JP2000306879A

JP2000306879A - 基板洗浄装置

Info

Publication number: JP2000306879A
Application number: JP11110787A
Authority: JP
Inventors: Eiji Ino; 英二井野; Yukio Yokoi; 幸男横井; Toshio Taketatsu; 敏雄竹達; Kimiharu Yano; 公治谷野
Original assignee: EBATEKKU KK
Current assignee: EBATEKKU KK
Priority date: 1999-04-19
Filing date: 1999-04-19
Publication date: 2000-11-02

Abstract

(57)【要約】【課題】上下回転ブラシの間隔寸法の調整が小型かつ
簡単な構成で行えるとともに、装置コストの低減下が図
れる構造を備えた基板洗浄装置を提供する。【解決手段】ブラシ間隔調整部６３は、上側回転ブラ
シ６０を回転可能にかつ上下位置調整可能に軸支するカ
ム軸受部７５を備え、カム軸受部７５を駆動部１００に
よりカム駆動することで、上側回転ブラシ６０の上下位
置が調整されて、上下回転ブラシ６０，６１の間隔寸法
が調節される。カム軸受部７５は、上側回転ブラシ６０
を回転可能に軸支する回転支持部１０１と、この回転支
持部１０１に対して相対的に回転可能にかつ上下方向へ
カム移動可能に軸支する偏心支持部１０２とが径方向へ
組み立てられてなり、この偏心支持部１０２が駆動部１
００に回転調整可能に駆動連結されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板洗浄装置に関
し、さらに詳細には、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガ
ラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板等の薄板
状の基板を回転ブラシを用いて洗浄する方式の基板洗浄
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の回転ブラシを用いた基板洗浄装
置は、続いて行われる清浄雰囲気での精密洗浄工程に投
入される前の、いわゆる投入前洗浄工程において使用さ
れる装置で、その一般的構成が図１０に示されている。

【０００３】この基板洗浄装置は、トンネル構造を有す
る直方体形状の洗浄室ａの中央部分に、基板ｂを搬送す
る搬送ローラ装置ｃが前後搬送方向へ貫通して配されて
なり、この搬送ローラ装置ｃに沿って、複数の洗浄ノズ
ルｄ，ｄ，…が配されるとともに、これら洗浄ノズル
ｄ，ｄ，…の搬送方向間部位に回転ブラシ装置ｅ，ｅが
配されている。

【０００４】搬送ローラ装置ｃは、上下２列に配された
複数の上下搬送ローラｆ，ｆ，…を備えてなり、各搬送
ローラｆは、洗浄室ａの側壁部に回転可能に軸支される
とともに、図外の駆動源に駆動連結されてなり、洗浄す
べき基板ｂ，ｂ，…は、その上下両面に転接する上下搬
送ローラｆ，ｆにより推進力を与えられて、搬送方向Ｘ
へ搬送される。

【０００５】洗浄ノズルｄは、搬送ローラ装置ｃの搬送
方向へ所定間隔をもって、上下から搬送ローラ装置ｃ上
の基板ｂ表面に向けてそれぞれ配されており、洗浄液
（純水または中性洗剤を含む洗浄水）を基板ｂ表面に噴
射する。

【０００６】回転ブラシ装置ｅは、上下一対の回転ブラ
シｇ，ｇからなり、各回転ブラシｇは、洗浄室ａの側壁
部に回転可能に軸支されるとともに、駆動部ｈに駆動連
結されている。また、上下一対の回転ブラシｇ，ｇの間
隔寸法（ブラシ外径間寸法）は、洗浄すべき基板ｂの厚
さ寸法に応じて、その表面に所定の圧力をもって回転接
触するように設定されている。

【０００７】そして、基板ｂ，ｂ，…は、洗浄室ａの投
入口（図面において左側）から搬送ローラ装置ｃにより
順次連続して搬送方向Ｘへ搬送されていき、その搬送途
中において、各基板ｂの表裏面は、洗浄ノズルｄ，ｄ，
…により洗浄液を噴射されるとともに、上下一対の回転
ブラシｇ，ｇにより回転接触されて、表面上に付着して
いる塵埃等が擦り取られながら洗浄された後、洗浄室ａ
の排出口（図面において右側）から次工程の精密洗浄工
程等へ送られる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近時の基板
ｂの種類の豊富化に伴い、基板ｂの厚みもかつての単一
規格ではなく目的に応じて種々の寸法のものが採用され
るに至っている。

【０００９】したがって、これら基板ｂを洗浄する上記
従来の洗浄装置においても、これに対応した調整機構を
設ける必要がある。特に、基板ｂの表裏面に直接回転接
触する上下一対の回転ブラシｇ，ｇにあっては、その間
隔寸法は、基板ｂの製品価値に直接影響することから精
密に調節される必要がある。

【００１０】この目的のため、従来の洗浄装置において
は、回転ブラシｇとその駆動部ｈを一体で上下方向へ移
動可能な構造とするとともに、この移動調整は、人手に
よる手動や、駆動モータやシリンダによる自動で行われ
ていた。

【００１１】しかしながら、このような従来の構成で
は、駆動部ｈが比較的大型であることにも起因して、上
記移動調整のための機構も大型となり、装置全体構成の
大型化および装置コストの高騰を招いていた。

