JP4280075B2 - 基板の処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は基板を処理液によって処理してから乾燥処理する場合に好適する基板の処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
【0003】
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが除去された部分をエッチングし、エッチング後にレジストを除去するなどの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
【0004】
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらに処理液としての洗浄液によって洗浄する工程があり、洗浄後には基板に付着残留した洗浄液を除去する乾燥工程が必要となる。
【0005】
従来、基板に対して上述した一連の処理を行う場合、上記基板は軸線を水平にして配置された搬送ローラによって水平な状態でそれぞれの処理チャンバに順次搬送し、そこで処理液によって処理したり、圧縮気体を噴射して乾燥処理するようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなるため、各処理チャンバでの処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということが生じる。
【0007】
基板が大型化すると、その基板を搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸が長尺化する。しかも、基板が大型化することで、基板上に供給される処理液が増大し、基板上の処理液の量に応じて上記搬送軸に加わる荷重が大きくなるから、それらのことによって搬送軸の撓みが増大する。そのため、基板は搬送軸が撓むことによっても撓みが生じ、均一な処理が行えなくなるということがある。
【0008】
この発明は基板に撓みが生じ難いようにして基板を搬送することができるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
この発明は、基板を処理する処理装置において、
処理ステーションと、
この処理ステーションの側面に設けられ上記基板を立位状態で搬送する搬送手段と、
上記処理ステーションの側面を上記搬送手段によって立位状態で搬送される上記基板に所定の処理を行う処理手段を具備し、
上記処理ステーションは、一側面と他側面とに上記搬送手段が設けられた固定ステーションと、この固定ステーションの一端側に回転可能に配置され一側面と他側面とに上記搬送手段が設けられているとともに回転駆動されることで上記固定ステーションから受け渡された上記基板の搬送方向を逆方向に反転させる回転ステーションとからなることを特徴とする基板の処理装置にある。
【0010】
上記搬送手段は、上記基板を70〜85度の角度で傾斜させて搬送する構成であることが好ましい。
【0012】
上記固定ステーションの他端側には、この固定ステーションの一側面に未処理の基板を供給するローダ部と、上記処理ステーションで処理され上記固定ステーションの他側面の他端側に搬送される基板を受けるアンローダ部とが設けられていることが好ましい。
【0013】
上記搬送手段は、上記処理ステーションの側面の下端部に回転軸線をほぼ水平にして設けられ上記基板の下端を受けてこの基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、上記処理ステーションの側面の上記駆動ローラよりも上方に回転軸線をほぼ垂直にして設けられ下端が上記駆動ローラによって支持された上記基板の側面を所定の傾斜角度で支持する受けローラとを備えていることが好ましい。
【0014】
上記処理手段は、上記基板の搬送方向と直交する方向に対して所定の角度で傾斜していることが好ましい。
【0019】
この発明によれば、基板を立位状態で搬送するため、水平状態で搬送する場合に比べて基板に生じる撓みを低減することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。
【0021】
図1はこの発明の一実施の形態に係る処理装置を示し、この処理装置は基台1を備えている。この基台1の上面の長手方向一端部には幅方向に離間してローダ部2とアンローダ部3とが設けられている。ローダ部2とアンローダ部3とは矩形板状の受け部材4を有し、この受け部材4は下端部を支点として矢印で示す基台1の幅方向に沿って揺動駆動可能となっている。
【0022】
