐용기내에 배열설치된다. 용기에는 개폐가능한 개구부가 형성되고, 이것을 통하여 반송아암이 용기바깥으로 뻗어나오는 것이 가능하게 되어있다. 반송아암의 선단에는 포크가 배열설치된다. 포크에는 여러 개의 웨이퍼를 간격을 두고 배치하는 여러 개의 유지홈이 형성된다. 용기의 상부에는 포크용 크리너가 배열설치된다. 크리너는 변환아암의 선단에 부착된 세정노즐 및 건조노즐(s)을 구비한다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치 사이에서 선회가 가능하게 되어있다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치와의 사이에서 선회가능하도록 되어 있다. 변환아암 또는 포크를 따라서 세정노즐 및 건조노즐을 이동가능하게 되어 있다. 세정 및 건조시, 포크에 대하여 세정노즐로부터 순수한 물이 분출되며 건조노즐로부터 질소가 분출된다.

Description

반송장치
제1도는 본 발명에 관한 반송장치를 가지는 크리닝 시스템의 전체적인 구성을 나타낸 단면도.
제2도는 반송장치의 용기와 세정처리실과의 관계를 나타낸 개략단면도.
제3도는 셔터구동부를 나타낸 단면사시도.
제4도는 셔터의 시일 기구를 나타낸 사시도.
제5도는 셔터의 개방상태를 나타낸 설명도.
제6도는 셔터의 폐쇄상태를 나타낸 설명도.
제7도는 셔터의 부착부를 나타낸 확대단면도.
제8도는 셔터의 구동부의 변경예를 나타낸 단면사시도.
제9도는 반송장치의 크리너를 나타낸 단면도.
제10도는 크리너의 요부를 나타낸 개략 사시도.
제11도는 크리너의 어떤 작동상태를 나타낸 개략측면도.
제12도는 크리너의 다른 작동상태를 나타낸 개략측면도.
제13도는 크리너의 대기상태를 나타낸 개략측면도.
제14도는 크리너의 세정 및 건조노즐과 건조용 가열수단을 나타낸 측면도.
제15도는 크리너의 세정 및 건조노즐과 건조용 가열수단을 나타낸 정면도.
제16도는 크리너의 건조노즐을 나타낸 개략저면도.
제17도는 크리너의 건조노즐의 작동상태를 나타낸 개략평면도.
제18도는 크리너의 건조노즐의 작동상태를 나타낸 개략측면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 용기 2 : 아암
2a : 기초부 2b : 소자
3 : 웨이퍼 유지용 포크 3a : 유지홈
4 : 아암본체 5 : 저부
6 : 부착구멍 7 : 0링
8 : 바깥홈 9, 45 : 개구부
10 : 크리너 11 : 세정노즐
11a : 물받이 12 : 건조노즐
12a : 중앙건조 노즐체 12b : 외측건조 노즐체
12c : 분사구 13 : 위치변환수단
13a : 변환아암 13b : 위치변환용 풀리
13c : 변환용 벨트 13d : 위치변환용 모터
14 : 평행이동수단 14a : 중간아암
14b : 선단아암 14c : 부착플레이트
14d : 짧은 링크 14e : 연접 링크
14f : 링크 기구 14g : 구동축 풀리
14h : 중간풀리 14i : 고정풀리
14j : 타이밍 벨트 14k : 요동링크
14m : 평행이동용 모터 15 : 브라케트
16 : 블록 17 : 적외선 램프
17a : 반사통체 18 : 매니홀드
19a, 19b : 커넥터 20a, 20b : 공급원
21, 22, 23 : 세정처리유니트 24 : 로더
25 : 언로더 26 : 수중로더
27 : 암모니아 처리실 27a : 처리탱크
27b : 전용보트 28 : 수세처리실
29 : 불산처리실 30 : 오버픈도우처리실
31 : 수세파이널린스처리실 32 : 건조처리실
33 : 캐리어 43 : 세정처리실
46 : 셔터 47 : 케이스
47a : 공기공급부 48 : 밀폐실
49 : 가압가스 공급부 50 : 구동수단
51 : N2가스공급원 52 : 모터
53 : 타이밍 벨트 54 : 가동바
55 : 가이드 샤프트(연결축) 55a : 노출부
55b : 화살표 56 : 제1시일기구
56a : 시일부재 56b, 64 : 공간
56c : 연통구멍 57 : 안내축받이
58 : 가동풀리 59 : 종동풀리
60 : 리니어레일 61 : 미끄럼운동구
62 : 밸런서 63 : 제2시일기구
65 : 배기구 66 : 연통로
67, 80 : 덕트 69 : 공기공급용팬
70 : 샤워 노즐 71 : 공급관
72 : 세정액 공급펌프 73, 83 : 출구
73 : 배출관 74 : 드레인관
75 : 기액 분리부 81 : HEPA 필터
82 : 공급공급용 팬 84 : 다공판
85 : 에어실린더 A : 건조 위치
B : 대기위치 W : 웨이퍼
P : 간격 s : 열
본 발명은, 반송장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 반도체 웨이퍼의 크리닝 시스템과 같은 처리 시스템에 있어서, 웨이퍼 반송수단을 격리공간내에서 세정 및 건조가 가능한 크리닝 시스템에 관한 것이다.
반도체 제조공정에서, 반도체 웨이퍼의 표면에 부착한 약액이나 불순물 등을 제거하기 위하여 크리닝 시스템이 사용되고 있다. 크리닝 시스템에는 암모니아 처리탱크, 수세처리탱크, 불산처리탱크 등의 처리탱크를 각각 수납하는 여러 개의 세정처리실이 배열된다. 피처리체인 웨이퍼는 반송수단에 의하여 재치유지되고, 각 처리실 내외에 반입 및 반출된다.
크리닝 시스템에서는, 반송수단에 부착한 처리액이나 먼지 등을 제거하는 수단으로서 크리너가 사용되고 있다. 크리너는 세정노즐과 건조노즐을 이용하여 일반적으로 반소수단의 전 길이에 맞춘 길이의 관에 다수개의 세정노들이나 건조노즐을 설치하여 한 번에 반송수단의 피처리체 유지부 전체를 세정·건조하도록 되어 있다.
