KR20080011067A - 기판의 처리 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 소정 각도로 경사지게 하여 반송되는 기판이 배면을 지지한 지지 롤러로부터 떠오르는 것을 방지한 기판의 처리 장치를 제공한다.

본 발명은, 기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송하면서 처리액에 의해 처리하는 기판의 처리 장치로서, 챔버(3)와, 상기 챔버 내에 설치되어 기판의 경사 방향 아래쪽의 배면을 지지하는 지지 롤러(14)와, 배면이 지지 롤러에 의해 지지된 기판의 하단을 외주면에 의해 지지하고 회전 구동되어 기판을 소정 방향으로 반송하는 구동 롤러(17)와, 기판의 경사 방향 위쪽의 전면에 처리액을 분사하는 노즐체(62)와, 반송되는 기판의 배면에 대향하는 챔버의 후벽 내면에 설치되어 노즐체로부터 분사되어 챔버의 후벽 내면에 충돌하여 반사된 처리액이 기판의 배면에 부딪히는 것을 방지하는 유체 복귀 방지 부재(65)를 구비한다.

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Description

기판의 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATES}

본 발명은 기판을 소정 각도로 경사지게 한 기립 상태에서 반송하면서 처리액이나 기체 등의 유체에 의해 처리하는 기판의 처리 장치에 관한 것이다.

액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판에는 회로 패턴이 형성된다. 기판에 회로 패턴을 형성하기 위해서 리소그래피(lithography) 프로세스가 채용된다. 리소그래피 프로세스는 주지하는 바와 같이 상기 기판에 레지스트를 도포하고, 상기 레지스트에 회로 패턴이 형성된 마스크를 통하여 광(光)을 조사(照射)한다.

다음에, 레지스트의 광이 조사되지 않는 부분 또는 광이 조사된 부분을 제거하고, 기판의 레지스트가 제거된 부분을 에칭한다. 그리고, 에칭 후에 레지스트를 제거하는 일련의 공정을 복수회 반복함으로써, 상기 기판에 회로 패턴을 형성한다.

이와 같은 리소그래피 프로세스에 있어서는, 상기 기판에 현상액, 에칭액 또는 에칭 후에 레지스트를 제거하는 박리액 등에 의해 기판을 처리하는 공정, 린스액에 의해 세정하는 공정, 및 세정 후에 기판에 부착 잔류한 린스액을 기체에 의해 제거하는 건조 공정이 필요하다.

종래에는, 기판에 대해서 전술한 일련의 처리를 행하는 경우, 상기 기판은 축선을 수평으로 하여 배치된 반송 롤러에 의해 대략 수평인 상태에서 각각의 처리를 행하는 처리 챔버에 차례로 반송되고, 각 처리 챔버에서 기판을 처리액에 의해 처리하거나, 처리 후에 압축 기체를 분사해 건조 처리하도록 하고 있다.

그런데, 최근에는 액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판이 대형화 및 박형화되는 경향에 있다. 그러므로, 기판을 수평으로 반송하면, 반송 롤러 사이에서 기판이 휘어지기 쉬우므로, 각 처리 챔버에서의 처리가 기판의 판면 전체에 걸쳐서 균일하게 행해지지 않는 경우가 발생된다.

또한, 기판이 대형화되면, 상기 기판을 반송하는 반송 롤러가 설치된 반송축의 길이가 길게 된다. 또한, 기판이 대형화됨으로써, 기판 상에 공급되는 처리액이 증대되고, 기판상의 처리액의 양에 따라 상기 반송 축에 가하는 하중이 커지므로, 그에 따라서 반송축의 휨이 증대된다. 그러므로, 기판은 반송축과 함께 휨이 생기고, 균일한 처리가 행해지지 않는 경우가 있다.

그래서, 처리액에 의해 기판을 처리할 때, 상기 기판이 처리액의 중량에 의해 휘어지는 것을 방지하기 위해서, 기판을 소정의 경사 각도, 예를 들어 수직 상태로부터 15° 경사지게 한 75° 각도로 반송하고, 경사 방향의 위쪽에 위치하는 전면에 처리액을 분사함으로써, 상기 기판의 전면을 처리하는 것이 행해지고 있다.

기판을 경사지게 하여 반송하고, 상기 기판의 전면에 처리액을 분사 공급하도록 하면, 처리액은 기판의 판면에 잔류되지 않고, 판면의 윗쪽으로부터 아래쪽을 향해 원활하게 흐르기 때문에, 처리액의 중량에 의해 기판이 휘어지는 것을 방지할 수 있다.

