JP4859242B2 - 基板の処理装置 - Google Patents

Description

この発明は基板を所定の角度で傾斜した起立状態で搬送しながら処理液や気体などの流体によって処理する基板の処理装置に関する。

液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。

つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが除去された部分をエッチングする。そして、エッチング後にレジストを除去するという一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。

このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などによって基板を処理する工程、さらにリンス液によって洗浄する工程、洗浄後に基板に付着残留したリンス液を気体によって除去する乾燥工程が必要となる。

従来、基板に対して上述した一連の処理を行う場合、上記基板は軸線を水平にして配置された搬送ローラによってほぼ水平な状態でそれぞれの処理を行なう処理チャンバに順次搬送し、各処理チャンバで基板を処理液によって処理したり、処理後に圧縮気体を噴射して乾燥処理するようにしている。

ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなるため、各処理チャンバでの処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということが生じる。

さらに、基板が大型化すると、その基板を搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸が長尺化する。しかも、基板が大型化することで、基板上に供給される処理液が増大し、基板上の処理液の量に応じて上記搬送軸に加わる荷重が大きくなるから、それらのことによって搬送軸の撓みが増大する。そのため、基板は搬送軸が撓むことによっても撓みが生じ、均一な処理が行えなくなるということがある。

そこで、処理液によって基板を処理する際、上記基板が処理液の重量によって撓むのを防止するため、基板を所定の傾斜角度、たとえば垂直状態から１５度傾斜させた７５度の角度で搬送し、傾斜方向の上側に位置する前面に処理液を噴射することで、その基板の前面を処理するということが行なわれている。

基板を傾斜させて搬送し、その基板の前面に処理液を噴射供給するようにすれば、処理液は基板の板面に留まらず、板面を上方から下方へ向かって円滑に流れるから、処理液の重量によって基板が撓むのを防止することができる。

基板を所定の角度で傾斜させて搬送しながら処理する処理装置の場合、特許文献１に示されるように、チャンバ内に基板の傾斜方向下側となる背面を支持する支持ローラと、下端を支持する駆動ローラが設けられる。駆動ローラは駆動軸に取付けられ、その駆動軸は駆動源によって回転駆動される。

上記処理装置には、チャンバ内に複数の上記支持ローラと上記駆動ローラが上記基板の搬送方向に対して所定間隔で配置される。それによって、上記基板は上記支持ローラによって背面が支持されながら、下端が上記駆動ローラによって駆動され、所定方向に搬送されることになる。
特開２００４−２１０５１１号公報

ところで、処理液の種類によってはその効果を高めるために、搬送される基板の前面に処理液をノズル体から、たとえば０．７ＭＰａ程度の高い圧力で噴射させるということが行なわれている。

一方、チャンバ内には複数の基板が前後方向に所定の間隔を介して順次搬送される。つまり、チャンバ内を搬送される搬送方向下流側に位置する基板の後端と、上流側に位置する基板の前端との間に隙間があり、そのような搬送状態の下で上記処理液が上記ノズル体から連続的に噴射される。

そのため、上記ノズル体から噴射された処理液は、基板の前面に噴射されるだけでなく、前後方向一対の基板の前端と後端との間の隙間を通ってチャンバの後壁の内面に衝突することになる。

チャンバの後壁の内面に衝突した処理液は、その内面で反射して搬送される基板の背面に当たる。そのため、支持ローラに背面が支持されて搬送される基板は、その背面に当たる処理液の作用によって支持ローラから浮き上がる。

基板が支持ローラから浮き上がれば、基板の搬送状態が不安定になったり、浮き上がりが大きな場合にはチャンバの端部壁に形成された基板を通すためのスリットにぶつかり、基板を損傷させたり、搬送不能になる虞があった。

処理液によって処理された基板はリンス液によって洗浄し、ついで液切りナイフから気体を噴射して基板の板面に付着した処理液を除去するということが行なわれる。液切り処理の際にも、液切りナイフから噴射された気体はチャンバの後壁の内面に衝突し、その内面で反射して搬送される基板の背面に当たる。そのため、支持ローラに背面が支持されて搬送される基板は液切り用の気体の作用によっても支持ローラから浮き上がるということがある。