【００１２】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたものであって、その目的とするところは、上下回
転ブラシの間隔寸法の調整が小型かつ簡単な構成で行え
るとともに、装置コストの低減下が図れる構造を備えた
基板洗浄装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の基板洗浄装置は、トンネル構造を有する洗
浄室内に、基板を搬送する搬送装置が搬送方向へ貫通し
て配されるとともに、この搬送装置に沿って、洗浄液噴
射装置と回転ブラシ装置が配されてなり、この回転ブラ
シ装置の回転ブラシを用いて薄板状の基板表面を洗浄す
る方式の洗浄装置であって、上記回転ブラシ装置は、上
記搬送装置によって搬送される基板の表裏面を回転洗浄
する上下一対の回転ブラシと、これら一対の回転ブラシ
を回転駆動するブラシ駆動手段と、上記一対の回転ブラ
シの間隔寸法を調節するブラシ間隔調整手段とを備えて
なり、このブラシ間隔調整手段は、上記一対の回転ブラ
シの少なくとも一方に設けられて、この回転ブラシを回
転可能にかつ上下位置調整可能に軸支するカム軸受部
と、このカム軸受部をカム駆動する駆動部からなり、上
記カム軸受部は、上記回転ブラシを固定部に対して回転
可能に軸支する回転支持部と、上記回転ブラシを固定部
に対して相対的に回転可能にかつ上下方向へカム移動可
能に軸支する偏心支持部とが径方向へ組み立てられてな
る二重軸受構造とされ、上記偏心支持部が前記駆動部に
回転調整可能に駆動連結されていることを特徴とする。

【００１４】好適な実施態様として、上記カム軸受部
は、上記洗浄室の側壁部に上記回転支持部の円筒ハウジ
ングが固定的に支持されるとともに、この円筒ハウジン
グの内径部に上記偏心支持部が軸受を介して回転駆動可
能に支持されてなり、この偏心支持部は、外径円筒面と
内径円筒面が互いに偏心した偏心ハウジングを備え、こ
の偏心ハウジングの上記外径円筒面が上記回転支持部の
軸受内径部に回転可能に支持されるとともに、上記内径
円筒面が軸受を介して上記回転ブラシの回転軸を回転可
能に軸支するように構成され、上記偏心ハウジングを上
記駆動部により回転調整することで、上記回転ブラシの
上下方向位置が調整される。

【００１５】本発明の基板洗浄装置において、回転ブラ
シ装置における上下一対の回転ブラシの間隔寸法は、こ
れら両回転ブラシの少なくとも一方、例えば上側の回転
ブラシ側に設けられたブラシ間隔調整手段により、洗浄
処理すべき基板の厚さ寸法に対応して最適値に調節され
る。

【００１６】上記ブラシ間隔調整手段は、回転ブラシを
回転可能にかつ上下位置調整可能に軸支するカム軸受部
を備えており、このカム軸受部を駆動部によりカム駆動
することにより、上側の回転ブラシの上下位置が調整さ
れて、上下一対の回転ブラシの間隔寸法が調節される。
この場合、上記カム軸受部は、上記回転ブラシを回転可
能に軸支する回転支持部と、この回転支持部に対して相
対的に回転可能にかつ上下方向へカム移動可能に軸支す
る偏心支持部とが径方向へ組み立てられてなり、この偏
心支持部が上記駆動部に回転調整可能に駆動連結されて
いる。

【００１７】したがって、回転ブラシを回転駆動するブ
ラシ駆動手段は、上記カム軸受部を介して、上下位置を
移動調節されるつまり上下方向可動部である回転ブラシ
に対し、構造的に独立した形で駆動連結する構成をとる
ことができ、この結果、装置構成として比較的大型のブ
ラシ駆動手段が、洗浄室等と同様、固定的に設置可能と
なり、従来の移動調整機構を備えたものに比較して小型
かつ簡易な構成が実現する。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面に基づいて説明する。

【００１９】本発明に係る基板洗浄装置が図１ないし図
３に示されている。この基板洗浄装置は、具体的には、
清浄雰囲気での精密洗浄工程に投入されるに先立って、
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマデ
ィスプレイ用ガラス基板等の薄板状の基板Ｗの表面を回
転ブラシを用いて洗浄する方式の基板洗浄装置である。

【００２０】この基板洗浄装置は、トンネル構造を有す
る洗浄室１内に、基板Ｗを搬送する搬送装置２が搬送方
向Ｘへ貫通して配されるとともに、この搬送装置２に沿
って、洗浄液噴射装置３、回転ブラシ装置４および乾燥
装置５が配されてなる。

【００２１】洗浄室１は断面矩形状の空間を有するトン
ネル形状とされ、内部に上記構成装置２〜５が内装され
るとともに、洗浄液を排出する排出路や換気機構等を備
えた従来周知の基本構成を備えている。

【００２２】搬送装置２は、具体的にはローラ搬送装置
の形態とされ、駆動ローラ部１０と案内ローラ部１１を
主要部として構成されている。

【００２３】駆動ローラ部１０は、基板Ｗを搬送方向Ｘ
へ強制搬送するもので、図２および図３に示すように、
洗浄室１の基板投入部Ａから基板搬出部Ｂまで基板搬送
方向Ｘへ所定間隔をもって並列に配置された複数の搬送
ローラ１２，１３，…と、これら搬送ローラ１２，１
３，…を回転駆動するローラ駆動部１４とから構成され
ている。

【００２４】搬送ローラ１２，１３は、基板Ｗの下面に
摩擦接触状態で転接する構成とされ、投入Ａ側に配設さ
れる搬送ローラ１２，１２，…は、後述する案内ローラ
部１１の下側案内ローラ２１との関係で、基板Ｗの下面
中央部分に転接する長さ寸法を有するとともに、搬出Ｂ
側に配設される搬送ローラ１３，１３，１３は、基板Ｗ
の下面のほぼ幅方向全体に転接する長さ寸法を有する
（図３参照）。

【００２５】これら搬送ローラ１２，１３，…は、図７
に示すように、その支軸１５，１６が軸受１７により洗
浄室１の両側壁１ａ，１ｂに水平状態でかつ回転可能に
軸支されるとともに、その一端部（図示の実施形態にお
いては前側端部）１５ａ，１６ａが側壁１ａを貫通して
洗浄室１の外部へ臨んでいる。この外部へ臨んだ支軸１
５，１６の端部１５ａ，１６ａは、ローラ駆動部１４に
駆動連結されている。なお、上記軸受１７は、洗浄室１
内に対して液密シール構造を備える。

【００２６】上記ローラ駆動部１４は、図３に示すよう
に、回転駆動源である駆動モータ１８と、この駆動モー
タ１８の駆動力を上記搬送ローラ１２，１３，…に伝達
する歯車機構１９から構成されている。

