KR20070084294A

KR20070084294A - 기판의 처리 장치, 반송 장치 및 처리 방법

Info

Publication number: KR20070084294A
Application number: KR1020077011165A
Authority: KR
Inventors: 하루미치 히로세
Original assignee: 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤
Priority date: 2004-11-19
Filing date: 2004-11-19
Publication date: 2007-08-24
Also published as: KR101149455B1; CN101061761B; WO2006054354A1; CN101061761A

Abstract

기판을 세운 상태로 반송하는 반송 수단(28), 상기 반송 수단에 의해 세운 상태로 반송되는 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리부(4), 상기 처리부에 기판을 공급하는 로더부(2), 및 상기 처리부에서 처리된 기판을 수취하는 언로더부(3)를 구비하고, 상기 로더부와 언로더부 중 적어도 한쪽은, 회전 가능하게 설치되어 상기 기판이 공급 탑재되는 지지면(5)을 가지는 로더(6), 및 상기 로더를 회전 구동하여 상기 지지면을 소정의 경사 각도로 위치 결정하는 모터(11)를 구비하고 있다.

기판, 반송, 처리, 로더, 언로더, 지지면, 로더, 처리액, 세정, 에칭

Description

기판의 처리 장치, 반송 장치 및 처리 방법{SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT, SUBSTRATE CARRYING EQUIPMENT AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}

본 발명은 기판을 처리액에 의해 처리하고 나서 건조 처리하는 경우에 적합한 기판의 처리 장치, 반송 장치 및 처리 방법에 관한 것이다.

액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판에는 회로 패턴이 형성된다. 기판에 회로 패턴을 형성하기 위해서 리소그래피(lithography) 프로세스가 채용된다. 리소그래피 프로세스는 주지하는 바와 같이 상기 기판에 레지스트를 도포하고, 상기 레지스트에 회로 패턴이 형성된 마스크를 통하여 광을 조사한다.

다음에, 레지스트의 광이 조사되지 않는 부분 또는 광이 조사된 부분을 제거하고, 기판의 레지스트가 제거된 부분을 에칭하고, 에칭 후에 레지스트를 제거하는 등의 일련의 공정을 복수회 반복함으로써, 상기 기판에 회로 패턴을 형성한다.

이와 같은 리소그래피 프로세스에 있어서는, 상기 기판상의 레지스트를 현상액에 의해 현상 한 후, 에칭액에 의해 기판을 에칭 처리하고, 에칭 후에 레지스트를 박리액에 의해 제거하는 등의 기판을 약액에 의해 처리하는 공정이 있다.

약액으로 처리한 후에, 기판을 상기 에칭액보다 낮은 농도의 에칭액으로 에칭 세정하고, 그 다음에 순수(純水)에 의해 린스 세정하는 등, 세정액에 의해 세정 하는 공정이 있고, 세정 후에는 기판에 부착되어 잔류한 세정액을 제거하는 건조 공정이 있다.

종래에는 기판에 대해서 전술한 일련의 처리를 행하는 경우, 상기 기판은 축선을 수평으로 하여 배치된 반송 롤러에 의해 수평인 상태에서 각각을 처리 챔버에 차례로 반송하고, 그곳에서 처리액에 의해 처리하거나, 압축 기체를 분사해 건조 처리하도록 하고 있다.

그런데, 최근에는 액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판이 대형화 및 박형화되는 경향이 있다. 그러므로, 기판을 수평 반송하면, 반송 롤러 사이에서의 기판이 휘어지기 쉬우므로, 각 처리 챔버에서의 처리가 기판의 판면 전체에 걸쳐서 균일하게 행해지지 않는 일이 발생된다.

기판이 대형화되면, 그 기판을 반송하는 반송 롤러가 설치된 반송축의 길이가 길게 된다. 또한, 기판이 대형화됨으로써, 기판 상에 공급되는 처리액이 증대되고, 기판상의 처리액의 양에 따라 상기 반송 축에 가해지는 하중이 커지므로, 그에 따라서 반송축의 휨이 증대된다. 그러므로, 기판에는 반송축과 함께 휨이 발생되고, 균일한 처리가 행해지지 않는 경우가 있다.

