JP4652991B2 - 基板の処理装置 - Google Patents

基板の処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4652991B2
JP4652991B2 JP2006046836A JP2006046836A JP4652991B2 JP 4652991 B2 JP4652991 B2 JP 4652991B2 JP 2006046836 A JP2006046836 A JP 2006046836A JP 2006046836 A JP2006046836 A JP 2006046836A JP 4652991 B2 JP4652991 B2 JP 4652991B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
bottom plate
substrate
fixed
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006046836A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007227634A (ja
Inventor
治道 廣瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Mechatronics Corp filed Critical Shibaura Mechatronics Corp
Priority to JP2006046836A priority Critical patent/JP4652991B2/ja
Publication of JP2007227634A publication Critical patent/JP2007227634A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4652991B2 publication Critical patent/JP4652991B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

この発明は基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置に関する。
液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが除去された部分をエッチングする。そして、エッチング後にレジストを除去するという一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらにリンス液によって洗浄する工程、洗浄後に基板に付着残留したリンス液を除去する乾燥工程が必要となる。
基板に対して上述した一連の処理を行う場合、基板を水平に搬送したのでは、基板に供給される処理液の重量によって基板に撓みが生じ、撓んだ部分に処理液が残留しやすくなるから、基板の処理を全面にわたって均一に行なうことができなくなるということがある。
そこで、処理液によって基板を処理する際、上記基板が処理液の重量によって撓むのを防止するため、基板を所定の傾斜角度、たとえば75度の角度で傾斜させて搬送するということが考えられている。基板を傾斜させて搬送すれば、処理液は基板の板面に溜まらず、上方から下方へ円滑に流れるから、処理液の重量によって基板が撓むのを防止することができる。
ところで、基板に対して薬液処理、リンス液処理及び乾燥処理などの複数の処理を連続して行なう場合、処理装置は基板に対して複数の処理を順次行なう複数の処理ユニットが一列に配置された構造となる。
各処理ユニットはチャンバを有する。このチャンバ内には基板を所定の傾斜角度で支持する支持ローラ及び支持ローラに板面が支持された上記基板の下端を支持する駆動ローラが設けられている。
上記駆動ローラは駆動ユニットに設けられた回転軸に取り付けられている。この駆動ユニットはベース部材を有し、このベース部材に複数の上記回転軸が所定間隔で回転可能に支持されている。
上記駆動ユニットをチャンバ内に設置したならば、上記回転軸には駆動源が連結される。そして、上記回転軸が回転駆動されることで、支持ローラによって板面が所定の傾斜角度で支持されるとともに、下端が上記駆動ローラによって支持された上記基板がチャンバ内を所定方向に搬送駆動されることになる。
従来、上記駆動ユニットは上記チャンバの底板の上面に直接若しくはスペーサなどを介して取付け固定するようにしている。しかしながら、チャンバは基板を処理する薬液に対して耐蝕性を有するステンレス鋼板などの比較的薄い板材を溶接して構成されている。
そのため、チャンバを構成する板材には溶接による熱歪などが生じているから、上記駆動ユニットを単にチャンバの底板に取付け固定したのでは、この駆動ユニットに傾きが生じてしまうということがある。
すなわち、チャンバの底板や側板に歪があるため、上記駆動ユニットをチャンバ内に組み込む際、駆動ユニットを位置決めするための基準となる面がないため、その取付けを傾きのない状態で高精度に組み込むことができないということがあった。
この発明は、チャンバ内に駆動ユニットを組み付ける際の基準面を形成することで、上記駆動ユニットの組み込みを高精度に行なえるようにした基板の処理装置を提供することにある。
この発明は、基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置であって、
チャンバと、
このチャンバの内底部に位置する上端面が同一平面をなすよう位置決めされて上記チャンバの底板に固定された複数の基準部材と、