그러나 이 구조에 있어서는, 세정노즐 및 건조노즐을 고정한 그대로 세정·건조하는 방식이기 때문에, 동시에 여러 개의 노즐로부터 세정액 및 건조기체를 분사시키는 것으로 된다. 이 때문에, 대유량의 세정액이나 건조기체를 소비하는 것으로 되는 것이라든가 노즐의 점유면적이 크기 때문에, 크리너가 대형으로 된다는 문제가 있다. 또, 반송수단의 전 길이에 걸쳐서 세정노즐 및 건조노즐을 배열하는 것은 제작상의 곤란성을 수반함과 동시에 균일한 분사상태로 하는 것이 곤란하다고 하는 문제도 있다.
크리닝 시스템에서는, 분위기가 외부에 누설하는 것을 방지하기 위하여 각 처리탱크 및 크리너가 용기로 포위된다. 용기에는 웨이퍼의 반입 및 반출용의 개구부가 형성된다. 개구부는 셔터에 의하여 차단되고, 각 용기내의 분위기가외부에 누설하지 않도록 되어 있다. 셔터구동부는 일반적으로 개구부의 하방에 배치된다.
그러나 이 구조에서는, 반송수단이 분위기가 다른 처리실에 대하여 웨이퍼를 반입 및 반출하기 때문에, 반송중의 웨이퍼나 반송수단에 부착한 전(前)처리를 한 약액이 개구부내에 방울져서 떨어지거나 셔터에 떨어질 수가 있다.
또, 개구부내에 방울져서 떨어진 약액은 시일부를 최 하부의 셔터구동부까지 침입하고, 구동부를 부식시킨다고 하는 문제가 있다.
또, 셔터구동부에 발생하는 먼지가 시일부에 부착함과 동시에, 개구부내에 누출하여 웨이퍼를 오염하는 수가 있고, 웨이퍼의 제품율의 저하를 가져온다고 하는 문제도 있다.
따라서 본 발명의 목적은, 적은 세정액 및 건조기체의 소비량으로 반송수단을 균일하게 세정 및 건조할 수 있는 크리너를 가지는 반송장치를 제공하는 것이다.
또 본 발명의 다른 목적은, 피처리체의 반송중에 개구부에 떨어지는 약액에 의한 개폐수단의 구동부의 부식을 방지함과 동시에, 구동부에서 발생하는 먼지의 개구부에의 누출에 의한 피처리체의 오염을 방지하도록 한 반송수단을 제공하는 것이다.
본 발명의 제1의 관점에 있어서, 여러 개의 웨이퍼의 피처리체를 반송하는 장치: 밀폐된 공간을 규정하는 용기(housing)와, 상기 용기에 형성된 개구부와, 상기 용기내에 배열설치된 반송아암과, 상기 아암은 상기 개구부를 통하여, 상기 용기 바깥으로 뻗어나오는 것이 가능한 가동부를 포함하는 것과, 상기 아암의 상기 가동부에 배열설치된 피처리체 유지부와, 상기 유지부가 피처리체를 간격을 두고 배치하는 여러 개의 유지홈을 가지는 것과, 상기 개구부를 밀폐식으로 개폐하는 개폐수단과, 상기 용기내에 배열설치되고 또 상기 유지부에 세정액을 분사하는 세정수단과, 상기 용기내에 배열설치되고 또 상기 유지부에 건조기체를 분사하는 건조수단과, 상기 세정수단 및 건조수단을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 작동위치와 후퇴위치 사이에서 이동시키는 위치변환수단과, 상기 지지부재를 상기 유지부를 따라서 또 상기 유지홈과 직교하는 방향으로 이동시키는 이동수단과, 를 구비하는 것이 제공된다.
상기 위치변환수단은, 지지부재를 직선상으로 선축이동이나 슬라이드시키는 것도 좋으나, 회전이동에 의하여 위치변화를 하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 이것은 기초단이 피보트 부착되고 선단측에 세정노즐 및 건조노즐을 지지하는 변환아암을 모터에 의하여 회전이동시키는 구조로 할 수 있다.
또, 상기 이동수단은 상기 변환수단과 연결동작시키는 것이 바람직하다. 예를들면, 이 기구는, 위치변환용 아암의 자유단측에 연접되며 위치변환용 아암측의 구동원에 의하여 지지수단을 반송아암의 유지부를 따라서 평행이동시키는 4절회전 연쇄링크기구 등에 의하여 형성할 수가 있다.
상기 제1의 관점에 관한 반송장치에 의하면, 하기와 같은 이점을 얻을 수 있다.
1) 세정 및 건조수단을 작동위치와 대기위치 사이에서 변환동작할 수 있기 때문에, 장치점유면적을 작게 할 수 있고, 반송아암의 반송동작에 지장을 가져오지 않는다. 또 반송아암을 따라서 세정 및 건조수단을 이동시켜서 처리를 행하기 때문에, 세정 및 건조수단의 구조를 소형으로 할 수 있음과 동시에, 세정액 및 건조기체의 소비량을 저감하고, 코스트 저렴화를 도모할 수 있다.
2) 반송아암의 피처리체 유지홈을 따라서 세정 및 건조할 수 있기 때문에 세정 및 건조작업을 균일하게 행할 수 있음과 동시에, 세정 및 건조작업의 능률화를 도모할 수 있다.
3) 건조용 가열수단을 배열설치하면, 더더욱 건조의 균일화 및 건조속도의 단축화를 도모할 수 있다.
본 발명의 제2의 관점에 있어서, 피처리체를 반송하는 장치 : 밀폐된 제1공간을 규정하는 용기(housing)와, 상기 용기에 형성된 개구부와, 상기 용기내에 배열설치된 반송아암과, 상기 아암은 상기 개구부를 통하여 상기 용기 바깥으로 뻗어나오는 것이 가능한 가동부를 포함하는 것과, 상기 아암의 상기 가동부에 배열설치된 피처리체 유지부와, 상기 개구부를 밀폐식으로 개폐하는 셔터와, 상기 개구부의 상방에서, 상기 제1공간과 절연된 제2공간을 규정하는 수단과, 상기 제2공간에 수납된 상기 셔터를 구동하는 구동수단과, 상기 용기내에 배열설치되고 또 상기 유지부에 세정액을 분사하는 세정수단과, 상기 용기내에 배열설치되고 또 상기 유지부에 건조기체를 분사하는 건조수단과, 상기 세정수단 및 건조수단을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 작동위치와 후퇴위치 사이에서 이동시키는 위치변환수단과, 를 구비하는 것이 제공된다.