본 발명은 기판에 생기는 휨이 적게 되도록 기판을 반송할 수 있는 기판의 처리 장치, 반송 장치 및 처리 방법을 제공하는 것에 있다.

본 발명은 기판을 처리하는 처리 장치에 있어서,

기판을 세운 상태에서 반송하는 반송 수단,

상기 반송 수단에 의해 세운 상태에서 반송되는 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리 수단,

상기 처리 수단에 기판을 공급하는 로더부, 및

상기 처리 수단에 의해 처리된 기판을 수취하는 언로더부

를 구비하고,

상기 로더부와 언로더부 중 적어도 한쪽은,

회전 가능하게 설치되어 상기 기판이 공급 탑재되는 지지면을 가지는 로더, 및 상기 로더를 회전 구동하여 상기 지지면을 소정의 경사 각도로 위치 결정하는 구동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치이다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 처리 장치의 개략적 구성을 나타낸 사시도이다.

도 2는 상기 처리 장치의 처리부를 나타낸 사시도이다.

도 3은 에칭 세정부와 순수 세정부를 나타낸 사시도이다.

도 4는 에칭 세정부와 순수 세정부와의 종단면도이다.

도 5는 기판의 패턴이 형성된 면을 세정 처리 할 때의 설명도이다.

도 6은, 기판을 경사 방향으로 볼록하게 만곡시켜 지지한 상태의 측면도이다.

도 7(a)는 로더부 및 언로더부의 로더의 지지면을 수평으로 한 상태의 측면도이다.

도 7(b)는 상기 지지면을 경사지게 한 상태의 측면도이다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 일 실시예를 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 처리 장치를 나타낸다. 상기 처리 장치는 기대(1)를 구비하고 있다. 상기 기대(1)의 상면의 길이 방향 일단부에는 로더부(2), 타단부에는 언로더부(3)가 설치되고, 상기 로더부(2)와 언로더부(3) 사이에는 처리부(4)가 설치되어 있다.

상기 로더부(2)와 언로더부(3)는 직사각형의 지지면(5)을 가지는 로더(6)를 구비하고 있다. 상기 로더(6)의 폭 방향 중앙 부분에는 지축(7)이 설치되어 있다. 상기 지축(7)은 상기 기대(1)의 상면에 수직 설치된 지지체(8)에 회전 가능하게 지지되어 있다. 지축(7)의 상기 지지체(8)로부터 돌출된 단부에 종동 풀리(9)가 장착되어 있다. 상기 종동 풀리(9)와 모터(11)의 회전축에 장착된 구동 풀리(12) 사이에는 타이밍 벨트(13)가 설치되어 있다. 상기 종동 풀리(9), 모터(11), 구동 풀리(12) 및 타이밍 벨트(13)에 의하여 본 발명의 구동 기구를 형성하고 있다.

상기 모터(11)에 의해 타이밍 벨트(13)를 구동하면, 상기 로더(6)의 지지면(5)을 도 1에서 쇄선으로 나타낸 수평인 상태나 실선으로 나타낸 소정 각도로 경사진 경사 상태로 바꾸는 것이 가능하도록 되어 있다.

상기 지지면(5)에는 행렬로 배치된 복수개의 수수 롤러(15)가 회전축선을 기대(1)의 길이 방향에 대하여 직교하는 방향을 따라서 회전 가능하게 설치되어 있다. 각각의 상기 수수 롤러(15)는 도 7(a) 및 도 7(b)에 나타낸 바와 같이 상기 지지면(5)에 수직 설치된 지지편(16)에 회전 가능하게 장착되어 있다.

상기 지지면(5)의 폭 방향 일단부에는 폭 방향과 교차하는 방향을 따라 소정 간격으로 제1 구동 롤러로서 복수개의 구동 롤러(17)가 축선을 지지면(5)에 대해서 직교시키는 동시에, 도 7(a), 도 7(b)에 나타낸 바와 같이 구동 모터(18)에 의해 회전 구동 가능하게 형성되어 있다. 각 구동 롤러(17)의 외주면에는 수수 홈(19)이 형성되어 있다.

