CN117019715B - 一种用于废旧硅片回收的清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及新能源产业技术领域，尤其涉及一种用于废旧硅片回收的清洗装置。包括有工作台，所述工作台内设有输送单元，所述工作台连通有导流壳，所述导流壳内安装有滤芯，所述导流壳通过抽水泵和导管安装有三通管，所述工作台的侧壁通过连接架固接有上下对称的管道，所述管道连通有多个喷头，所述工作台转动设置有转动壳，上下对称的所述转动壳之间通过齿轮组传动，且其中一个所述转动壳与所述输送单元之间通过带轮和皮带传动，所述转动壳设有多个通孔，所述喷头与相应的所述通孔配合，所述转动壳安装有清理件。本发明通过湿润的清理件对废旧硅片进行擦拭清理，避免废旧硅片之间发生粘连与破碎，同时滤芯对水进行过滤再利用，节约水资源。

Description

一种用于废旧硅片回收的清洗装置

技术领域

本发明涉及新能源产业技术领域，尤其涉及一种用于废旧硅片回收的清洗装置。

背景技术

硅片是电子元件的核心组成部分，现有新能源产业中广泛应用硅片，但硅片在使用过程中，随着使用时间的变长，其中部分硅片老化受损变为废旧硅片，但废旧硅片仍有一定的利用价值，常将废旧硅片进行回收处理，并对其进行再利用。

现有废旧硅片在回收后需对其进行清理操作，其中清理方式常为浸泡清洗，硅片在浸泡过程中，受水的附着作用，极易使相邻两个废旧硅片附着至一起，导致二者之间的杂质不易完全排出，同时由于硅片较薄，贴合在一起的硅片不易分离，导致硅片清理不彻底，且浸泡清理对水资源的浪费较大。

因此针对这一现状，需要研发一种用于废旧硅片回收的清洗装置。

发明内容

为了克服上述所提到的问题，本发明提供了一种用于废旧硅片回收的清洗装置。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于废旧硅片回收的清洗装置，包括有工作台，所述工作台的侧壁设有操作面板，所述工作台内设有多组输送单元，所述工作台下端固接有并连通有导流壳，所述导流壳内安装有滤芯，所述导流壳通过抽水泵和导管安装有三通管，所述工作台的侧壁通过连接架固接有上下对称的管道，上下对称的所述管道均与所述三通管固接并连通，所述管道的侧壁连通有呈线性均匀分布的多个喷头，所述喷头内设有单向阀，所述工作台转动设置有上下对称且与相邻所述喷头配合的转动壳，上下对称的所述转动壳之间通过齿轮组传动，且其中一个所述转动壳与相应的所述输送单元之间通过带轮和皮带传动，所述转动壳套在相应所述管道的外侧，所述转动壳的侧壁设有周向等距分布的通孔，且所述喷头与相应的所述通孔配合，所述转动壳的外侧壁安装有清理件，所述清理件为柔性透水材质。

优选地，所述通孔的直径小于所述喷头的内孔直径，且相邻两个所述通孔之间的距离小于所述喷头的内孔直径，所述转动壳的外侧壁设有呈环形阵列的多个凹槽，所述凹槽与相邻的所述通孔连通。

优选地，所述滤芯位于所述导流壳外的一端安装有连接轴，所述连接轴与所述输送单元之间通过带轮和皮带传动。

优选地，所述工作台安装有上下对称的刮板，所述刮板与相应的所述清理件配合，用于刮除所述清理件上附着的杂质。

优选地，还包括有均匀分布的多组调节机构，所述调节机构用于调节液体的流动量，所述工作台固接有上下对称的两个固定板，多组调节机构分别固接于相应的所述固定板上，调节机构包括有第一滑动架，第一滑动架滑动设置于相应的所述固定板上，所述第一滑动架与相应的所述固定板之间安装有第一弹簧，所述第一滑动架转动设置有第一转轮和第二转轮，所述第一转轮的外侧壁和相应所述第二转轮的外侧壁的中部均设有环形槽，所述固定板限位滑动设置有花键杆，花键杆与相邻的所述第一转轮和相邻的所述第二转轮配合，所述花键杆的下部设有左右对称的两个豁口，所述花键杆的豁口用于解除其与相应所述第一转轮和所述第二转轮的配合，所述花键杆和相应的所述固定板之间安装有第二弹簧，所述花键杆远离其上豁口的一端安装有连接杆，所述工作台的侧壁设有用于所述连接杆滑动的滑槽，其中一个所述喷头滑动设置有与所述连接杆固接的第二滑动架，所述第二滑动架用于封堵相应的所述喷头。