上記基板の下端を支持する駆動ローラが設けられた回転軸及びこの回転軸が回転可能に支持されたベース部材を有し、このベース部材が上記基準部材の上端面に取付け固定される駆動ユニットと
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
上記基準部材は上記チャンバの底板を貫通してこの底板に固定され、上記底板の外面には上記基準部材の上記底板の外部に突出した部分が固定される補強部材が上記底板に固着されることが好ましい。
上記ベース部材には取付け部材が高さ調整機構によって高さ調整可能に設けられていて、上記取付け部材に上記回転軸を回転可能に支持する軸受が設けられていることが好ましい。
複数の上記基準部材を上記チャンバの底板に取付け固定する際、これらの基準部材は、上端面をプレート治具の板面に接触させて固定してから、上記チャンバの底板に形成された取付け孔に挿入して上記底板に固定されることが好ましい。
この発明によれば、チャンバに上端面が同一平面をなすよう複数の基準部材を設け、これら基準部材の上端面に駆動ユニットのベース部材を取り付けるようにした。そのため、駆動ユニットは基準部材の上端面を基準にしてチャンバ内に高精度に組み込むことが可能となる。
以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図1乃至図5はこの発明の第1の実施の形態を示す。図1はこの発明の処理装置の概略的構成を示す斜視図であって、この処理装置は装置本体1を有する。この装置本体1は分割された複数の処理ユニット、この実施の形態では第1乃至第5の処理ユニット1A〜1Eを分解可能に一列に連結してなる。
各処理ユニット1A〜1Eは架台2を有する。この架台2の前面には箱型状の処理部3が所定の角度で傾斜して保持されている。上記架台2と処理部3の上面には上部搬送部4が設けられている。上記架台2の下端の幅方向両端には板状の一対の脚体5(一方のみ図示)が分解可能に設けられる。この脚体5によって上記架台2の下面側に空間部6が形成される。
上記空間部6には、上記処理部3で後述するように行なわれる基板Wの処理に用いられる薬液やリンス液などの処理液を供給するタンクやポンプ或いは処理液の供給を制御するための制御装置などの機器7をフレーム8に載置した機器部9が収納されるようになっている。つまり、各処理ユニット1A〜1Eは架台2を脚体5で支持して処理部3の下方に空間部6を形成することで、上下方向に位置する処理部3、上部搬送部4及び機器部9の3つの部分に分割されている。
上記処理部3はチャンバ12を有する。このチャンバ12は上記架台2に所定の角度である、たとえば垂直線に対して75度の角度で傾斜して保持されていて、幅方向の両側面には75度の角度で傾斜して搬送される基板Wが通過するスリット13(図1に一箇所のだけ図示)が形成されている。
上記チャンバ12の内部には、図2に示すように傾斜搬送手段を構成する複数の搬送軸15(1つのみ図示)がチャンバ12の幅方向に所定間隔で設けられている。この搬送軸15には複数の支持ローラ14が軸方向に所定間隔で回転可能に設けられている。上記搬送軸15は、軸線が上記スリット13と同じ角度で傾斜するよう、上下端及び中途部がそれぞれブラケット15a(上下端のブラケットのみ図示)によって支持されている。
上記チャンバ12内には、上記スリット13から基板Wが図1に鎖線で示す第1の姿勢変換部16によって水平状態から75度の角度に変換されて搬入される。すなわち、未処理の基板Wは上記上部搬送部4によって第5の処理ユニット1E側から第1の処理ユニット1A側に搬送されて上記第1の姿勢変換部16で水平状態から75度の角度に傾斜されて上記第1の処理ユニット1Aに搬入される。
第1の処理ユニット1Aのチャンバ12内に搬入された基板Wは上記搬送軸15に設けられた支持ローラ14によって非デバイス面である背面が支持される。この基板Wの下端は駆動ローラ17(図2に示す)によって支持される。この駆動ローラ17は後述する駆動ユニット18の回転軸19に設けられていて、この回転軸19が回転駆動さることで、駆動ローラ17に下端が支持され背面が上記支持ローラ14に支持された上記基板Wが上記駆動ローラ17の回転方向に搬送されるようになっている。
各処理ユニット1A〜1Eのうち、基板Wを処理液で処理する処理部3内には、図2に示すように基板Wの両面と平行に離間した2本で対をなす、処理液噴射手段を構成する複数対のノズルパイプ21(一対だけ図示)が設けられている。
各ノズルパイプ21には軸方向に所定間隔で複数のノズル21aが先端を上記基板Wの板面に向けて設けられている。各ノズルパイプ21は処理液の供給管22に接続されている。それによって、上記ノズル21aからは基板Wの板面に、この基板Wを処理する処理液が噴射されるようになっている。
なお、チャンバ12の底板12aの最も低くなる位置には上記ノズル21aから基板Wに噴射された処理液を排出する排液管20が接続されている。
各処理ユニット1A〜1Eを順次通過して処理された基板Wは75度の角度で傾斜した状態で上記第5の処理ユニッチ1Eから搬出される。第5の処理ユニット1Eから搬出された基板Wは、図1に鎖線で示す第2の姿勢変換部23で傾斜状態から水平状態に姿勢が変換されて次工程に受け渡される。
図3に示すように、上記駆動ユニット18はチャンバ12の幅方向に沿って長い板状の下部ベース部材24を有する。この下部ベース部材24の上面には下部ベース部材24と同じ長さのチャンネル状の上部ベース部材25が両側下端を固着して設けられている。