この発明は基板に向けて噴射された処理液や気体などの流体がチャンバの後壁内面に衝突して反射しても、その流体が搬送される基板の背面に当たり難いようにした基板の処理装置を提供することにある。

この発明は、基板を当該基板の面を水平面に対して所定の角度傾斜させて搬送しながら流体によって処理する基板の処理装置であって、
チャンバと、
このチャンバ内に設けられ上記基板の背面を支持する支持ローラと、
上記背面が上記支持ローラによって支持された上記基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて上記基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、
上記基板の前面に上記流体を噴射する流体供給手段と、
搬送される上記基板の上記背面に対向する上記チャンバの後壁内面に設けられ上記流体供給手段から噴射されて上記チャンバの上記後壁内面に衝突して反射した流体が上記基板の背面に当たるのを防止する流体戻り防止部材とを具備し、
上記流体戻り防止部材は、上記チャンバの後壁内面に先端が上記基板の背面方向に向かって設けられた垂直壁部と、この垂直壁部の先端に所定の角度で傾斜して設けられた傾斜壁部と、この傾斜壁部の先端に上記後壁内面に向かって屈曲して設けられこの後壁内面で反射した流体が上記基板の背面に向かって飛散するのを阻止する戻り防止壁部とを有して構成されていることを特徴とする基板の処理装置にある。

上記流体戻り防止部材は長さ寸法が上記チャンバの上下方向の寸法よりも短く設定されていて、上記流体戻り防止部材の上下端部のうちの少なくとも下端部には、上記チャンバの上記後壁内面に衝突して反射した流体が上記流体戻り防止部材の下端を通って上記基板の背面に当たるのを防止する通過阻止部材が設けられていることが好ましい。

上記通過阻止部材は、上記基板の搬送方向に沿う上記チャンバの端部に設けられていることが好ましい。

上記流体供給手段は、上記基板の搬送方向に沿って所定の間隔で配置され上記流体が供給される複数の供給管及び各供給管に設けられた複数のノズル体によって構成されていて、
上記流体戻り防止部材は、上記基板の搬送方向上流側の端部と下流側の端部に位置するそれぞれの供給管に対応する位置に配置されていることが好ましい。

上記流体供給手段は、上記流体が供給される供給管及びこの供給管に設けられた複数のノズル体によって構成されていて、
上記流体戻り防止部材は、上記基板の搬送方向に沿う上記供給管の両側に対応する位置に配置されていることが好ましい。

この発明によれば、ノズル体から噴射されてチャンバの後壁内面に衝突した流体は流体戻り防止部材によって基板の背面に当るのが阻止されるため、チャンバ内を搬送される基板が支持ローラから浮き上がるのを防止することができる。

以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１乃至図４はこの発明の第１の実施の形態を示す。図１はこの発明の処理装置の概略的構成を示す斜視図であって、この処理装置は装置本体１を有する。この装置本体１は分割された複数の処理ユニット、この実施の形態では第１乃至第５の処理ユニット１Ａ〜１Ｅを分解可能に一列に連結してなる。

各処理ユニット１Ａ〜１Ｅは架台２を有する。この架台２の前面には箱型状のチャンバ３が所定の角度で傾斜して保持されている。上記架台２とチャンバ３の上面には上部搬送部４が設けられている。上記架台２の下端の幅方向両端には板状の一対の脚体５（一方のみ図示）が分解可能に設けられる。この脚体５によって上記架台２の下面側に空間部６が形成される。

上記空間部６には、上記チャンバ３で後述するように行なわれる基板Ｗの処理に用いられる薬液やリンス液などの処理液を供給するタンクやポンプ或いは処理液の供給を制御するための制御装置などの機器７をフレーム８に載置した機器部９が収納されるようになっている。つまり、各処理ユニット１Ａ〜１Ｅは架台２を脚体５で支持してチャンバ３の下方に空間部６を形成することで、上下方向に位置するチャンバ３、上部搬送部４及び機器部９の３つの部分に分割されている。

