JPH10314684A - ディスク形ワークの洗浄方法及び装置 - Google Patents

ディスク形ワークの洗浄方法及び装置

Info

Publication number
JPH10314684A
JPH10314684A JP9147326A JP14732697A JPH10314684A JP H10314684 A JPH10314684 A JP H10314684A JP 9147326 A JP9147326 A JP 9147326A JP 14732697 A JP14732697 A JP 14732697A JP H10314684 A JPH10314684 A JP H10314684A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
rollers
work
roller
transport path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9147326A
Other languages
English (en)
Inventor
Yusuke Inoue
上 裕 介 井
Hiroshi Yashiki
鋪 博 屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SpeedFam Co Ltd
Original Assignee
SpeedFam Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SpeedFam Co Ltd filed Critical SpeedFam Co Ltd
Priority to JP9147326A priority Critical patent/JPH10314684A/ja
Priority to US09/078,999 priority patent/US6012193A/en
Publication of JPH10314684A publication Critical patent/JPH10314684A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/20—Cleaning of moving articles, e.g. of moving webs or of objects on a conveyor
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
    • G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスク形ワークの表裏両面と側面とを確実
に洗浄することができる洗浄効率の良い洗浄手段を得
る。 【解決手段】 搬送路２に沿って送られるディスク形ワ
ークＷを、該搬送路の両側に位置してワークに順方向回
転で接触する正転ローラ１５ａと逆方向回転で接触する
逆転ローラ１５ｂとにより洗浄する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク基板
や光ディスク基板、シリコンウエハ、ガラスウエハなど
のような、実質的にディスク形をしたワークを洗浄する
ための方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の洗浄装置として従来、特開平８
−１７７７１号公報に記載のものが公知である。これ
は、上下に相対向して設けられた一対の回転ブラシから
なるブラシ洗浄手段を複数組備えていて、上下の回転ブ
ラシの回転方向を互いに逆向きとすることにより、これ
らの回転ブラシの回転力でウエハを搬送しながら、スト
ッパで該ウエハを適宜位置で停止又は減速させることに
より、ブラシ洗浄するものである。
【０００３】ところが、上記従来の洗浄装置において
は、回転ブラシがウエハの搬送機構をも兼ねていて、全
ての回転ブラシが該ウエハに対して移動を促進する方
向、即ち順方向に回転しながら接触するようになってい
るため、該ウエハの両面や移動方向後方側の側面は洗浄
することができるが、移動方向前方側の側面は殆ど洗浄
することができないという欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の技術的課題
は、ディスク形ワークの表裏両面は勿論のこと、移動方
向前方側の端面も後方側の端面も確実に洗浄することが
できる、洗浄効率の良い洗浄手段を提供することにあ