그리고, 도 1에서, 언로더부(3)의 구동 기구는 도시되어 있지 않으나, 로더부(2)의 구동 기구와 동일한 구성이며, 로더(6)의 지지면(5)을 수평 상태 및 소정의 경사 각도로 설정할 수 있도록 되어 있다.

상기 로더부(2)에는 액정 표시 장치에 사용되는 직사각형의 기판(W)이 처리 장치의 앞 공정으로부터 수평 상태로 공급된다. 즉, 기판(W)은 앞 공정의 장치로부터 도시하지 않은 로봇 등의 반송 수단에 의해서 거의 수평인 상태에서 상기 로더부(2)에 반송되어 온다. 로더부(2)가 기판(W)을 수취할 때는, 상기 로더(6)는 지지면(5)이 대략 수평으로 되도록 모터(11)에 의해 회전 각도가 제어되어 있다.

도 7(a)에 쇄선으로 나타낸 바와 같이 기판(W)을 지지한 로봇의 한 쌍의 암(21)이 지지면(5) 위를 전진하고, 소정의 위치에서 하강하고 나서 후퇴한다. 그에 따라, 기판(W)은 디바이스 면과 반대측의 면이 지지면(5)에 설치된 복수개의 수수 롤러(15)에 의해 지지된다.

기판(W)이 지지면(5)에 공급되면, 로더(6)는 모터(11)에 의해 회전되고, 도 7(b)에 나타낸 바와 같이 수직인 상태로부터 각도(θ1)로 소정 방향으로 경사진 경 사 각도로 기립된다. θ1은 5~20°가 바람직하고, 따라서 기판(W)의 기립 각도는 70~85°가 바람직하다.

로더(6)가 기립 방향으로 구동되면, 기판(W)은 기립 방향 아래쪽으로 슬라이드되고, 하단이 로더(6)의 폭 방향 일단부에 일렬로 설치된 구동 롤러(18)의 수수홈(19)에 지지된다. 그 상태에서, 구동 모터(18)를 작동시켜 각 구동 롤러(18)를 회전 구동시키면, 기판(W)을 각도(θ1)의 경사 상태로 로더부(2)로부터 처리부(4)로 반송할 수 있다.

상기 처리부(4)는 커버(23)에 의해 덮여 있다. 상기 커버(23)의 길이 방향 일단면과 타단면에는, 기판(W)의 경사 각도(θ1)와 대응하는 각도로 경사진 슬릿형의 반입구(24) 및 반출구(도시하지 않음)가 각각 개구 형성되어 있다. 따라서, 상기 로더부(2)의 구동 롤러(17)에 의해 반송되는 기판(W)은 상기 반입구(24)로부터 처리부(41)로 반입된다.

상기 처리부(4)는 도 2에 나타낸 바와 같이 제1 스테이션(25)과 제2 스테이션(26)이 기대(1)의 길이 방향을 따라 일렬로 배치되어 있다. 각 스테이션(25, 26)은 소정 두께의 직사각형 베이스 부재(27)를 가지고 있고, 각 베이스부재(27)의 판면에는 상기 기판(W)을 각도(θ1)의 경사 각도로 반송하는 반송 수단(28)이 형성되어 있다.

상기 반송 수단(28)은, 각 스테이션(25, 26)의 하단부에 기대(1)의 길이 방향을 따라 소정 간격으로 설치된 제2 구동 롤러로서의 복수개의 구동 롤러(29)를 가진다. 각 구동 롤러(29)는, 도 6에 나타낸 바와 같이 외주면에 수수 홈(29a)이 형성됨과 아울러, 상기 베이스 부재(27)에 설치된 구동 모터(30)에 의해 회전 구동된다.

각 구동 롤러(29)의 상부에는 각각의 상하 방향을 따라 소정 간격으로 복수개, 이 실시예에서는 3개의 수수 롤러(31a~31c)가 설치되어 있다. 각각의 접수 롤러(31a~31c)는 도 6에 나타낸 바와 같이 각각 상기 베이스 부재(27)의 판면에 돌출 형성된 수수부재(32a~32c)의 선단부 상면에 축선을 수직으로 해서 회전 가능하게 지지되어 있다.