ローダ部2とアンローダ部3との一側面(ローダ部2のみ図示)の下端部には複数の下部受けローラ5が所定間隔で設けられ、上端部には複数の上部受けローラ6が所定間隔で設けられている。下部受けローラ5は図示しない駆動源によって回転駆動されるようになっている。
【0023】
上記ローダ部2には未処理の基板Wが図示しない供給部から立位状態で供給される。ローダ部2に供給された基板Wは下端が下部受けローラ5に係合支持され、上端が上部受けローラ6に係合支持される。そして、未処理の基板Wは下部受けローラ5が所定方向に回転駆動されることで、後述する処理ステーションに供給される。
【0024】
上記処理ステーションで処理された基板Wは上記アンローダ部3に搬出される。アンローダ部3に搬出された基板Wは下端が下部受けローラ5に係合支持され、上端が上部受けローラ6に係合支持される。
【0025】
上記基台1のローダ部2とアンローダ部3を除く部分はカバー7によって覆われている。このカバー7内には、基台1の長手方向に沿って処理ステーションとしての固定ステーション8と、同じく処理ステーションとしての回転ステーション9とが一列に順次設けられている。
【0026】
上記固定ステーション8と回転ステーション9との一側面と他側面にはそれぞれ搬送手段10が設けられている。この搬送手段10は各ステーション8,9の下端部に幅方向に沿って所定間隔で設けられた駆動ローラ13を有する。この駆動ローラ13は駆動源12によって回転駆動される。各駆動ローラ13の上方にそれぞれ上下方向に沿って所定間隔で設けられた複数、この実施の形態では3つの受けローラ14とからなる。
【0027】
上記駆動ローラ13は外周面にV溝が形成されているとともに回転軸線を水平にして設けられ、上記受けローラ14は回転軸線を垂直にして設けられている。
【0028】
上下方向に位置する3つの受けローラ14はそれぞれ各ステーション8,9の側面に突設された取付部材15の先端部に設けられている。上下方向に沿って設けられた3つの受けローラ14は上方に行くにつれてステーション8,9の側面からの突出距離が小さくなるよう設定されている。
【0029】
それによって、上記ローダ部2から上記固定ステーション8の一側面に供給される基板Wは、下端が駆動ローラ13のV溝に係合し、一側面が上記受けローラ14に支持されることで、上端が下端よりも各ステーション8,9の側面側に所定の角度で傾斜した状態で上記駆動ローラ13によって搬送される。
【0030】
上下方向に位置する3つの受けローラ14は、下端が駆動ローラ13に支持された基板Wを70〜85度の角度で傾斜させて保持するよう、各ステーション8,9の側面からの突出距離が設定されている。基板Wを70〜85度の角度で傾斜させると、傾斜方向と逆方向に倒れることなく安定した状態で搬送することが可能となる。しかも、基板Wは、水平に搬送される場合のように自重によって撓むのが防止される。
【0031】
上記ローダ部2から固定ステーション8の一側面の搬送手段10に基板Wを供給する場合、ローダ部2の受け部材4を固定ステーション8に保持される基板Wの傾斜角度と同じ角度で傾斜させることで、ローダ部2から固定ステーション8の一側面に基板Wを円滑に供給することができる。
【0032】
同様に、固定ステーション8の他側面からアンローダ部3に基板Wを搬出する場合、このアンローダ部3の受け部材4を基板Wと同じ角度で傾斜させておけば、上記固定ステーション8の他側面から上記アンローダ部3へ基板Wを円滑に受け渡すことができる。
【0033】
上記固定ステーション8の一側面には、処理手段としてそれぞれ2組のブラシ洗浄部17とシャワー洗浄部18とが設けられ、上記回転ステーション9の一側面と他側面とにはそれぞれ処理手段としての乾燥処理部19(一方のみ図示)が設けられている。
【0034】
上記ブラシ洗浄部17は図2に示すように無端状をなした第1のベルトブラシ21と第2のベルトブラシ22とを有する。各ベルトブラシ21,22はベルトの表面に多数のブラシ毛が植設されてなる。各ベルトブラシ21,22は基板Wの搬送方向と直交する、基板Wの上下方向に沿って所定間隔で配置された複数のガイドローラ23に張設されている。つまり、複数のガイドローラ23は回転軸線を平行にして基板Wの上下方向に所定間隔で配置されている。
【0035】
複数のガイドローラ23は図示しない保持板によって一体的に保持されている。最下端に位置するガイドローラ23の一端には従動プーリ24が設けられ、この従動プーリ24と駆動源25に設けられた駆動プーリ26とにはベルト27が張設されている。したがって、駆動源25が作動して最下端のガイドローラ23が回転駆動されれば、第1、第2のベルトブラシ21,22がガイドローラ23に沿って走行駆動されるようになっている。
【0036】