る。本発明の他の技術的課題は、ディスク形ワークの左
右の側面も確実に洗浄することができる洗浄手段を得る
ことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の洗浄方法は、搬送路に沿って一方向に送ら
れるディスク形のワークの両面を、該搬送路の両側に位
置する複数の洗浄ローラにより、一部の洗浄ローラを順
方向に回転させると共に、残りの洗浄ローラを逆方向に
回転させながら洗浄することを特徴としている。
【０００６】上記洗浄方法によれば、ワークの表裏両面
だけでなく、該ワークの移動方向前方側の側面が逆方向
回転する洗浄ローラによって洗浄され、移動方向後方側
の側面が順方向回転する洗浄ローラによって洗浄される
ため、洗い残しがなくなって洗浄効率が良い。上記方法
においては、洗浄ローラをワークの搬送方向と直交する
方向に往復揺動させることが望ましく、これにより、ワ
ークの左右の側面も確実に洗浄することができる。
【０００７】また、上記方法を実施するため本発明にお
いては、ディスク形のワークを搬送路に沿って搬送する
搬送機構と、搬送されるワークの両面を洗浄する洗浄手
段とを有し、上記洗浄手段が、搬送路の両側である第１
側と第２側とにそれぞれ駆動回転自在に配設された複数
の洗浄ローラを有していて、これらの洗浄ローラが、移
動するワークに順方向回転で接触する正転ローラと、逆
方向回転で接触する逆転ローラとに分かれていることを
特徴とする洗浄装置が提供される。
【０００８】本発明の一つの具体的な構成態様によれ
ば、第１側と第２側とにそれぞれ複数の洗浄ローラが設
けられていて、それぞれの側において複数の洗浄ローラ
が正転ローラと逆転ローラとに分かれている。
【０００９】本発明の他の具体的な構成態様によれば、
第１側と第２側とにそれぞれ複数の洗浄ローラが設けら
れていて、何れか一側の洗浄ローラが全て正転ローラで
あると共に、他側の洗浄ローラが全て逆転ローラである
ように構成されている。
【００１０】本発明において好ましくは、上記洗浄ロー
ラがワークの搬送方向と実質的に直交する方向に往復揺
動するようになっていることである。上記洗浄ローラ
は、柔軟性のある複数の洗浄用突起を表面に備えている
ことが望ましい。
【００１１】本発明の好ましい構成態様においては、供
給されたワークが搬送路上を正しく搬送されるように、
ワーク供給側の位置に、該ワークを搬送路の中央に寄せ
るための位置決め手段が設けられている。この位置決め
手段は、搬送路の中心に対して対象位置にワークの外径
よりやや広い間隔を保って配設された２本の棒状部材で
構成することができる。
【００１２】本発明の更に他の具体的な実施態様によれ
ば、上記搬送機構が、搬送路に沿って所要間隔で駆動回
転自在なるように配設された複数の搬送ローラにより構
成されている。この場合、上記搬送ローラを、少なくと
も洗浄ローラの近くにおいては、洗浄中のワークを両面
から挟持して搬送可能なるように２本ずつ相対向して配
設することが望ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図面を参照しながら詳細に説明する。図１及び図２
は本発明に係る洗浄装置の好ましい一例を概略的に示す
もので、１は機体、２は該機体１上を水平方向に延びる
ワークの搬送路、３は該搬送路２に沿ってディスク形の
ワークＷを搬送する搬送機構、４は該搬送機構３で搬送
されるワークの上下両面を洗浄する洗浄手段である。
【００１４】上記搬送機構３は、上記搬送路２に沿って
ワークＷの外径より狭い間隔で駆動回転自在に配設され
た複数の搬送ローラ６により構成されている。これらの
搬送ローラ６は、ローラ軸６ａの両端を機体１上に立ち
上がった左右の側枠８，８に回転自在に支持され、各ロ
ーラ軸６ａの一端にはスプロケット９が固定され、各ス
プロケット９に無端チェーン１０が共通に巻き掛けられ
ており、この無端チェーン１０をモータ１１で駆動する
ことにより、各搬送ローラ６がワークＷを搬送する方向
に一斉に駆動回転されるようになっている。
【００１５】上記搬送ローラ６のうち、洗浄手段４によ
るワークＷの洗浄領域の近くに位置するものは、洗浄中
のワークＷを上下両面から挟持して安定的に搬送できる
ように、２本ずつが上下に相対向するように配設され、
洗浄領域の前後においては、下方側だけに１本ずつ配設
されている。しかし、搬送路２の全体について搬送ロー
ラ６を上下に２本ずつ配置しても良い。
【００１６】上記各搬送ローラ６は、ワークＷを汚した