상기 로더부(2)로부터 반송 수단(28)에 공급된 기판(W)은, 하단을 구동 롤러(29)의 수수 홈(29a)에 결합시켜, 디바이스 면과 반대측의 면인, 배면을 상기 수수 롤러(31a~31c)에 지지되어 반송된다.

하단이 구동 롤러(29)에 지지되고, 배면을 3개의 수수 롤러(31a~31c)에 의해 지지된 기판(W)은, 하부와 상부를 연결한, 도 6에 쇄선으로 나타낸 선이 수직선에 대해서 배면 측으로 소정 각도(θ1)로 경사져 있는 동시에, 높이 방향의 중도부가 경사 방향인, 배면 측에 볼록하게 만곡되어 있다. 즉, 높이 방향 중도부의 수수 롤러(31b)는, 기판(W)을 쇄선으로 나타낸 경사 각도(θ1)로 지지하는 위치보다 소정 치수 경사 방향 후방으로 후퇴한 위치에 설치되어 있다.

기판(W)을 단지 소정의 경사 각도(θ1)로 경사지게 하여 지지할 뿐만 아니라, 높이 방향 중도부를 경사 방향으로 볼록하게 만곡시켜 지지하도록 함으로써, 상기 기판(W)이 경사 방향과 역방향으로 좌굴되는 것을 방지할 수 있다.

즉, 기판(W)은 통상 0.7mm 정도로 얇고, 또한 최근에는 2m 각 정도의 크기로 대형화되고 있다. 그러므로, 반송시의 기판(W)의 경사 각도(θ1)가 수직인 상태에 대하여 약간이면, 즉 경사 각도(θ1)가 작으면, 기판(W)의 자중이 좌굴 하중을 상회하고, 전술한 바와 같이 경사 방향과 역방향, 즉 도 6에 화살표(X)로 나타낸 방향으로 좌굴할 우려가 있다.

그러나, 기판(W)을 전술한 바와 같이, 높이 방향 중도부가 경사 방향으로 볼록하게 되도록 만곡시켜 지지함으로써, 기판(W)이 대형화 하거나 박형화 되어도, 경사 방향과 역방향으로 좌굴되는 것을 방지할 수 있다.

도 2에 쇄선으로 나타낸 바와 같이, 상기 처리부(4)의 제1 스테이션(25)에는 한 쌍의 브러시 세정부(34)와, 에칭 세정부(35) 및 순수 세정부(36)가 기판(W)의 반송 방향을 따라 차례로 배치되고, 제2 스테이션(26)에는 건조 처리부(37)가 배치되어 있다.

자세한 것은 도시하지 않았으나, 상기 브러시 세정부(34)는 반송 수단(28)에 의해 세운 상태에서 반송되는 기판(W)의 높이 방향을 따라 무단 구동되는 한 쌍의 브러시 벨트를 가지며, 한 쌍의 브러시 벨트 사이에 상기 기판(W)이 반송됨으로써, 그 디바이스 면과 배면이 브러시 세정 되도록 되어 있다.

상기 브러시 세정부(34)에서 브러시 세정 된 기판(W)은, 에칭 세정부(35)에서 세정되고 나서 순수 세정부(36)에서 린스 처리된다. 에칭 세정부(35)와 순수 세정부(36)는, 도 3 및 도 4에 나타낸 바와 같이 본체부(41)를 가진다. 상기 본체부(41)는 한쌍의 밴드형 부재(42)가 주위 에지부에 설치된 스페이서(43)를 통하여 적층되어 있다. 그에 따라, 한 쌍의 밴드형 부재(42) 사이에는 상기 기판(W)이 통 과 가능한 간극부(44)가 형성되어 있다. 간극부(44)의 치수는 가능한 한 좁은 것이 바람직하고, 이 실시예에서는, 예를 들면 상기 기판(W)의 두께 치수의 몇 배 정도로 설정되어 있다.

상기 한 쌍의 밴드형 부재(42)에는, 반송되는 기판(W)의 높이 방향 위쪽을 향해 소정 각도로 경사진 복수개의 슬릿(45)이 상하 방향으로 소정 간격으로 형성되어 있다. 상기 슬릿(45)은, 일단을 상기 간극부(44)로 개구하고, 타단을 상기 밴드형 부재(42)의 외면으로 개구하고 있다. 슬릿(45)의 길이 치수는, 상기 밴드형 부재(42)의 폭 치수보다 조금 작게 설정되어 있다.