第1のベルトブラシ21は所定の角度で傾斜した基板Wの一側面に接触して走行し、第2のベルトブラシ22は基板Wの他側面で、上記第1のベルトブラシ21と対応する部位に接触して走行する。この実施の形態では第1のベルトブラシ21と第2のベルトブラシ22は図2に矢印で示すように逆方向に走行駆動されるようになっている。
【0037】
基板Wと第1、第2のベルトブラシ21,22との接触部分には図示しない供給ノズルによって処理液としての洗浄液が供給される。それによって、基板Wの一側面と他側面とが上記ベルトブラシ21,22によって洗浄処理される。
【0038】
各ベルトブラシ21,22はそれぞれ基板Wの上下方向に沿って所定間隔で配置された複数のガイドローラ23に沿って走行する。そのため、上記ガイドローラ23によってベルトブラシ21,22を基板Wの板面の上下方向にほぼ均一な圧力で接触させることができるから、基板Wの板面を均一に洗浄することが可能となる。
【0039】
基板Wは70〜85度の角度で傾斜した立位状態で搬送されるため、自重によって撓みが生じることがほとんどない。そのため、そのことによっても、第1、第2のベルトブラシ21,22を基板Wの板面に均一な圧力で接触させることができるから、均一な洗浄が可能となる。
【0040】
2組のブラシ洗浄部17でブラシ洗浄された基板Wは2組の上記シャワー洗浄部18で洗浄処理される。このシャワー洗浄部18は図3と図4に示すように本体部26を有する。この本体部26は一対の帯板部材27が長手方向両端部に設けられたスペーサ28を介して積層されている。それによって、一対の帯板部材27間には上記基板Wが通過可能な間隙部29が形成されている。間隙部29の寸法はできるだけ狭い方が好ましく、この実施の形態ではたとえば上記基板Wの厚さ寸法の数倍程度に設定されている。
【0041】
上記一対の帯板部材27には、搬送される基板Wの高さ方向下方に向かって所定の角度で傾斜した複数のスリット31が上下方向に所定間隔で形成されている。このスリット31は、一端を上記間隙部29に開口し、他端を上記帯状部材27の外面に開口している。スリット31の長さ寸法は、上記帯状部材27の幅寸法よりもわずかに小さく設定されている。
【0042】
一対の帯状部材27の外面にはそれぞれカバー部材32が設けられている。このカバー部材32の内面には凹部によってチャンバ33が形成されている。このチャンバ33は、上記帯状部材27の外面に開口した上記複数のスリット31の他端に対向している。
【0043】
上記カバー部材32には処理液としての洗浄液を上記チャンバ33内に供給する複数の供給口34が上下方向に沿って所定間隔で形成されている。各供給口34に図3に鎖線で示す洗浄液の供給管35が接続されている。供給管35から供給される洗浄液は上記チャンバ33に流入し、このチャンバ33から上記スリット31を通って一対の帯状部材27間に形成された間隙部29に向かって噴射する。上記間隙部29には基板Wが通過する。それによって、洗浄液は基板Wの一側面と他側面に向かって噴射され、図4に矢印で示すように基板Wの上方から下方に向かって流れるから、この基板Wの両側面が洗浄されることになる。
【0044】
一般に、基板Wの板面上における洗浄液の流速分布は、基板Wの板面の摩擦抵抗によって基板Wの表面よりも、表面から離れた位置の方が速くなる。そのため、基板Wの表面における洗浄液の流速を大きくし、基板Wの表面の汚れを除去するためには、洗浄液の流量と流速とを上げなければならない。仮に洗浄液の流量と流速を上げても、基板Wの表面に供給された洗浄液はその表面から逃げる方向に流れ易いから、基板Wの表面での洗浄液の流速を十分に上げることが難しい。
【0045】
上記構成のシャワー洗浄部18では、基板Wが通過する上記間隙部29の寸法を、基板Wの厚さ寸法の数倍程度に狭くし、この間隙部29に開口したスリット31から洗浄液を基板Wに向けて噴射するようにした。
【0046】
そのため、スリット31から噴射された洗浄液は、基板Wの表面から離れる方向に逃げることができないから、噴射時の流速で基板Wの表面に沿って流れることになる。つまり、スリット31から噴射された洗浄液は、強制的に基板Wの表面に沿って流されることになるから、基板Wの表面における洗浄液の流速を速くすることができる。したがって、洗浄液の流量を増大させずに、基板Wの板面に沿って流れる洗浄液の流速を上げ、洗浄効果を高めることができる。
【0047】
上記乾燥処理部19は、図5に示すように搬送される基板Wの一側面と他側面とに近接して配置された一対のエアーナイフ38からなる。このエアーナイフ38は図6に示すように本体部39を有する。この本体部39は搬送される基板Wの上下方向の高さ寸法よりも長尺な第1の帯板部材41を有する。この第1の帯板部材41には幅方向に沿う複数のスリット42が上下方向(長手方向)に所定間隔で穿設されている。各スリット42は基板Wの上下方向下方に向かって傾斜し、さらに基板Wの搬送方向後方に向かって傾斜している。