【００２７】上記駆動モータ１８は、全搬送ローラ１
２，１３，…に共用されるもので、洗浄室１の前側外部
において基板搬出Ｂ側位置に配設されている。

【００２８】上記歯車機構１９は具体的には傘歯車機構
の形態とされ、上記駆動モータ１８の駆動軸１８ａに同
軸状に駆動連結された伝動軸２０に、駆動側傘歯車１９
ａ，１９ａ，…が所定間隔をもって取付け固定されると
ともに、上記搬送ローラ１２，１３，…の支軸１５，１
６の外部端部１５ａ，１６ａに、被動側傘歯車１９ｂが
それぞれ取付け固定され、これら駆動側および被動側傘
歯車１９ａ，１９ｂがそれぞれ噛合されて、上記駆動モ
ータ１８と搬送ローラ１２，１３，…が駆動連結されて
いる。

【００２９】そして、上記駆動モータ１８の回転駆動に
より、搬送ローラ１２，１３，…が回転して、投入Ａ側
から順次連続して投入される基板Ｗ，Ｗ，…を基板搬送
方向Ｘへ所定の速度をもって搬送する。

【００３０】案内ローラ部１１は、基板Ｗの搬送を案内
するもので、図７〜図９に示すように、上下一対の案内
ローラ２０，２１とローラ幅調整部（ローラ幅調整手
段）２２を主要部として構成されている。

【００３１】上下一対の案内ローラ２０，２１は、基板
Ｗの両側縁部をそれぞれ上下から挟持状に転接案内する
もので、搬送される基板Ｗの幅方向両側位置にそれぞれ
配置されている。

【００３２】これら一対の案内ローラ２０，２１は、図
８および図９に示すように、支持本体２５に上下方向へ
所定間隔をもって、自由回転可能にかつ連動可能に軸支
されている。

【００３３】上記支持本体２５は、後述するように、ロ
ーラ幅調整部２２の上下一対の案内ロッド１５，３０に
摺動可能に支持される構造とされ、具体的には、本体ブ
ロック２６と支持ブラケット２７が揺動可能に接続組み
立てされてなる。

【００３４】上記本体ブロック２６は、その下部がスリ
ーブベアリング２８，２８を介して下側案内ロッド３０
に摺動可能に軸支されるとともに、この下側案内ロッド
３０の軸線の直交する円筒支持穴２６ａを有し、この円
筒支持穴２６ａに、支持ブラケット２７の揺動軸２７ａ
がスリーブベアリング３１，３１を介して揺動可能に軸
支されている。

【００３５】上記支持ブラケット２７は、図９に示すよ
うに、二又状に起立した支持部２７ｂ，２７ｃを備え、
その揺動軸２７ａが上記のごとく本体ブロック２６と垂
直状態で揺動可能に接続されるとともに、上記両支持部
２７ｂ，２７ｃがスリーブベアリング３２，３２を介し
て上側案内ロッドつまり前記搬送ローラ１２の支軸１５
に摺動可能に軸支されている。

【００３６】また、上記両支持部２７ｂ，２７ｃ間に
は、下側の案内ローラ２１が、スリーブベアリング３
３，３３を介して上側案内ロッド１５に摺動可能にかつ
回転可能に軸支されている。また、一方の支持部２７ｃ
は、他方の支持部２７ｂよりも高さ寸法が大きく設定さ
れており、その先端部分に支軸３４が上記上側案内ロッ
ド１５の平行となるように取付け固定され、この支軸３
４に上側の案内ローラ２１が回転可能に軸支されてい
る。

【００３７】一対の案内ローラ２０，２１は、その基端
側に連動機構３５が設けられて互いに連動可能とされる
とともに、その先端側に基板Ｗの表裏両面に転接する転
接部３６，３７が設けられている。

【００３８】上記連動機構３５は、上側案内ローラ２０
に設けられた環状フランジ３５ａと、下側案内ローラ２
１に設けられた環状溝３５ｂとからなり、これら両者３
５ａ，３５ｂが互いに転動可能に摩擦係合している。こ
れにより、一対の案内ローラ２０，２１は、自由回転可
能でかつ互いに連動可能とされている。

【００３９】また、上記転接部３６，３７は、弾性変形
可能な弾性体から形成されて、異なる厚さ寸法の基板Ｗ
を転接案内可能な構成とされている。具体的には、上側
案内ローラ２０の転接部３６は、案内ローラ２０の円筒
外周面に嵌着される円筒リングの形態とされるととも
に、下側案内ローラ２１の転接部３７は、案内ローラ２
１の円筒外周面に形成された平行二条溝に嵌着されるＯ
リングの形態とされている。

【００４０】そして、上記駆動ローラ部１０の搬送ロー
ラ１２，１３，…により搬送される基板Ｗ，Ｗ，…の両
側縁部を、上記上下一対の案内ローラ２０，２１が挟持
状に転接案内して、Ｗ，Ｗ，…を基板搬送方向Ｘへ整列
するように案内する。

【００４１】ローラ幅調整部２２は、上記一対の案内ロ
ーラ２０，２１を基板Ｗ幅方向へ移動調整するもので、
摺動案内部４０と駆動部４１を主要部として構成されて
いる。

【００４２】摺動案内部４０は、上記一対の案内ローラ
２０，２１を基板Ｗ幅方向へ摺動案内するもので、具体
的には前記上下一対の案内ロッド１５，３０から構成さ
れている。両案内ロッド１５，３０は上下に平行かつ水
平に配されるとともに、これら両案内ロッド１５，３０
に、上記案内ローラ２０，２１の支持本体２５が上述の
ごとく摺動可能に支持されている。

【００４３】これに関連して、前述した搬送ローラ１２
は、図３および図７に示すように、上側の案内ロッド１
５において、両側の一対の案内ローラ２０，２１の間部
分に取付け固定されるとともに、搬送ローラ１２の長さ
寸法は、これら両側の案内ローラ２０，２１の摺動範囲
と干渉しない大きさに設定されている。