한 쌍의 밴드형 부재(42)의 외면에는 각각 커버부재(46)가 설치되어 있다. 상기 커버부재(46)의 내면에는 오목부에 의해 챔버(47)가 형성되어 있다. 상기 챔버(42)에는, 상기 밴드형 부재(42)의 외면으로 개구된 상기 복수개의 슬릿(45)이 연통되어 있다.

상기 커버부재(46)에는 처리액을 상기 챔버(47) 내에 공급하는 복수개의 공급구(48)가 상하 방향을 따라 소정 간격으로 형성되어 있다. 도 4에서는 하단부에 형성된 1개의 공급구(48)만이 나타나 있다.

각 공급구(48)에는 도 3에 쇄선으로 나타낸 처리액의 공급관(49)이 접속되어 있다. 공급관(49)으로부터 공급되는 처리액은 상기 챔버(47)에 유입되고, 상기 챔버(47)로부터 상기 슬릿(45)을 통하여 한 쌍의 밴드형 부재(42) 사이에 형성된 간극부(44)로 향해 분사된다. 상기 간극부(44)에는 기판(W)이 통과된다. 그에 따라, 세정액은 기판(W)의 디바이스 면과 배면의 아래쪽으로부터 위쪽을 향해 분사되 므로, 상기 기판(W)의 양쪽 면이 세정되게 된다.

처리액으로서는, 에칭 처리부(37)에는 에칭액이 공급되고, 순수 세정부(36)에는 순수가 공급된다. 기판(W)의 양면은, 에칭 세정부(37)에서 에칭 세정된 후, 순수 세정부(36)에서 기판(W)의 판면으로부터 에칭액을 세정 제거하는 린스 처리가 행해진다.

기판(W)의 디바이스 면에는, 도 5에 나타낸 바와 같이 회로 패턴(P)이 형성되어 있다. 에칭 세정부(37)에서, 간극부(44)를 반송되는 기판(W)의 양쪽 면에 대해, 에칭액이 도 5에 화살표로 나타낸 바와 같이 아래쪽으로부터 위쪽을 향해 분사된다.

기판(W)의 디바이스 면에서, 에칭액이 기판(W)의 높이 방향 위쪽을 향해 분사되면, 패턴(P)의 하단 에지(d)가 에칭액에 의해 확실하게 에칭 세정된다. 패턴(P)의 상단 에지(u)는 기판(W)의 판면을 따라 아래쪽으로 흐르는 에칭액에 의해 에칭 처리된다. 그러므로, 기판(W)을 세운 상태에서 반송해도, 그 디바이스 면에 형성된 패턴(P)의 하단 에지(d)도 확실하게 에칭 처리할 수 있다.

순수 세정부(36)에서는, 에칭 세정부(35)와 마찬가지로, 순수가 기판(W)의 판면의 높이 방향에 대하여 아래쪽으로부터 위쪽을 향해 분사된다. 그러므로, 패턴(P)의 상단 에지(u)에 부착된 에칭액은 판면을 따라 아래쪽으로 흐르는 순수에 의해 린스 처리되고, 하단 에지(d)에 부착된 에칭액은 아래쪽으로부터 위쪽을 향해 분사되는 순수에 의해 확실하게 린스 처리되게 된다.

상기 에칭 세정부(35)와 순수 세정부(36)의 본체부(41)는 도 3에 나타낸 바 와 같이 기판(W)의 반송 방향 후방으로 θ2의 각도로 경사져 설치되어 있다. θ2는 5~30°가 바람직하지만, 그 이상의 각도라도 된다.

그러므로, 에칭 세정부(35)와 순수 세정부(36)의 상부에 위치하는 슬릿(45)으로부터 각각의 기판(W)의 판면에 분사되는 에칭액 및 순수는, 간극부(44)로부터 경사 방향 후방인, 수직 방향으로 유출 낙하된다. 따라서, 본체부(41)의 위쪽에 위치하는 슬릿(45)으로부터 분사된 에칭액 및 세정액은, 아래쪽에 위치하는 슬릿(45)으로부터 분사된 에칭액 및 세정액에 간섭되는 것이 방지되므로, 각 슬릿(45)으로부터 기판(W)의 판면을 향해 에칭액 및 세정액을 각각 소정의 토출력으로 확실하게 분사시킬 수가 있다.