上記上部ベース部材25には、上記下部ベース部材24とほぼ同じ大きさの板状からなる取付け部材26が幅方向の一端部と他端部とをそれぞれ調整機構である、押しボルト28と引きボルト29によって高さ及び上部ベース部材25に対する傾きの調整可能に連結して設けられている。なお、対をなす押しボルト28と引きボルト29は、上記取付け部材26の長手方向に対して所定間隔で複数対設けられている。
上記取付け部材26の幅方向の一端と他端とには、それぞれブラケット31が上記取付け部材26の長手方向に対して所定間隔で、しかも幅方向に対応する位置に設けられている。各ブラケットには軸受32が設けられている。
上記取付け部材26の幅方向において対応する一対の軸受32には上記回転軸19の軸方向の中途部が回転可能に支持されている。この回転軸19の先端には上記駆動ローラ17が取り付けられ、後端には上記駆動ユニット18をチャンバ12の内底部に後述するように設置した後で、第1の歯車33が嵌着される。
上記チャンバ12の底板12aには円柱状の4本の基準部材35が貫通する取付け孔36(図5に示す)が穿設され、各基準部材35は取付け孔36に挿通されて上記底板12aに溶接固定されている。つまり、4本の基準部材35は下部ベース部材24の四隅部に対応する位置に設けられる。そして、4本の基準部材35は後述するように上端面35aが同一平面をなすよう位置決めされている。
上記底板12aの下面には角筒状の補強部材37がチャンバ12の幅方向に沿って固着される。この補強部材37には、図4と図5に示すように、4本の基準部材35の上記底板12aの下面側に突出した部分が挿通される通孔38が上下面に形成されている。通孔38に挿通された基準部材35は上記補強部材37に溶接固定される。
そして、図3に示すように、上記架台2にチャンバ12を設置したならば、この架台2に設けられた支持部41の上面に各基準部材35の下端面39bがねじ42によって取付け固定される。
上記駆動ユニット18は、下部ベース部材24の四隅部下面が上記基準部材35の上端面35aにねじ42によって取付け固定される。4本の基準部材35の上端面35aは同一平面に位置している。そのため、駆動ユニット18はその下部ベース部材24の幅方向及び長手方向に歪が生じることなく取付け固定される。
すなわち、チャンバ12の底板12aに歪があっても、駆動ユニット18は複数の基準部材35の同一平面に位置する上端面35aを基準にしてチャンバ12内に組み込まれるため、上記駆動ユニット18を高精度に組み込むことができる。
上記駆動ユニット18を基準部材35の上端面35aを基準にしてチャンバ12内に組み込む際、図3に示すように、駆動ユニット18に支持された複数の回転軸19の後端部はチャンバ12の前板12bに開口された導出孔44から駆動室45に突出される。そして、駆動ユニット18をチャンバ12内に組み込んだ後で、上記回転軸19の後端に上記第1の歯車33が嵌着される。
なお、チャンバ12の前板12bの導出孔44の部分にはフッ素樹脂など耐薬品性を有する弾性材料からなるシール材44aがフランジ44bによって保持固定されている。上記回転軸19は上記シール材44aを気密に貫通している。それによって、チャンバ12内の雰囲気が駆動室45内に入り込むのを阻止している。
上記駆動室45にはブラケット46が設けられ、このブラケット46にはチャンバ12の幅方向に沿って支軸47が回転可能に支持されている。支軸47には、各回転軸19の後端に設けられた上記第1の歯車33に噛合する複数の第2の歯車48(1つのみ図示)と、1つの従動プーリ49が取着されている。
上記駆動室45にはモータと減速機とが一体化された駆動源51が設けられている。この駆動源51の出力軸52には駆動プーリ53が嵌着されている。この駆動プーリ53と上記従動プーリ49にはベルト54が張設されている。したがって、駆動源51が作動して第2の歯車48が回転されれば、その回転が第1の歯車33を介して回転軸19に伝達されるから、この回転軸19の前端に設けられた駆動ローラ17が回転駆動される。それによって、駆動ローラ17に下端が支持された基板Wが駆動ローラ17の回転方向に搬送されることになる。
上記駆動室45には圧縮空気の導入部55と、この導入部55から駆動室45内に供給された圧縮空気を排出する排出部56が設けられ、上記駆動室45を陽圧に維持するようになっている。それによって、上記シール材44aとともにチャンバ12内の雰囲気が駆動室45に浸入するのを防止している。
上記基準部材35をチャンバ12の底板12aに設ける場合、平面精度を有するプレート治具57が用いられる。すなわち、図5に示すようにプレート治具57の四隅部下面に、上記基準部材35の上端面35aを接触させてねじ58によって取付け固定する。
ついで、上記基準部材35をチャンバ12の底板12aに形成された4つの取付け孔36に挿通する。このとき、上記底板12aの下面に補強部材37を配置しておき、上記基準部材35を補強部材37に形成された通孔38に挿通する。
このようにして、基準部材35を底板12aの取付け孔36及び補強部材37の通孔38に挿通したならば、補強部材37を底板12aに溶接固定する。ついで、基準部材35の底板12aからの突出高さを設定したならば、この基準部材35を底板12aに溶接固定する。
上記基準部材35の底板12aからの突出高さは、上記駆動ユニット18を基準部材34の上端面35aに固定して設置したときに、上記駆動ユニット18の回転軸19の軸芯が前板12bに形成された導出孔44の中心とほぼ同じ高さ、つまり回転軸19が導出孔44を通過するよう設定する。
なお、駆動ユニット18は下部ベース部材24を基準部材34の上端面34aに取付け固定した後、押しボルト28と引きボルト29によって回転軸19が支持された取付け部材26の高さ及び前後左右の傾きを精密に調整することができる。