상기 제2의 관점에 관한 반송장치에 의하면, 하기와 같은 이점을 얻을 수 있다.
1) 피처리체의 반송중에 개구부에 방울져서 떨어지는 약액이 셔터구동수단에 침입하는 것이 방지되기 때문에 구동수단의 부식이 방지된다.
2) 셔터와 구동수단을 연결하는 연결축을 안내축받이 내에 의하여 포위하면, 연결축에 부착하는 먼지나 외기 분위기의 피처리체에의 부착을 방지할 수 있다.
3) 안내축받이 내를 가압가스에 의하여 적극적으로 통기시키면, 연결축에 부착한 먼지나 외기 분위기를, 가압가스에 의하여 적극적으로 배기구로부터 외부로 배출할 수 있다.
[실시예]
본 발명의 실시예를 도면에 의거하여 상세히 설명한다.
제1도는, 본 발명에 관한 반송장치를 조립한 크리닝 시스템의 전체 레이아우트를 나타낸 평면도이다.
이 실시예에서는, 3개의 세정처리 유니트(21), (22), (23)로서 크리닝 시스템이 구성된다. 반입측의 세정처리 유니트(21)에는 로더(24)가 접속되며, 반출측의 세정처리 유니트(23)에는 언로더(25)가 접속된다. 또 세정처리 유니트(21), (22) 사이 및 세정처리 유니트(22), (23) 사이에는 수중로더(26)가 배열설치된다.
반입측의 세정처리 유니트(21)에는, 회전반송아암(2)을 가지는 반송장치가 중심에 배열설치된다. 아암(2)은 후술하는 크리너(10)를 내장하는 용기(1)에 수납된다. 용기(1)의 좌측부근 및 로더(24)의 정면에 각각 암모니아 처리실(27) 및 수세처리실(28)이 배열설치된다. 도면중, 부호 3은 아암(2)의 선단에 부착된 웨이퍼 유지용 포크이다. 또, 부호 27a는 처리탱크, 27b는 통 처리탱크의 전용보트이다.
중앙의 세정처리 유니트(22)에서는, 회전반송아암(2)이 수납되는 용기(1)가 중심에 위치한다. 용기(1)의 좌우양측에 수중로더(26)가 배열설치된다. 또, 주위의 전후에 불산처리실(29), 수세 오버플로우 처리실(30)이 배열설치된다.
또, 반출측의 세정처리 유니트(23)에서는, 회전반송아암(2)이 수납되는 용기(1)가 중심에 위치한다. 이 용기(1)의 주위로 언로더의 정면측에는 수세 파이널린스 처리실(31)이 배열설치된다. 또, 용기(1)의 우측 근방에는 건조처리실(32)이 배열설치된다.
제2도는 본 발명의 크리닝 시스템의 세정처리실(43), 예를들면 암모니아 처리실(27)과, 반송아암(2)을 수납하는 반송장치의 용기(1)와의 관계를 나타내는 개략단면도이다. 제2도에서, 회전반송아암(2)용의 크리너(10)에 대해서는 설명의 형편상 생략한다. 제3도는 본 발명에 있어서의 개폐수단인 셔터구동부의 일예를 나타내는 단면사시도이다.
용기(1)와 각 처리실(43)과는 개구부(45)(제2도 참조)에 의하여 연통(連通)된다. 개구부(45)에는 셔터(46)가 개폐가 자유롭게 배열설치된다. 또, 개구부(45)의 상부에 후술하는 에어 취출구가 설치되며, 에어 커텐이 형성된다.
셔터(46)는 내약품성에 우수한 석영유리 또는 내열성을 가지는 투명성 염화비닐등으로 형성된다. 셔터(46)는, 개구부(45)를 가지는 직사각형상의 케이스(47)내에 상하방향으로 이동가능하게 배열설치된다. 케이스(47)의 상부에 연이어 설치되는 밀폐실(48)내에 구동수단(50)이 내장된다. 셔터(46)는 구동수단(50)에 의하여 기동되며 개구부(45)를 개폐할 수 있도록 되어 있다.
밀폐실(48)의 상단부에는 가압가스 공급구(49)가 설치된다. 가압가스 공급구(49)에 가압수단인 N2가스 공급원(51)이 접속되며, 밀폐실(48)내가 항상 양압상태로 유지되도록 되어 있다.
구동수단(50)은, 구동원인 모터(52)와, 이 모터(52)의 회전운동을 직선운동으로 변환하는 타이밍 벨트(53)와, 타이밍 벨트(53)에 연결되어 수직방향으로 이동하는 가동바(54)로 주요부가 구성된다. 이와같이 구성된 구동수단(50)에서는, 모터(52)의 사용에 의하여 토크 및 스피드를 자유롭게 설정할 수 있기 때문에, 아정한 개폐구동을 할 수 있다.
가동바(54)의 양단부에는 한 쌍의 염화비닐성의 연결축(55)(이하, '가이드 샤프트'라고 함)이 걸려있다. 셔터(46)의 개폐동작은, 가이드 샤프트(55)를 통하여 이루어진다. 즉, 가이드 샤프트(55)는, 개구부(45)의 측방에 배치된 안내축받이(57)를 관통하고, 그 하단부가 셔터(46)의 측단에 연결된다. 가이드 샤프트(55)는, 후술하는 제1시일기구(56)를 통하여 안내축받이(57)에 기밀하면서도 미끄럼운동이 가능하게 기워진다.
모터(52)는 밀폐실(48)의 상부에 부착된다. 타이밍 벨트(53)는 모터(52)의 구동축에 장착된 구동풀리(58)와 밀폐실(48)의 하단측에 부착된 종동풀리59)에 걸쳐진다. 가동바(54)에는, 타이밍 벨트(53)와 평행하게 배열설치되는 한 쌍의 리니어 레일(60)상을 미끄럼운동하는 미끄럼 운동구(61)가 부착고정된다. 가동바(54)에는, 밸런서(62)가 접속되며, 상하이동이 원활하게 이루어지도록 되어 있다.
안내축받이(57)는 염화비닐재 파이프로 형성된다. 제4도에 도시한 바와 같이, 밀폐실(48)측의 상부에 제1시일기구(56)가, 또, 개구부(45)로부터 하방에 위치하는 하단부측에는 제2시일기구(63)가 배열설치되며, 이 사이에 밀봉형상의 공간(64)이 형성된다. 공간(64)의 하단부에는 배기구(65)가 설치된다.