【0048】
上記第1の帯状部材41の一側面には第2の帯状部材43が気密に積層される。この第2の帯状部材43には、上記第1の帯状部材41に形成されたスリット42と対応する位置に、このスリット42よりも広幅な分配溝44が穿設されている。
【0049】
上記第2の帯状部材43にはカバー部材45が気密に積層固定されている。このカバー部材45の上記第2の帯状部材43に対向する面には凹部からなるチャンバ46が形成されている。第2の帯状部材43には、図5に示すように上記チャンバ46に連通する複数の供給口47が長手方向に所定間隔で穿設されている。この供給口47には同図に鎖線で示す給気管48が接続されている。この給気管48には清浄な空気や不活性ガスなどの加圧気体が供給される。
【0050】
それによって、一対のエアーナイフ38のスリット42からは、図5に矢印Bで示すように搬送される基板Wの一側面と他側面とに向けて加圧気体が基板Wの上下方向下方で、搬送方向後方に向けて噴射される。
【0051】
複数のスリット42を、第1の帯状部材41の長手方向に沿って所定間隔で、かつ所定の角度で傾斜させて形成することで、基板Wの上下方向全長にわたって圧縮気体を噴射させることができるようにした。そのため、一本当たりのスリット42の長さ寸法を、基板Wの上下方向の長さ寸法に比べて十分に小さくすることができるため、各スリット42のギャップ、つまり開口幅寸法を全長にわたって均一に加工することが可能となる。
【0052】
各スリット42のギャップが均一であれば、これらスリット42から基板Wの側面に圧縮気体を均一な流量で噴射することができるから、基板Wの乾燥処理を板面全体にわたって均一に行うことが可能となる。
【0053】
つまり、従来のエアーナイフは基板Wの寸法と同等以上の長さの一本のスリットが形成された構造になっていた。そのため、基板Wの大型化にともなってスリットも長尺化することになる。
【0054】
エアーナイフに、長尺なスリットを全長にわたって均一なギャップで加工することは極めて困難となる。そのため、スリットのギャップの寸法精度が低下し、それに応じてスリットから基板Wの全長にわたって圧縮気体を均一に噴射することができないということが生じる。その結果、基板Wを均一に乾燥処理することができないということがあった。
【0055】
しかしながら、上述したように、第1の帯状部材41の幅方向に沿うスリット42を、上下方向に所定間隔で形成するようにしたことで、一本当たりのスリット42を短くすることができる。そのため、各スリット42のギャップを所定の精度で均一に加工することが可能となるから、基板Wの乾燥処理を全面にわたって均一に行うことができるエアーナイフ38を提供できる。
【0056】
つぎに、上記構成の処理装置によって基板を洗浄処理する場合について説明する。未処理の基板Wが図示せぬロボットなどによってローダ部2に供給されると、このローダ部2の受け部材4が所定の角度に傾斜し、下部受けローラ5が回転して基板Wを固定ステーション8の一側面に設けられた搬送手段10に受け渡す。搬送手段10に受け渡された基板Wは、立位状態である、70〜85度の傾斜角度で保持され、下端が係合した駆動ローラ13によって搬送される。
【0057】
基板Wの搬送方向に沿う固定ステーション8の一端部には一対のブラシ洗浄部17が設けられている。したがって、基板Wは一対のブラシ洗浄部17で一側面と他側面とがブラシ洗浄される。
【0058】
基板Wがブラシ洗浄される際、基板Wは上述したように立位状態で搬送されるため、基板Wに自重による撓みが生じることがほとんどない。そのため、基板Wの一側面と他側面とには無端走行する第1のベルトブラシ21と第2のベルトブラシ22とが上下方向全長にわたって均一に接触するから、基板Wの一側面と他側面とを均一に洗浄することができる。
【0059】
第1、第2のベルトブラシ21,22は基板Wの高さ方向に所定間隔で配置された複数のガイドローラ23に沿って無端走行する。そのため、無端走行する各ベルトブラシ21,22は上記ガイドローラ23にガイドされることで、走行時に波打つのが制限されるから、そのことによっても基板Wの全面を均一にブラシ洗浄することが可能となる。
【0060】
ブラシ洗浄部17でブラシ洗浄された基板Wはシャワー洗浄部18に搬送される。シャワー洗浄部18の本体部26は基板Wが通過する間隙部29が形成され、この間隙部29を通過する際に基板Wの一側面と他側面とに洗浄液が噴射される。
【0061】