그리고, 에칭 처리부(35) 및 순수 세정부(36)에서, 에칭액 및 순수를 기판(W)의 양면에 대해서 아래쪽으로부터 위쪽을 향해 분사시키도록 하였지만, 적어도 기판(W)의 디바이스 면에 대해서, 에칭액 및 순수를 아래쪽으로부터 위쪽을 향해 분사시키도록 하고, 배면에 대해서는 수평 방향 또는 윗쪽으로부터 아래쪽을 향해 분사시켜도 지장을 주지 않는다.

상기 순수 처리부(36)에서 린스 처리된 기판(W)은, 제2 스테이션(26)에 설치된 건조 처리부(37)에서 건조 처리된다. 건조 처리부(37)는, 상세하게 도시하지 않았으나, 순수 처리부(36)와 마찬가지로, 기판(W)이 통과되는 간극부를 가지고, 상기 간극부를 반송되는 기판(W)의 판면에 대해서 청정 공기 등의 기체를 슬릿으로부터 기판(W)의 반송 방향 후방을 향해 분사한다. 그에 따라, 기판(W)의 판면에 부착된 세정액을 건조 제거할 수 있다.

건조 처리부(37)에서 건조 처리된 기판(W)은, 상기 언로더부(3)로 전달된다. 즉, 언로더부(3)는, 로더(6)가 그 지지면(5)을 처리부(4)로부터 반출되는 기판(W)의 경사 각도(θ1)에 대응한 각도로 경사져 대기하고 있다.

건조 처리된 기판(W)은 처리부(4)를 덮는 커버(23)에 형성된 도시하지 않은 반출구로부터 반출된다. 반출된 기판(W)은, 하단을 상기 로더(6)에 설치된 구동 롤러(17)에 결합시키면, 구동 롤러(17)를 회전 구동시킴으로써, 기판(W)를 지지면(5)에 대향하는 위치에 반송 위치 결정할 수 있다.

기판(W)이 로더(6)의 지지면(5)에 대향하는 위치에 위치 결정되면, 구동 롤러(17)를 정지해 구동 기구의 모터(11)를 작동시켜, 로더(6)의 지지면(5)이 대략 수평으로 되도록 회전시킨다. 즉, 기판(W) 상태를 각도(θ1)로 경사지게 세운 상태로부터 대략 수평 상태로 변환한다. 그에 따라, 로더(5)에 지지된 기판(W)을, 도시하지 않은 로봇 등에 의해 인출하고, 다음 공정으로 전달되는 것이 가능하다.

이와 같이, 기판(W)의 기립 각도를 70~85°, 즉 수직인 상태에 대해서 5~20°의 각도로 경사지게 하여 지지하면, 경사 방향과 역방향으로 넘어지지 않고 안정된 상태에서 반송하는 것이 가능해진다. 또한, 기판(W)은 수평으로 반송되는 경우의 같이 자중에 의해 휘어지는 것이 대폭 저감된다.

상기 로더부(2)와 언로더부(3)에 회전 구동되는 로더(6)를 설치하고, 상기 로더(6)의 지지면(5)의 경사 각도를 제어할 수 있도록 하였다. 그러므로, 기판(W)이 앞 공정으로부터 수평 상태로 취급되고 있어도, 상기 로더(6)의 지지면(5)에 의해 기판(W)을 수평으로 받으므로, 소정의 경사 각도로 경사지게 하여 처리부(4)에 전달할 수 있다.

마찬가지로, 상기 언로더부(3)에서는, 처리부(4)에서 소정의 경사 각도로 처리된 기판(W)을, 로더(6)의 지지면(5)으로 받은 후, 수평 상태로 변환하여 다음 공정으로 전달할 수 있다.

따라서, 상기 구성의 로더부(2)와 언로더부(3)를 가짐으로써, 처리 장치의 앞 공정과 후속 공정에서 기판(W)이 수평 또는 경사진 상태로 취급되고 있어도, 그 취급 상태와 관계없이, 기판(W)을 처리부(4)에 공급하거나, 처리부(4)로부터 다음 공정으로 전달할 수 있다.

에칭 처리부(35)와 순수 처리부(36)에서는, 에칭액 및 순수를 기판(W)의 높이 방향 아래쪽으로부터 위쪽을 향하여 분사하도록 하였다. 그러므로, 도 5에 나타낸 바와 같이, 에칭 처리부(35)에서는, 슬릿(45)으로부터 기판(W)의 디바이스 면에 형성된 패턴(P)의 높이 방향 하단 에지(d)에 에칭액을 확실하게 분사해 에칭 세정할 수 있고, 순수 처리부(36)에서는 동일하게 패턴(P)의 하단 에지(d)에 순수를 확실하게 분사해 린스 처리할 수 있다. 패턴(P)의 상단 에지(u)는, 기판(W)의 윗쪽으로부터 아래쪽을 향해 흐르는 에칭액 및 순수에 의해 처리된다.

그러므로, 기판(W)를 세운 상태에서 반송해도, 그 디바이스 면에 형성된 패턴(P)을 얼룩 없이 확실하게 에칭액이나 순수에 의해 세정 처리하는 것이 가능해진다.

각도(θ1)로 경사져 세운 상태에서 지지 반송되는 기판(W)을, 도 6에 나타낸 바와 같이 경사 방향으로 볼록하게 만곡시키도록 하였다. 그러므로, 기판(W)의 사 이즈가 대형화 되어도, 그 자중에 의해 기판(W)이 경사 방향과 역방향으로 좌굴되는 것을 방지할 수 있다.

즉, 도 6에 쇄선으로 나타낸 바와 같이 기판(W)를 단지 θ1의 경사 각도로 지지만 하면, 기판(W)은 자중에 의해 화살표(X)로 나타낸 경사 방향과 역방향으로 좌굴할 우려가 있다. 그러나, 기판(W)을 경사 방향으로 볼록하게 만곡시켜 지지하면, 경사 방향과 역방향으로 좌굴하는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 기판(W)은 수수 롤러(31a~31c)에 의해 소정의 경사 각도로 지지되어 있으므로, 경사 방향으로 좌굴되지 않는다.

본 발명은 상기 일 실시예로 한정되지 않고, 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서 여러 가지로 변형 가능하다. 예를 들면, 로더부와 언로더부의 양쪽에 로더를 설치하고, 지지면의 각도를 바꾸는 것이 가능하도록 하였지만, 처리부의 앞 공정 또는 후속 공정의 어느 쪽이든 한쪽에서의 기판의 취급 각도가 처리부에서의 취급과 동일한 각도이면, 로더부와 언로더부의 어느 쪽이든 한쪽에만 각도 조정 가능한 로더를 설치하면 된다.

로더의 지지면을 소정 각도로 설정하기 위한 구동 기구로서는, 벨트 방식에 의하지 않고, 링크를 사용한 링크 방식으로 해도 되고, 그 기구는 어떠한 것으로 한정되지 않는다.

기판을 소정 각도로 경사지게 세운 상태에서 반송할 때, 기판을 경사 방향으로 볼록하게 만곡시켜 반송하도록 하였지만, 이와 같은 기판의 반송은 상기 일 실시예에 나타낸 처리 장치에만 적용되는 것이 아니고, 좌굴되기 쉬운 기판을 반송하 는 반송 장치이면 적용할 수 있다.

이상과 같이 본 발명은, 기판을 세운 상태에서 반송하면서 처리 수단에 의해 처리하는 경우에, 상기 기판의 자세를 처리 수단에 따른 자세로 변환하거나, 처리 수단에 의해 처리된 기판을 다음 공정에서의 취급에 따른 자세로 변환하는 것이 가능하도록 하였다.

그러므로, 처리 수단에 의해 기판을 세운 상태에서 처리하도록 해도, 그 기판을 앞 공정으로부터 확실하게 받거나, 다음 공정으로 확실하게 전달하는 것이 가능하다.

본 발명은 세운 상태에서 반송되는 기판의 판면에 대해, 아래쪽으로부터 위쪽을 향하여 처리액을 분사하도록 하였다.

그러므로, 기판의 판면에 배선 패턴 등이 형성되어 있는 경우, 그 패턴의 하단에 처리액을 확실하게 분사해 처리할 수 있다.

본 발명은 기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송하는 경우, 경사 방향으로 볼록하게 만곡시켜 지지하도록 하였다.

그러므로, 기판이 대형화 되어도, 자중에 의해 경사 방향과 역방향으로 좌굴되는 것을 방지할 수 있다.

본 발명은 기판을 처리액에 의해 처리하고 나서 건조 처리하는 경우에 적합한 기판의 처리 장치, 반송 장치 및 처리 방법에 이용될 수 있다.

Claims

기판을 처리하는 처리 장치에 있어서,

기판을 세운 상태에서 반송하는 반송 수단,

상기 반송 수단에 의해 세운 상태로 반송되는 기판에 대해서 소정의 처리를 행하는 처리 수단,

상기 처리 수단에 기판을 공급하는 로더부, 및

상기 처리 수단에 의해 처리된 기판을 수취하는 언로더부,

를 구비하고,

상기 로더부와 언로더부 중 적어도 한쪽은,

회전 가능하게 설치되어 상기 기판이 공급 탑재되는 지지면을 가지는 로더, 및

상기 로더를 회전 구동하여 상기 지지면을 소정의 경사 각도로 위치 결정하는 구동 기구,

를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
제1항에 있어서,

상기 로더에는, 상기 지지면에 공급된 기판이 상기 로더가 회전되어 세운 상태가 되었을 때에 상기 기판의 하단을 지지하여 상기 처리 수단으로 반송하는 제1 구동 롤러가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
세운 상태에서 반송되는 기판의 판면을 처리액에 의해 처리하는 기판의 처리 장치에 있어서,

소정 방향으로 반송되는 상기 기판이 통과되는 간극부를 가지는 본체부,

상기 본체부에 상기 간극부를 사이에 두고 상기 간극부와 별개로 이격 형성되고 내부에 상기 처리액이 공급되는 한 쌍의 챔버, 및

상기 본체부의 상기 간극부와 적어도 한쪽의 챔버를 별개로 이격한 부분에 상기 챔버 측으로부터 상기 간극부 측을 향해 높게 경사져 형성되고 상기 간극부를 통과하는 기판의 판면에 상기 처리액을 분사하는 슬릿,

을 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
제3항에 있어서,

상기 본체부는 상기 기판의 반송 방향 후방을 향해 경사져 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송하는 반송 장치에 있어서,

상기 기판의 하단을 지지하며 회전 구동됨으로써 상기 기판을 소정 방향으로

반송하는 제2 구동 롤러, 및

상기 기판의 반송 방향을 따라 회전 가능하게 설치되어 소정 각도로 경사진 상기 기판의 판면의 상하 방향의 복수개 부분을 지지하는 복수개의 지지 롤러,

를 구비하고,

상기 복수개의 지지 롤러는, 상기 기판을 경사 방향에 대하여 볼록하게 만곡시켜 지지하도록 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 반송 장치.
기판을 처리하는 처리 방법에 있어서,

실질적으로 수평 상태로 반송되어 온 기판을 소정의 경사 각도로 세운 상태로 변환하는 공정,

세운 상태에 변환된 기판을 반송하면서 소정의 처리를 행하는 공정, 및

소정의 처리가 행해진 기판을 세운 상태로부터 실질적으로 수평인 상태로 변환하는 공정,

을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 방법.
기판을 처리하는 처리 방법에 있어서,

기판을 세운 상태로 반송하는 공정, 및

세운 상태로 반송되는 기판의 판면에 아래쪽으로부터 위쪽을 향하여 처리액을 분사해 처리하는 공정,

을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 방법.
기판을 반송하는 반송 방법에 있어서,

기판을 소정의 경사 각도로 경사지게 하여 반송할 때에, 상기 기판을 경사 방향에 대하여 볼록하게 만곡시켜 반송하는 것을 특징으로 하는 기판의 반송 방법.