제1시일기구(56)는, 가이드 샤프트(55)와의 사이에 끼워지는 2개의 합성고무제의 시일부재(56a)로 이루어진다. 시일부재(56a), (56a) 사이의 공간(56b)에 연통하는 연통구멍(56c)이 연통로(66)를 통하여 가압수단인 N2가스공급원(51)에 접속되며, 공간내가 양압상태로 유지되도록 되어 있다.
제2시일기구(63)는 1개의 합성고무제의 시일부재로 이루어진다. 연통로(66)는 제1시일기구(56)과 제2시일기구(63) 사이의 밀봉형상 공간(64)에 연통한다. 따라서, N2가스공급원(51)으로부터 N2가스가 밀봉형상 공간(64)내로 공급되며 이 공간이 양압상태로 유지된다. 가이드 샤프트(55)에 부착한 외기 분위기나 먼지등은, N2가스에 의하여 배기구(65)로부터 외부로 배출된다.
제5도 및 제6도에 도시한 바와 같이, 개구부(45)를 해방하기 위하여 셔터(46)를 하강시킨 때, 안내축받이(5)의 하부에 노출하는 가이드 샤프트(55)의 노출부(55a)가, 개구부(45)의 폐쇄 때문에 셔터(46)를 상승시킨 때에 제1시일기구(56)를 넘어서 구동부측으로 가지 않도록 한다. 이것은 가이드 샤프트(55)에 표시한 화살표(55b)의 이동에 의하여 확인할 수 있다(제5도 및 제6도 참조).
이 구성에 의하여 셔터(6)의 하강시에 외기분위기에 쬐여서 외기분위기가 부착한다거나 먼지가 부착한 가이드 샤프트(55)의 노출부(55a)는, 셔터(6)의 폐쇄시에 안내축받이(57)내에 위치하기 때문에, 먼지등은 N2가스에 의하여 배기구(65)로부터 배기된다.
한편, 케이스(47)는 내수 및 내식성에 우수한 염화비닐제 부재로 형성된다. 케이스(47)의 밀폐실(48)측의 상부에는 여러 개의 작은 구멍을 돌출설치한 공기공급부(47a)가 설치된다. 공기공급부(47a)에 접속되는 덕트(67) 속에 HEPA 필터(68)을 통하여 공기공급용 팬(69)이 배열설치된다(제7도 참조). 또, 제7도에 도시한 바와 같이, 케이스(47)내의 상부에 셔터세정 용액의 공급수단인 샤워노즐(70)이 배열설치 된다. 샤워 노즐(70)에는 공급관(71)을 통하여 세정액 공급펌프(72)에 접속되며, 세정액인 순수(純水)가 공급된다.
샤워노즐(70)이 셔터(48)를 향하여 순수한 물을 분사하므로서 셔터(46)에 부착한 약품이나 불순물등을 제거할 수 있다.
케이스(47)의 저부에는 배기 및 배액용의 출구(73)가 설치된다. 출구(73)에는 드레인 관(74)을 통하여 도시하지 않은 흡인수단이 접속된다. 이와같이 형성하므로서 케이스(47)내는 상부로부터 공급되는 청정화된 크린에어가 층류(層流)상태로 하방의 출구(73)로부터 외부로 흐르는 에어커텐이 형성된다. 따라서, 세정처리실(43)로부터 누출하는 약품을 포함하는 공기 등을 안전하게 외부로 배출할 수 있다. 배출관(74)의 도중에는, 기액분리부(75)가 배열설치되며, 배출된 세정액과 오염공기를 분리할 수 있도록 되어 있다.
용기(1)의 상단부에 설치된 개구에는 다공판(79)이 배열설치되며 개구에 접속된 덕트(80)에 HEPA 필터(81) 및 공기공급용 팬(82)이 배열설치된다.
다른 한편, 용기(1)의 저부에는 배기 및 배액용의 출구(83)가 설치된다. 출구(83)의 이쪽에 정류(整流)용의 다공판(84)이 배열설치된다. 그리고 출구(83)에 도시하지 않은 흡인팬이 접속된다. 용기(1)내에는 상부로부터 공급되는 청정화된 크린에어가 층류상태의 다운 플로우로 하방의 출구(83)로부터 외부로 흐른다. 이 때문에 실내의 분위기는 항상 청정화된다. 또 각 세정처리실(43)도 이와같이 크린에어의 다운 플로우에 의하여 분위기가 청정화된다.
이어서, 개구부(45)를 통한 반도체 웨이퍼(W)에 대하여 설명한다. 반도체 웨이퍼(W)가 세정처리실(43)내에 반입되는 경우에는, 우선, 모터(52)의 구동에 의하여 타이밍 벨트(53) 및 가동바(54)를 통하여 가이드 샤프트(55) 및 셔터(46)가 하강하고, 개구부(45)가 개방된다(제5도 참조). 그리고 회전반송아암(2)의 포크(3)에 반도체 웨이퍼(W)가 재치 유지되며 세정처리실(43)내에 반송된다. 이 때, 케이스(47)의 상부로부터 크린에어가 분사되어 에어커텐이 형성되며 세정처리실(43)내에 외부의 분위기가 들어가는 것이 방지된다.
세정처리실(43)내에 반도체 웨이퍼(W)가 반송된 후, 회전반송아암(78)은 용기(1)내로 되돌아가서 세정처리가 종료할 때까지 대기한다. 반도체 웨이퍼(W)(s)는 처리탱크(41)내의 전용보트, 예를 들면 암모니나처리실(27)의 보트(27a)(제1도 참조)에 세워진 상태로 처리액에 침지세정된다. 이 때, 모터(52)의 구동에 의하여 가이드 샤프트(55) 및 셔터(46)가 상승하여 개구부가 폐쇄되며(제6도 참조), 세정처리실(43)내의 분위기가 외부로 누출되는 것이 방지된다.
한편, 샤워노즐(70)로부터 세정용 순수가 셔터(46)를 향하여 분사된다. 이것에 의하여 셔터(46)에 부착한 약액이나 인접하는 세정처리실(43)내의 다른 분위기에 의한 화학반응에 의하여 발생하는 미립자형상의 염 등의 불순물이 제거된다. 그리고, 세정에 제공된 세정배수액과 제거된 약품이나 불순물은 출구(73)로부터 외부로 배출된다. 따라서, 셔터(46)는 항상 청정화된 상태로 유지되며 세정처리실(43)내의 분위기는 어지럽게 될 염려가 없다. 또, 셔터(46)의 개방시에 외부 분위기에 노출한 가이드 샤프트(55)의 노출부(55a)에 부착한 외부분위기나 먼지등은, 밀봉상태 공간(64)내에 공급된 N2가스에 의하여 배기구(65)로부터 외부로 배출된다. 따라서 이것이 반도체 웨이퍼(W)를 오염할 염려는 없다.