り傷付けたりすることなく安全且つ確実に搬送すること
ができるような素材、例えば合成樹脂や合成ゴムのよう
な、適度の柔軟性と剛性とを兼ね備えると共に、洗浄ロ
ーラ１５による作用力に抗してワークを搬送し得るだけ
の摩擦力を持った素材で形成することが望ましい。
【００１７】上記搬送路２におけるワーク供給側の位置
には、図示しないローディング手段により供給されたワ
ークＷが中央部を正しく搬送されるように、該ワークＷ
を搬送路２の中央に寄せるための位置決め手段１３が設
けられている。この位置決め手段１３は、図３からも分
かるように、搬送路２の中心を挟んで左右対称の位置に
ワークＷの外径よりやや広い間隔を保って配設された２
本の棒状部材１３ａ，１３ａで構成されており、ワーク
Ｗが搬送路２上に左右に偏寄した状態で供給されても、
何れかの棒状部材１３ａに当たることにより位置を変え
て両棒状部材１３ａ，１３ａ間を通過することにより、
搬送路２の中央の正しい位置に移動させられるようにな
っている。
【００１８】一方、上記洗浄手段４は、搬送路２を挟ん
で第１側である上側と第２側である下側とに駆動回転自
在に配設された複数の洗浄ローラ１５を有している。上
下の洗浄ローラ１５，１５は互いに相対する位置に配設
されていて、それらの間を通過するワークＷを両側から
洗浄するもので、上下２本を一組とする複数組（図では
５組）の洗浄ローラが、搬送路２に沿って所要の間隔で
配設されている。設置する洗浄ローラの組数についての
制限は特にないが、図示のように複数組であることが望
ましく、その配設間隔も任意である。
【００１９】上記各洗浄ローラ１５は、上記搬送ローラ
６よりは大径をしていて、図４に示すように、金属製の
芯材１６の表面を合成樹脂発泡体等の柔軟性部材１７で
被覆したもので、この柔軟性部材１７を若干圧縮した状
態でワークＷが当接して洗浄されるようになっている。
しかしながら好ましくは、図５に示す洗浄ローラ１５の
ように、柔軟性部材１７で覆われた表面に更に、該柔軟
性部材１７と一体の短円柱状又はそれに類似する形をし
た多数の洗浄用突起１７ａを設けることである。
【００２０】上記複数組の洗浄ローラ１５のうち幾つか
の組の洗浄ローラは、移動するワークＷの両面に順方向
回転で接触する正転ローラ１５ａとなっており、残りの
組の洗浄ローラが、ワークＷの両面に逆方向回転で接触
する逆転ローラ１５ｂとなっている。この場合、正転ロ
ーラ１５ａ及び逆転ローラ１５ｂの数や位置等について
の制限は特にないが、図示の例では、５組の洗浄ローラ
のうち、ワークＷの移動方向に順に第１、第３、第５組
目の洗浄ローラが正転ローラ１５ａとなっていて、第
２、第４組目の洗浄ローラが逆転ローラ１５ｂとなって
いる。上記各洗浄ローラ１５の回転速度は、回転方向に
関係なく全て等速とし、且つ正転ローラ１５ａの周速を
ワークＷの搬送速度より大きく設定しておくことが望ま
しい。因に、上記搬送機構３における搬送ローラ６は、
全てワークＷの移動方向順方向に駆動回転される。
【００２１】上記各洗浄ローラ１５は、搬送ローラ６の
邪魔にならない位置に配設された左右の支持枠１９，１
９にそれぞれ回転自在に支持されていて、各洗浄ローラ
１５のローラ軸の端部に固定されたスプロケット２１と
これに巻き掛けられた無端チェーン（図示せず）、ある
いは歯車等からなる伝動機構を介して、モータ２２によ
り所定の方向に駆動回転されるようになっている。この
場合、各洗浄ローラ１５を共通のモータ２２で駆動する
場合は、回転方向の異なる洗浄ローラについては、歯車
機構のような回転方向を変更するための機構（図示せ
ず）を介して駆動されることは言うまでもないことであ
る。
【００２２】かくして洗浄ローラ１５を正転ローラ１５
ａと逆転ローラ１５ｂとに分けることにより、図６に示
すように、ワークＷが逆転ローラ１５ｂに接触したあと
該逆転ローラ１５ｂを通り過ぎるまでの間に、図８から
分かるように該ワークＷの前半側の側面即ち前端面から
左右の側面前半部に至る部分Ａが、該逆転ローラ１５ｂ
で洗浄され、図７に示すように、ワークＷが正転ローラ
１５ａを通り過ぎる時に、この正転ローラ１５ａでワー
クＷの後半側の側面、即ち左右の側面後半部から後端面
に至る部分Ｂが洗浄されることになる。もちろんワーク
の上下面も洗浄される。
【００２３】上記洗浄手段４の支持枠１９，１９は、揺
動機構２５に連結されて搬送路２と直交する方向に往復
揺動するようになっている。即ちこの支持枠１９，１９
は、機体１の左右の側壁１ａ，１ａに搬送路２を横断す