기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송하면서 처리하는 처리 장치의 경우, 일본국 특개 2004-210511호 공보에 나타낸 바와 같이, 챔버 내에 기판의 경사 방향 아래쪽으로 되는 배면을 지지하는 지지 롤러와, 하단을 지지하는 구동 롤러가 설치된다. 구동 롤러는 구동축에 장착되고, 상기 구동축은 구동원에 의해 회전 구동된다.

상기 처리 장치에는, 챔버 내에 복수개의 상기 지지 롤러와 상기 구동 롤러가 상기 기판의 반송 방향에 대하여 소정 간격으로 배치된다. 그에 따라, 상기 기판은 상기 지지 롤러에 의해 배면이 지지되면서, 하단이 상기 구동 롤러에 의해 구동되고, 소정 방향으로 반송되게 된다.

그런데, 처리액의 종류에 따라서는 그 효과를 높이기 위해서, 반송되는 기판의 전면에 처리액을 노즐체로부터, 예를 들어 0.7MPa 정도의 높은 압력으로 분사하고 있다.

한편, 챔버 내에는 복수개의 기판이 전후방향으로 소정의 간격을 통하여 차례로 반송된다. 즉, 챔버 내에서 반송되는 반송 방향 하류측에 위치하는 기판의 후단과, 상류측에 위치하는 기판의 전단 사이에 간극이 있어, 그와 같은 반송 상태 하에서 상기 처리액이 상기 노즐체로부터 연속적으로 분사된다.

그러므로, 상기 노즐체로부터 분사된 처리액은, 기판의 전면에 분사될 뿐만 아니라, 전후 방향 한쌍의 기판의 전단과 후단 사이의 간극을 통하여 챔버의 후벽의 내면에 충돌하게 된다.

챔버의 후벽의 내면에 충돌한 처리액은, 후벽의 내면에서 반사되어 반송되는 기판의 배면과 부딪히게 된다. 그러므로, 지지 롤러에 배면이 지지되어 반송되는 기판은, 상기 배면에 부딪힌 처리액의 작용에 의해 지지 롤러로부터 떠오른다.

기판이 지지 롤러로부터 떠오르면, 기판의 반송 상태가 불안정하게 되거나 부상(浮上)이 큰 경우에는 챔버의 단부 벽에 형성된 기판을 통하기 위한 슬릿에 부딪쳐, 기판을 손상시키거나 반송 불가능하게 될 우려가 있었다.

처리액에 의해 처리된 기판은 린스액에 의해 세정되고, 그 다음에 액절(液切) 나이프로부터 기체를 분사하여 기판의 판면에 부착된 처리액의 제거가 행해진 다. 액절 처리 시에도, 액절 나이프로부터 분사된 기체는 챔버의 후벽의 내면에 충돌되고, 후벽의 내면에서 반사되어 반송되는 기판의 배면에 부딪히게 된다. 그러므로, 지지 롤러에 배면이 지지되어 반송되는 기판은 액절용 기체의 작용에 의해서도 지지 롤러로부터 떠오르는 경우가 있다.

본 발명은 기판을 향해 분사된 처리액이나 기체 등의 유체가 챔버의 후벽 내면에 충돌해 반사되어도, 상기 유체가 반송되는 기판의 배면에 부딪히기 어렵게 한 기판의 처리 장치를 제공한다.

본 발명은, 기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송하면서 유체에 의해 처리하는 기판의 처리 장치로서,

챔버와,

상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판의 경사 방향 아래쪽의 배면을 지지하는 지지 롤러와,

배면이 상기 지지 롤러에 의해 지지된 상기 기판의 하단을 외주면에 의해 지지하고 회전 구동하여 상기 기판을 소정 방향으로 반송하는 구동 롤러와,

상기 기판의 경사 방향 위쪽의 전면에 상기 유체를 분사하는 유체 공급 수단과,

반송되는 상기 기판의 배면에 대향하는 상기 챔버의 후벽 내면에 설치되어 상기 유체 공급 수단으로부터 분사되어 상기 챔버의 상기 후벽 내면에 충돌하여 반사된 유체가 상기 기판의 배면에 부딪히는 것을 방지하는 유체 복귀 방지 부재를 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치이다.

