JP2006245328A - 基板の処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】この発明は上下一対のエアーナイフの間隔及び回転方向の角度調整を容易に、しかも正確に行うことができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】ユニット基体8と、ユニット基体の長手方向両端部に設けられ上部エアーナイフ26の両端部をそれぞれ上下方向及び回転方向の位置決め調整可能に支持した一対の第1の支持手段と、ユニット基体の長手方向両端部に設けられ下部エアーナイフ39の両端部をそれぞれ上下方向及び回転方向の位置決め調整可能に支持した一対の第2の支持手段と、ユニット基体の長手方向の一端部に設けられ一対の第1の支持手段及び第2の支持手段をそれぞれ作動させて上部エアーナイフと下部エアーナイフとの上下方向及び回転方向の位置決めをする第1、第2の上下用ノブ15,16及び第1、第2の角度調整用ノブ35,45を具備する。
【選択図】図2

Description

この発明は洗浄処理された基板に付着残留する洗浄液をエアーナイフから噴射される気体によって乾燥処理する基板の処理装置に関する。
たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、これら装置の処理対象物であるガラス基板や半導体ウエハなどの基板にレジストを塗布し、現像処理してからエッチング処理することで、基板の表面に回路パターンを精密に形成する。基板に回路パターンを形成したならば、その基板の表面に付着しているレジスト膜やレジスト残渣などの有機物を洗浄液によって除去する洗浄処理が行われる。
洗浄処理された基板に洗浄液が残留すると汚れの原因になる。そこで、洗浄液によって洗浄された基板にエアーナイフから気体を噴射し、基板に付着残留した洗浄液を除去する乾燥処理が行われる。つまり、基板をチャンバ内へ搬送するとともに、このチャンバ内を搬送される基板の上下面に上下一対のエアーナイフによって気体を噴射し、その気体によって基板に付着した洗浄液を除去するようにしている。
一対のエアーナイフを用いて基板を乾燥処理する場合、基板の板面をむらなく均一に、しかも効率よく確実に乾燥処理することが要求される。そのため、上下一対のエアーナイフと基板の板面との間隔及び基板に対するエアーナイフの傾斜角度を精度よく設定することが重要となる。
一対のエアーナイフを備えた処理装置としては特許文献1に示される構成が知られている。この特許文献1に示された処理装置は一対のエアーナイフの両端部にそれぞれ支持機構が設けられている。この支持機構はガイド溝を有するガイド体を備えている。一対のガイド体のガイド溝にはそれぞれ一対のブロックが上下動可能に設けられ、これらのブロックに上下一対のエアーナイフの両端部がそれぞれ回転可能に支持されている。
一対のガイド体の上面には一対のエアーナイフの上下方向の位置を調整するための上下調整つまみ及び回転角度を調整するための角度調整つまみが設けられている。したがって、上記上下調整つまみ及び角度調整つまみを操作することで、チャンバ内を水平に搬送される基板の上下面に対する上下一対のエアーナイフの間隔及び角度を設定できるようになっている。
従来、一対のエアーナイフをチャンバ内に組み込む場合、まず、一対のガイド体をチャンバの内底部に取付け固定する。ついで、このガイド体に上下一対のエアーナイフの両端部を上下動及び角度調整可能に組み込むということが行われていた。
特開平10−211473号公報
しかしながら、一対のエアーナイフをチャンバ内で組み立てるようにすると、その作業性が悪いということがあったり、一対のエアーナイフの上下方向や回転角度の位置決め調整を容易かつ精度よく行うことが難しいということがあった。
しかも、一対のエアーナイフの一端部と他端部を、一対のガイド体にそれぞれ設けられた上下調整つまみ及び角度調整つまみを操作して調整しなければならなかった。つまり、エアーナイフの一端部と他端部との調整を別々に行わなければならなかった。そのため、そのことによっても作業性の低下や位置決め精度の低下を招くということがあった。
この発明は、一対のエアーナイフの組み込み作業や位置決め調整を容易かつ精度よく行うことができるようにした基板の処理装置を提供することにある。
この発明は、チャンバ内を搬送される基板の上面と下面に上部エアーナイフと下部エアーナイフから気体を噴射してこの基板を乾燥処理する処理装置であって、
ユニット基体と、
このユニット基体の長手方向両端部に設けられ上記上部エアーナイフの両端部をそれぞれ上下方向及び回転方向の位置決め調整可能に支持した一対の第1の支持手段と、
上記ユニット基体の長手方向両端部に設けられ上記下部エアーナイフの両端部をそれぞれ上下方向及び回転方向の位置決め調整可能に支持した一対の第2の支持手段と、