또, 상기 실시예에서는 셔터(46)의 구동수단이, 모터(52)와 타이밍 벨트(53)에 의하여 회전운동을 직선운동으로 변환하는 구조의 경우에 대하여 설명하였으나, 반드시 이러한 구조일 필요는 없다. 예를들면, 제8도에 도시한 바와 같이, 에어실린더(85)에 의하여 가동바(54)를 직접 상하구동시키는 구조로 하면, 구성부재의 삭감을 도모할 수가 있다. 또, 제8도에서 기타부분은 상기 실시예와 같기 때문에, 동일부분에는 동일부호를 붙여서 그 설명은 생략한다.
제9도는 회전반송 아암(2)을 수납하는 반송장치의 용기(1)내를 나타낸 도면이고, 제10도는 크리너의 요부를 나타낸 개략사시도이다.
용기(1)는 수밀성(水密性) 및 내식성을 가진다. 용기(1)의 상부에 회전반송아암(2)용의 크리너(10)가 부착된다. 크리너(10)는, 아암(2)의 선단부의 반도체 웨이퍼 유지용의 포크(23)를 향하여 세정액(순수한 물 : 純水)를 분사하는 세정노즐(11) 및 건조기체(N2가스)를 분사하는 건조노즐(12)을 가진다.
회전반송아암(2)은, 기초부(2a) 및 아암소자(2b)로 되는 본체(4)와, 최상단의 아암소자(2b)의 선단부에 부착된 갈라진 형상의 포크(3)로 구성된다. 기초부(2a)는 용기(1)의 저부(5)에 설치된 부착구멍(6)에 0링(7)을 통하여 부착된다.
아암소자(2b)는, 기초부(2a) 상부에 각각 회전이 자유롭고 또 승강이 자유롭게 부착된다. 포크(3)에는, 여러 장의 반도체 웨이퍼를 입설(立設)유지하는 유지홈(3a)이 설치된다. 회전반송아암(2)의 각 구성부재, 즉 아암본체(4)와 포크(3)는 내식성을 가지는 염화비닐부재에 의하여 형성된다.
용기(1)는 회전반송아암(2)과 같이 내식성을 가지는 염화비닐에 의하여 혀성된다. 그 저부(5)는 외주측이 내주측보다 낮은 단(段)형상으로 되어있고, 외주측의 바깥홈(8)의 2개소에는 출구(8)가 설치되며, 이 출구(83)로부터 세정에 제공된 세정액이 배출되도록 되어있다. 상술과 같이, 용기(1)의 측방에는 웨이퍼 출입을 위한 개구부(45)가 설치되며 여기에 셔터(46)가 배열설치된다.
크러너(10)는, 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)을 가진다. 크리너(10)에는, 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)을 세정 및 건조위치(A)와 대기위치(B)로 변환하는 위치변환수단(13)과, 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)을 회전반송아암(2)의 포크(3)에 대하여 평행하게 이동하는 평행이동수단(14)이 배열설치된다. 위치변환수단(13)은, 용기(1)의 상부 측벽에 피보트 부착된 수직방향으로 회전가능한 변환아암(13a)을 가진다. 위치변환용 모터(13d)가, 변환아암(13a)의 피보트부착부측에 장착된 변환용 풀리(13b)와, 변환용 벨트(13c)를 통하여 연결된다.
평행이동수단(14)은, 변환아암(13a)의 선단측에 회전 가능하게 피보트 부착되는 중간아암(14a)를 가진다. 중간아암(14a)의 선단측에 선단아암(14b)이 피보트 부착된다. 선단아암(14b)의 선단측에 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)의 부착 플레이트(14c)가 피보트 부착된다. 부착 플레이트(14c)와 평행하게 위치하는 선단아암(14b)의 피보트 부착측에 짧은 링크(14d)가 피보트 부착된다. 짧은 링크(14d)의 선단측과 부착 플레이트(14c)의 선단측에 각각 연접링크(14e)가 피보트 부착된다. 이것에 의하여 평행이동수단(14)에는 4절 회전연쇄링크(14f)가 구성된다.
제11도 및 제12도에 도시한 바와 같이, 변환아암(13a)의 피보트부착부에 장착된 구동축 풀리(14g)와, 중간아암(14a)의 피보트부착부에 회전가능하게 장착된 중간풀리(14h)에 타이밍벨트(14j)가 걸려있다. 또, 중간풀리(14h)와, 선단아암(14b)의 피보트부착측에 장착된 선단아암(14b)과 일체의 고정풀리(14i)에 또하나의 타이밍벨트(14j)가 걸려있다. 변환아암(13a)의 선단측방향에 요동링크(14k)의 일단이 피보트 장착되며 요동링크(14k)의 타단이 짧은 링크(14d)와 연접링크(14e)의 피보트 부착부에 피보트 부착된다. 따라서 구동축 풀리(14g)가 평행이동용 모터(14m)에 의하여 구동되므로서 부착플레이트(14c)에 부착되는 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)을 회전반송아암(2)의 포크(3)를 따라서 팽행하게 이동할 수 있도록 되어있다.
제13도에 나타내는 대기위치(B)의 상태에서, 변환용 모터(13d)를 구동하면, 변환아암(13a)이 수직상태로 되어 세정 및 건조위치(A)로 변환된다. 이 상태에서 평행이동용 모터(14m)를 구동시키므로서 구동축 풀리(14g)가 회전하고 타이밍벨트(14j), (14j)를 통하여 중간아암(14a) 및 선단아암(14b)이 회전한다. 또 이것과 함께 링크기구(14f) 및 요동링크(14f)가 함께 운동하여 회전운동이 직선운동으로 변환되며, 그리고 부착플레이트(14c)에 부착되는 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)을 회전반송아암(2)의 포크(3)를 따라서 평행하게 이동할 수 있다(제11도 및 제12도 참조).