본 발명에 의하면, 노즐체로부터 분사되어 챔버의 후벽 내면에 충돌한 유체는, 유체 복귀 방지 부재에 의해 기판의 배면에 접착하는 것이 저지되므로 챔버내에서 반송되는 기판이 지지 롤러로부터 떠오르는 것을 방지할 수 있다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.

도 1 내지 도 4는 본 발명의 제1 실시예를 나타낸다. 도 1은 본 발명의 처리 장치의 개략적 구성을 나타낸 사시도로서, 상기 처리 장치는 장치 본체(1)를 구비한다. 상기 장치 본체(1)는 분할된 복수개의 처리 유닛, 이 실시예에서는 제1 내지 제5 처리 유닛(1A~1E)을 분해 가능하게 일렬로 연결하고 있다.

각 처리 유닛(1A~1E)은 발판(2)을 구비한다. 상기 발판(2)의 전면에는 상자형의 챔버(3)가 소정 각도로 경사져 지지되어 있다. 상기 발판(2)과 챔버(3)의 상면에는 상부 반송부(4)가 설치되어 있다. 상기 발판(2)의 하단의 폭 방향 양단에는 판형의 한쌍의 다리부(5)(한쪽만 도시함)가 분해 가능하게 설치된다. 상기 다리부(5)에 의해 상기 발판(2)의 하면측에 공간부(6)가 형성된다.

상기 공간부(6)에는, 상기 챔버(3)에서 후술하는 바와 같이 행해지는 기판(W)의 처리에 사용되는 약액이나 린스액 등의 처리액을 공급하는 탱크나 펌프 또는 처리액의 공급을 제어하기 위한 제어 장치 등의 기기(7)를 프레임(8)에 장착한 기기부(9)가 수납되도록 되어 있다. 즉, 각 처리 유닛(1A~1E)은 발판(2)을 다리 부(5)로 지지하여 챔버(3)의 하방에 공간부(6)를 형성함으로써, 상하 방향으로 위치하는 챔버(3), 상부 반송부(4) 및 기기부(9)의 3개의 부분으로 분할되어 있다.

상기 챔버(3)는 상기 발판(2)에 소정 각도로 경사져 있으며, 예를 들어 수직인 상태로부터 15° 경사지게 한, 수평면에 대해서 75° 각도로 경사져 지지되어 있어, 폭 방향의 양쪽 면에는 75° 각도로 경사져 반송되는 기판(W)이 통과되는 슬릿(13)(도 1에 한 개만 도시함)이 형성되어 있다.

상기 챔버(3)의 내부에는, 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이 경사 반송 수단을 구성하는 복수개의 반송축(15)이 챔버(3)의 폭방향으로 소정 간격으로 설치되어 있다. 상기 반송축(15)에는 복수개의 지지 롤러(14)가 축방향으로 소정 간격으로 회전 가능하게 설치되어 있다. 상기 반송축(15)은, 축선이 상기 슬릿(13)과 동일한 각도로 경사지도록, 상단 및 하단이 각각 브래킷(15a)에 의해 지지되어 있다.

상기 챔버(3) 내에는, 상기 슬릿(13)으로부터 기판(W)이 도 1에 쇄선으로 나타낸 제1 자세 변환부(16)에 의해 수평 상태로부터 75° 각도로 변환되어 반입 된다. 즉, 미처리된 기판(W)은 상기 상부 반송부(4)에 의해 제5 처리 유닛(1E) 측으로부터 제1 처리 유닛(1A) 측으로 반송되어 상기 제1 자세 변환부(16)에서 수평 상태로부터 75° 각도로 경사지게 되어 상기 제1 처리 유닛(1A)에 반입된다.

제1 처리 유닛(1A)의 챔버(3) 내에 반입된 기판(W)은 상기 반송축(15)에 설치된 지지 롤러(14)에 의해 비디바이스면인 배면이 지지된다. 상기 기판(W)의 하단은 구동 롤러(17)(도 2에 도시함)의 외주면에 의해 지지된다.

상기 구동 롤러(17)는 구동 유닛(18)의 회전축(19)에 설치되어 있다. 그리 고, 상기 회전축(19)이 회전 구동되면, 구동 롤러(17)에 하단이 지지되는 배면과 상기 지지 롤러(14)에 지지된 상기 기판(W)이 상기 구동 롤러(17)의 회전 방향으로 반송되도록 되어 있다.