このように、4本の基準部材35をチャンバ12の底板12aに、これら基準部材35の上端面35aが同一平面をなすように設けるようにした。そのため、駆動ユニット18の下部ベース部材24を、上記基準部材35の上端面35aに取り付ければ、チャンバ12の底板12aが熱歪などの影響で歪んでいても、その底板12aの状態に係らずに、駆動ユニット18を上記基準部材35の上端面がなす平面を基準にしてチャンバ12内に高精度で設置することができる。
上記底板12aの外面(下面)には補強部材37を設け、この補強部材37に上記底板12aを貫通した基準部材35を固着するようにした。そのため、底板12aが基準部材35によって補強されるため、基準部材35を単に底板12aに固着するだけの場合に比べて上記基準部材35を剛性的に安定した状態で設けることができるから、そのことによっても、基準部材35の上端面35aを基準にして組みつけられる駆動ユニット18の組み付け精度を向上させることができる。
駆動ユニット18の回転軸19は、上部ベース部材25に押しボルト28と引きボルト29によって高さ及び傾きの調整可能に設けられた取付け部材26に支持するようにしている。そのため、上記回転軸19の高さや傾きを調整することができるから、回転軸19の先端に設けられた駆動ローラ17を精密に位置決めすることができる。
基準部材35をチャンバ12の底板12aに設ける場合、プレート治具57を用いるようにした。そのため、複数の基準部材35の上端面35aが確実に同一平面をなすよう位置決めしてチャンバ12に溶接固定することができる。
図6はこの発明の第2の実施の形態を示す。なお、第1の実施の形態と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。すなわち、この実施の形態では底板12aに溶接固定された複数の基準部材35の上端面35aにチャンバ12の前後方向に沿って長いベース部材61の中途部がねじ42によって取付け固定される。
上記ベース部材61の中途部上面には断面形状がL字状のブラケット62が複数対の押しボルト28と引きボルト29によって上下方向の位置決め調整可能に取り付けられている。このブラケット62にはスリーブ63の一端に設けられた第1のハウジング64が取り付け固定されている。この第1のハウジング64には回転軸19の一端部を回転可能に支持する軸受32が保持されている。
上記スリーブ63の他端部には第2のハウジング65aが一体的に設けられた外フランジ65が設けられている。この第2のハウジング65aには上記回転軸19の他端部を回転可能に支持した軸受32が設けられている。
上記外フランジ65の第2のハウジング65aはチャンバ12の前板12bに形成された、上記第2のハウジング65aよりも十分に大径な開口部66を貫通している。上記チャンバ12の前板12bの内面には、外フランジ65にねじ67によって固定される内フランジ68が設けられている。内フランジ68の内面には、上記前板12bの内面との間の気密を維持する第1のシール材69と、外フランジ65との間の気密を維持する第2のシール材71が設けられている。
さらに、内フランジ68の内面には外径寸法が上記開口部66の内径寸法よりもわずかに小さい円盤部72が設けられ、この円盤部72が上記開口部66内に位置している。したがって、円盤部72の外径寸法をA、開口部66の内径寸法をBとすると、これらの寸法差分(B−A)だけ、前板12bに対する回転軸19の取付け位置を上下左右方向に調整できるようになっている。
なお、外フランジ65と回転軸19との間には内部空間73aに加圧気体が供給されるケース73が設けられている。それによって、チャンバ12内の雰囲気が回転軸19の外周面に沿って外部に流れ出るのを阻止している。
上記ベース部材61の先端部には搬送軸15の下端部を支持するL字状のブラケット15aの一辺がねじ74によって取付け固定されている。上記ベース部材61には一辺を上記ブラケット15aの一辺に対向させたL字状の設定部材75の他辺がねじ76で固定されて設けられている。この設定部材75の一辺には先端が上記ブラケット15aの一辺に当接する位置決めねじ77が螺合されている。それによって、ブラケット15aの一辺を位置決めねじ77の前端に当接させることで、このブラケット15aを回転軸19の軸線方向に対して位置決めできるようになっている。
このような構成においても、ベース部材61を基準部材35の上端面35aを基準にしてチャンバ12内に高精度に組み込むことができる。しかも、回転軸19は先端部が基準部材35に取り付けられた第1のハウジング64に軸受32を介して支持され、後端部は第2のハウジング65aに軸受32を介して支持されている。第2のハウジング65aは外フランジ65と内フランジ68によってチャンバ12の前板12bに位置決め調整可能に取り付けられている。
そのため、回転軸19は基準部材35と、外フランジ65及び内フランジ68によってチャンバ12内に高精度に組み込むことが可能となる。
上記一実施の形態ではチャンバの底板の外面に補強部材を設けたが、補強部材がなくても、複数の基準部材をチャンバの底板に取付け固定することは可能である。
この発明の第1の実施の形態の処理装置の概略的構成を示す斜視図。 上記処理装置のチャンバの断面図。 チャンバの下端部に設けられた駆動ユニットを示す拡大図。 ベース部材と基準部材を示す斜視図。 基準部材が連結されたプレート治具及び補強部材を示す斜視図。 この発明の第2の実施の形態を示すチャンバの下端部に設けられた駆動ユニットを示す拡大図。
符号の説明
12…チャンバ、14…支持ローラ、17…駆動ローラ(傾斜搬送手段)、18…駆動ユニット、19…回転軸、24…下部ベース部材、25…上部ベース部材、23…第1の歯車(動力伝達部材)、51…駆動源。