上記間隙部29は基板Wの厚さ寸法の数倍程度の狭い間隔に設定されている。そのため、間隙部29に開口したスリット31から基板Wの一側面と他側面とに噴射された洗浄液は、基板Wの板面から離れる方向にほとんど逃げることができないため、噴射速度に応じた高速度で基板Wの板面を流れる。つまり、間隙部29を狭くしたことで、洗浄液の流量や噴射速度を増大させなくとも、基板Wの板面における洗浄液の流速を確保することができる。それによって、洗浄液の使用量を増大させずに、洗浄効果を得ることが可能となる。
【0062】
シャワー洗浄部18において、基板Wが立位状態で、しかも基板Wの一側面と他側面との対応する部位が同時に処理されるため、基板Wが自重や板面に噴射される洗浄液の圧力で撓むのが防止される。そのため、基板Wの一側面と他側面との全面に洗浄液を均一に作用させることができるから、それに応じて洗浄も均一に行うことができる。
【0063】
シャワー洗浄部18で洗浄された基板Wは回転ステーション8の一側面の搬送手段10に受け渡される。この回転ステーション8の一側面には乾燥処理部19を構成するエアーナイフ38が基板Wの一側面と他側面とに対向するよう設けられている。
【0064】
そのため、基板Wが固定ステーション8の一側面から回転ステーション9の一側面に受け渡されて搬送されることで、この基板Wの一側面と他側面とがエアーナイフ38のスリット42から噴射される圧縮気体によって乾燥処理されることになる。
【0065】
エアーナイフ38の第1の帯状部材41には、幅方向に沿うとともに上下方向に所定間隔で複数の上記スリット42を形成するようにしたから、各スリット42を基板Wの上下方向の高さ寸法に比べて十分に短くしても、基板Wの上下方向全長を乾燥処理することができる。
【0066】
スリット42の長さ寸法を基板Wの高さ寸法に比べて十分に短くすることができることで、スリット42のギャップを全長にわたって高精度に加工することが可能となる。そのため、各スリット42から圧縮気体を均一な圧力で噴射することができるから、それに応じて基板Wの乾燥処理を均一に行うことができる。
【0067】
乾燥処理部19で基板Wの乾燥処理が終了すると、回転ステーション9が図1に矢印Xで示す方向に180度回転し、その一側面が固定ステーションの他側面と一列に並ぶ。ついで、基板Wは搬送手段10によって回転ステーション9の一側面から固定ステーション8の他側面に搬送され、その他側面の末端からアンローダ部3に受け渡され、アンローダ部3から図示しないロボットなどによって取り出され、次工程に搬送される。
【0068】
このように、固定ステーション8及びこの固定ステーション8で処理された基板を受けてさらにその基板Wに対して処理を行う回転ステーション9を設け、回転ステーション9での処理が終了したならば、この回転ステーション9を180度回転させて基板Wの搬送方向を逆方向に変換するようにしたことで、基板Wを一方向に搬送する場合に比べて処理装置の長さ寸法を短くすることができる。つまり、処理装置を小型化することが可能となる。
【0069】
回転ステーション9の一側面と他側面とに同じ処理手段としての乾燥処理部19を設けるようにしたから、基板Wの搬送方向を変換するために、回転ステーション9を180度回転させた後、この回転ステーション9を元の状態に戻さなくても、つぎの基板Wを処理することが可能となる。
【0070】
なお、上記一実施の形態では固定ステーション8の他側面は基板Wを搬送するためだけに利用しているが、その他側面にも処理手段を設けるようにしてもよい。
【0071】
また、回転ステーション9の一側面と他側面とに同じ処理手段を設けるようにしたが、一側面だけに処理手段を設け、この一側面の処理手段で処理された基板を固定ステーション8の他側面に受け渡した後、上記回転ステーション9を逆方向に180度回転させて元の状態に戻すようにしてもよい。
【0072】
また、搬送手段としては駆動ローラ13に限られず、無端駆動されるベルトコンベアであってもよい。ベルトコンベアを用いる場合、処理手段であるブラシ洗浄部17のベルトブラシ21,22、シャワー洗浄部18の本体部26及び乾燥処理部19のエアーナイフ38の下端部が基板Wの下端よりも下方へ突出するから、1つのベルトコンベアを基板Wの搬送路全長にわたって設けることはできない。
【0073】
したがって、ベルトコンベアを、ブラシ洗浄部17のベルトブラシ21,22、シャワー洗浄部18の本体部26及び乾燥処理部19のエアーナイフ38が基板Wの下端よりもコア方へ突出した部分で分割すればよい。つまり、処理手段が基板Wの下端よりの下方へ突出していても、コンベアを複数に分割することで、基板をベルトコンベアによって搬送することが可能となる。
【0074】