기판(W)은 반송 방향 상류측의 제1 내지 제3 처리 유닛(1A~1C)에서 처리액으로서의 박리액으로 레지스트의 제거가 행해진 후, 제4 처리 유닛(1D)에서 세정액으로 세정 처리가 행해진다. 그리고, 제5 처리 유닛(1E)에서 열풍 등의 유체에 의한 건조 처리가 행해진다.

각 처리 유닛(1A~1E)을 차례로 통과하여 처리된 기판(W)은, 75° 각도로 경사진 상태에서 상기 제5 처리 유닛(1E)으로부터 반출된다. 제5 처리 유닛(1E)으로부터 반출된 기판(W)은, 도 1에 쇄선으로 나타낸 제2 자세 변환부(23)에서 경사상태로부터 수평 상태로 자세가 변환되어 다음 공정으로 전달된다.

도 2에 나타낸 바와 같이, 상기 구동 유닛(18)은 챔버(3)의 폭 방향(기판(W)의 반송 방향)을 따라 긴 판형의 하부 베이스부재(24)를 가진다. 상기 하부 베이스부재(24)의 상면에는 하부 베이스부재(24)와 동일한 길이의 채널형의 상부 베이스부재(25)가 양쪽 하단을 고착해 설치되어 있다.

상기 상부 베이스부재(25)에는, 상기 하부 베이스부재(24)와 동일한 크기의 평판형의 장착 부재(26)의 폭 방향의 일단부와 타단부가, 상부 베이스부재(25)에 대해서 경사를 조정할 수 있게 연결하여 설치되어 있다. 즉, 상기 장착부재(26)는 챔버(3)의 전후방향으로 경사 각도를 조정할 수 있도록 되어 있다.

상기 장착 부재(26)의 폭 방향의 일단과 타단에는, 각각 복수개의 브래 킷(31)이 상기 장착 부재(26)의 길이 방향에 대하여 소정 간격으로, 또한 폭방향에 대응하는 위치에 설치되어 있다. 폭방향에서 대응하는 한쌍의 브래킷(31)에는 도시하지 않은 베어링을 통하여 상기 회전축(19)의 축 방향의 중간부가 회전 가능하게 지지되어 있다. 상기 회전축(19)의 선단에는 상기 구동 롤러(17)가 장착되고, 후단에는 제1 기어(33)가 결합된다.

그리고, 상기 발판(2)에 챔버(3)를 설치하면, 상기 발판(2)에 설치된 지지부(41)의 상면에 로드형의 4개의 기준 부재(35)의 하단면이 나사(42)에 의해 장착 고정된다. 상기 구동 유닛(18)은, 하부 베이스부재(24)의 네 모퉁이부 하면이 상기 기준 부재(35)의 상단면에 나사(42)에 의해 장착 고정된다. 4개의 기준 부재(35)의 상단면은 동일한 평면에 위치되어 있으므로, 구동 유닛(18)은 상기 하부 베이스부재(24)의 폭 방향 및 길이 방향으로 불균일이 생기지 않게 장착 고정된다.

상기 구동 유닛(18)을 기준 부재(35)의 상단면을 기준으로 해 챔버(3) 내에 조립할 때, 구동 유닛(18)에 지지된 복수개의 회전축(19)의 후단부는 챔버(3)의 앞벽(12b)에 개구된 안내구멍(44)으로부터 구동실(45)로 돌출된다. 그리고, 구동 유닛(18)을 챔버(3) 내에 내장한 다음에, 상기 회전축(19)의 후단에 상기 제1 기어(33)가 결합된다.

상기 구동실(45)에는 구동원(51)이 설치되어 있다. 상기 구동원(51)의 출력축에는 구동 풀리(53)가 결합되어 있다. 상기 구동 풀리(53)와 종동 풀리(54)에는 벨트(55)가 설치되어 있다. 상기 종동 풀리(54)는 도시하지 않은 제2 기어가 동축에 설치되어 있다. 상기 제2 기어는 상기 제1 기어(33)에 맞물려 있다. 그에 따 라, 구동원(51)이 작동되면, 상기 회전축(19)이 회전 구동되므로, 상기 회전축(19)의 선단에 설치된 상기 구동 롤러(17)도 회전 구동된다.

구동 롤러(17)가 회전 구동되면, 이들 구동 롤러(17)에 의해 하단이 지지된 기판(W)은 상기 구동 롤러(17)의 회전 방향으로 반송되게 된다.