るように取り付けられた複数のガイドロッド２６によっ
て摺動自在に支持され、一方の支持枠１９に揺動アーム
２７の先端が連結され、この揺動アーム２７の基端は揺
動歯車２８の偏心した位置に取り付けられ、該歯車２８
が揺動モータ２９の駆動歯車３０に噛合している。従っ
て、上記揺動モータ２９により上記揺動歯車が回転され
ると、揺動アーム２７により支持枠１９，１９がガイド
ロッド２６に沿って揺動し、洗浄ローラ１５が搬送路２
と直交する方向に往復動する。これにより、ワークＷの
左右の側面を確実に洗浄することが可能となる。
【００２４】図２中の符合３２は、搬送路２に沿って設
けた給水機構であって、複数のノズル３３を有し、これ
らのノズル３３で搬送中のワークＷの上下面に洗剤や水
等の洗浄液を噴射するものである。
【００２５】上記構成を有する洗浄装置において、搬送
路２の始端部において図示しないローディング手段によ
り該搬送路２上に供給されたワークＷは、位置決め手段
１３における２本の棒状部材１３ａ，１３ａ間を通過す
ることによって搬送路２の中央に寄せられ、洗浄手段４
に送られる。そして、複数組設けられた上下の洗浄ロー
ラ１５，１５の間を次々に通過することによって洗浄さ
れたあと、搬送路２の終端部において図示しないアンロ
ーディング手段により取り出される。
【００２６】上記洗浄手段４においては、図２から分か
るように、５組の洗浄ローラ１５の中の第１、第３、第
５組目の洗浄ローラが正転ローラ１５ａで、ワークＷに
順方向回転で接触し、第２、第４組目の洗浄ローラが逆
転ローラ１５ｂで、ワークＷに逆方向回転で接触するた
め、これらの洗浄ローラ１５ａ，１５ｂでワークＷの上
下面が洗浄されるだけでなく、図６に示すように逆転ロ
ーラ１５ｂによってワークＷの前半側の側面Ａが洗浄さ
れ、図７に示すように正転ローラ１５ａによってワーク
Ｗの後半側の側面Ｂが洗浄されることになる。しかも、
上記各洗浄ローラ１５ａ，１５ｂが搬送路２と直交する
方向に揺動しているため、ワークＷの左右の側面の洗浄
はより確実なものとなる。この結果、上記洗浄ローラ１
５ａ，１５ｂによってワークＷの上下面及び側面の全て
の面が洗い残しを生ずることなく確実に洗浄される。
【００２７】上記実施例では、洗浄ローラを逆転ローラ
１５ｂとする場合、相対する上下の洗浄ローラを共に逆
転ローラとしているが、上下何れか一方の洗浄ローラだ
けを逆転ローラとすることもできる。あるいは、上方の
洗浄ローラを全て正転ローラ１５ａとし、下方の洗浄ロ
ーラを全て逆転ローラ１５ｂとすることもでき、その逆
であっても良い。
【００２８】また、上下の洗浄ローラは必ずしも相対向
する位置に設ける必要はなく、上下非対向の位置に設け
ることもできる。この場合、上側と下側とにおける洗浄
ローラの数は必ずしも同数である必要はない。また、上
又は下あるいはその両方に位置する洗浄ローラの幾つか
を逆転ローラとすれば良い。更に、上記実施例では円板
形のワークが示されているが、矩形などの角形をしたワ
ークも同様の方法で洗浄できることは言うまでもない。
また、本発明の技術思想は、上記実施例に示したように
ワークを横向きに取り扱う装置に限らず、縦向きに取り
扱う装置にも適用できるものである。
【００２９】
【発明の効果】このように本発明によれば、洗浄ローラ
を、ワークの移動方向に対して順方向に回転する正転ロ
ーラと逆方向に回転する逆転ローラとに分けたことによ
り、ディスク形ワークの表裏両面は勿論のこと、移動方
向前方側の側面も後方側の側面も確実に洗浄することが
できる。しかも、上記洗浄ローラをワークの移動方向と
直交する方向に揺動させることにより、該ワークの左右
の側面を洗い残しを生ずることなく確実に洗浄すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す平面図
である。
【図２】図１の断面図である。
【図３】図１における要部の正面図である。
【図４】洗浄ローラの一例を示す断面図である。
【図５】洗浄ローラの他例を示す断面図である。
【図６】逆転ローラでワークの側面が洗浄される過程を
説明する図２の要部拡大図である。
【図７】正転ローラでワークの側面が洗浄される過程を
説明する図２の要部拡大図である。
【図８】洗浄ローラの配列の他の例を示す要部側面図で
ある。
【符号の説明】
Ｗ ワーク ２ 搬送路 ３ 搬送機構 ４ 洗浄手段 ６ 搬送ローラ １３ 位置決め手段 １３ａ 棒状部材 １５ 洗浄ローラ １５ａ 正転ローラ １５ｂ 逆転ローラ １７ａ 突起 ２５ 揺動機構

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】搬送路に沿って一方向に送られるディスク
    形ワークの両面を、該搬送路の両側に位置する駆動回転
    自在の複数の洗浄ローラにより、該洗浄ローラの一部を
    ワークの移動方向に対して順方向に回転させると共に、
    残りを逆方向に回転させながら洗浄することを特徴とす
    るディスク形ワークの洗浄方法。
  2. 【請求項２】請求項１に記載の洗浄方法において、上記
    洗浄ローラをワークの移動方向と直交する方向に往復揺
    動させるもの。
  3. 【請求項３】ディスク形のワークを搬送路に沿って搬送
    する搬送機構と、搬送されるワークの両面を洗浄する洗
    浄手段とを有し、 上記洗浄手段が、搬送路の両側である第１側と第２側と
    にそれぞれ駆動回転自在に配設された複数の洗浄ローラ
    を有していて、これらの洗浄ローラが、移動するワーク
    にその移動方向に対して順方向回転で接触する正転ロー
    ラと、逆方向回転で接触する逆転ローラとに分かれてい
    る、ことを特徴とするディスク形ワークの洗浄装置。
  4. 【請求項４】請求項３に記載の洗浄装置において、第１
    側と第２側とにそれぞれ複数の洗浄ローラが配設されて
    いて、それぞれの側において複数の洗浄ローラが正転ロ
    ーラと逆転ローラとに分かれているもの。
  5. 【請求項５】請求項３に記載の洗浄装置において、第１
    側と第２側とにそれぞれ複数の洗浄ローラが配設されて
    いて、何れか一側の洗浄ローラが全て正転ローラである
    と共に、他側の洗浄ローラが全て逆転ローラであるも
    の。
  6. 【請求項６】請求項３乃至５の何れかに記載の洗浄装置
    において、上記洗浄ローラをワークの搬送方向と実質的
    に直交する方向に往復揺動させる揺動機構を有するも
    の。
  7. 【請求項７】請求項３乃至６の何れかに記載の洗浄装置
    において、上記洗浄ローラが、柔軟性のある複数の洗浄
    用突起を表面に備えているもの。
  8. 【請求項８】請求項３乃至７の何れかに記載の洗浄装置
    において、上記搬送路におけるワーク供給側の位置に、
    供給されたワークを搬送路の中央に寄せるための位置決
    め手段を有するもの。
  9. 【請求項９】請求項８に記載の洗浄装置において、上記
    位置決め手段が、搬送路の中心に対して対象位置にワー
    クの外径よりやや広い間隔を保って配設された２本の棒
    状部材からなるもの。
  10. 【請求項１０】請求項３乃至９の何れかに記載の洗浄装
    置において、上記搬送機構が、搬送路に沿って所要間隔
    で駆動回転自在なるように配設された複数の搬送ローラ
    からなるもの。
  11. 【請求項１１】請求項１０に記載の洗浄装置において、
    上記搬送ローラが、少なくとも洗浄ローラの近くにおい
    ては、洗浄中のワークを両面から挟持して搬送可能なる
    ように２本ずつ相対向して配設されているもの。
JP9147326A 1997-05-21 1997-05-21 ディスク形ワークの洗浄方法及び装置 Withdrawn JPH10314684A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9147326A JPH10314684A (ja) 1997-05-21 1997-05-21 ディスク形ワークの洗浄方法及び装置
US09/078,999 US6012193A (en) 1997-05-21 1998-05-14 Apparatus for washing disc-shaped workpieces