优选地，上下相邻两个所述第一转轮的对称中心线与上下对称的所述清理件的对称中心线位于同一水平面上，同时该水平面与所述输送单元的输送平面齐平。

优选地，还包括有均匀分布的多组加压机构，所述加压机构用于调节所述清理件对废旧硅片的夹持力，所述转动壳为弹性材质，所述加压机构设置于相应所述管道的侧壁上，所述加压机构包括有支撑架，所述支撑架固接于所述相应所述管道的侧壁上，所述支撑架滑动设置有滑动杆，所述滑动杆与相应的所述支撑架之间安装有第一拉簧，所述支撑架限位滑动设置有用于限位调节所述滑动杆的滑动板，所述滑动板靠近相邻所述滑动杆的一侧设为台阶面，且所述滑动板上台阶面的其中一段为倾斜形，所述滑动板设有与相应所述第二滑动架配合的斜槽。

优选地，所述滑动杆远离相应所述管道的一端设为表面光滑的圆柱，用于减小其与相应所述管道之间的摩擦力。

优选地，还包括有用于清理废旧硅片上水渍的喷气机构，所述喷气机构设置于所述工作台上，所述喷气机构包括有上下对称的导气管，上下对称的所述导气管均转动设置于所述工作台的侧壁上，且上下对称的所述导气管的对称中心线与上下对称的所述清理件的对称中心线重合，且所述清理件位于相应所述刮板和相应所述导气管之间，且所述刮板、所述清理件和所述导气管的依次排序方向为废旧硅片的移动方向，上下对称的所述导气管共同转动设置有分配器，所述分配器通过软管安装有气泵，所述工作台靠近所述三通管的一侧设有上下对称的连接块，所述工作台上下对称的连接块均设有摆动组件，所述摆动组件用于转动相应的所述导气管。

优选地，所述摆动组件包括有第三滑动架，所述第三滑动架限位滑动设置于所述工作台上相应的连接块上，所述第三滑动架和所述工作台的连接块之间安装有第二拉簧，所述第三滑动架固接有齿条，所述导气管固接有与相应所述齿条啮合的直齿轮，所述转动壳靠近所述第三滑动架的一端设有周向等距分布的多个凸块，所述凸块与相应的所述第三滑动架的配合。

与现有技术相比，本发明具有以下优点：本发明通对清理件的浸润，使清理件对废旧硅片进行擦拭清理，避免废旧硅片之间的粘连，同时配合滤芯对水的过滤，使清理水回收再利用，节约水资源，通过转动滤芯保证导管的液体流动速率，从而保障清理件的均匀浸润，确保清理效果的稳定，通过刮板对清理件上附着杂质的挤压刮除，避免杂质再次落至清理后的废旧硅片上，通过调节机构中第一转轮转动调节第二滑动架，来调节清理件上浸润区域，对废旧硅片进行精准性清理，进一步节约水资源，同时提高有效的清理效率，通过喷气机构中的导气管喷出对峙的气体对废旧硅片上的水渍进行清理，避免其上再次附着杂质，同时进一步保障废旧硅片的洁净度。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图；

图2为本发明工作台的内部立体结构示意图；

图3为本发明转动壳和清理件处零部件的立体结构示意图；

图4为本发明转动壳和清理件处零部件的剖视图；

图5为本发明转动壳的立体结构示意图；

图6为本发明调节机构的立体结构示意图；

图7为本发明调节机构的剖视图；

图8为本发明加压机构的剖视图；

图9为本发明导气管和清理件处零部件的立体结构示意图；

图10为本发明喷气机构的剖视图。

图中零部件名称及序号：1、工作台，101、输送单元，102、转动辊，103、驱动电机，104、齿轮箱，105、导流壳，106、滤芯，107、抽水泵，108、导管，109、三通管，110、管道，111、喷头，112、转动壳，113、清理件，114、通孔，115、凹槽，2、连接轴，3、刮板，4、固定板，401、调节机构，402、第一滑动架，403、第一弹簧，404、第一转轮，405、第二转轮，406、花键杆，407、第二弹簧，408、连接杆，409、第二滑动架，5、加压机构，501、支撑架，502、滑动杆，503、第一拉簧，504、滑动板，6、喷气机构，601、导气管，602、分配器，7、摆动组件，701、第三滑动架，702、第二拉簧，703、齿条，704、直齿轮，705、凸块。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。