Claims (4)

  1. 基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する基板の処理装置であって、
    チャンバと、
    このチャンバの内底部に位置する上端面が同一平面をなすよう位置決めされて上記チャンバの底板に固定された複数の基準部材と、
    上記基板の下端を支持する駆動ローラが設けられた回転軸及びこの回転軸が回転可能に支持されたベース部材を有し、このベース部材が上記基準部材の上端面に取付け固定される駆動ユニットと
    を具備したことを特徴とする基板の処理装置。
  2. 上記基準部材は上記チャンバの底板を貫通してこの底板に固定され、上記底板の外面には上記基準部材の上記底板の外部に突出した部分が固定される補強部材が上記底板に固着されることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
  3. 上記ベース部材には取付け部材が高さ調整機構によって高さ調整可能に設けられていて、上記取付け部材に上記回転軸を回転可能に支持する軸受が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
  4. 複数の上記基準部材を上記チャンバの底板に取付け固定する際、これらの基準部材は、上端面をプレート治具の板面に接触させて固定してから、上記チャンバの底板に形成された取付け孔に挿入して上記底板に固定されることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
JP2006046836A 2006-02-23 2006-02-23 基板の処理装置 Expired - Fee Related JP4652991B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006046836A JP4652991B2 (ja) 2006-02-23 2006-02-23 基板の処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006046836A JP4652991B2 (ja) 2006-02-23 2006-02-23 基板の処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007227634A JP2007227634A (ja) 2007-09-06
JP4652991B2 true JP4652991B2 (ja) 2011-03-16