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9147326A JPH10314684A (ja) 1997-05-21 1997-05-21 ディスク形ワークの洗浄方法及び装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10314684A true JPH10314684A (ja) 1998-12-02

Family

ID=15427662

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9147326A Withdrawn JPH10314684A (ja) 1997-05-21 1997-05-21 ディスク形ワークの洗浄方法及び装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6012193A (ja)
JP (1) JPH10314684A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002096038A (ja) * 2000-09-25 2002-04-02 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置
JP2002239485A (ja) * 2000-12-15 2002-08-27 Shibaura Mechatronics Corp 基板の洗浄装置及び洗浄方法
CN109731874A (zh) * 2019-02-20 2019-05-10 东旭科技集团有限公司 玻璃清洗机
KR20190082838A (ko) * 2016-11-16 2019-07-10 아토테크더치랜드게엠베하 이송 롤러
WO2023195537A1 (ja) * 2022-04-08 2023-10-12 株式会社荏原製作所 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法およびプログラム

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6273100B1 (en) * 1998-08-27 2001-08-14 Micron Technology, Inc. Surface cleaning apparatus and method
US6439245B1 (en) * 2000-06-30 2002-08-27 Lam Research Corporation Method for transferring wafers from a conveyor system to a wafer processing station
DE102011001646A1 (de) * 2011-03-29 2012-10-18 Ksl-Kuttler Automation Systems Gmbh Vorrichtung zum Quertransport
EP3460578B1 (en) * 2017-09-25 2022-10-26 Glunz & Jensen A/S System for processing flexographic printing plates
CN117019715B (zh) * 2023-10-10 2023-12-22 泰州市胤鸿机械设备有限公司 一种用于废旧硅片回收的清洗装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2313606A (en) * 1943-03-09 Slat cleaner
US1817332A (en) * 1928-06-27 1931-08-04 Louis J Kolb Trading As Safete Glass washing machine
US3213472A (en) * 1959-08-14 1965-10-26 Metro Goldwyn Mayer Inc Surface cleaning apparatus
JPS6176515A (ja) * 1984-09-22 1986-04-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学式デイスク
DE8524540U1 (de) * 1985-08-28 1985-10-17 Lenhardt, Karl, 7531 Neuhausen Glastafelwaschmaschine
JPH0640400B2 (ja) * 1986-06-11 1994-05-25 スピ−ドフアム株式会社 デイスク洗浄装置
JPH04363022A (ja) * 1991-06-06 1992-12-15 Enya Syst:Kk 貼付板洗浄装置
US5311634A (en) * 1993-02-03 1994-05-17 Nicholas Andros Sponge cleaning pad
JP2888412B2 (ja) * 1994-07-04 1999-05-10 信越半導体株式会社 ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム
JP3044277B2 (ja) * 1994-12-21 2000-05-22 信越半導体株式会社 ウェーハの洗浄及び洗浄乾燥装置
JP3131149B2 (ja) * 1996-05-09 2001-01-31 スピードファムクリーンシステム株式会社 流液式スクラバ洗浄方法及び装置
US5675856A (en) * 1996-06-14 1997-10-14 Solid State Equipment Corp. Wafer scrubbing device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002096038A (ja) * 2000-09-25 2002-04-02 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置
JP2002239485A (ja) * 2000-12-15 2002-08-27 Shibaura Mechatronics Corp 基板の洗浄装置及び洗浄方法
JP4602567B2 (ja) * 2000-12-15 2010-12-22 芝浦メカトロニクス株式会社 基板の洗浄装置
KR20190082838A (ko) * 2016-11-16 2019-07-10 아토테크더치랜드게엠베하 이송 롤러
CN109731874A (zh) * 2019-02-20 2019-05-10 东旭科技集团有限公司 玻璃清洗机
WO2023195537A1 (ja) * 2022-04-08 2023-10-12 株式会社荏原製作所 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法およびプログラム

Also Published As

Publication number Publication date
US6012193A (en) 2000-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6643882B1 (en) Substrate cleaning apparatus
KR100801367B1 (ko) 기판 반송 장치
JP3533884B2 (ja) 基板洗浄装置
JP2002540598A (ja) ウエハを処理するための方法および装置
EP0691675A1 (en) Brush cleaning apparatus and cleaning system for disk-shaped objects using same
JPH10314684A (ja) ディスク形ワークの洗浄方法及び装置
US6058544A (en) Scrubbing apparatus and scrubbing method
JP4295878B2 (ja) 円板形ワークの洗浄装置
JPH105704A (ja) ディスク形ワークの洗浄装置
JP2001054765A (ja) 基板洗浄装置
JPH1131674A (ja) ウェーハ洗浄装置
JPH05116737A (ja) ベルトコンベア
KR101664784B1 (ko) 다양한 처리 공정이 가능한 웨이퍼 처리 시스템
JP2003179399A (ja) 部品実装機
JPH07241534A (ja) 基板洗浄装置
JP3130085B2 (ja) 曲げガラス板用洗浄装置
JP4908316B2 (ja) 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ
JP2006137527A (ja) 搬送機及び洗浄装置
JP4053140B2 (ja) 回転ディスクの洗浄方法および装置
JPH08155753A (ja) プリント基板の塵埃除去装置
JPH10125640A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JPH10337543A (ja) 洗浄処理装置
JPS6176262A (ja) 研磨装置
JP2005095724A (ja) 函の処理方法、それを適用した函の処理装置
JP3990696B2 (ja) パネルクリーニング装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20040803