이 이동은 평행이동용 모터(14m)의 회전을 정역시키므로서 왕복 평행이동한다. 또, 세정 및 건조후에 대기위치(B)로 되돌리면, 변환아암(13a), 중간아암(14a) 및 선단아암(14b)을 동일선상으로 포갠 상태에서 변환아암(13a)을 대기위치(B)로 회전하면 된다(제13도 참조).
변환아암(13a), 중간아암(14a) 및 선단아암(14b)은 각각 스테인레스 강제부재로 형성되어 있으며, 각 연접부에는 패킹 등의 시일부재(도시하지 않음)가 설치되어 기밀유지를 한다.
한편, 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)은, 제14도 및 제15도에 도시한 바와 같이, 노즐블록(16)에 장착되며, 노즐블록(16)은, 부착플레이트(14c)에 연결되는 브라케트(15)에 고정부착된다. 중앙건조노즐체(12a)의 양측에는 세정노즐(11), (11)이 부착된다. 또 그 외측에는 외측건조노즐체(12b)가 부착된다. 이와같이 배치된 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)은 각각 분사구멍의 방향이 조절가능하도록 되어 있다. 또 세정노즐(11) 및 외측건조노즐체(12b)는 수평방향에 대하여 위치조정이 가능하게 부착되어있다.
중앙건조노즐체(12a)의 양측에 각각 세정노즐(11)과 외측건조노즐체(12b)를 배열설치한 이유는, 두 갈래로 갈라진 형상의 포크(3)를 동시에 세정 및 건조할 수 있도록 하기 위함이다. 중앙건조노즐체(12a)의 분사구(12c)의 열(s)과, 외측건조노즐체(12b)의 분사구(12c)의 열(s)과는 이동방향으로 적당한 간격을 두고 설치된다. 예를들면, 이 간격은, 제16도에 나타낸 바와 같이, 포크(3)에 설치된 웨이퍼 유지홈(3a)의 간격(p)(제17도 참조)와 같다. 각 노즐체(12a), (12b)에 있어서의 2개의 분사구(12c)의 열(s)의 간격은 p보다 좁게 설정되어 있다. 외측건조노즐체(12b)의 분사구(12c)는 포크(3)의 유지홈(3a)의 상단측 개구부를 향하여 건조기체를 분사한다. 중앙건조노즐체(12a)의 분사구(12c)는 유지홈(3a)의 하단측 개구부를 향하여 건조기체를 분사하도록 되어있다(제18도 참조).
따라서, 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)를 제16도의 화살표 C방향으로 이동하여 건조하면, 우선 외측건조노즐체(12b)로부터 분사되는 건조기체가 유지홈(3a)의 상단측 개구부에 분사되어 유지홈(3a)에 부착하는 물방울이나 먼지 등을 하단측 개구부로 흘려보낸다(제18도 중 화살표 F).
이어서, 중앙건조노즐체(12a)로부터 분사되는 건조기체에 의하여 유지홈(3a)의 하단측 개구부에 흐르던 물방울이나 먼지 등을 포크(3)의 하면측으로 흘려보낸다(제18도 중 화살표 G).
따라서 포크(3)의 하단부를 예각형상으로, 커트하여 두면, 포크(3)의 하면을 흐르던 물방울이 용기(1)의 저부(5)에 낙하할 염려는 없다. 세정노즐(11), 중앙건조노즐체(12b)는 각각 내식성을 가지는 부재, 예를들면 염화비닐제 부재에 의하여 형성된다.
또 노즐블록(16)을 유지하는 브라케트(15)의 측면에는 건조용 가열수단인 적외선 램프(17)가 부착된다. 적외선 램프(17)는 브라케트(15)에 고정부착되는 반사통체(17a)내에 배열설치되며, 건조시에 포크(3)를 향하여 적외선을 조사하여 포크(3)의 건조를 촉진한다. 노즐블록(16)의 상부에는 배관 및 배선용의 매니홀드(18)가 배열설치된다. 매니홀드(18)에 설치된 각 노즐의 커넥터(19a)의 측벽상부에 설치된 커넥터(19b)(제9도 참조)가 플랙시블 튜브에 의하여 접속되며 세정액(예를들면 이온화되어 있지 않은 순수) 공급원(20a) 및 건조기체(예를들면 질소 또는 청정한 드라이 에어) 공급원(20b)로부터 세정액 및 건조기체가 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)에 공급된다.
이어서, 크리너(10)의 동작에 대하여 설명한다. 회전반송아암(2)의 포크(3)를 세정하는 경우에는, 제9도에 실선으로 나타낸 바와 같이, 변환용 모터(13d)를 구동시켜서 변환아암(13a)을 바로 아래로 하강시킨다. 그리고 평행이동용 모터(14m)를 구동시켜서 세정노즐(11)을 포크(3)를 따라서 평행이동시킴과 동시에, 세정액 공급원으로부터 세정용 순수가 공급하며 세정노즐(11)의 분사구로부터 포크(3)의 전면을 향하여 순수를 분사하여 포크(3)에 부착한 약품, 불순물 등의 대부분을 제거한다.
이와같이 하여 세정한 후, 세정액공급원으로부터 공급을 정지한다. 그리고, 평행이동용 모터(14m)를 역회전시켜서 건조노즐(12)을 포크(3)를 향하여 이동시킨다. 이 때, 건조기체 공급원으로부터 건조용 N2가스를 공급하고 건조노즐(12)의 분사구(12c)로부터 포크(3)의 전면을 향하여 N2가스를 분사한다. 또 적외선 램프(17)에서 적외선을 포크(3)에 조사한다. 이에 따라, 세정에 의하여 포크(3)에 부착한 물방울 및 세정으로 제거하고 깨끗하지 않은 약품이나 먼지들을 완전하게 제거하여 건조할 수가 있다.
따라서, 회전반송아암(2)을 항상 청정화된 상태로 반도체 웨이퍼(W)의 반송에 제공할 수 있다. 세정 및 건조가 종료된 후, 변환아암(13a), 중간아암(14a) 및 선단아암(14b)을 동일선상에 포갠다. 이어서, 변환용모터(13d)를 역회전하여 변환아암(13a)을 대기위치(B)로 회전하면, 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)는 용기(1)의 상부측방으로 이동하고, 반도체 웨이퍼(W)의 반입/반출에 지장을 주지않는 대기위치로 후퇴한다. 변환아암(13a)의 일측단에는 통형상의 물받이(11a)가 부착되어 있다. 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)가 대기위치로 이동한 때에 세정노즐(11)로부터 방울져서 떨어지는 순수한 물은, 물받이(11a)에서 받아진다.