図7はこの発明の他の実施の形態を示す。この実施の形態はシャワー洗浄部18の変形例であって、シャワー洗浄部18の本体部26を、基板Wの搬送方向に直交する垂線に対し、基板Wの搬送方向後方に所定の角度θ、たとえば5〜30度或いはそれ以上の角度で傾斜させるようにした。つまり、上記本体部26は上端が下端よりも基板Wの搬送方向後方に位置するよう傾斜している。
【0075】
このように、シャワー洗浄部18の本体部26を傾斜させると、本体部26の上方に位置するスリット31から基板Wの板面に噴射された洗浄液は、基板Wが挿入された間隙部29に沿って下方に落下せず、間隙部29から傾斜方向後方である、垂直方向に流出落下する。
【0076】
そのため、本体部26の上方に位置するスリット31から噴射された洗浄液が、下方に位置するスリット31から噴射された洗浄液に干渉するのが防止されるから、各スリット31から基板Wの板面に向けて洗浄液を所定の吐出力で噴射させることができる。
【0077】
シャワー洗浄部18に限られず、ブラシ洗浄部17のベルトブラシ21,22や乾燥処理部19のエアーナイフ38も同様に傾斜させるようにしてもよい。ベルトブラシ21,22を傾斜させれば、搬送される基板Wは一対のベルトブラシ21,22間に上端部から徐々に全長が入り込み、搬送方向の前端の上下方向全長が同時に入り込むことがない。そのため、基板Wが一対のベルトブラシ21,22間に入り込み易いということがある。
【0078】
なお、ブラシ洗浄部17、シャワー洗浄部18及び乾燥処理部19を、基板Wの搬送方向後方に向けて傾斜させず、前方に向けて傾斜させるようにしてもよい。
【0079】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、基板を立位状態で搬送するため、水平状態で搬送する場合に比べて基板に生じる撓みを低減することができる。そのため、基板に対する種々の処理を均一に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施の形態に係る処理装置の概略的構成を示す斜視図。
【図2】ブラシ洗浄部の斜視図。
【図3】シャワー洗浄部の斜視図。
【図4】シャワー洗浄部の一部分の断面図。
【図5】乾燥処理部の一部破断した斜視図。
【図6】乾燥処理部の一部分を示す分解斜視図。
【図7】この発明の他の実施の形態を示すシャワー洗浄部の斜視図。
【符号の説明】
2…ローダ部、3…アンローダ部、8…固定ステーション(処理ステーション)、9…回転ステーション(処理ステーション)、10…搬送手段、13…駆動ローラ、14…受けローラ、17…ブラシ洗浄部、18…シャワー洗浄部、19…乾燥処理部、21,22…ベルトブラシ、29…間隙部、31…スリット、33…チャンバ、38…エアーナイフ、42…スリット。
Claims (5)
- 基板を処理する処理装置において、
処理ステーションと、
この処理ステーションの側面に設けられ上記基板を立位状態で搬送する搬送手段と、
上記処理ステーションの側面を上記搬送手段によって立位状態で搬送される上記基板に所定の処理を行う処理手段を具備し、
上記処理ステーションは、一側面と他側面とに上記搬送手段が設けられた固定ステーションと、この固定ステーションの一端側に回転可能に配置され一側面と他側面とに上記搬送手段が設けられているとともに回転駆動されることで上記固定ステーションから受け渡された上記基板の搬送方向を逆方向に反転させる回転ステーションとからなることを特徴とする基板の処理装置。 - 上記搬送手段は、上記基板を70〜85度の角度で傾斜させて搬送する構成であることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記固定ステーションの他端側には、この固定ステーションの一側面に未処理の基板を供給するローダ部と、上記処理ステーションで処理され上記固定ステーションの他側面の他端側に搬送される基板を受けるアンローダ部とが設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記搬送手段は、上記処理ステーションの側面の下端部に回転軸線をほぼ水平にして設けられ上記基板の下端を受けてこの基板を所定方向に搬送する駆動ローラと、上記処理ステーションの側面の上記駆動ローラよりも上方に回転軸線をほぼ垂直にして設けられ下端が上記駆動ローラによって支持された上記基板の側面を所定の傾斜角度で支持する受けローラとを備えていることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記処理手段は、上記基板の搬送方向と直交する方向に対して所定の角度で傾斜していることを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
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