实施例1：一种用于废旧硅片回收的清洗装置，参照图1-图5所示，包括有工作台1，工作台1的前侧壁设有操作面板，工作台1的内部设有左右对称的两组输送单元101，两组输送单元101均与操作面板电连接，输送单元101用于夹持输送废旧硅片，工作台1的下侧面固接有并连通有导流壳105，导流壳105的内部设有两个通孔，其中一个为竖直孔，另一个为L形孔，导流壳105的L形孔内安装有可拆卸的滤芯106，导流壳105的竖直孔与其上L形孔交叉，其中滤芯106的过滤部分位于导流壳105上竖直孔和其上L形孔的交叉处，滤芯106的前端安装有连接轴2，连接轴2与相应输送单元101之间通过带轮和皮带传动，工作台1的侧壁安装有与导流壳105上竖直孔连通的抽水泵107，抽水泵107与操作面板电连接，抽水泵107通过导管108和三通管109连通有两个管道110，两个管道110均通过连接架与工作台1的侧壁固接，管道110的侧壁连通有呈线性均匀分布的多个喷头111，每个喷头111内均设有单向阀，用于控制管道110内压力，使全部喷头111均匀喷出液体，工作台1的中部转动设置有上下对称的两个转动壳112，两个转动壳112位于两组输送单元101之间，两个转动壳112的前端之间通过齿轮组传动，上侧转动壳112的前部与相应的输送单元101之间通过带轮和皮带传动，转动壳112套在相应管道110的外侧，转动壳112的侧壁设有周向等距分布的通孔114，喷头111与转动壳112配合，且喷头111与相应的通孔114配合，通孔114的直径小于喷头111的内孔直径，且相邻两个通孔114之间的距离小于喷头111的内孔直径，在转动壳112转动过程中，使喷头111内水通过相邻的通孔114流出，转动壳112的外侧壁设有呈环形阵列的多个凹槽115，凹槽115连通相邻的通孔114，转动壳112的外侧壁安装有清理件113，清理件113为柔性透水材质（例如海绵），喷头111流出的水持续对清理件113的右下部进行浸润，便于后续对废旧硅片进行擦拭清理。

参照图6所示，工作台1内安装有上下对称的两个刮板3，其中刮板3呈倾斜形，两个刮板3左端之间的距离大于其右端之间的距离，刮板3与相应的清理件113挤压配合，在清理件113转动过程中，随着清理件113移动至相邻的刮板3附近，刮板对相邻的清理件113上附着的杂质进行清理，便于后续清理件113保持洁净对废旧硅片进行擦拭清理。

本发明中的输送单元101由多个转动辊102、一个驱动电机103和一个齿轮箱104组合而成，驱动电机103与操作面板电连接，转动辊102的外侧壁设有弹性保护套，用于增大其与废旧硅片之间的摩擦力，且上下相邻转动辊102之间的距离近似等于废旧硅片的厚度，其中全部转动辊102均位于工作台1上转动，同时全部的转动辊102成对称分布，且转动辊102由左向右为双单依次间隔设置，工作台1的前侧面通过支架安装驱动电机103，驱动电机103的输出轴与其中一个转动辊102连接，工作台1的后侧面安装有齿轮箱104，齿轮箱104用于传动相邻转动辊102之间的动力。

在对废旧硅片进行清理处理时，操作人员向工作台1内注入一定量的清水，然后操作人员通过工作台1上操作面板启动本装置，操作面板启动两个驱动电机103和抽水泵107，驱动电机103工作通过齿轮箱104使全部的转动辊102进行相应转动，最终使进入上下相邻转动辊102之间的废旧硅片向右缓慢移动，同时相应的转动辊102转动通过两组带轮和皮带分别带动上侧的转动壳112和连接轴2转动，此时上侧的转动壳112的转动方向与废旧硅片的移动方向相反，而上侧的转动壳112转动通过齿轮组使下侧的转动壳112一同转动，此时两个转动壳112转动带动相应的清理件113转动对废旧硅片表面进行擦拭清理，保持废旧硅片的洁净，便于后续对废旧硅片进行回收再利用。

抽水泵107工作抽取工作台1内水在导流壳105的L形孔和竖直孔内流动并通过滤芯106进入导管108内，其中滤芯106对水中的杂质进行过滤，便于后续对水的循环利用，节约水资源，同时连接轴2转动带动滤芯106一同转动，使水通过滤芯106上不同部位的侧壁，避免杂质堵塞滤芯106影响抽水泵107的抽水量，从而影响后续清理效果，同时部分水由导流壳105上竖直孔向滤芯106内流动，从而达到对滤芯106进行反冲的效果，减少滤芯106上杂质的附着量，进一步保障抽水泵107的抽水效率，从而保证后续清理效果的稳定，同时延长其使用寿命。

导管108内流动的水通过三通管109进入到两个管道110内，受喷头111内单向阀的限制作用，使水充满两个管道110后开始蓄压，随后水通过全部的喷头111一同流出，流出的水通过与喷头111相连通的通孔114流至转动壳112和清理件113之间，流出的水通过凹槽115在转动壳112和清理件113之间均匀扩散，并使清理件113均匀浸润潮湿，同时伴随清理件113的转动，使两个清理件113对输送单元101输送至两者之间的废旧硅片进行擦拭清理，后续清理件113继续转动使其上附着杂质处向相应的刮板3处靠近，在刮板3的挤压限位下，对清理件113上附着的杂质进行刮除，使杂质掉落至清理件113的左侧，始终保障清理件113右侧的洁净，从而提高清理效果。

后续重复上述操作，同时操作人员依次向工作台1的左侧平台上放置的废旧硅片即可，转动辊102将废旧硅片右输送，其中两个清理件113持续对输送废旧硅片的上下两侧面进行清理，即逐个清理废旧硅片，避免废旧硅片之间发生粘连，在完全清理完毕后，操作人员通过操作面板停止本装置即可。

实施例2：在实施例1的基础之上，参照图4和图6-图8所示，还包括有均匀分布的多组调节机构401，上下相邻的调节机构401配合工作，调节机构401用于调节液体的流动量，工作台1内固接有上下对称的两个固定板4，固定板4位于清理件113的左侧，多组调节机构401分别固接于相应的固定板4上，以上侧最前部的调节机构401为例，调节机构401包括有第一滑动架402，第一滑动架402滑动设置于上侧固定板4的前部，第一滑动架402与相应的固定板4之间安装有第一弹簧403，第一弹簧403位于上侧固定板4的下侧，第一滑动架402的下部转动设置有第一转轮404和第二转轮405，第一转轮404的直径大于第二转轮405的直径，且第一转轮404的转动中心和第二转轮405的转动中心位于同一水平面上，第一转轮404外侧面的中部和相应第二转轮405外侧面的中部均设有环形槽，上侧固定板4的前部限位滑动设置有花键杆406，花键杆406位于相邻的第一转轮404的环形槽和第二转轮405的环形槽之间，且花键杆406的下端高于第一转轮404的最下侧，第一转轮404和第二转轮405的外部均为橡胶材质，上下相邻两个第一转轮404的对称中心线与两个清理件113的对称中心线位于同一水平面上，同时该水平面与输送单元101的输送平面齐平，花键杆406的下部设有左右对称的两个豁口，花键杆406的豁口用于解除其与相应第一转轮404和第二转轮405的配合，花键杆406和上侧固定板4之间安装有第二弹簧407，第二弹簧407套在相应的花键杆406上并位于上侧固定板4的下侧，花键杆406由圆柱杆和两个限位环组成，其中圆柱杆设有花键槽，两个限位环位于圆柱杆上花键槽的上下两端，用于限制花键杆406的移动范围，花键杆406的上端安装有连接杆408，工作台1的侧壁设有滑槽，连接杆408穿过工作台1上相应的滑槽，上侧最前部的喷头111滑动设置有第二滑动架409，第二滑动架409由挡板和n形架组成，第二滑动架409的上部与相应连接杆408固接，第二滑动架409的挡板用于封堵相应的喷头111，在废旧硅片移动经过相应的第一转轮404时，受废旧硅片的移动作用，使第一转轮404转动挤压花键杆406上移，从而解除挡板对相应喷头111的封堵，从而对破碎的不规则硅片进行针对性高效清理。

在对输送过程中的废旧硅片进行清理过程中，由于部分废旧硅片破碎不完整，其中废旧硅片移动进入上下相邻的两个第一转轮404之间，伴随转动辊102转动对废旧硅片的输送，使废旧硅片在上下相邻第一转轮404之间缓慢移动，随着废旧硅片的移动，废旧硅片使与其接触的第一转轮404进行转动，受第一转轮404上环形槽的作用，增大第一转轮404与花键杆406之间的摩擦力，即第一转轮404转动使其与相应第二转轮405所夹持的花键杆406向上移动，花键杆406上移压缩第二弹簧407，同时花键杆406通过相连接的连接杆408带动相应的第二滑动架409上移，第二滑动架409上移解除对该部位喷头111的限位，使管道110内的水通过喷头111流出并逐渐浸润该部位的清理件113。

随着第一转轮404的逐渐转动，使花键杆406的豁口部位其与相应第一转轮404和第二转轮405之间，此时第一转轮404继续转动无法夹持花键杆406继续上移，使花键杆406在该高度保持静止，同时废旧硅片的最右端移动至两个清理件113的贴合处，即第一转轮404最下端的距离和清理件113最下端之间的距离与两个清理件113之间接触处与喷头111之间的距离相同，确保浸润潮湿的清理件113对废旧硅片进行精准性擦拭清理，减少清水的流动散失，提高清水利用率，从而保障清理效率的高效。

同时在废旧硅片脱离与相应第一转轮404的接触后，受第二弹簧407的弹力作用，使其进行上述反向操作，即第二滑动架409再次对相应的喷头111进行封堵，但此时清理件113上洁净且湿润区域的长度对废旧硅片的剩余区域进行清理，达到精准性清理，后续重复上述操作即可。

实施例3：在实施例2的基础之上，参照图6和图8所示，还包括有均匀分布的多组加压机构5，每组加压机构5与相应的调节机构401配合，加压机构5用于调节两个清理件113对废旧硅片的夹持力，从而提高清理件113对废旧硅片的清理效果，转动壳112的中部为弹性材质，加压机构5设置于相应管道110的侧壁上，加压机构5包括有支撑架501，支撑架501呈L形，支撑架501固接于相应管道110的下侧壁上，支撑架501竖直滑动设置有滑动杆502，滑动杆502的下端设为表面光滑的圆柱，用于减小其与相应管道110之间的摩擦力，滑动杆502与相应的支撑架501之间安装有两个第一拉簧503，两个第一拉簧503呈前后对称，且两个第一拉簧503均套在相应的滑动杆502上，支撑架501的中部限位滑动设置有水平移动的滑动板504，滑动板504的左侧设为台阶面，滑动板504的台阶面分为三段，其由上至下分别为竖直面、水平面和倾斜面，滑动板504的台阶面与滑动杆502限位配合，滑动板504的左部设有与相应第二滑动架409配合的斜槽，在第二滑动架409上移过程中，第二滑动架409同时挤压滑动板504上斜槽，使滑动板504解除对滑动杆502的限位，使滑动杆502挤压转动壳112和清理件113，提高两个清理件113对废旧硅片的夹持力，从而使相应部位的清理件113提高对废旧硅片的清理效果。

在进行上述精准性清理过程中，随着相应部位的第二滑动架409移动，该第二滑动架409的左部挤压相邻滑动板504的斜槽，使滑动板504移动解除对相邻滑动杆502的限位，在相应两个第一拉簧503的弹力作用下，使滑动杆502移动挤压转动壳112的侧壁，从而使该部位清理件113与废旧硅片之间的挤压力变大，提高清理件113对废旧硅片的清理效果，便于后续对废旧硅片进行回收处理。

实施例4：在实施例3的基础之上，参照图9和图10所示，还包括有喷气机构6，喷气机构6设置于工作台1上，喷气机构6用于清理废旧硅片上水渍，进一步保障废旧硅片的洁净，喷气机构6包括有上下对称的两个导气管601，两个导气管601均转动设置于工作台1的侧壁上，两个导气管601位于清理件113的右侧，两个导气管601的对称中心线与两个清理件113的对称中心线重合，导气管601的左侧设有均匀分布的倾斜喷嘴，上下两个导气管601上的倾斜喷嘴呈上下对称分布，两个导气管601的后部共同转动设置有分配器602，分配器602通过软管安装有气泵，气泵与操作面板电连接，工作台1的后侧面安装有上下对称分布的两个连接块，工作台1的两个连接块均设有用于转动相应的导气管601摆动组件7，通过两个导气管601上的喷嘴喷出相对的气体对清理后废旧硅片上水渍进行清理，从而避免废旧硅片上粘附杂质。

参照图10所示，摆动组件7包括有第三滑动架701，第三滑动架701限位滑动设置于工作台1上相应的连接块上，第三滑动架701呈T形，第三滑动架701和工作台1上相应的连接块之间安装有第二拉簧702，第二拉簧702套在相应的第三滑动架701上，第三滑动架701的右侧面固接有齿条703，导气管601的后部固接有直齿轮704，直齿轮704与相应齿条703啮合，转动壳112的后端设有周向等距分布的多个凸块705，凸块705与相应的第三滑动架701的配合，转动壳112在转动过程中，转动壳112带动相应的凸块705转动依次拨动第三滑动架701移动，使第三滑动架701通过相连接的零件带动导气管601摆动，从而对移动过程中的废旧硅片上的水渍进行多次驱赶，提高清理效果。

在进行废旧硅片清理操作时，操作面板同时启动与分配器602相连接气泵，使两个导气管601上喷出均匀分布的气体，喷出的气体对废旧硅片上残留的水渍进行驱赶清理，进一步保持废旧硅片的洁净。

同时在转动壳112转动过程中，转动壳112带动相邻的凸块705一同转动，凸块705在转动过程中对第三滑动架701进行挤压，使第三滑动架701带动相邻齿条703移动并拉伸相邻的第二拉簧702，其中齿条703移动使直齿轮704带动相邻的导气管601转动，从而使导气管601摆动喷出，喷出的气体加速驱赶废旧硅片上水渍的向左流动，当凸块705转动脱离与相邻第三滑动架701的接触后，在第二拉簧702的拉力作用下，使第三滑动架701带动相邻的齿条703快速移动复位，即使导气管601快速反向转动复位，后续其余凸块705转动同理进行上述操作，使导气管601间歇式摆动喷气，对废旧硅片进行多次驱赶除水渍，避免其上再次附着较大灰尘，保障清理后硅片的洁净，便于后续直接对废旧硅片进行再利用处理。

以上参照附图说明了本发明的具体实施方式，并非因此局限本发明的权利范围。本领域技术人员不脱离本发明的范围和实质内所作的任何修改、等同替换和改进，均应在本发明的权利范围之内。

Claims (9)

1.一种用于废旧硅片回收的清洗装置，包括有工作台（1），所述工作台（1）的侧壁设有操作面板，所述工作台（1）内设有多组输送单元（101），其特征是：还包括有导流壳（105），所述导流壳（105）连通于所述工作台（1）的下端，所述导流壳（105）内安装有滤芯（106），所述导流壳（105）通过抽水泵（107）和导管（108）安装有三通管（109），所述工作台（1）的侧壁通过连接架固接有上下对称的管道（110），上下对称的所述管道（110）均与所述三通管（109）固接并连通，所述管道（110）的侧壁连通有呈线性均匀分布的多个喷头（111），所述喷头（111）内设有单向阀，所述工作台（1）转动设置有上下对称且与相邻所述喷头（111）配合的转动壳（112），上下对称的所述转动壳（112）之间通过齿轮组传动，且其中一个所述转动壳（112）与相应的所述输送单元（101）之间通过带轮和皮带传动，所述转动壳（112）套在相应所述管道（110）的外侧，所述转动壳（112）的侧壁设有周向等距分布的通孔（114），且所述喷头（111）与相应的所述通孔（114）配合，所述转动壳（112）的外侧壁安装有清理件（113），所述清理件（113）为柔性透水材质；

还包括有均匀分布的多组调节机构（401），所述调节机构（401）用于调节液体的流动量，所述工作台（1）固接有上下对称的两个固定板（4），多组调节机构（401）分别固接于相应的所述固定板（4）上，调节机构（401）包括有第一滑动架（402），第一滑动架（402）滑动设置于相应的所述固定板（4）上，所述第一滑动架（402）与相应的所述固定板（4）之间安装有第一弹簧（403），所述第一滑动架（402）转动设置有第一转轮（404）和第二转轮（405），所述第一转轮（404）的外侧壁和相应所述第二转轮（405）的外侧壁的中部均设有环形槽，所述固定板（4）限位滑动设置有花键杆（406），花键杆（406）与相邻的所述第一转轮（404）和相邻的所述第二转轮（405）配合，所述花键杆（406）的下部设有左右对称的两个豁口，所述花键杆（406）的豁口用于解除其与相应所述第一转轮（404）和所述第二转轮（405）的配合，所述花键杆（406）和相应的所述固定板（4）之间安装有第二弹簧（407），所述花键杆（406）远离其上豁口的一端安装有连接杆（408），所述工作台（1）的侧壁设有用于所述连接杆（408）滑动的滑槽，其中一个所述喷头（111）滑动设置有与所述连接杆（408）固接的第二滑动架（409），所述第二滑动架（409）用于封堵相应的所述喷头（111）。

2.按照权利要求1所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：所述通孔（114）的直径小于所述喷头（111）的内孔直径，且相邻两个所述通孔（114）之间的距离小于所述喷头（111）的内孔直径，所述转动壳（112）的外侧壁设有呈环形阵列的多个凹槽（115），所述凹槽（115）与相邻的所述通孔（114）连通。

3.按照权利要求1所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：所述滤芯（106）位于所述导流壳（105）外的一端安装有连接轴（2），所述连接轴（2）与所述输送单元（101）之间通过带轮和皮带传动。

4.按照权利要求1所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：所述工作台（1）安装有上下对称的刮板（3），所述刮板（3）与相应的所述清理件（113）配合，用于刮除所述清理件（113）上附着的杂质。

5.按照权利要求1所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：上下相邻两个所述第一转轮（404）的对称中心线与上下对称的所述清理件（113）的对称中心线位于同一水平面上，同时该水平面与所述输送单元（101）的输送平面齐平。

6.按照权利要求1所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：还包括有均匀分布的多组加压机构（5），所述加压机构（5）用于调节所述清理件（113）对废旧硅片的夹持力，所述转动壳（112）为弹性材质，所述加压机构（5）设置于相应所述管道（110）的侧壁上，所述加压机构（5）包括有支撑架（501），所述支撑架（501）固接于所述相应所述管道（110）的侧壁上，所述支撑架（501）滑动设置有滑动杆（502），所述滑动杆（502）与相应的所述支撑架（501）之间安装有第一拉簧（503），所述支撑架（501）限位滑动设置有用于限位调节所述滑动杆（502）的滑动板（504），所述滑动板（504）靠近相邻所述滑动杆（502）的一侧设为台阶面，且所述滑动板（504）上台阶面的其中一段为倾斜形，所述滑动板（504）设有与相应所述第二滑动架（409）配合的斜槽。

7.按照权利要求6所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：所述滑动杆（502）远离相应所述管道（110）的一端设为表面光滑的圆柱，用于减小其与相应所述管道（110）之间的摩擦力。

8.按照权利要求4所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：还包括有用于清理废旧硅片上水渍的喷气机构（6），所述喷气机构（6）设置于所述工作台（1）上，所述喷气机构（6）包括有上下对称的导气管（601），上下对称的所述导气管（601）均转动设置于所述工作台（1）的侧壁上，且上下对称的所述导气管（601）的对称中心线与上下对称的所述清理件（113）的对称中心线重合，且所述清理件（113）位于相应所述刮板（3）和相应所述导气管（601）之间，且所述刮板（3）、所述清理件（113）和所述导气管（601）的依次排序方向为废旧硅片的移动方向，上下对称的所述导气管（601）共同转动设置有分配器（602），所述分配器（602）通过软管安装有气泵，所述工作台（1）靠近所述三通管（109）的一侧设有上下对称的连接块，所述工作台（1）上下对称的连接块均设有摆动组件（7），所述摆动组件（7）用于转动相应的所述导气管（601）。

9.按照权利要求8所述的一种用于废旧硅片回收的清洗装置，其特征是：所述摆动组件（7）包括有第三滑动架（701），所述第三滑动架（701）限位滑动设置于所述工作台（1）上相应的连接块上，所述第三滑动架（701）和所述工作台（1）的连接块之间安装有第二拉簧（702），所述第三滑动架（701）固接有齿条（703），所述导气管（601）固接有与相应所述齿条（703）啮合的直齿轮（704），所述转动壳（112）靠近所述第三滑动架（701）的一端设有周向等距分布的多个凸块（705），所述凸块（705）与相应的所述第三滑动架（701）的配合。