【００４４】駆動部４１は、上記一対の案内ローラ２
０，２１を基板Ｗ幅方向へ移動させるもので、具体的に
はシリンダ装置の形態とされ、図示の実施形態において
は空気圧を利用する一対のエアシリンダ４２，４３から
構成されている。

【００４５】これらエアシリンダ４２，４３は、図３に
示すように、洗浄室１の前後側外部において、上下案内
ロッド１５，３０の高さ方向ほぼ中央部に水平状態でそ
れぞれ配設されている（図７参照）。これらエアシリン
ダ４２，４３のシリンダロッド４２ａ，４３ａは、それ
ぞれ接続ロッド４４，４５を介して、案内ローラ２０，
２１の支持本体２５の本体ブロック２６に接続されてい
る（図７および図９参照）。

【００４６】図示の実施形態においては、図７を参照し
て、前側のエアシリンダ４２のシリンダロッド４２ａ
は、接続ロッド４４を介して隣接する二組の支持本体２
５，２５の本体ブロック２６，２６に接続されるととも
に、後側のエアシリンダ４３のシリンダロッド４３ａ
は、接続ロッド４５を介して隣接する４組の支持本体２
５，２５，…の本体ブロック２６，２６，…に接続され
ている。

【００４７】そして、これらエアシリンダ４２，４３の
シリンダロッド４２ａ，４３ａが突出退入することによ
り、上記両側の支持本体２５，２５が案内ロッド１５，
３０上を移動して、案内ローラ２０，２１および２０，
２１による基板案内幅Ｌ（図３および図７参照）が、洗
浄処理すべき基板Ｗの幅寸法に対応して最適値に調節さ
れる。

【００４８】洗浄液噴射装置３は、洗浄液を基板Ｗの表
面に噴射供給するもので、その具体的構成は従来周知の
ものが採用されている。

【００４９】つまり、この洗浄液噴射装置３は、上下か
ら搬送装置２上の基板Ｗの表裏両面に向けられた複数の
噴射ノズル５０，５０，…を備えてなり、図示の実施形
態における配列構成は、基板Ｗの幅方向へは、図７に示
すように、上側が所定間隔をもって６台の噴射ノズル５
０，５０，…が配設されるとともに、上側が所定間隔を
もって５台の噴射ノズル５０，５０，…が配設されてい
る。また、基板Ｗの搬送方向Ｘへは、図２に示すよう
に、上下両側共に、上記のように幅方向へ配列された列
が所定間隔をもって４列ずつ配設されている。

【００５０】これら噴射ノズル５０，５０，…は図外の
洗浄液供給源にそれぞれ連通されており、噴射供給され
る洗浄液としては、純水または中性洗剤を含む洗浄水が
使用されている。

【００５１】そして、上記洗浄液供給源から供給される
洗浄液は、上記噴射ノズル５０，５０，…から、搬送装
置２により搬送方向Ｘへ搬送される基板Ｘ，Ｘ，…の表
裏両面に噴射供給される。

【００５２】回転ブラシ装置４は、基板Ｗの表面をブラ
ッシング洗浄するもので、図４〜図６に示すように、上
下一対の回転ブラシ６０，６１と、ブラシ駆動部（ブラ
シ駆動手段）６２と、ブラシ間隔調整部（ブラシ間隔調
整手段）６３とを主要部として備えてなる。

【００５３】上下一対の回転ブラシ６０，６１の具体的
構成は従来周知のものが採用されており、基板Ｗの表面
を傷付けない程度の剛性を有する起毛線材が円筒軸６５
の表面全体に放射状に植設されてなり、その軸方向長さ
寸法は、図４に示すように、洗浄処理すべき基板Ｗの幅
寸法よりも長く設定されている。

【００５４】この回転ブラシ６０，６１の軸受構造は、
後述するように、ブラシ間隔調整部６２の主要部も構成
し、両回転ブラシ６０，６１の相対的な上下位置関係が
調整可能でかつ回転可能に軸支されている。

【００５５】つまり、上側回転ブラシ６０の具体的な軸
受構造は、図４に示すように、回転支軸６６，６７が、
カム軸受部７５，７５により、洗浄室１の両側壁１ａ，
１ｂに水平状態で回転可能にかつ上下位置調整可能に軸
支されるとともに、これら回転支軸６６，６７の内端部
６６ａ，６７ａに、上側回転ブラシ６０の円筒軸６５が
両持状態で、同軸状にかつ取外し可能に接続支持されて
いる。

【００５６】また、下側回転ブラシ６１の具体的な軸受
構造は、同じく図４に示すように、回転支軸６８，６９
が、軸受７６，７６により、洗浄室１の両側壁１ａ，１
ｂに水平状態で回転可能に軸支されるとともに、これら
回転支軸６８，６９の内端部６８ａ，６９ａに、上側回
転ブラシ６１の円筒軸６５が両持状態で、同軸状にかつ
取外し可能に接続支持されている。

【００５７】図示の実施形態においては、これら上下一
対の回転ブラシ６０，６１は、図２に示すように、前記
噴射ノズル５０，５０，…の配列箇所の間部分の３箇所
に配設されている。

【００５８】回転ブラシ６０，６１は、その一端側つま
り装置前側の回転支軸６６および６８が側壁１ａを貫通
して洗浄室１の外部へ臨むとともに、上記ブラシ駆動部
６２に駆動連結されている。これに関連して、これら回
転支軸６６、６８を軸支するカム軸受部７５と軸受７６
は、洗浄室１内に対して液密シール構造を備える。

【００５９】ブラシ駆動部６２は、上記３箇所に配され
る上下一対の回転ブラシ６０，６１を同時に回転駆動す
るもので、図１および図４に示すように、回転駆動源で
あるブラシ回転用駆動モータ８０と、この駆動モータ８
０の駆動力を上記回転ブラシ６０，６１，…に伝達する
伝達機構８１から構成されている。