상기 기판(W)의 전면에 박리액을 분사해 레지스트의 제거를 행하는 제1 내지 제3 처리 유닛(1A~1C)에는, 경사져 반송되는 기판(W)의 경사 방향의 위쪽면, 즉 회로 패턴이 형성된 전면과 평행하게 이격되어 대향하는 공급관으로서의 복수개의 처리액 공급관(61)이 기판(W)의 반송 방향에 대하여 소정 간격으로 설치되어 있다.

각 처리액 공급관(6l)에는 기판(W)의 반송 방향과 교차하는 축선 방향에 대하여 소정 간격으로 복수개의 노즐체(62)가 설치되어 있다. 상기 처리액 공급관(61)과 노즐체(62)는 본 발명의 처리액 공급 수단을 형성하고 있다.

상기 처리액 공급관(61)에는 박리액이 0.7MPa 정도의 높은 압력으로 공급된다. 이에 의해, 처리액 공급관(61)에 설치된 노즐체(62)로부터 상기 기판(W)의 전면에 상기 처리액이 고압으로 분사되도록 되어 있다.

기판(W)은 각각의 상기 처리 유닛(1A~1C)의 챔버(3) 내에 소정 간격으로 반송된다. 즉, 반송 방향 하류측에 위치하는 기판(W)의 후단과 상류측에 위치하는 기판(W)의 전단 사이에는 도 3에 나타낸 간극(G)이 있다. 그러므로, 상기 노즐체(62)로부터 기판(W)의 전면을 향해 분사된 처리액의 일부는 상기 간극(G)을 통하여 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에 충돌하여 반사된다.

챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에서 반사된 처리액은 유체 복귀 방지 부재(65) 에 의해 챔버(3) 내에 반송되는 기판(W)의 배면에 부딪히는 것이 방지된다. 상기 유체 복귀 방지 부재(65)는 상기 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면의, 상기 기판(W)의 반송 방향에서의 상류측과 하류측의 단부에 위치하는 각각의 처리액 공급관(61)에 대향하는 위치, 즉 한쪽의 유체 복귀 방지 부재(65)는 가장 상류측에 위치하는 처리액 공급관(61)보다도 약간 상류측에 설치되고, 다른 쪽의 유체 복귀 방지 부재(65)는 가장 하류측에 위치하는 처리액 공급관(61)보다도 약간 하류측에 설치되어 있다.

상기 유체 복귀 방지 부재(65)는, 도 2에 나타낸 바와 같이 기판(W)의 높이 치수와 대략 동일한 길이 치수를 가지고, 단면 형상은 도 3에 나타낸 바와 같이 상기 후벽(12c)에 대해서 기단을 고착해 대략 수직으로 설치된 수직벽부(65a)와, 상기 수직벽부(65a)의 선단에 소정의 경사 각도, 예를 들어 45° 각도로 경사져 설치된 경사 벽부(65b)와, 상기 경사 벽부(65b)의 선단에 상기 후벽(12c)의 내면을 향하여 상기 수직벽부(65a)와 평행하게 설치된 복귀 방지벽부(65c)에 의해 갈고리형으로 형성되어 있다.

그리고, 한쌍의 유체 복귀 방지 부재(65)는 서로의 복귀 방지벽부(65c)를 대향시켜 상기 챔버(3) 내의 상기 기판(W)의 반송 방향에 따른 양단부, 즉 도 3에 나타낸 바와 같이 챔버(3)의 폭 방향 양단의 단부벽(12a)의 가까이에 배치되어 있다.

상기 챔버(3)의 상부와 하부의 지지 롤러(14)가 설치된 반송축(15)보다도 후벽(12c) 측의 상하 단부에는 도시하지 않은 배관이나 구동계의 부품 등이 설치된다. 따라서, 상기 유체 복귀 방지 부재(65)는 배관이나 구동계의 부품 등과 간섭 하는 것을 방지하기 위해서, 도 2에 나타낸 바와 같이 길이 치수가 챔버(3)의 높이 치수보다 짧게 설정되어 있다.

그에 따라, 유체 복귀 방지 부재(65)의 상단과 챔버(3)의 천정벽 내면 사이 및 하단과 바닥벽 내면 사이에는 각각 상부 공간부(66)와 하부 공간부(67)가 형성된다.

상기 챔버(3)의 폭 방향 양단부에 위치하는 상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 상단부와 하단부에는 각각 통과 저지 부재(68)가 설치되어 있다. 도 2는 유체 복귀 방지 부재(65)의 하단 측의 하부 공간부(67)에 설치된 통과 저지 부재(68)를 나타내고, 상기 통과 저지 부재(68)는 단면 형상이 대략 L 자형으로서, 그 기단부(68a)가 상기 챔버(3)의 단부벽(12a)의 내면에 고착되고, 중간부(68b)가 상기 챔버(3)의 후벽(12c)과 평행하게 되어 있어, 상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 하단면에 걸림 결합되어 있다. 또한, 선단부(68c)는, 상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 복귀 방지벽부(65c) 측으로 돌출되고, 상기 후벽(12c) 측을 향해 대략 직각으로 굴곡되어 있다.

상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 상단 측의 상부 공간부(66)에도 하부 공간부(67)와 마찬가지로 통과 저지 부재(68)가 설치된다.

유체 복귀 방지 부재(65)의 상단 측에 설치되는 통과 저지 부재(68)와, 하단 측에 설치되는 통과 저지 부재(68)는, 각각 상기 상부 공간부(66)와 상기 하부 공간부(67)의 높이 방향의 전체 길이에 걸쳐서 설치되어 있다. 즉, 각 공간부(66, 67)의 높이 방향에 간극이 없이 설치될 수도 있다.

그에 따라, 소정 간격으로 반송되는 기판(W)의 전후단 사이의 상기 간극(G)을 통과한 처리액의 일부가 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에 충돌해 반사된 후, 상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 상하단에 형성된 상부 공간부(66)와 하부 공간부(67)를 통과하여도, 각 공간부(66, 67)를 통과한 처리액은 상하 한쌍의 통과 저지 부재(68)의 내면에 충돌하기 때문에, 기판(W)의 배면을 향해 비산하는 것이 저지 되도록 되어 있다.

이와 같이 구성된 처리 장치에서는, 제1 내지 제3 처리 유닛(1A~1C)의 챔버(3) 내에 복수개의 기판(W)이 소정의 간격으로 차례로 반입된다. 챔버(3) 내에 반입된 기판(W)의 전면에는 처리액 공급관(61)에 설치된 노즐체(62)로부터 처리액이 분사된다. 그에 따라, 기판(W)의 전면은 처리액에 의해 처리되게 된다.

상기 노즐체(62)로부터 분사된 처리액의 일부는, 소정 간격으로 반송되는 기판(W)의 전단과 후단의 간극(G)(도 3에 도시함)을 통과하여 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에 충돌되고, 상기 후벽(12c)의 내면에서 반사되어 챔버(3) 내에 반송되는 기판(W)의 배면에 부딪힐 우려가 있다. 그 경우, 기판(W)은 배면이 지지 롤러(14)로부터 부상되어, 반송 상태가 불안정하게 되거나 챔버(3)의 폭 방향의 양쪽 벽에 형성된 슬릿(13)을 통과할 수 없게 되기도 한다.

그러나, 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에는 유체 복귀 방지 부재(65)가 설치되어 있다. 유체 복귀 방지 부재(65)는 수직벽부(65a), 경사 벽부(65b) 및 복귀 방지벽부(65c)에 의해서 갈고리형으로 형성되어 있다.

그러므로, 노즐체(62)로부터 분사되어 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에 충돌되 고, 상기 후벽(12c)의 내면에서 반사된 처리액의 일부는, 도 3에 화살표 A나 B로 나타낸 바와 같이 상기 수직벽부(65a), 경사 벽부(65b) 및 복귀 방지벽부(65c)로 이루어지는 갈고리형 부분의 내면을 따라 말려 들어가도록 흐르고, 챔버(3) 내에 반송되는 기판(W)의 배면에 충돌하지 않기 때문에, 기판(W)의 반송 상태가 불안정하지 않게 된다.

한쌍의 유체 복귀 방지 부재(65)에 의해 포착되어 기판(W)의 배면으로 돌아오는 것이 저지되는 처리액은, 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에서 반사된 처리액의 일부로서, 나머지의 처리액은 기판(W)의 배면에 충돌할 가능성이 있다.

그러나, 한쌍의 유체 복귀 방지 부재(65)에 의해 포착되는 처리액이 일부라도, 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에서 반사되어 기판(W)에 작용하는 처리액의 힘이 약하게 되므로, 그에 따라 기판(W)의 원활한 반송 상태가 손상되는 것을 방지할 수 있다.

상기 유체 복귀 방지 부재(65)는 소정 각도로 경사진 경사 벽부(65b)를 가지는 갈고리형이다. 그러므로, 노즐체(62)로부터 분사되어 반송되는 기판(W)의 전후단 사이의 간극(G)을 통과한 처리액이 상기 경사 벽부(65b)의 외면에 충돌해도, 도 3에 화살표 C로 나타낸 바와 같이 상기 경사 벽부(65b)의 경사 각도에 따른 방향으로 반사된다. 그러므로, 상기 경사 벽부(65b)의 외면에서 반사된 처리액이 기판(W)의 내면에 돌아오지 않게 되므로, 그에 따라서도 기판(W)의 반송 상태가 손상되기 어려워진다.

상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 상하단과, 챔버(3)의 천정벽 내면 및 바닥 벽 내면의 사이에는 각각 상부 공간부(66)와 하부 공간부(67)가 형성되어 있다. 그러므로, 소정 간격으로 반송되는 기판(W)의 전후단 사이의 간극(G)을 통과하여 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에서 반사된 처리액의 일부는, 상기 상부 공간부(66)와 하부 공간부(67)를 통하여 챔버(3)의 단부벽(12a)의 내면에서 반사되어 기판(W)의 배면에 충돌할 우려가 있다.

그러나, 상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 상하단에는 챔버(3)의 후벽(12c)에서 반사된 처리액이 상부 공간부(66)와 하부 공간부(67)를 통과하는 것을 저지하는 통과 저지 부재(68)가 설치되어 있다.

그러므로, 도 3에 화살표 F로 나타낸 바와 같이 상기 간극(G)을 통과하여 챔버(3)의 후벽(12c)에서 반사된 처리액이 상기 유체 복귀 방지 부재(65)의 상하단에 형성된 상부 공간부(66)와 하부 공간부(6)를 통과하여도, 각 공간부(66, 67)에 설치된 통과 저지 부재(68)의 중간부(68b)의 내면에 충돌되고, 챔버(3)의 후벽(12c) 측을 향해 반사된다.

챔버(3)의 후벽(12c) 측을 향해 반사된 처리액은 챔버(3)의 단부벽(12a)의 내면에서 후벽(12c) 측을 향해 반사된 후, 후벽(12c)에 충돌해 감쇠된다.

그에 따라, 처리액이 유체 복귀 방지 부재(65)의 상하단에 형성된 상부 공간부(66)와 하부 공간부(6)를 통과하여도, 통과 저지 부재(68)에 의해 기판(W)의 배면을 향해 반사되는 것이 저지되므로, 각 공간부(66, 67)를 통과한 처리액이 기판(W)의 배면에 충돌되는 것을 확실하게 방지할 수 있다.

도 4는 본 발명의 제2 실시예를 나타낸다. 제2 실시예는 1개의 처리액 공급 관(61)에 대해서 2개의 유체 복귀 방지 부재(65)를, 상기 처리액 공급관(61)의 양측에 대응하는 위치, 즉 처리액 공급관(61)보다도 약간 상류측과 하류측의 위치에 배치한다.

이와 같이 유체 복귀 방지 부재(65)를 배치하면, 1개의 처리액 공급관(61)의 노즐체(62)로부터 분사되어 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에서 반사된 처리액의 대부분은, 화살표 D로 나타낸 바와 같이 한쌍의 유체 복귀 방지 부재(65)에 의해 포착되어, 챔버(3)의 후벽(12c)의 내면에서 반사되어 기판(W)의 배면으로 돌아오는 것이 저지되므로, 기판(W)의 반송 상태를 더욱 안정화시킬 수 있다.

그리고, 도시하지 않지만 도 4에 나타낸 유체 복귀 방지 부재(65)의 상하단에, 제1 실시예에 나타낸 통과 방지 부재(68)를 설치하도록 해도 된다.

본 발명은 기판을 박리액에 의해 처리하는 경우뿐만 아니라, 순수(純水) 등의 다른 처리액에 의해 처리하는 경우라도 적용할 수 있으며, 또 노즐체로부터 기체와 액체가 혼합된 혼합 유체를 분사하는 경우라도 적용가능하다. 또한, 액체 대신에, 기판에 부착한 액체를 제거하기 위하여, 예를 들어, 액절용 기체를 에어 나이프 등에 의해 분사하는 경우라도, 본 발명을 적용할 수 있다. 즉, 본 발명은 액체나 기체 등의 유체가 고압으로 기판에 분사되는 경우이면 적용가능하다.

유체 복귀 방지 부재의 상단과 챔버의 천정벽의 내면 사이에는 배관 등을 설치하지 않는 경우가 있다. 이와 같은 경우에는, 유체 복귀 방지 부재의 상단을 챔버의 천정벽의 내면에 접촉시킬 수 있으므로, 유체 복귀 방지 부재의 하단측에만 통과 저지 부재를 설치하면 된다.

또한, 챔버의 폭 방향 양단의 단부벽의 가까이에 위치하는 유체 복귀 방지 부재의 상하단에 통과 저지 부재를 설치하도록 하였지만, 챔버의 단부벽의 근처 이외의 부분에 유체 복귀 방지 부재가 설치되는 경우에는, 상기 유체 복귀 방지 부재의 상하단 또는 적어도 하단에 통과 저지 부재를 설치해도 된다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예의 처리 장치의 개략적 구성을 나타낸 사시도이다.

도 2는 본 발명의 제1 실시예의 처리 장치의 챔버의 종단면도이다.

도 3은 공급관과 유체 복귀 방지 부재의 배치 관계를 나타내는 1개의 챔버의 종단면도이다.

도 4는 본 발명의 제2 실시예의 공급관과 유체 복귀 방지 부재의 배치 관계를 나타내는 챔버의 일부를 생략한 종단면도이다.

* 도면의 부호의 설명

3: 챔버 14: 지지 롤러

17: 구동 롤러 19: 회전축

62: 노즐체 65: 유체 복귀 방지 부재

65a: 수직벽부 65b: 경사 벽부

65c: 복귀 방지벽부 68: 통과 저지 부재.

Claims (6)

1. 기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송하면서 유체에 의해 처리하는 기판의 처리 장치로서,

   챔버,

   상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판의 경사 방향 아래쪽의 배면을 지지하는 지지 롤러,

   배면이 상기 지지 롤러에 의해 지지된 상기 기판의 하단을 외주면에 의해 지지하고 회전 구동되어 상기 기판을 소정 방향으로 반송하는 구동 롤러,

   상기 기판의 경사 방향 위쪽의 전면에 상기 유체를 분사하는 유체 공급 수단, 및

   반송되는 상기 기판의 배면에 대향하는 상기 챔버의 후벽의 내면에 설치되어 상기 유체 공급 수단으로부터 분사되어 상기 챔버의 상기 후벽의 내면에 충돌하여 반사된 유체가 상기 기판의 배면에 부딪히는 것을 방지하는 유체 복귀 방지 부재

   를 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 유체 복귀 방지 부재는, 상기 챔버의 후벽의 내면에 선단이 상기 기판의 배면 방향을 향해 설치된 수직벽부와, 상기 수직벽부의 선단에 소정 각도로 경사져 설치된 경사 벽부와, 상기 경사 벽부의 선단에 상기 후벽의 내면을 향해 굴곡 되어 설치되어 상기 후벽의 내면에서 반사된 유체가 상기 기판의 배면을 향해 비산되는 것을 저지하는 복귀 방지벽부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
3. 제1항에 있어서,

   상기 유체 복귀 방지 부재의 길이 치수가 상기 챔버의 상하 방향의 치수보다 짧게 설정되어 있어, 상기 유체 복귀 방지 부재의 상하 단부 중 적어도 하단부에는, 상기 챔버의 상기 후벽 내면에 충돌해 반사된 유체가 상기 유체 복귀 방지 부재의 하단을 통하여 상기 기판의 배면에 부딪히는 것을 방지하는 통과 저지 부재가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
4. 제3항에 있어서,

   상기 통과 저지 부재는, 상기 기판의 반송 방향에 따른 상기 챔버의 단부에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
5. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 유체 공급 수단은, 상기 기판의 반송 방향을 따라 소정의 간격으로 배치되고 상기 유체가 공급되는 복수개의 공급관 및 각 공급관에 설치된 복수개의 노즐체에 의해 구성되어 있고,

   상기 유체 복귀 방지 부재는, 상기 기판의 반송 방향 상류측의 단부와 하류 측의 단부에 위치하는 각각의 공급관에 대응하는 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 유체 공급 수단은, 상기 유체가 공급되는 공급관 및 상기 공급관에 설치된 복수개의 노즐체에 의해 구성되어 있고,

   상기 유체 복귀 방지 부재는, 상기 기판의 반송 방향에 따른 상기 공급관의 양측에 대응하는 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.

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