上記チャンバ３は上記架台２に所定の角度である、たとえば垂直な状態から１５度傾斜させた、水平面に対して７５度の角度で傾斜して保持されていて、幅方向の両側面には７５度の角度で傾斜して搬送される基板Ｗが通過するスリット１３（図１に一箇所だけ図示）が形成されている。

上記チャンバ３の内部には、図２と図３に示すように傾斜搬送手段を構成する複数の搬送軸１５がチャンバ３の幅方向に所定間隔で設けられている。この搬送軸１５には複数の支持ローラ１４が軸方向に所定間隔で回転可能に設けられている。上記搬送軸１５は、軸線が上記スリット１３と同じ角度で傾斜するよう、上端及び下端がそれぞれブラケット１５ａによって支持されている。

上記チャンバ３内には、上記スリット１３から基板Ｗが図１に鎖線で示す第１の姿勢変換部１６によって水平状態から７５度の角度に変換されて搬入される。すなわち、未処理の基板Ｗは上記上部搬送部４によって第５の処理ユニット１Ｅ側から第１の処理ユニット１Ａ側に搬送されて上記第１の姿勢変換部１６で水平状態から７５度の角度に傾斜されて上記第１の処理ユニット１Ａに搬入される。

第１の処理ユニット１Ａのチャンバ３内に搬入された基板Ｗは上記搬送軸１５に設けられた支持ローラ１４によって非デバイス面である背面が支持される。この基板Ｗの下端は駆動ローラ１７（図２に示す）の外周面によって支持される。

上記駆動ローラ１７は駆動ユニット１８の回転軸１９に設けられている。そして、この回転軸１９が回転駆動さることで、駆動ローラ１７に下端が支持され背面が上記支持ローラ１４に支持された上記基板Ｗが上記駆動ローラ１７の回転方向に搬送されるようになっている。

基板Ｗは搬送方向上流側の第１乃至第３の処理ユニット１Ａ〜１Ｃで処理液としての剥離液でレジストの除去が行なわれた後、第４の処理ユニット１Ｄで処理液としての洗浄液で洗浄処理が行なわれる。そして、第５の処理ユニット１Ｅで熱風などの流体による乾燥処理が行なわれる。

各処理ユニット１Ａ〜１Ｅを順次通過して処理された基板Ｗは７５度の角度で傾斜した状態で上記第５の処理ユニット１Ｅから搬出される。第５の処理ユニット１Ｅから搬出された基板Ｗは、図１に鎖線で示す第２の姿勢変換部２３で傾斜状態から水平状態に姿勢が変換されて次工程に受け渡される。

図２に示すように、上記駆動ユニット１８はチャンバ３の幅方向（基板Ｗの搬送方向）に沿って長い板状の下部ベース部材２４を有する。この下部ベース部材２４の上面には下部ベース部材２４と同じ長さのチャンネル状の上部ベース部材２５が両側下端を固着して設けられている。

上記上部ベース部材２５には、上記下部ベース部材２４とほぼ同じ大きさの平板状の取付け部材２６の幅方向の一端部と他端部とが上部ベース部材２５に対して傾きの調整可能に連結して設けられている。つまり、上記取り付け部材２６はチャンバ３の前後方向に傾き角度の調整ができるようになっている。

上記取付け部材２６の幅方向の一端と他端とには、それぞれ複数のブラケット３１が上記取付け部材２６の長手方向に対して所定間隔で、しかも幅方向に対応する位置に設けられている。幅方向において対応する一対のブラケット３１には図示しない軸受を介して上記回転軸１９の軸方向の中途部が回転可能に支持されている。この回転軸１９の先端には上記駆動ローラ１７が取り付けられ、後端には第１の歯車３３が嵌着される。