【００６０】上記駆動モータ８０は、全回転ブラシ６
０，６１，…に共用されるもので、洗浄室１の前側外部
において基板搬出部Ｂに配設されている。

【００６１】上記伝達機構８１は具体的には、駆動モー
タ８０の駆動力を各対の回転ブラシ６０，６１用の伝達
駆動軸８２，８２，８２に伝達する第１の伝達部８３
と、各対の回転ブラシ６０，６１を連動させる第２の伝
達部（連動機構）８４とからなる。上記各伝達駆動軸８
２は、図１および図４に示すように、各対の上下回転ブ
ラシ６０，６１の回転支軸６６，６８と同一垂直線上の
下側位置において、支持ブラッケット８５に、上記両回
転支軸６６，６８と平行な水平状態で回転可能にかつ両
持状に軸支されている。

【００６２】第１の伝達部８３は、図１に示すように、
駆動モータ８０の駆動軸８０ａに駆動側タイミングプー
リ９０が取付け固定されるとともに、各伝達駆動軸８２
に被動側タイミングプーリ９１が取付け固定され、これ
らタイミングプーリ９０，９１，９１，９１がタイミン
グベルト９２により駆動連結されている。９３はタイミ
ングベルト９２の張設状態を適正に保持するためのアイ
ドラを示している。

【００６３】第２の伝達部８４は、図４および図５に示
すように、各対の上下回転ブラシ６０，６１において、
上記伝達駆動軸８２に取付け固定された駆動側歯車９５
と下側回転ブラシ６１の回転支軸６８に取付け固定され
た被動側歯車９６とが噛合連結される一方、伝達駆動軸
８２に取付け固定された駆動側プーリ９７と上側回転ブ
ラシ６０の回転支軸６６に取付け固定された被動側プー
リ９８とが伝動ベルト９９を介して駆動連結されてな
る。

【００６４】上記伝動ベルト９９としては、ある程度の
弾性変形が可能な丸ベルトが使用されており、これによ
り、後述するブラシ間隔調整部６２による上側回転ブラ
シ６０の回転支軸６６の上下移動を許容し得る、つま
り、上下回転ブラシ６０，６１の間隔寸法の変化量を吸
収し得る連動構造とされている。

【００６５】そして、上記駆動モータ８０の回転駆動に
より、第１および第２の伝達部８３，８４を介して、各
対の上下回転ブラシ６０，６１，…がそれぞれ連動して
回転し、搬送装置２により搬送方向Ｘへ搬送される基板
Ｗ，Ｗ，…の表裏両面をブラッシング洗浄する。この場
合、上下回転ブラシ６０，６１の回転方向は、基板Ｗの
搬送速度や搬送力を考慮して設定されるが、図示の実施
形態においては、基板Ｗの搬送方向に対して逆方向に力
が作用するように回転駆動される。

【００６６】ブラシ間隔調整部６３は、洗浄すべき基板
Ｗの厚さ寸法に対応して、上下回転ブラシ６０，６１の
間隔寸法Ｈを調節するもので、前述したカム軸受部７５
と、このカム軸受部７５をカム駆動する駆動部１００を
主要部として備える。

【００６７】上記カム軸受部７５は、前述したように上
側の回転ブラシ６０側に設けられており、回転支持部１
０１と偏心支持部１０２からなる二重軸受構造とされ、
その具体的構造が図５および図６に示されている。

【００６８】回転支持部１０１は、上側回転ブラシ６０
を固定部に対して回転可能に軸支するもので、図示の実
施形態においては、回転支持部１０１の円筒ハウジング
１０１ａが上記洗浄室１の側壁部１ａに固定的に支持さ
れるとともに、その内径部に一対の軸受１０１ｂ，１０
１ｂの外輪が嵌着固定されている。

【００６９】偏心支持部１０２は、上側回転ブラシ６０
を固定部に対して上下方向へカム移動可能に軸支するも
ので、図示の実施形態においては、偏心支持部１０２の
偏心ハウジング１０２ａが円筒ハウジング１０１ａの内
径部に上記軸受１０１ｂ，１０１ｂを介して回転可能に
支持されるとともに、その内径部に一対の軸受１０２
ｂ，１０２ｂを介して、上記回転ブラシ６０の回転支軸
６６を回転可能に軸支している。

【００７０】上記偏心ハウジング１０２ａは、図６に示
すように、その円筒外径面１０５と円筒内径面１０６が
上下方向へ所定寸法だけ偏心した構造とされ、円筒外径
面１０５が上記回転支持部１０１の軸受１０１ｂの内輪
に嵌着固定されるとともに、円筒内径面１０６に上記軸
受１０２ｂの外輪が嵌着固定されている。

【００７１】これにより、回転ブラシ６０の回転支軸６
６は、偏心支持部１０２を介して、回転支持部１０１に
対し回転可能でかつ上下方向へカム移動可能に軸支され
ることとなり、偏心支持部１０２の偏心ハウジクング１
０２ａの回転角度位置に対応して、回転支持６６に軸支
された回転ブラシ６０の上下方向位置が設定調整され
る。なお、上記両円筒内外径面１０５，１０６の上下方
向の偏心量は、本基板洗浄装置が洗浄処理対象とするす
べての基板の厚さ寸法を考慮して設定される。また、偏
心量Ｏの異なる複数種類の偏心ハウジング１０２ａを揃
えることにより、多種多様な基板の洗浄処理に適宜対応
することができ、汎用性を増すことができる。

【００７２】以上のごとく、回転支持部１０１と偏心支
持部１０２が径方向へ一体的に組み立てられて、カム軸
受部７５が構成されるとともに、偏心支持部１０２の偏
心ハウジング１０２ａが駆動部１００に回転調整可能に
駆動連結されている。カム軸受部７５は、各上側回転ブ
ラシ６０の両端部に設けられるとともに、洗浄室１内に
対して液密シール構造を備えている。具体的には、回転
支持部１０１の円筒ハウジング１０１ａと偏心支持部１
０２の偏心ハウジング１０２ａとの間にＯリング１０３
が介装されるとともに、偏心ハウジング１０２ａと回転
支軸６６との間にオイルシール１０４が介装されて、こ
の部位の液密シール性が確保されている。