上記ユニット基体の長手方向の一端部に設けられ上記一対の第1の支持手段及び第2の支持手段をそれぞれ作動させて上記上部エアーナイフと下部エアーナイフとの上下方向及び回転方向の位置決めをする操作手段と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記操作手段は、第1の支持手段と第2の支持手段を介して上部エアーナイフと下部エアーナイフをそれぞれ上下方向に駆動する第1、第2の上下操作部及び回転方向に駆動する第1、第2の角度調整部を有することが好ましい。
上記第1の上下操作部を操作して上部エアーナイフの一端部を上下方向に駆動したときに上記上部エアーナイフの他端部を上下方向に連動させる第1の同期機構と、上記第2の上下操作部を操作して下部エアーナイフの一端部を上下方向に駆動したときに上記下部エアーナイフの他端部を上下方向に連動させる第2の同期機構とが設けられていることが好ましい。
上記チャンバには、上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って開放した取付け部が形成され、上記ユニット基体は少なくとも上記操作手段が設けられた長手方向の一端部をチャンバの外部に突出させて上記取り付け部に設けられることが好ましい。
上記ユニット基体は長手方向の両端部をチャンバの幅方向両側から外部に突出させていて、これら両端部は上記チャンバの外部に設けられた設置部に着脱可能に取付け固定されることが好ましい。
この発明によれば、上下一対のエアーナイフをユニット基体によって一体化したから、チャンバ内への組み込み作業を容易に行うことが可能となり、しかも一対のエアーナイフの一端部と他端部との位置決め調整を長手方向の一端部で行えるから、その調整作業を容易かつ精度よく行うことが可能となる。
以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図1乃至図7はこの発明の第1の実施の形態を示し、図1に示す処理装置は箱型状のチャンバ1を備えている。このチャンバ1内には複数の搬送ローラ2が軸線を平行にして所定間隔で配置されている。搬送ローラ2は図示しない駆動源によって回転駆動されるようになっている。それによって、上記チャンバ1の長手方向一端の搬入口1aから供給された、たとえば液晶表示装置用のガラス製の基板Wを他端の搬出口1bに向かって搬送するようになっている。
上記チャンバ1の長手方向中途部には、前工程で洗浄された上記基板Wの上下面に付着残留する洗浄液を除去するエアーナイフユニット5が設けられている。すなわち、上記チャンバ1の長手方向中途部には、このチャンバ1の上面及び両側面に開放した取付け部6が形成されていて、この取り付け部6に上記エアーナイフユニット5が装着されている。取付け部6に装着されたエアーナイフユニット5は両端部をチャンバ1の両側外方へ突出させている。
図2、図4及び図5に示すように、上記エアーナイフユニット5はユニット基体8を有する。このユニット基体8は上記チャンバの幅寸法よりも長尺で、上記取付け部6よりも幅広に形成されたベース板9を有する。ベース板9の上面の幅方向両端には側板11が立設され、一対の側板11間には複数の補強板12が所定間隔で設けられている。
上記ベース板9の上面には回転自在に支持された第1の同期機構を構成する第1の駆動軸13と、第2の同期機構を構成する第2の駆動軸14とが軸線を平行にして上記ベース板9の長手方向にほぼ全長に沿って設けられている。各駆動軸13,14の一端部はベース板9の一端に位置する補強板12から突出している。第1の駆動軸13の一端には第1の上下操作部としての第1の上下用ノブ15が設けられ、第2の駆動軸14の一端には第2の上下操作部としての第2の上下用ノブ16が設けられている。
図2と図3に示すように、各駆動軸13,14の一端部と他端部とにはそれぞれウオーム歯車17が設けられている。各ウオーム歯車17には平歯車18が噛合している。各平歯車18には伝達軸19の一端が取り付け固定されている。各伝達軸19は中途部が上記ベース板9に回転可能に支持され、他端部は上記ベース板9の下面側に突出している。
したがって、第1の駆動軸13を第1の上下用ノブ15によって回転させれば、この第1の駆動軸13に設けられた一対のウオーム歯車17が回転するから、これら一対のウオーム歯車17に噛合した一対の平歯車18が連動し、この平歯車18に一端が連結された伝達軸19が回転する。
同様に、第2の駆動軸14を第2の上下用ノブ16によって回転させれば、この第1の駆動軸14に設けられた一対のウオーム歯車17が回転するから、これらウオーム歯車17に噛合した一対の平歯車18が連動し、この平歯車18に一端が連結された伝達軸19が回転する。
各伝達軸19の他端部にはおねじ(図示せず)が形成されていて、各おねじはブロック21に形成されためねじ(図示せず)に螺合している。各ブロック21の一側面の後端部にはそれぞれ保持板22の後端部が固定されている。各保持板22は、図6と図7に示すように上記ベース板9の下面から垂設されたガイド板23に沿って上下方向に移動可能かつ所定の位置で固定可能に設けられている。
すなわち、ガイド板23には上下方向に沿う長孔(図示せず)が形成され、この長孔には上記保持板22の一端部に螺合したねじ25が挿通されている。したがって、伝達軸19が回転すれば、この伝達軸19に対してブロック21に螺合されたねじ25がガイド板23に形成された長孔に沿って上下動するから、ブロック21は保持板22とともに回転することなく上下動する。また、上記ねじ25を締め込めば、このねじ25によってブロック21が上記ガイド板23に固定されることになる。
上記保持板22の後端部上面と、上記ベース板9とには引張りばね29が張設されている。したがって、上記ブロック21は上記引張りばね29の復元力に抗して下降し、上昇時には復元力が作用するから、ブロック21と伝達軸19とのねじ結合によるがた付きが除去されるようになっている。
図3に示すように、第1の駆動軸13の回転によって上下方向に駆動される一対のブロック21に設けられた一対の保持板22の先端部には上部エアーナイフ26の一端部と他端部とに設けられた端板27がそれぞれ支軸28によって回転可能に支持されている。
ベース板9の長手方向一端側に位置する一方の支軸28の一端部は保持板22の外面側に突出し、その突出部には扇状歯車31が取付けられている。この扇状歯車31にはピニオン歯車32が噛合している。このピニオン歯車32は上部操作軸33に取付けられている。この上部操作軸33は上記保持板22の先端部外面に設けられた支持片34と、上記保持板22の後端部外面に取付けられた上記ブロック21とに先端部と後端部とが回転可能に支持されている。
上部操作軸33の上記支持片34から突出した先端には第1の角度調整用ノブ35が取り付けられている。第1の角度調整用ノブ35によって上部操作軸33を回転すれば、その回転がピニオン歯車32と扇状歯車31を介して上部エアーナイフ26を一方の保持板2に回転可能に支持した支軸28に伝達されるから、上記上部エアーナイフ26が一対の支軸28を支点として回転し、その角度を調整することができる。
すなわち、ベース板9の長手方向一端部に設けられた第1の上下用ノブ15を回転操作して第1の駆動軸13を回転すれば、その回転によって上下動する一対のブロック21及び各ブロック21が取付けられた保持板22を介して上部エアーナイフ26の一端部と他端部とを同期させて上下動させることができる。しかも、ベース板9の長手方向一端部に設けられた第1の角度調整用ノブ35を操作することで、上部エアーナイフ26の回転角度を調整することができる。
図3に示すように、上記第2の駆動軸14を回転させることで上下動する一対のブロック21に後端部外面を取付けた一対の保持板22の先端部内面には、U字形状の連結部材37の一辺が支軸38によって回動可能に連結されている。一対の連結部材37の他辺にはそれぞれ下部エアーナイフ39の長手方向の一端と他端とが連結固定されている。
上記ベース板9の長手方向一端側に位置する一方の支軸38の一端部は保持板22の外面側に突出し、その突出部には扇状歯車41が嵌着固定されている。この扇状歯車41にはピニオン歯車42が噛合している。このピニオン歯車42は下部操作軸43に取付けられている。この下部操作軸43は上記保持板22の先端部外面に設けられた支持片44と、この保持板22の後端部外面に取付けられた上記ブロック21とに先端部と後端部とが回転可能に支持されている。
下部操作軸43の上記支持片44から突出した先端には第2の角度調整用ノブ45が取り付けられている。第2の角度調整用ノブ45によって下部操作軸43を回転させれば、その回転がピニオン歯車42と扇状歯車41を介して下部エアーナイフ39を保持板2に回転可能に支持した一方の支軸38に伝達される。したがって、上記下部エアーナイフ39の角度を調整することができる。
すなわち、ベース板9の長手方向一端部に設けられた第2の上下用ノブ16を回転操作して第2の駆動軸14を回転すれば、その回転によって上下動する一対のブロック21及び各ブロック21が取付けられた保持板22を介して下部エアーナイフ39の一端部と他端部とを同期させて上下動させることができ、さらにベース板9の長手方向一端部に設けられた第2の角度調整用ノブ45を操作することで、下部エアーナイフ39の回転角度を調整することができるようになっている。
図6と図7に示すように、第1の駆動軸13を回転させることで上下動する一対のブロック21にはそれぞれ第1の上下用インジケータ47が設けられ、第2の駆動軸14を回転させることで上下動する一対のブロック21の上面にはそれぞれ第2の上下用インジケータ48が設けられている。
各インジケータ47,48の先端部はベース板9の両端部下面から垂設された上下目盛り板49に書き込まれた目盛りにそれぞれ対向位置している。それによって、上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39との上下方向の位置を、上記上下目盛り板49の目盛りを見ながら設定することができる。
上部エアーナイフ26の両端の支軸28を回転可能に支持した一対の保持板22には第1の回転用インジケータ51が設けられ、下部エアーナイフ39の両端の支軸38を回転可能に支持した一対の保持板22には第2の回転用インジケータ52が設けられている。
各支軸28,38の保持板22の外面側に突出した端部にはそれぞれ円盤状の回転目盛り板54が取付けられている。この回転目盛り板54の外周面には目盛りが書き込まれていて、この目盛りの各回転用インジケータ51,52の先端が対向位置している。それによって、上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39との回転角度を、上記回転目盛り板54の目盛りを見ながら設定することができる。
なお、上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39は、上下方向と同様、回転角度を設定した後、その角度で回転不能に固定できるようになっている。すなわち、回転目盛り板49の周辺部には長孔(図示せず)が形成されていて、この長孔にはねじ(図示せず)が挿通されている。このねじは保持板22の先端部の外面に螺合されている。
したがって、ねじを緩めれば、第1、第2の角度調整ノブ35,45の回転操作によって回転目盛り板49が取付けられた支軸28,38を回転させることができ、ねじを締め込めば支軸28,38の回転が回転目盛り板49によって阻止されるようになっている。
上記構成のエアーナイフユニット5は、図1(a),(b)に示すようにチャンバ1に形成された取付け部6に挿入される。その状態で、ベース板9の幅方向両端部がチャンバ1の上面に係合して上記チャンバ1に保持される。
上記ベース部材9は長手方向両端部をチャンバ1の幅方向両側外方に突出させている。つまり、上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39との長手方向両端部を上下動及び回転可能に支持した機構や上下用と回転用のインジケータ及び目盛り板が設けられた部分及びその機構を操作する第1、第2の上下用ノブ15,16と第1、第2の角度調整用ノブ35,45が設けられた部分をチャンバ1の幅方向両側外方に突出させている。
図4乃至図7に示すように、上記ベース板9の両端部下面にはブラケット55が取付けられている。各ブラケット55はエアーナイフユニット5をチャンバ1の取付け部6に装着した後、設置部56に着脱可能に取付け固定される。この設置部56は、たとえばチャンバ1の側壁外面やチャンバ1が設置される図示しない架台などに所定の高さで設けられる。
上記設置部56の高さが設定されてことで、エアーナイフユニット5をチャンバ1の取付け部6に装着し、ブラケット55を上記設置部56に取付け固定すれば、上部エアーナイフ26の下端と下部エアーナイフ39の上端との隙間の位置がチャンバ1内を搬送ローラ2によって搬送される基板Wと同じ高さになるよう位置決めできる。つまり、上下一対のエアーナイフ26,39間に基板Wが通過可能となる。
図5に示すように、上記ベース板9の上面に設けられた一対の側板11の長手方向中央部には長手方向と交差する幅方向に沿って吊り下げ軸57が設けられている。エアーナイフユニット5は上記吊り下げ軸57介して図示しない天井クレーンやチェーンブロックなどで上記チャンバ1の取付け部6に対して着脱される。
このように構成されたエアーナイフユニット5によれば、上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39とがユニット基体8のベース板9に上下方向及び回転角度の調整可能に設けられて一体化されている。そのため、上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39との上下方向の位置と回転角度とを予め調整してからエアーナイフユニット5をチャンバ1の取り付け部6に組み込むことができる。
上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39とを予め位置決め調整してからエアーナイフユニット5をチャンバ1に組み込めるため、一対のエアーナイフ26,39をチャンバ1内で組み立ててから、これらエアーナイフ26,39の高さ及び回転角度の調整をする従来に比べ、組立作業や調整作業を容易に、しかも精度よく行うことが可能となる。
上記ベース板9の一端部に設けられた第1、第2の上下用ノブ15,16や第1、第2の角度調整用ノブ35,45はチャンバ1の外部に露出している。そのため、エアーナイフユニット5をチャンバ1に組み込んだ後に、上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39との高さや回転角度を調整したい場合には、チャンバ1の外部から上記各ノブ15,16及び35,45を操作することができるため、その調整作業を容易かつ確実に行うことができる。
エアーナイフユニット5の一対のエアーナイフ26,39の高さ及び回転角度の調整をした後で、高さ固定ねじ25によって上下方向の動きを固定し、図示しない角度固定にねじによって回転方向の動きを固定することができる。
そのため、高さ及び回転角度が位置決めされた一対のエアーナイフ26,39がずれ動くのを防止できるから、一対のエアーナイフ26,39を位置決め調整してからチャンバ1に組み込むようにしても、組み込み時に位置ずれが生じるのを防止することができる。
しかも、エアーナイフユニット5のチャンバ1の外部に突出した両端部には上下用インジケータ47,48と、回転用インジケータ51,52及びこれらインジケータが対応する上下目盛り板49と回転目盛り板54が設けられている。
そのため、エアーナイフユニット5をチャンバ1に組み込んだ後で、一対のエアーナイフ26,39の位置決め調整を行いたい場合であっても、これらのインジケータと目盛り板とによって一対のエアーナイフ26,39の位置決め調整をチャンバ1の外部から容易に、しかも確実に行うことができる。
一対のエアーナイフ26,39は、ユニット基体8のベース板9の一端部に設けられた第1、第2の上下用ノブ15,16を操作すれば、これらエアーナイフ26,39の一端部と他端部とを、第1の駆動軸13及び第2の駆動軸14によって同期させて調整することができる。そのため、上下一対のエアーナイフ26,39の一端部と他端部との高さ調整を別々に行う場合に比べて能率よく、しかも精度よく行うことが可能となる。
図8はこの発明の他の実施の形態を示す。この実施の形態は搬送ローラ2によって矢印で示す方向に搬送される基板Wの上面と下面とに対向して配置される上部エアーナイフ26と下部エアーナイフ39が長尺化した場合に、長手方向中途に撓みが生じないようにしている。
すなわち、各エアーナイフ26,39の長手方向中途部に少なくとも1つの支持具61を装着する。この支持具61には連結部材62の一端を連結する。この連結部材62の他端は各エアーナイフ26,39と平行に配置された給気管63に連結する。この給気管63とエアーナイフ26,39とはチューブ64によって接続され、各エアーナイフ26,39に気体を供給するようになっている。
このような構成によれば、各エアーナイフ26,39は支持具61及び連結部材62を介して供給管63により補強されることになるから、長手方向中途部が他の部分よりも大きく撓むのを防止することがきる。
この発明は上記各実施の形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、上記実施の形態では基板を水平に搬送する場合について説明したが、基板を幅方向に対して傾斜させて搬送する場合であってもこの発明を適用することができる。
この発明の一実施の形態を示し(a)はチャンバを断面した側面図、(b)は平面図。 エアーナイフユニットの一部省略した斜視図。 エアーナイフユニットの上下一対のエアーナイフ及びこれらエアーナイフの両端部に設けられた、エアーナイフを上下及び回転駆動する一部の部品の斜視図。 エアーナイフユニットの一部省略した正面図。 エアーナイフユニットの一部省略した平面図。 エアーナイフユニットの長手方向一端部を拡大した正面図。 エアーナイフユニットの長手方向他端部を拡大した正面図。 この発明の他の実施の形態を示す処理装置の概略的構成図。
符号の説明
1…チャンバ、2…搬送ローラ、5…エアーナイフユニット、8…ユニット基体、13…第1の駆動軸、14…第2の駆動軸、15…第1の上下用ノブ、16…第2の上下用ノブ、26…上部エアーナイフ、35…第1の角度調整用ノブ、39…下部エアーナイフ、45…第2の角度調整用ノブ、47…第1の上下用インジケータ、48…第2の上下用インジケータ、49…上下目盛り板、51…第1の回転用インジケータ、52…第2の回転用インジケータ、55…ブラケット、56…設置部。

Claims (5)

  1. チャンバ内を搬送される基板の上面と下面に上部エアーナイフと下部エアーナイフから気体を噴射してこの基板を乾燥処理する処理装置であって、
    ユニット基体と、
    このユニット基体の長手方向両端部に設けられ上記上部エアーナイフの両端部をそれぞれ上下方向及び回転方向の位置決め調整可能に支持した一対の第1の支持手段と、
    上記ユニット基体の長手方向両端部に設けられ上記下部エアーナイフの両端部をそれぞれ上下方向及び回転方向の位置決め調整可能に支持した一対の第2の支持手段と、
    上記ユニット基体の長手方向の一端部に設けられ上記一対の第1の支持手段及び第2の支持手段をそれぞれ作動させて上記上部エアーナイフと下部エアーナイフとの上下方向及び回転方向の位置決めをする操作手段と
    を具備したことを特徴とする基板の処理装置。
  2. 上記操作手段は、第1の支持手段と第2の支持手段を介して上部エアーナイフと下部エアーナイフをそれぞれ上下方向に駆動する第1、第2の上下操作部及び回転方向に駆動する第1、第2の角度調整部を有することを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
  3. 上記第1の上下操作部を操作して上部エアーナイフの一端部を上下方向に駆動したときに上記上部エアーナイフの他端部を上下方向に連動させる第1の同期機構と、上記第2の上下操作部を操作して下部エアーナイフの一端部を上下方向に駆動したときに上記下部エアーナイフの他端部を上下方向に連動させる第2の同期機構とが設けられていることを特徴とする請求項2記載の基板の処理装置。
  4. 上記チャンバには、上記基板の搬送方向と交差する方向に沿って開放した取付け部が形成され、上記ユニット基体は少なくとも上記操作手段が設けられた長手方向の一端部をチャンバの外部に突出させて上記取り付け部に設けられることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
  5. 上記ユニット基体は長手方向の両端部をチャンバの幅方向両側から外部に突出させていて、これら両端部は上記チャンバの外部に設けられた設置部に着脱可能に取付け固定されることを特徴とする請求項4記載の基板の処理装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009125745A (ja) * 2007-11-21 2009-06-11 Semes Co Ltd 処理流体供給装置及びこれを含む基板処理装置
KR100979760B1 (ko) 2008-09-09 2010-09-02 세메스 주식회사 에어 분사 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치
JP2010258035A (ja) * 2009-04-21 2010-11-11 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置
KR101034591B1 (ko) * 2008-12-29 2011-05-12 주식회사 케이씨텍 대면적 기판의 건조장치
KR101323658B1 (ko) 2007-04-02 2013-10-30 주식회사 케이씨텍 대면적 기판 건조장치
CN112974405A (zh) * 2021-02-24 2021-06-18 安徽捷密德智能机械制造有限责任公司 一体成型的风刀

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10211473A (ja) * 1997-01-29 1998-08-11 Shibaura Eng Works Co Ltd エアナイフ、エアナイフの支持装置およびエアナイフを用いた処理装置
JP2000306879A (ja) * 1999-04-19 2000-11-02 Ebatekku:Kk 基板洗浄装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10211473A (ja) * 1997-01-29 1998-08-11 Shibaura Eng Works Co Ltd エアナイフ、エアナイフの支持装置およびエアナイフを用いた処理装置
JP2000306879A (ja) * 1999-04-19 2000-11-02 Ebatekku:Kk 基板洗浄装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101323658B1 (ko) 2007-04-02 2013-10-30 주식회사 케이씨텍 대면적 기판 건조장치
JP2009125745A (ja) * 2007-11-21 2009-06-11 Semes Co Ltd 処理流体供給装置及びこれを含む基板処理装置
TWI483329B (zh) * 2007-11-21 2015-05-01 Semes Co Ltd 加工流體提供裝置及應用其之基板加工設備
KR100979760B1 (ko) 2008-09-09 2010-09-02 세메스 주식회사 에어 분사 유닛 및 이를 갖는 기판 처리 장치
KR101034591B1 (ko) * 2008-12-29 2011-05-12 주식회사 케이씨텍 대면적 기판의 건조장치
JP2010258035A (ja) * 2009-04-21 2010-11-11 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置
KR101095107B1 (ko) 2009-04-21 2011-12-16 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 기판의 처리 장치
CN112974405A (zh) * 2021-02-24 2021-06-18 安徽捷密德智能机械制造有限责任公司 一体成型的风刀
CN112974405B (zh) * 2021-02-24 2022-07-01 安徽捷密德智能机械制造有限责任公司 一体成型的风刀

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