이어서 본 발명의 반송장치가 조립된 크리닝 시스템 전체에 있어서의 반도체 웨이퍼의 흐름을 제1도를 참조하여 설명한다.
제1도의 크리닝 시스템에 있어서, 로더(24)에 25장씩 웨이퍼가 재치된 2개의 캐리어(33)가 반송되어온다. 그러면, 오리플러 맞춤기구(34)가 동작하여 캐리어(33)내의 웨이퍼를 정렬시킨다. 이어서, 돌출봉(도시하지 않음)이 위 쪽으로 동작하여 캐리어(33)는 그대로, 웨이퍼만을 위쪽으로 꺼낸다.
그리고, 돌출봉이 서로 맞추어 50장의 웨이퍼를 등간격으로 위치시킨다.
이어서 회전반송아암(2)이 작동하여 수평회전하고 또 로더(24)방향으로 늘어나 선단의 포크(3)를 돌출봉의 하측에 위치시킨다. 그리고, 돌출봉이 하강하고, 포크(3)상에 웨이퍼가 재치되며 위치결정된다.
이어서, 포크(3)상에 웨이퍼가 재치된 상태로, 회전반송아암(2)이 수평회전하고 또 신축하여 암모니아 처리실(27)의 개구부(9)로부터 웨이퍼를 암모니아 처리실(27)의 처리탱크(27a)의 전용보트(27b)상에 삽입위치시킨다. 그리고, 회전반송아암(2)이 암모니아 처리실(27)로부터 바깥으로 나오면 개구부(45)의 셔터(46)가 닫힌다. 이와 동시에, 암모니아 처리실(27)내의 분위기가 외부로 누출하는 것이 방지된다. 그리고 이 상태에서 암모니아 처리실(27)내의 웨이퍼는 세정처리된다.
한편, 암모니아 처리실(27)로부터 회전반송아암(2)의 포크(3)가 용기(1)내로 되돌아오면 크리너(10)의 변환용 모터(13d)가 작동한다. 그리고, 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)이 포크(3)의 상방위치로 이동한다. 그후 평행이동용 모터(14m)가 구동하여 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)이 포크(3)를 따라서 평행이동한다.
이때, 세정액공급원으로부터 순수가 공급되며 세정노즐(11)에서 포크(3)의 전면을 향하여 순수가 분사되어 포크(3)에 부착한 암모니아, 기타 불순물 등을 제거한다. 세정에 제공된 순수는 용기(1)의 저부(5)에 머물고, 출구(83)로부터 외부로 배출된다. 이렇게 하여 소정시간 세정한 후, 세정액 공급원으로부터 공급을 정지한다.
그 후, 평행이동용 모터(14m)가 역회전하여 세정노즐(11) 및 건조노즐(12)을 포크(3)를 따라서 평행이동한다. 이와 함께 건조기체공급원으로부터 N2가스를 공급하여 건조노즐(12)의 분사구(12c)로부터 포크(3)의 전면을 향하여 N2가스가 분사되어 세정에 의하여 젖은 포크(3)를 건조함과 동시에 포크(3)에 부착한 물방울 및 먼지 등을 제거한다. 건조가 종료한 후, 변환아암(13a), 중간아암(14a) 및 선단아암(14b)이 동일선상으로 포개진 상태에서, 변환용 모터(13d)가 역회전하여 크리너(10)는 원래의 위치로 복귀한다. 포크(3)의 세정과 건조는 암모니아 처리실(27) 내에서의 처리시간(약 10분)의 대기중에 이루어진다.
그리고, 암모니아 처리실(27) 내에서의 세정이 종료한 후, 상술의 동작과 반대의 동작으로 보트(27b)상의 웨이퍼를 회전반송아암(2)의 포크(3)상에 재치하고 위치결정한다.
그리고 웨이퍼를 암모니아 처리실(27)의 바깥으로 빼내고, 다음의 수세처리실(28)내로 웨이퍼를 반입한다. 그 후, 수세처리실(28)로부터 되돌아 온 회전반송아암(2)의 포크(3)는, 상술한 바와 같이 크리너(10)에 의하여 세정 및 건조되어 다음의 웨이퍼의 새로운 50장의 웨이퍼의 반송이 가능하게 된다. 따라서 회전반송아암(2)은 웨이퍼의 반송후의 대기중에 세정·건조되기 때문에 웨이퍼의 세정처리를 연속적으로 효율좋게 할 수가 있다. 또, 회전반송아암(2)이 수밀성 및 내식성을 가지는 용기(1)내에 배열설치되어 있기 때문에, 회전반송아암(2)의 세정에 사용되는 배액이 외부로 흩날리는 일이 없고, 안전하게 배출할 수가 있다.
반입전의 세정처리 유니트(21)에 의한 세정이 종료한 웨이퍼는 반입측의 반입전의 세정치리 유니트(21)와 중앙의 세정처리 유니트(22) 사이의 수중로더(26)에 의하여 중앙의 세정처리 유니트(22)에 반송된다.
그리고 웨이퍼는 중앙의 세정처리 유니트(22)의 용기(1)내에 배열설치된 회전반송아암(2)에 의하여 상술과 같이 반입된다. 여기에서, 웨이퍼는, 차례로 불산처리실(29) 내에서의 세정처리, 오버플로우 처리실(30) 내에서의 수세 오버플로우처리를 받는다. 이 중간의 세정처리 유니트에 의한 세정처리에 있어서도 용기(1)내에 대기중의 회전반송아암(2)의 포크(3)는, 크리너(10)에 의하여 상술과 같이 세정 및 건조된다.
또, 중앙의 세정처리 유니트(22)에서의 세정처리가 이루어진 웨이퍼는, 중앙의 세정처리 유니트(22)와 반출측의 세정처리 유니트(23) 사이의 수중로더(26)로 반출측의 세정처리 유니트(23)에 반송된다. 그리고, 반출측의 세정처리 유니트(23)의 회전반송아암(2)에 의하여 상술한 바와 같이 반송되어 파이널린스가 이루어진 후, 건조처리가 이루어진다. 이 반출측의 세정처리 유니트(23)에 의한 세정에 있어서도 상술한 바와 같이 회전반송아암(2)의 포크(3)는, 크리너(10)에 의하여 세정 및 건조되고, 항상 청정화된 상태에서 웨이퍼의 반송이 제공된다.
반출측의 세정처리 유니트(23)로 세정처리된 웨이퍼는 언로더(25)에 반송되며 이 언로더(25)로 웨이퍼를 25장씩 분할되고 오리플러 맞춤이 이루어지며 2개의 캐리어에 재치되어 반송된다.
또, 상기 실시예에서는 크리닝 시스템이 반도체 웨이퍼의 처리에 사용되는 경우에 대하여 설명하였으나, 동 크리닝 시스템은, 예를들면 LCD유리기판 등의 처리에도 사용될 수 있다. 또 본 발명에 관한 반송장치는 크리닝 시스템 외에도 웨이퍼 에칭시스템, 기타 부식성 가스 분위기를 가지는 처리 시스템이나 반송시스템에도 적용할 수 있다.

Claims (15)

  1. 밀폐된 공간을 규정하는 용기(housing)(1)와, 상기 용기(1)에 형성된 개구부(45)와, 상기 용기(1)내에 배열설치되며, 상기 개구부(45)를 통하여, 상기 용기(1) 바깥으로 뻗어나오는 것이 가능한 가동부를 포함하는 반송아암(2)과, 상기 아암(2)의 상기 가동부에 배열설치되며, 피처리체가 간격을 두고 배치되는 여러 개의 유지홈(3a)을 가지는 피처리체 유지부와, 상기 개구부(45)를 밀폐식으로 개폐하는 개폐수단(46)과, 상기 용기(1)내에 배열설치되고 또 상기 유지부에 세정액을 분사하는 세정수단(11)과, 상기 용기(1)내에 배열설치되고 또 상기 유지부에 건조기체를 분사하는 건조수단(12)과, 상기 세정수단 및 건조수단을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 작동위치와 후퇴위치 사이에서 이동시키는 위치변환수단(13)과, 상기 지지부재를 상기 유지부를 따라서, 또 상기 유지홈(3a)과 직교하는 방향으로 이동시키는 이동수단을 구비하는 여러개의 웨이퍼 형상의 피처리체를 반송하는 반송장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 위치변환수단(13)과, 상기 지지부재를 회전시키므로서 위치를 변환하는 반송장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 건조수단(12)이, 상기 지지부를 끼워서 위치하는 한 쌍의 분사구를 구비하고, 상기 한 쌍의 분사구가 상기 유지홈(3a)의 양단부를 향하여 배향되는 반송장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 유지부가, 상기 유지홈(3a)에 형성되고, 상기 웨이퍼 형상의 피처리체의 하부 양측을 유지하는 한 쌍의 봉체를 구비하며, 상기 봉체가 대략 3각형의 단면형상을 가지며, 상기 유지홈(3a)은 상기 3각형의 한변을 따라서 형성되는 반송장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 건조수단(12)이, 상기 양 봉체를 끼워서 위치하는 두 쌍의 분사구를 구비하고, 상기 두 쌍의 분사구가 각각의 상기 유지홈(3a)의 양단부를 향하여 배향되는 반송장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 위치변환수단(13) 및 상기 이동수단이 용기(1)에 부착된 구동원을 구비하며, 상기 지지부재가 동축 샤프트를 통하여 상기 구동원에 접속되는 반송장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 지지체에 상기 유지부를 가열하기 위한 적외선램프가 배열설치되는 반송장치.
  8. 밀폐된 공간을 규정하는 용기(housing)(1)와, 상기 용기(1)에 형성된 개구부(45)와, 상기 용기(1)내에 배열설치되며, 상기 개구부(45)를 통하여, 상기 용기(1) 바깥으로 뻗어나오는 것이 가능한 가동부를 포함하는 반송아암(2)과, 상기 아암(2)의 상기 가동부에 배열설치된 피처리체 유지부와, 상기 개구부를 밀폐식으로 개폐하는 셔터(46)와, 상기 개구부의 상방에서, 상기 제1공간과 절연된 제2공간을 규정하는 수단과, 상기 제2공간에 수납된 상기 셔터(46)를 구동하는 구동수단과, 상기 용기(1)내에 배열설치되고 또 상기 유지부에 세정액을 분사하는 세정수단(11)과, 상기 용기(1)내에 배열설치되고, 또 상기 유지부에 건조기체를 분사하는 건조수단(12)과, 상기 세정수단(11) 및 건조수단(12)을 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재를 작동위치와 후퇴위치 사이에서 이동시키는 위치변환수단(13)을 구비하는 피처리체를 반송하는 반송장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제2공간을 양압상태로 유지하는 가압수단을 더욱 포함하는 반송장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 셔터(46)가, 상기 용기(1)의 상기 개구부가 형성된 벽을 따라서 슬라이드 가능하게 배열설치되며, 상방향위치에서 상기 개구부를 폐쇄하고, 하방위치에서 상기 개구부를 개방하는 반송장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 셔터(46)와 상기 구동수단을 연결하는 연결축(55)과, 상기 제2공간으로부터 뻗어나온 상기 연결축(55)을 작동가능하게 포위하는 안내축받이(57)와, 상기 연결축(55)과, 상기 안내축받이(57)사이에 밀폐된 제3공간을 형성하도록 상기 안내축받이(57)내의 상하에 각각 배열설치된 한쌍의 시일부재(56a)를 더욱 구비하는 반송장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제3공간을 양압상태로 유지하는 가압수단과, 상기 제3공간에 연결되어 통하도록 상기 안내축받이(57)에 형성된 배기구(65)를 더욱 포함하는 반송장치.
  13. 제10항에 있어서, 상기 용기(1)의 상기 개구부가 형성된 벽이 케이스(47)에 의하여 규정되며, 상기 케이스(47)는 상부에서 상기 제2공간을, 하부에서 상기 셔터(46)를 수납하는 제4공간을 규정하는 반송장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제4공간을 상부에서 상기 케이스(47)에, 상기 개구부를 따라서 에어커텐을 형성하기 위한 에어공급수단이 배열설치되는 반송장치.
  15. 제13항에 있어서, 상기 제4공간의 상부에서 상기 케이스(47)에, 상기 셔터(46)에 세정수를 붓기 위한 세정수 공급수단이 배열설치되며, 상기 케이스(47)의 저부에 상기 제4공간에 연결되어 통하는 배기구멍 및 배기액용 구멍이 형성되는 반송장치.
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