【００７３】上記駆動部１００は、上記３箇所に配され
る上下一対の回転ブラシ６０，６１のカム軸受部７５，
７５，…を同時に回転調整するもので、図１および図４
に示すように、回転駆動源である調整用駆動モータ１１
０と、この調整用駆動モータ１１０の駆動力を上記カム
軸受部７５，７５，…の各偏心ハウジング１０２ａに伝
達する伝達機構１１１から構成されている。

【００７４】調整用駆動モータ１１０は、全カム軸受部
の偏心ハウジング１０２ａ，１０２ａ，…に共用される
もので、洗浄室１の前側外部の上方部分に、取付けブラ
ケット１１２により水平状態で配設されるとともに、伝
達機構１１１の回転伝達軸１１４に駆動連結されてい
る。この回転伝達軸１１４は、図４に示すように、洗浄
室１を前後方向へ貫通してかつ軸受１１３、１１３によ
り回転可能に軸支されている。回転伝達軸１１４と調整
用駆動モータ１１０の駆動軸１１０ａは、同軸状に配置
されるとともに、継手１１５により駆動連結されてい
る。

【００７５】上記回転伝達軸１１４の両端部には、駆動
側タイミングプーリ１１６が取付け固定されるととも
に、各カム軸受部７５の偏心ハウジング１０２ａに被動
側タイミングプーリ１１７が取付け固定され、これらタ
イミングプーリ１１６，１１７が図１に示すごとくタイ
ミングベルト１１８により駆動連結されている。この場
合、全偏心ハウジング１０２ａ，１０２ａ，…の回転方
向角度位置は完全に一致して同期するように設定されて
いる。１１９はタイミングベルト１１８の張設状態を適
正に保持するためのアイドラを示している。

【００７６】そして、上記調整用駆動モータ１１０の回
転駆動により、伝達機構１１１を介して、各上側回転ブ
ラシ６０，６０，…の偏心ハウジング１０２ａ、１０２
ａ、…がそれぞれ連動してかつ同期して回転調整される
と、図６に示すように、各対の上側回転ブラシ６０の回
転支軸６６は、上記偏心ハウジクング１０２ａの回転角
度位置に対応して上下方向位置（偏心ハウジクング１０
２ａの円筒内外径面１０５，１０６の上下方向の偏心量
の範囲内（最大上昇位置ｈ_max，最大下降位置
ｈ_min））が調整される。

【００７７】この結果、上側回転ブラシ６０の下側回転
ブラシ６１に対する上下方向位置つまり上下両回転ブラ
シ６０，６１の間隔寸法Ｈが、洗浄すべき基板Ｗの厚さ
寸法に対応して調整されることとなり、これにより、上
下両回転ブラシ６０，６１が基板Ｗの表裏面に所定の圧
力をもって回転接触可能となる。

【００７８】乾燥装置５は、上記一連の洗浄液噴射装置
３と回転ブラシ装置４を通過して洗浄処理された基板
Ｗ，Ｗ，…の表面を乾燥処理するもので、具体的にはエ
アナイフ１２０を備えてなる。このエアナイフ１２０
は、基板Ｗの幅寸法に対応した幅寸法を有し、そのスリ
ット状の噴射口１２０ａが搬送装置２の搬送経路に沿っ
て搬送される基板Ｗの表面に向けて配置されるととも
に、図外の気体供給源に連通されている。乾燥用気体と
しては、窒素（Ｎ₂）が採用されており、エアナイフ５
の噴射口１２０ａから上記基板Ｗの表面に清浄な窒素が
噴射されて、基板表面の水分が吹き飛ばされ乾燥され
る。

【００７９】しかして、以上のように構成された基板洗
浄装置において、基板Ｗ，Ｗ，…は、洗浄室１の基板投
入部Ａから基板搬出部Ｂへ搬送される間に所定の洗浄お
よび乾燥処理が施される。

【００８０】すなわち、基板Ｗ，Ｗ，…は、洗浄室１の
基板投入部Ａから搬送装置２により順次連続して搬送方
向Ｘへ搬送されていき、その搬送途中において、基板
Ｗ，Ｗ，…各基板Ｗの表裏面が、洗浄液噴射装置３の噴
射ノズル５０，５０，…により洗浄液を噴射されるとと
もに、回転ブラシ装置４の上下一対の回転ブラシ６０，
６１により回転接触されて、基板表面上に付着している
塵埃等が擦り取られながら洗浄され、続いて乾燥装置５
のエアナイフ１２０により乾燥気体を噴射されて乾燥処
理された後、基板搬出部Ｂから次工程の精密洗浄工程等
へ送られる。

【００８１】ところで、近時の基板Ｗの種類の豊富化に
伴い、基板Ｗの厚みも目的に応じて種々の寸法がある。
このため、回転ブラシ装置４における上下一対の回転ブ
ラシ６０，６１の間隔寸法Ｈを精密に調節する必要があ
り、この調節はブラシ間隔調整部６３により行われる。

【００８２】すなわち、ブラシ間隔調整部６３は、上側
回転ブラシ６０を回転可能にかつ上下位置調整可能に軸
支するカム軸受部７５を備えており、このカム軸受部７
５を駆動部１００によりカム駆動することにより、上側
回転ブラシ６０の上下位置が調整されて、上下一対の回
転ブラシ６０，６１の間隔寸法Ｈが調節される。

【００８３】この場合、上記カム軸受部７５は、上側回
転ブラシ６０を回転可能に軸支する回転支持部１０１
と、この回転支持部１０１に対して相対的に回転可能に
かつ上下方向へカム移動可能に軸支する偏心支持部１０
２とが径方向へ組み立てられてなり、この偏心支持部１
０２が上記駆動部１００に回転調整可能に駆動連結され
ている。

【００８４】したがって、回転ブラシ６０，６１を回転
駆動するブラシ駆動部６２は、上記カム軸受部７５を介
して、上下位置を移動調節されるつまり上下方向可動部
である上側回転ブラシ６０に対し、構造的に独立した形
で駆動連結する構成をとることができ、この結果、装置
構成として比較的大型のブラシ駆動部６２が、洗浄室１
と同様、固定的に設置可能となり、従来の移動調整機構
を備えたものに比較して小型かつ簡易な構成が実現す
る。

【００８５】なお、上述した実施形態はあくまでも本発
明の好適な実施態様を示すものであって、本発明はこれ
らに限定されることなくその範囲内で種々の設計変更が
可能である。一例として、以下に列挙するような改変が
考えられる。

【００８６】例えば、図示の実施形態においては、ブラ
シ間隔調整部６２は、構造の簡易性から、上側回転ブラ
シ６０側に設けられているが、下側回転ブラシ６１側に
設けられても、あるいは場合によっては両回転ブラシ６
０，６１に設けられても良い。

【００８７】

【発明の効果】以上詳細したように、本発明によれば、
回転ブラシ装置が、搬送装置によって搬送される基板の
表裏面を回転洗浄する上下一対の回転ブラシと、これら
一対の回転ブラシを回転駆動するブラシ駆動手段と、上
記一対の回転ブラシの間隔寸法を調節するブラシ間隔調
整手段とを備えてなり、このブラシ間隔調整手段は、上
記一対の回転ブラシの少なくとも一方に設けられて、こ
の回転ブラシを回転可能にかつ上下位置調整可能に軸支
するカム軸受部と、このカム軸受部をカム駆動する駆動
部からなり、上記カム軸受部は、上記回転ブラシを固定
部に対して回転可能に軸支する回転支持部と、上記回転
ブラシを固定部に対して相対的に回転可能にかつ上下方
向へカム移動可能に軸支する偏心支持部とが径方向へ組
み立てられてなる二重軸受構造とされ、上記偏心支持部
が前記駆動部に回転調整可能に駆動連結されているか
ら、上下回転ブラシの間隔寸法の調整が小型かつ簡単な
構成で行えるとともに、装置コストの低減下が図れる構
造を備えた基板洗浄装置を提供することができる。

【００８８】すなわち、上記カム軸受部は、回転ブラシ
を回転可能に軸支する回転支持部と、この回転支持部に
対して相対的に回転可能にかつ上下方向へカム移動可能
に軸支する偏心支持部とが径方向へ組み立てられてな
り、この偏心支持部が上記駆動部に回転調整可能に駆動
連結されている。

【００８９】したがって、回転ブラシを回転駆動するブ
ラシ駆動手段は、上記カム軸受部を介して、上下位置を
移動調節されるつまり上下方向可動部である回転ブラシ
に対し、構造的に独立した形で駆動連結する構成をとる
ことができ、この結果、装置構成として比較的大型のブ
ラシ駆動部が、洗浄室等と同様、固定的に設置可能とな
り、従来の移動調整機構を備えたものに比較して小型か
つ簡易な構成が実現する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態である基板洗浄装置の外観
構成を示す側面図である。

【図２】同基板洗浄装置の内部構成を示す側面断面図で
ある。

【図３】同基板洗浄装置の全体構成を示す平面断面図で
ある。

【図４】同基板洗浄装置の回転ブラシ装置を示す図３の
IV-IV 線に沿った正面断面図である。

【図５】同回転ブラシ装置の要部構成を拡大して示す正
面断面図である。

【図６】同回転ブラシ装置におけるカム軸受部と上下一
対の回転ブラシの上下位置調整範囲との関係を示す拡大
側面図である。

【図７】上記基板洗浄装置の搬送装置の要部構成を示す
図３におけるVII-VII 線に沿った正面断面図である。

【図８】同搬送装置の案内ローラ部の案内ローラ支持構
造を拡大して示す側面図である。

【図９】同じく同案内ローラ部の案内ローラ支持構造を
拡大して示す正面断面図である。

【図１０】従来の基板洗浄装置の概略構成を示す側面で
ある。

【符号の説明】

Ａ基板投入部Ｂ基板搬出部Ｘ搬送方向Ｗ基板Ｌ基板案内幅１洗浄室１ａ洗浄室の側壁部２搬送装置３洗浄液噴射装置４回転ブラシ装置５乾燥装置１０駆動ローラ部１１案内ローラ部１２，１３搬送ローラ１４ローラ駆動部１５支軸（兼案内ロッド）１６支軸１８駆動モータ１９歯車機構２０，２１案内ローラ２２ローラ幅調整部（ローラ幅調整手
段）２５支持本体２６本体ブロック２７支持ブラケット２７ａ揺動軸２７ｂ，２７ｃ支持部１５，３０案内ロッド３４支軸３５連動機構３６，３７転接部４０摺動案内部４１シリンダ装置（駆動部）４２，４３エアシリンダ５０噴射ノズル６０，６１回転ブラシ６２ブラシ駆動部（ブラシ駆動手段）６３ブラシ間隔調整部（ブラシ間隔調
整手段）６５円筒軸６６，６７回転支軸６８，６９回転支軸７５カム軸受部８０ブラシ回転用駆動モータ８１伝達機構８２伝達駆動軸８３第１の伝達部８４第２の伝達部（連動機構）９０駆動側タイミングプーリ９１被動側タイミングプーリ９２タイミングベルト９５駆動側歯車９６被動側歯車９７駆動側プーリ９８被動側プーリ９９伝動ベルト１００駆動部１０１回転支持部１０２偏心支持部１０２ａ偏心ハウジング１０２ｂ軸受１０５円筒外径面１０６円筒内径面１１０調整用駆動モータ１１１伝達機構１１３軸受１１４回転伝達軸１１６駆動側タイミングプーリ１１７被動側タイミングプーリ１１８タイミングベルト１２０エアナイフ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者谷野公治大阪府枚方市招堤南町二丁目13−１Ｆターム(参考） 3B116 AA02 AA03 AB16 BA02 BA15 BB24 BB33 CD41

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】トンネル構造を有する洗浄室内に、基板
を搬送する搬送装置が搬送方向へ貫通して配されるとと
もに、この搬送装置に沿って、洗浄液噴射装置と回転ブ
ラシ装置が配されてなり、この回転ブラシ装置の回転ブ
ラシを用いて薄板状の基板表面を洗浄する方式の洗浄装
置であって、前記回転ブラシ装置は、前記搬送装置によって搬送され
る基板の表裏面を回転洗浄する上下一対の回転ブラシ
と、これら一対の回転ブラシを回転駆動するブラシ駆動
手段と、前記一対の回転ブラシの間隔寸法を調節するブ
ラシ間隔調整手段とを備えてなり、このブラシ間隔調整手段は、前記一対の回転ブラシの少
なくとも一方に設けられて、この回転ブラシを回転可能
にかつ上下位置調整可能に軸支するカム軸受部と、この
カム軸受部をカム駆動する駆動部からなり、前記カム軸受部は、前記回転ブラシを固定部に対して回
転可能に軸支する回転支持部と、前記回転ブラシを固定
部に対して相対的に回転可能にかつ上下方向へカム移動
可能に軸支する偏心支持部とが径方向へ組み立てられて
なる二重軸受構造とされ、前記偏心支持部が前記駆動部
に回転調整可能に駆動連結されていることを特徴とする
基板洗浄装置。
【請求項２】前記カム軸受部は、前記洗浄室の側壁部
に前記回転支持部の円筒ハウジングが固定的に支持され
るとともに、この円筒ハウジングの内径部に前記偏心支
持部が軸受を介して回転駆動可能に支持されてなり、この偏心支持部は、外径円筒面と内径円筒面が互いに偏
心した偏心ハウジングを備え、この偏心ハウジングの前
記外径円筒面が前記回転支持部の軸受内径部に回転可能
に支持されるとともに、前記内径円筒面が軸受を介して
前記回転ブラシの回転軸を回転可能に軸支するように構
成され、前記偏心ハウジングを前記駆動部により回転調整するこ
とで、前記回転ブラシの上下方向位置が調整されること
を特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】前記ブラシ駆動手段は、前記一対の回転
ブラシの回転軸を連動回転可能に連結する連動機構と、
この連動機構を回転駆動する駆動モータとを備えてな
り、前記連動機構は、前記ブラシ間隔調整手段による前記一
対の回転ブラシの間隔寸法の変化量を吸収する連動構造
を備えていることを特徴とする請求項１または２に記載
の基板洗浄装置。
【請求項４】前記回転ブラシ装置は前記搬送装置に沿
った複数箇所に並列して配置され、これら回転ブラシ装置における前記ブラシ駆動手段の駆
動源およびブラシ間隔調整手段の駆動源の少なくとも一
方が共用される構成とされていることを特徴とする請求
項１から３のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
【請求項５】前記回転ブラシは、前記回転軸に対して
取外し可能にかつ同軸状に連結支持される構成とされて
いることを特徴とする請求項１から４のいずれか一つに
記載の基板洗浄装置。
【請求項６】前記ブラシ間隔調整手段のカム軸受部
は、前記洗浄室内に対して液密シール構造を備えている
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一つに記載
の基板洗浄装置。
【請求項７】前記搬送装置は、基板を搬送方向へ強制
搬送する駆動ローラ部と、基板の搬送を案内する案内ロ
ーラ部とからなるローラ搬送装置の形態とされ、前記案内ローラ部は、基板の両側縁部をそれぞれ上下か
ら挟持状に転接案内する上下一対の案内ローラと、これ
ら一対の案内ローラを基板幅方向へ移動調整するローラ
幅調整手段とを備え、このローラ幅調整手段は、前記一対の案内ローラを基板
幅方向へ摺動案内する摺動案内部と、前記一対の案内ロ
ーラを基板幅方向へ移動させる駆動部とを備えてなるこ
とを特徴とする請求項１から６のいずれか一つに記載の
基板洗浄装置。
【請求項８】前記摺動案内部は、前記一対の案内ロー
ラを回転可能に支持する支持本体を基板幅方向へ摺動案
内する上下一対の案内ロッドの形態とされるとともに、前記駆動部は、前記支持本体を基板幅方向へ移動させる
シリンダ装置の形態とされていることを特徴とする請求
項７に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】前記支持本体は、本体ブロックと支持ブ
ラケットが揺動可能に接続組み立てされてなり、前記本体ブロックは、前記一対の案内ロッドの下側案内
ロッドに摺動可能に軸支されるとともに、前記シリンダ
装置のシリンダロッドに連結され、前記支持ブラケットは、前記一対の案内ロッドの上側案
内ロッドに摺動可能に軸支されるとともに、前記一対の
案内ローラが上下方向へ所定間隔をもってかつ自由回転
可能に軸支し、前記本体ブロックと支持ブラケットは、垂直な揺動軸を
介してその軸心まわりに揺動可能に接続されてなること
を特徴とする請求項８に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】前記上下一対の案内ローラの転接部
は、弾性体から形成されて、異なる厚さ寸法の基板を転
接案内可能な構成とされるとともに、両案内ローラは、
互いに連動可能に摩擦接触されてなることを特徴とする
請求項７から９のいずれか一つに記載の基板洗浄装置。
【請求項１１】前記駆動ローラ部は、基板の下面に摩
擦接触状態で転接する搬送ローラを備え、この搬送ローラは、前記摺動案内部の上側案内ロッドに
おいて、前記両側の上下一対の案内ローラの間部分に取
付け固定され、前記案内ロッドは、回転可能に軸支されるとともに、回
転駆動源に駆動連結されていることを特徴とする請求項
８から１０いずれか一つに記載の基板洗浄装置。
【請求項１２】前記搬送装置の駆動ローラ部を構成す
る搬送ローラと案内ローラ部を構成する案内ローラは、
基板搬送方向へ所定間隔をもって複数箇所に並列して配
置され、これら案内ローラを基板幅方向へ移動調整するローラ幅
調整手段の駆動源と、搬送ローラを回転駆動する回転駆
動源の少なくとも一方が共用される構成とされているこ
とを特徴とする請求項８から１１のいずれか一つに記載
の基板洗浄装置。