そして、上記架台２にチャンバ３を設置したならば、この架台２に設けられた支持部４１の上面にロッド状の４本の基準部材３５の下端面がねじ４２によって取付け固定される。上記駆動ユニット１８は、下部ベース部材２４の四隅部下面が上記基準部材３５の上端面にねじ４２によって取付け固定される。４本の基準部材３５の上端面は同一平面に位置している。そのため、駆動ユニット１８はその下部ベース部材２４の幅方向及び長手方向に歪が生じることなく取付け固定される。

上記駆動ユニット１８を基準部材３５の上端面を基準にしてチャンバ３内に組み込む際、駆動ユニット１８に支持された複数の回転軸１９の後端部はチャンバ３の前壁１２ｂに開口された導出孔４４から駆動室４５に突出する。そして、駆動ユニット１８をチャンバ３内に組み込んだ後で、上記回転軸１９の後端に上記第１の歯車３３が嵌着される。

上記駆動室４５には駆動源５１が設けられている。この駆動源５１の出力軸には駆動プーリ５３が嵌着されている。この駆動プーリ５３と従動プーリ５４とにはベルト５５が張設されている。上記従動プーリ５４は図示しない第２の歯車が同軸に設けられている。この第２の歯車は上記第１の歯車３３に噛合している。それによって、駆動源５１が作動すれば、上記回転軸１９が回転駆動されることになるから、この回転軸１９の先端に設けられた上記駆動ローラ１７も回転駆動される。

駆動ローラ１７が回転駆動されれば、これらの駆動ローラ１７によって下端が支持された基板Ｗは上記駆動ローラ１７の回転方向に搬送されることになる。

上記基板Ｗの前面に剥離液を噴射してレジストの除去を行なう第１乃至第３の処理ユニット１Ａ〜１Ｃには、傾斜して搬送される基板Ｗの傾斜方向の上側の面、つまり回路パターンが形成された前面と平行に離間対向する供給管としての複数の給液管６１が基板Ｗの搬送方向に対して所定間隔で配設されている。

各給液管６１には基板Ｗの搬送方向と交差する軸線方向に対して所定間隔で複数のノズル体６２が設けられている。上記給液管６１とノズル体６２はこの発明の処理液供給手段を形成している。

上記給液管６１には剥離液が０．７ＭＰａ程度の高い圧力で供給される。それによって、給液管６１に設けられたノズル体６２から上記基板Ｗの前面に上記処理液が高圧で噴射されるようになっている。

基板Ｗは上記各処理ユニット１Ａ〜１Ｃのチャンバ３内を所定間隔で搬送される。つまり、搬送方向下流側に位置する基板Ｗの後端と上流側に位置する基板Ｗの前端との間には図３に示す隙間Ｇがある。そのため、上記ノズル体６２から基板Ｗの前面に向けて噴射された処理液の一部は上記隙間Ｇを通ってチャンバ３の後壁１２ｃの内面に衝突して反射する。

チャンバ３の後壁１２ｃの内面で反射した処理液は液戻り防止部材６５によってチャンバ３内を搬送される基板Ｗの背面に当たるのが防止される。上記液戻り防止部材６５は上記チャンバ３の後壁１２ｃの内面の、上記基板Ｗの搬送方向における上流側と下流側の端部に位置するそれぞれの給液管６１に対向する位置、つまり一方の液戻り防止部材６５は最も上流側に位置する給液管６１よりもわずかに上流側であって、他方の液戻り防止部材６５は最も下流側に位置する給液管６１よりもわずかに下流側に設けられている。

上記液戻り防止部材６５は、図２に示すように基板Ｗの高さ寸法とほぼ同じ長さ寸法を有し、断面形状は図３に示すように上記後壁１２ｃに対して基端を固着してほぼ垂直に設けられた垂直壁部６５ａと、この垂直壁部６５ａの先端に所定の傾斜角度、たとえば４５度の角度で傾斜して設けられた傾斜壁部６５ｂと、この傾斜壁部６５ｂの先端に上記後壁１２ｃの内面に向かって上記垂直壁部６５ａと平行に設けられた戻り防止壁部６５ｃとによって鉤型状に形成されている。

そして、一対の液戻り防止部材６５は互いの戻り防止壁部６５ｃを対向させて上記チャンバ３内の上記基板Ｗの搬送方向に沿う両端部、つまり図３に示すようにチャンバ３の幅方向両端の端壁１２ａの近くに配置されている。

上記チャンバ３の上部と下部の支持ローラ１４が設けられた搬送軸１５よりも後壁１２ｃ側の上下端部には図示しない配管や駆動系の部品などが設けられる。したがって、上記液戻り防止部材６５は配管や駆動系の部品などと干渉するのを防止するため、図２に示すように長さ寸法がチャンバ３の高さ寸法よりも短く設定されている。

それによって、液戻り防止部材６５の上端とチャンバ３の天井壁内面との間及び下端と底壁内面との間にはそれぞれ上部空間部６６と下部空間部６７が形成される。

上記チャンバ３の幅方向両端部に位置する上記液戻り防止部材６５の上端部と下端部にはそれぞれ通過阻止部材６８が設けられている。図２は液戻り防止部材６５の下端側の下部空間部６７に設けられた通過阻止部材６８を示し、この通過阻止部材６８は断面形状がほぼＬ字状であって、その基端６８ａが上記チャンバ３の端壁１２ａの内面に固着され、中途部６８ｂが上記チャンバ３の後壁１２ｃと平行となっていて、上記液戻り防止部材６５の下端面に係合している。さらに、先端部６８ｃは、上記液戻り防止部材６５の戻り防止壁部６５ｃ側に突出し、上記後壁１２ｃ側に向かってほぼ直角に屈曲されている。

上記液戻り防止部材６５の上端側の上部空間部６６にも下部空間部６７と同様に通過阻止部材６８が設けられる。
液戻り防止部材６５の上端側に設けられる通過阻止部材６８と、下端側に設けられる通過阻止部材６８は、それぞれ上記上部空間部６６と上記下部空間部６７の高さ方向全長にわたって設けられている。つまり、各空間部６６，６７の高さ方向に隙間なく設けられている。

それによって、所定間隔で搬送される基板Ｗの前後端間の上記隙間Ｇを通過した処理液の一部がチャンバ３の後壁１２ｃの内面に衝突して反射した後、上記液戻り防止部材６５の上下端に形成された上部空間部６６と下部空間部６７を通過しても、各空間部６６，６７を通過した処理液は上下一対の通過阻止部材６８の内面に衝突するため、基板Ｗの背面に向かって飛散するのが阻止されるようになっている。

このように構成された処理装置においては、第１乃至第３の処理ユニット１Ａ〜１Ｃのチャンバ３内に複数の基板Ｗが所定の間隔で順次搬入されてくる。チャンバ３内に搬入された基板Ｗの前面には給液管６１に設けられたノズル体６２から処理液が噴射される。それによって、基板Ｗの前面は処理液によって処理されることになる。

上記ノズル体６２から噴射された処理液の一部は、所定間隔で搬送される基板Ｗの前端と後端との隙間Ｇ（図３に示す）を通過してチャンバ３の後壁１２ｃの内面に衝突し、その内面で反射してチャンバ３内を搬送される基板Ｗの背面に当たる虞がある。その場合、基板Ｗは背面が支持ローラ１４から浮き上がり、搬送状態が不安定になったり、チャンバ３の幅方向の両側壁に形成されたスリット１３を通過できなくなるなどのことがある。

しかしながら、チャンバ３の後壁１２ｃの内面には液戻り防止部材６５が設けられている。液戻り防止部材６５は垂直壁部６５ａ、傾斜壁部６５ｂ及び戻り防止壁部６５ｃによって鉤型状に形成されている。

そのため、ノズル体６２から噴射されてチャンバ３の後壁１２ｃ内面に衝突し、この内面で反射した処理液の一部は、図３に矢印ＡやＢで示すように上記垂直壁部６５ａ、傾斜壁部６５ｂ及び戻り防止壁部６５ｃがなす鉤型部分の内面に沿って巻き込まれるように流れ、チャンバ３内を搬送される基板Ｗの背面に衝突することがないから、基板Ｗの搬送状態が不安定になることがない。

一対の液戻り防止部材６５によって捕捉して基板Ｗの背面に戻るのが阻止される処理液は、チャンバ３の後壁１２ｃの内面で反射した処理液の一部であって、残りの処理液は基板Ｗの背面に衝突する可能性がある。

しかしながら、一対の液戻り防止部材６５によって捕捉される処理液が一部であっても、チャンバ３の後壁１２ｃ内面で反射して基板Ｗに作用する処理液の力が弱められることになるから、それによって基板Ｗの円滑な搬送状態が損なわれるのを防止することできる。

上記液戻り防止部材６５は所定の角度で傾斜した傾斜壁部６５ｂを有する鉤型状である。そのため、ノズル体６２から噴射されて搬送される基板Ｗの前後端間の隙間Ｇを通過した処理液が上記傾斜壁部６５ｂの外面に衝突しても、図３に矢印Ｃで示すようにその傾斜角度に応じた方向に反射する。そのため、上記傾斜壁部６５ｂの外面で反射した処理液が基板Ｗの内面に戻ることがほとんどないから、そのことによっても基板Ｗの搬送状態が損なわれ難くなる。

上記液戻り防止部材６５の上下端と、チャンバ３の天井壁内面及び底壁内面の間にはそれぞれ上部空間部６６と下部空間部６７が形成されている。そのため、所定間隔で搬送される基板Ｗの前後端間の隙間Ｇを通過してチャンバ３の後壁１２ｃの内面で反射した処理液の一部は、上記上部空間部６６と下部空間部６７を通ってチャンバ３の端壁１２ａの内面で反射して基板Ｗの背面に衝突する虞がある。

しかしながら、上記液戻り防止部材６５の上下端にはチャンバ３の後壁１２ｃで反射した処理液が上部空間部６６と下部空間部６７を通過するのを阻止する通過阻止部材６８が設けられている。

そのため、図３に矢印Ｆで示すように上記隙間Ｇを通過してチャンバ３の後壁１２ｃで反射した処理液が上記液戻り防止部材６５の上下端に形成された上部空間部６６と下部空間部６を通過しても、各空間部６６，６７に設けられた通過阻止部材６８の中間部６８ｂの内面に衝突し、チャンバ３の後壁１２ｃ側に向かって反射する。

チャンバ３の後壁１２ｃ側に向かって反射した処理液はチャンバ３の端壁１２ａの内面で後壁１２ｃ側に向かって反射した後、後壁１２ｃに衝突して減衰する。

それによって、処理液が液戻り防止部材６５の上下端に形成された上部空間部６６と下部空間部６を通過しても、通過阻止部材６８によって基板Ｗの背面に向かって反射するのが阻止されるため、各空間部６６，６７を通過した処理液が基板Ｗの背面に衝突するのを確実に防止することができる。

図４はこの発明の第２の実施の形態を示す。この実施の形態は１つの給液管６１に対して２つの液戻り防止部材６５を、上記給液管６１の両側に対応する位置、つまり給液管６１よりもわずかに上流側と下流側の位置に配置する。

このようにして液戻り防止部材６５を配置すれば、１つの給液管６１のノズル体６２から噴射されてチャンバ３の後壁１２ｃの内面で反射した処理液の大部分は、矢印Ｄで示しように一対の液戻り防止部材６５によって捕捉され、チャンバ３の後壁１２ｃ内面で反射して基板Ｗの背面に戻るのが阻止されるから、基板Ｗの搬送状態をさらに安定化することが可能となる。
なお、図示しないが図４に示された液戻り防止部材６５の上下端に、第１の実施の形態に示した通過防止部材６８を設けるようにしてもよい。

この発明は基板を剥離液によって処理する場合だけでなく、純水などの他の処理液によって処理する場合であっても適用することが可能であり、またノズル体から気体と液体が混合された混合流体を噴射する場合であっても適用可能である。さらに、液体に代わり基板に付着した液体を除去するために、液切り用の気体をたとえばエアーナイフなどによって噴射する場合であっても、この発明を適用することができる。要は液体や気体などの流体が高圧で基板に噴射される場合であれば適用可能である。

液戻り防止部材の上端とチャンバの天井壁の内面との間には配管などを設けずにすむことがある。そのような場合には、液戻り防止部材の上端をチャンバの天井壁の内面に接触させることができるから、液戻り防止部材の下端側だけに通過阻止部材を設けるようにすればよい。

また、チャンバの幅方向両端の端壁の近くに位置する液戻り防止部材の上下端に通過阻止部材を設けるようにしたが、チャンバの端壁の近く以外の箇所に液戻り防止部材が設けられる場合には、その液戻り防止部材の上下端或いは少なくとも下端に通過阻止部材を設けるようにしてもよい。

この発明の第１の実施の形態の処理装置の概略的構成を示す斜視図。 上記処理装置のチャンバの縦断面図。 給液管と液戻り防止部材との配置関係を示す１つのチャンバの縦断面図。 この発明の第２の実施の形態の給液管と液戻り防止部材との配置関係を示すチャンバの一部省略した縦断面図。

符号の説明

３…チャンバ、１４…支持ローラ、１７…駆動ローラ、１９…回転軸、６２…ノズル体、６５…液戻り防止部材、６５ａ…垂直壁部、６５ｂ…傾斜壁部、６５ｃ…戻り防止壁部、６８…通過阻止部材。

Claims (5)

1. 基板を当該基板の面を水平面に対して所定の角度傾斜させて搬送しながら流体によって処理する基板の処理装置であって、
   チャンバと、
   このチャンバ内に設けられ上記基板の背面を支持する支持ローラと、
   上記背面が上記支持ローラによって支持された上記基板の下端を外周面によって支持し回転駆動されて上記基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、
   上記基板の前面に上記流体を噴射する流体供給手段と、
   搬送される上記基板の上記背面に対向する上記チャンバの後壁内面に設けられ上記流体供給手段から噴射されて上記チャンバの上記後壁内面に衝突して反射した流体が上記基板の背面に当たるのを防止する流体戻り防止部材とを具備し、
   上記流体戻り防止部材は、上記チャンバの後壁内面に先端が上記基板の背面方向に向かって設けられた垂直壁部と、この垂直壁部の先端に所定の角度で傾斜して設けられた傾斜壁部と、この傾斜壁部の先端に上記後壁内面に向かって屈曲して設けられこの後壁内面で反射した流体が上記基板の背面に向かって飛散するのを阻止する戻り防止壁部とを有して構成されていることを特徴とする基板の処理装置。
2. 上記流体戻り防止部材は長さ寸法が上記チャンバの上下方向の寸法よりも短く設定されていて、上記流体戻り防止部材の上下端部のうちの少なくとも下端部には、上記チャンバの上記後壁内面に衝突して反射した流体が上記流体戻り防止部材の下端を通って上記基板の上記背面に当たるのを防止する通過阻止部材が設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
3. 上記通過阻止部材は、上記基板の搬送方向に沿う上記チャンバの端部に設けられていることを特徴とする請求項２記載の基板の処理装置。
4. 上記流体供給手段は、上記基板の搬送方向に沿って所定の間隔で配置され上記流体が供給される複数の供給管及び各供給管に設けられた複数のノズル体によって構成されていて、
   上記流体戻り防止部材は、上記基板の搬送方向上流側の端部と下流側の端部に位置するそれぞれの供給管に対応する位置に配置されていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
5. 上記流体供給手段は、上記流体が供給される供給管及びこの供給管に設けられた複数のノズル体によって構成されていて、
   上記流体戻り防止部材は、上記基板の搬送方向に沿う上記供給管の両側に対応する位置に配置されていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。

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