Family

ID=38549146

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006046836A Expired - Fee Related JP4652991B2 (ja) 2006-02-23 2006-02-23 基板の処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4652991B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5498868B2 (ja) * 2010-06-18 2014-05-21 株式会社アルバック 真空装置、真空処理装置
JP6249999B2 (ja) * 2014-09-16 2017-12-20 芝浦メカトロニクス株式会社 基板搬送装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10158866A (ja) * 1996-12-03 1998-06-16 Tokyo Kakoki Kk 搬送処理装置
JP2000031238A (ja) * 1998-07-10 2000-01-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置
JP2004059247A (ja) * 2002-07-30 2004-02-26 Toyota Industries Corp 板状部材搬送装置
JP2004349475A (ja) * 2003-05-22 2004-12-09 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置、搬送装置及び処理方法
JP2006008396A (ja) * 2004-06-29 2006-01-12 Toshiba Corp 板状部材の搬送装置および搬送方法と、フラットパネルディスプレイの製造装置および製造方法
JP2006179789A (ja) * 2004-12-24 2006-07-06 Nippon Electric Glass Co Ltd ウエット処理装置およびウエット処理方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10158866A (ja) * 1996-12-03 1998-06-16 Tokyo Kakoki Kk 搬送処理装置
JP2000031238A (ja) * 1998-07-10 2000-01-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板搬送装置
JP2004059247A (ja) * 2002-07-30 2004-02-26 Toyota Industries Corp 板状部材搬送装置
JP2004349475A (ja) * 2003-05-22 2004-12-09 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置、搬送装置及び処理方法
JP2006008396A (ja) * 2004-06-29 2006-01-12 Toshiba Corp 板状部材の搬送装置および搬送方法と、フラットパネルディスプレイの製造装置および製造方法
JP2006179789A (ja) * 2004-12-24 2006-07-06 Nippon Electric Glass Co Ltd ウエット処理装置およびウエット処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007227634A (ja) 2007-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4829710B2 (ja) 基板の処理装置
JP4859242B2 (ja) 基板の処理装置
JP4820705B2 (ja) 基板の処理装置
JP4652991B2 (ja) 基板の処理装置
KR101199803B1 (ko) 반송용 샤프트, 롤브러시 샤프트 및 기판 처리 장치
JP4881575B2 (ja) 基板の搬送装置
JP4664198B2 (ja) 基板の処理装置
JP4871582B2 (ja) 基板の処理装置
JP4643384B2 (ja) 基板の処理装置及び処理方法
JP4485853B2 (ja) 基板の搬送装置及び搬送方法
JP4504839B2 (ja) 基板の処理装置
JP2005322676A (ja) 基板の搬送装置及び処理装置
JP4789446B2 (ja) 基板の処理装置
JP4568059B2 (ja) 基板の処理装置
KR100665294B1 (ko) 포토마스크 방향 조정장치
JP4903090B2 (ja) ブラシ洗浄装置
JP5058722B2 (ja) 基板の処理装置
JP2007165643A (ja) 基板の処理装置
JP2006206274A (ja) 基板の搬送装置
JP2009027099A (ja) 基板の搬送装置
JP2010225687A (ja) 基板の処理装置
JP4685618B2 (ja) 基板の処理装置
JP2003040446A (ja) 基板処理装置
JP2008282985A (ja) 基板の角度変換装置及び基板の処理装置
KR20100056610A (ko) 기판 이송 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090216

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100930

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101005

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101214

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101216

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4652991

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131224

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees