JPS6028385B2 - 洗浄乾燥装置 - Google Patents
洗浄乾燥装置Info
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- JPS6028385B2 JPS6028385B2 JP55054870A JP5487080A JPS6028385B2 JP S6028385 B2 JPS6028385 B2 JP S6028385B2 JP 55054870 A JP55054870 A JP 55054870A JP 5487080 A JP5487080 A JP 5487080A JP S6028385 B2 JPS6028385 B2 JP S6028385B2
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- Japan
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- cleaning
- washing
- drying
- belt
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
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- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体製造用フオツトマスク等の洗浄乾燥装置
に関する。
に関する。
従釆、半導体製造用フオツトマスク、レチクル、及びウ
ェハー等の洗浄乾燥装置として、第１図に示す如く中心
部にノズル４を垂下させた円筒容器１内底部にモーター
２によって駆動するターンテーブル３を配設し、該ター
ンテーブル３周縁部にゥェハー等のプレート５を雛接さ
せて層状に収容したカートリッジを配設固定した後、タ
ーンテー３を底遠回転させながらノズル４より洗浄液（
又は純水）を噴射させて洗浄を行ない、その後ターンテ
ーブル３を高速回転させ、遠心力によりプレート５に付
着した洗浄液を飛散除去させる、いわゆるバッチ方式の
洗浄乾燥装置が存在するが、かかる装置にあってはブラ
ッシング等の前工程を接続させた一貫した自動化を行な
う事が困難であり、又洗浄乾燥を各別に行なわれなけれ
ばならない為処理に時間がかかり、更にカートリッジを
取外す際容器内に残留していた洗浄液が付着し易い等の
種々の欠点を有していた。
ェハー等の洗浄乾燥装置として、第１図に示す如く中心
部にノズル４を垂下させた円筒容器１内底部にモーター
２によって駆動するターンテーブル３を配設し、該ター
ンテーブル３周縁部にゥェハー等のプレート５を雛接さ
せて層状に収容したカートリッジを配設固定した後、タ
ーンテー３を底遠回転させながらノズル４より洗浄液（
又は純水）を噴射させて洗浄を行ない、その後ターンテ
ーブル３を高速回転させ、遠心力によりプレート５に付
着した洗浄液を飛散除去させる、いわゆるバッチ方式の
洗浄乾燥装置が存在するが、かかる装置にあってはブラ
ッシング等の前工程を接続させた一貫した自動化を行な
う事が困難であり、又洗浄乾燥を各別に行なわれなけれ
ばならない為処理に時間がかかり、更にカートリッジを
取外す際容器内に残留していた洗浄液が付着し易い等の
種々の欠点を有していた。
かかる欠点を解消する為、Ｖ字形状の支持部材をプレー
トの上下又は左右両端部に押圧当緩させて談支持部材全
体を搬送をさせながら洗浄乾燥を行なう装置が提案され
ているが、かかる装置にあっては前記支持部材の端部が
プレート洗浄面の緑部まで延伸されている為洗浄面全面
のブラッシングが困難であり、又ウェハー等の薄板状プ
レートにあっては上下又は左右両端部よりの接触圧によ
って曲げ応力が働き、ひずみ破損等の事故が生じ易い。
トの上下又は左右両端部に押圧当緩させて談支持部材全
体を搬送をさせながら洗浄乾燥を行なう装置が提案され
ているが、かかる装置にあっては前記支持部材の端部が
プレート洗浄面の緑部まで延伸されている為洗浄面全面
のブラッシングが困難であり、又ウェハー等の薄板状プ
レートにあっては上下又は左右両端部よりの接触圧によ
って曲げ応力が働き、ひずみ破損等の事故が生じ易い。
本発嬢はかかる従釆技術の欠点を解消する事を目的とし
て発明されるもので、その特徴とする所は半導体製造用
フオットマスク、レチクル、ウェハー等のプレートを搬
送させながら洗浄乾燥を行なう装置において前記プレー
トを搬送するコンペアーベルト上に搬送方向と直交する
如くＶ形状の溝部を形成すると共に、前記溝部に直立さ
せたプレートの上部両側に平行に一対のガイド部村を配
設し、更に該ガイド部材のプレートと向き合う側に互い
に対向する如く噴出孔を形成した事にある。以下図面に
基づいて本発明を説明する。
て発明されるもので、その特徴とする所は半導体製造用
フオットマスク、レチクル、ウェハー等のプレートを搬
送させながら洗浄乾燥を行なう装置において前記プレー
トを搬送するコンペアーベルト上に搬送方向と直交する
如くＶ形状の溝部を形成すると共に、前記溝部に直立さ
せたプレートの上部両側に平行に一対のガイド部村を配
設し、更に該ガイド部材のプレートと向き合う側に互い
に対向する如く噴出孔を形成した事にある。以下図面に
基づいて本発明を説明する。
第２図乃至第３図は本発明の実施例に係る洗浄乾燥装置
で、第２図は正面図、第３図は平面図である。
で、第２図は正面図、第３図は平面図である。
本装置は、未洗浄のプレート１１例えばフオツトマスク
を収容するカートリッジ１２を図上右側に、又洗浄済の
プレート１１′を収納するカートリッジ１２′を左側に
配し、その間にベルトコンペァー１３ａと水を噴出させ
る一対のガイド部材１４ａからなる搬送機構１５ａ、ブ
ラッシング機構１６、前記と同様に構成された搬送機構
１５ｂ、シャワーノズル機構１７、及びベルトコンペア
ー１３ｃ，１３ｄと清浄空気を噴出させる各一対のガイ
ド部村１４ｃ，１４ｄよりなる２蓮の乾燥兼用の搬送機
構１５ｃ，１５ｄを直列に配設する。
を収容するカートリッジ１２を図上右側に、又洗浄済の
プレート１１′を収納するカートリッジ１２′を左側に
配し、その間にベルトコンペァー１３ａと水を噴出させ
る一対のガイド部材１４ａからなる搬送機構１５ａ、ブ
ラッシング機構１６、前記と同様に構成された搬送機構
１５ｂ、シャワーノズル機構１７、及びベルトコンペア
ー１３ｃ，１３ｄと清浄空気を噴出させる各一対のガイ
ド部村１４ｃ，１４ｄよりなる２蓮の乾燥兼用の搬送機
構１５ｃ，１５ｄを直列に配設する。
又、前記ガイド部材１４・・・，１４′・・・、ブラッ
シング機構１６，１６′、シャワーノズル機構１７，１
７′は各々プレート搬送径路Ａ−Ａ′の両側に互いに対
向させて対称に配設されている。カートリッジ１２は、
第５図に示す如く、断面略菱形状の複数の回転体２１を
芯棒２２に回転可能に貴挿された支持部材２３と一対の
方形の枠体２４と丸棒状の止め軸２５とより成り、前記
枠体２４を平行に直立させてその間に枠体２４と直交す
る如く上下両側に各３本の支持部材２３を平行に架設す
る。又前記止め軸２５は枠体２４の左右−側に上下に離
接させて架設する。尚、支持部材２３間の間隙はプレー
ト１１の高さによって決定する。そしてかかるカートリ
ッジ１２は各々装置両側に配設され、未洗浄の又洗浄済
のプレートを収容するカートリッジ１２，１２′として
使用される。未洗浄のプレート１１を収容する力」トリ
ッジ１２は間欠移動機構２０と連結された基板２６上に
配設されている。
シング機構１６，１６′、シャワーノズル機構１７，１
７′は各々プレート搬送径路Ａ−Ａ′の両側に互いに対
向させて対称に配設されている。カートリッジ１２は、
第５図に示す如く、断面略菱形状の複数の回転体２１を
芯棒２２に回転可能に貴挿された支持部材２３と一対の
方形の枠体２４と丸棒状の止め軸２５とより成り、前記
枠体２４を平行に直立させてその間に枠体２４と直交す
る如く上下両側に各３本の支持部材２３を平行に架設す
る。又前記止め軸２５は枠体２４の左右−側に上下に離
接させて架設する。尚、支持部材２３間の間隙はプレー
ト１１の高さによって決定する。そしてかかるカートリ
ッジ１２は各々装置両側に配設され、未洗浄の又洗浄済
のプレートを収容するカートリッジ１２，１２′として
使用される。未洗浄のプレート１１を収容する力」トリ
ッジ１２は間欠移動機構２０と連結された基板２６上に
配設されている。
間欠移動機構２０は駆動部２７と摺動軸２８とより成り
、押し出し機構との脇動作用によりカート１」Ｊッジ１
２の位置をずらしながらプレート１１を順次ベルトコン
ペアー１３ａ上に押し出すよう横成される。押し出し機
構１８は先端をＶ溝状に形成した押し出し棒２９とりン
ク３０を介して該押し出し棒２９を往復動させる駆動部
３１より成る。一方洗浄済のカートリッジ１２′も同様
に間欠移動機構２０′と連結された基板２６上に配設さ
れ、間欠移動機構２０′と回動機横１９との脇動作用に
よりベルトコンペアー１３・・・上を搬送されながら洗
浄乾燥されたプレート１１′を順次カートリッジ１２′
内に収容する。
、押し出し機構との脇動作用によりカート１」Ｊッジ１
２の位置をずらしながらプレート１１を順次ベルトコン
ペアー１３ａ上に押し出すよう横成される。押し出し機
構１８は先端をＶ溝状に形成した押し出し棒２９とりン
ク３０を介して該押し出し棒２９を往復動させる駆動部
３１より成る。一方洗浄済のカートリッジ１２′も同様
に間欠移動機構２０′と連結された基板２６上に配設さ
れ、間欠移動機構２０′と回動機横１９との脇動作用に
よりベルトコンペアー１３・・・上を搬送されながら洗
浄乾燥されたプレート１１′を順次カートリッジ１２′
内に収容する。
回動機横１７は回動棒３２と支点３３を介して該回動棒
３２を回動させる駆動部３４より成る。搬送中のプレー
ト１１上部両側に配設されたガイド部材１４・・・は中
空円筒状をなし、互いに対向する側に流体噴出孔３５を
横−列に配設し、又反対側に流体供給管３６を取付け、
流体供給管３６より導かれた流体が噴出孔３５よりプレ
ート１１へ向け噴出されるよう構成される。
３２を回動させる駆動部３４より成る。搬送中のプレー
ト１１上部両側に配設されたガイド部材１４・・・は中
空円筒状をなし、互いに対向する側に流体噴出孔３５を
横−列に配設し、又反対側に流体供給管３６を取付け、
流体供給管３６より導かれた流体が噴出孔３５よりプレ
ート１１へ向け噴出されるよう構成される。
尚、ガイド部村１４ａ，１４ｂには純水が、又ガイド部
材１４ｃ，１４ｄには清浄空気が供給されている。前記
ガイド部材１４・・・の下方には搬送面がプレート１１
下端面延長線と一致する如く配設されたベルトコンベア
−１３…は、第４図に示す如く、ベルト３７上面に搬送
方向と直交する如く矩形状の段付部３８を形成すると共
に該段付部３８の略中央、即ちプレート搬送径路Ａ−Ａ
上にＶ形溝３９を形成する。ベルトコンペアー１３ａと
１３ｂの間には一対のブラッシング機構１６が配設され
ており、該機構１６は互いに対向する如く回転ブラシ４
０が縦一列に取付けられており、該ブラシ４０奥部より
洗浄液を供給しながらプレート１ １のブラッシングを
なす。
材１４ｃ，１４ｄには清浄空気が供給されている。前記
ガイド部材１４・・・の下方には搬送面がプレート１１
下端面延長線と一致する如く配設されたベルトコンベア
−１３…は、第４図に示す如く、ベルト３７上面に搬送
方向と直交する如く矩形状の段付部３８を形成すると共
に該段付部３８の略中央、即ちプレート搬送径路Ａ−Ａ
上にＶ形溝３９を形成する。ベルトコンペアー１３ａと
１３ｂの間には一対のブラッシング機構１６が配設され
ており、該機構１６は互いに対向する如く回転ブラシ４
０が縦一列に取付けられており、該ブラシ４０奥部より
洗浄液を供給しながらプレート１ １のブラッシングを
なす。
ベルトコンペアー１３ｂと１３ｃの間には一対のシャワ
ーノズル機構１７が配設されており、該機構は互いに対
向するノズル４１が縦−列に取付けられており、下方に
連結された駆動部４２により上下方向に往復動をしなが
らノズル４１より純水を噴出しプレート１１の洗浄を行
なう。
ーノズル機構１７が配設されており、該機構は互いに対
向するノズル４１が縦−列に取付けられており、下方に
連結された駆動部４２により上下方向に往復動をしなが
らノズル４１より純水を噴出しプレート１１の洗浄を行
なう。
かかる構成による作用を説明すると、カートリッジ１２
に収容されているプレート１ １を押出し機構１８によ
りコンペアーベルト３７のＶ溝部３９に順次押し出す。
に収容されているプレート１ １を押出し機構１８によ
りコンペアーベルト３７のＶ溝部３９に順次押し出す。
この際プレート１１は、第５図に示されるように、上部
両側に配設されたガイド部材１４ａ，１‐４ｂより噴出
された水流によつて直立が維持され、従って該プレート
１１は底面綾部のみがベルト３７に接触するのみで洗浄
面をガイド部材１４ａ，１４ｂに接触させる事なく搬送
が行なわれる。そしてベルトコンペアー１３ａ，１３ｂ
上に搬送されながらプレート１１はブラッシング機構１
６とシャワーノズル機構１７によりブラッシングと洗浄
が行なわれる。この際前記機構１６，１７は各々ベルト
コンベア−１３ａ−１３ｂ−１３ｃ間の空隙部に配設さ
れている為洗浄面全面のブラッシングと洗浄が可能とな
る。シャワーノズル機構１７を通過したプレート１１は
ベルトコンペアー１３ｃ，１３ｄで搬送され且つガイド
部材１４ｃ，１４ｄより噴出される清浄空気によって直
立の維持と洗浄面表面に付着している純水等の除去乾燥
を行なう。そして洗浄乾燥の終了したプレート１１′は
回敷棒３２の回動によってカートリッジ１２′内に順次
収容される。カートリッジ１１は第５図に示す如く断面
菱形状の回転体２１を直列に賢菱した支持部材２３を上
下に平行に配設し、又止め軸２５を左右一側に上下に髄
接して配設した為、プレートの上下及び一側端面の数ケ
所のみが点接触されるのみで、洗浄面に何ら他の部材が
接触する事がなく良好な洗浄容器となり得る。
両側に配設されたガイド部材１４ａ，１‐４ｂより噴出
された水流によつて直立が維持され、従って該プレート
１１は底面綾部のみがベルト３７に接触するのみで洗浄
面をガイド部材１４ａ，１４ｂに接触させる事なく搬送
が行なわれる。そしてベルトコンペアー１３ａ，１３ｂ
上に搬送されながらプレート１１はブラッシング機構１
６とシャワーノズル機構１７によりブラッシングと洗浄
が行なわれる。この際前記機構１６，１７は各々ベルト
コンベア−１３ａ−１３ｂ−１３ｃ間の空隙部に配設さ
れている為洗浄面全面のブラッシングと洗浄が可能とな
る。シャワーノズル機構１７を通過したプレート１１は
ベルトコンペアー１３ｃ，１３ｄで搬送され且つガイド
部材１４ｃ，１４ｄより噴出される清浄空気によって直
立の維持と洗浄面表面に付着している純水等の除去乾燥
を行なう。そして洗浄乾燥の終了したプレート１１′は
回敷棒３２の回動によってカートリッジ１２′内に順次
収容される。カートリッジ１１は第５図に示す如く断面
菱形状の回転体２１を直列に賢菱した支持部材２３を上
下に平行に配設し、又止め軸２５を左右一側に上下に髄
接して配設した為、プレートの上下及び一側端面の数ケ
所のみが点接触されるのみで、洗浄面に何ら他の部材が
接触する事がなく良好な洗浄容器となり得る。
以上記載した如く本第１の発明においてはベルトコンベ
ア−の搬送面上に形成したＶ溝に直立させたプレートの
上部両側に、互いに対向するよう流体噴出孔を配設した
一対のガイド部材を配した為、洗浄面に接触する事なく
プレートを搬送する事が出来、又隣り合うベルトコンペ
アー間に互いに対向させて各一対のブラッシング機構や
シャワーノズル機構を配する事により洗浄面全面が一度
に洗浄する事が出釆、一貫した自動化工程の形成が可能
となり処理時間の大中短縮が可能となる。
ア−の搬送面上に形成したＶ溝に直立させたプレートの
上部両側に、互いに対向するよう流体噴出孔を配設した
一対のガイド部材を配した為、洗浄面に接触する事なく
プレートを搬送する事が出来、又隣り合うベルトコンペ
アー間に互いに対向させて各一対のブラッシング機構や
シャワーノズル機構を配する事により洗浄面全面が一度
に洗浄する事が出釆、一貫した自動化工程の形成が可能
となり処理時間の大中短縮が可能となる。
更にガイド部材の噴出孔より純水を噴出させる事により
予備洗浄が行なわれ、又、洗浄後において前記噴出孔よ
り清浄空気を噴射させる事により搬送と乾燥の両者を兼
用させる事が出来る。尚、前記噴出孔は横一列に小孔を
多数形成しても、又スリット状に形成しても良い。等の
種々の箸効を有す。
予備洗浄が行なわれ、又、洗浄後において前記噴出孔よ
り清浄空気を噴射させる事により搬送と乾燥の両者を兼
用させる事が出来る。尚、前記噴出孔は横一列に小孔を
多数形成しても、又スリット状に形成しても良い。等の
種々の箸効を有す。
第１図は従来の洗浄乾燥装置を示し、第２図乃至第３図
は第１及び第２発明の実施例に係る洗浄乾燥装置の全体
図で第２図は正面図、第３図は平面図である。 第４図乃至第５図は各々第１発明と第２発明の説明図を
示す。第１図 第４図 図 Ｎ 縦 図 の 舵 第５図
は第１及び第２発明の実施例に係る洗浄乾燥装置の全体
図で第２図は正面図、第３図は平面図である。 第４図乃至第５図は各々第１発明と第２発明の説明図を
示す。第１図 第４図 図 Ｎ 縦 図 の 舵 第５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 半導体製造用フオツトマスク、レチクル、ウエハー
等のプレートを搬送させながら洗浄乾燥を行なう装置に
おいて、前記プレートを搬送するコンベアーベルト上に
搬送方向と直交する如くＶ形状の溝部を形成すると共に
、該コンベアーベルトの溝部に直立させたプレートの上
部両側に一対のガイド部材を平行に配設し、更に該ガイ
ド部材のプレートと向き合う側に互いに対向する如く噴
出孔を形成した事を特徴とする洗浄乾燥装置。 ２ 隣り合うベルトコンベアーの間にブラツシング機構
又は／及びシヤワーノズル機構を配設した第１項記載の
洗浄乾燥装置。 ３ ガイド部材の一側に形成した噴出孔より噴出される
流体を洗浄前工程においては洗浄水を、洗浄後工程にお
いては洗浄空気を噴出するように構成した第１項又は第
２項記載の洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55054870A JPS6028385B2 (ja) | 1980-04-26 | 1980-04-26 | 洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55054870A JPS6028385B2 (ja) | 1980-04-26 | 1980-04-26 | 洗浄乾燥装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10236784A Division JPS6012736A (ja) | 1984-05-21 | 1984-05-21 | 主として洗浄乾燥装置に使用するカ−トリツジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56152239A JPS56152239A (en) | 1981-11-25 |
| JPS6028385B2 true JPS6028385B2 (ja) | 1985-07-04 |
Family
ID=12982613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55054870A Expired JPS6028385B2 (ja) | 1980-04-26 | 1980-04-26 | 洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6028385B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108405425A (zh) * | 2018-03-12 | 2018-08-17 | 王甲亮 | 一种带有消毒功能的骨科机械清洗结构及其使用方法 |
| CN108480278A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-09-04 | 绍兴文理学院 | 一种旋转式光伏硅片用冲洗设备 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4506687A (en) * | 1982-06-10 | 1985-03-26 | Circuit Services Corporation | Printed circuit processing apparatus |
| JPS61183185U (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-15 | ||
| US5718763A (en) * | 1994-04-04 | 1998-02-17 | Tokyo Electron Limited | Resist processing apparatus for a rectangular substrate |
| US5751307A (en) * | 1994-04-12 | 1998-05-12 | Moore Business Forms, Inc. | Print cartridge cleaning apparatus and method using water and air |
| JP2004174308A (ja) * | 2002-11-25 | 2004-06-24 | Kawaju Plant Kk | 板材の洗浄設備 |
| JP4606498B2 (ja) * | 2009-02-09 | 2011-01-05 | カワサキプラントシステムズ株式会社 | 板材の洗浄設備およびその高圧液スプレー洗浄装置 |
| KR101065329B1 (ko) * | 2009-03-24 | 2011-09-16 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 및 이를 갖는 기판 세정 장치 |
| CN110694991A (zh) * | 2019-10-22 | 2020-01-17 | 长江存储科技有限责任公司 | 晶圆清洗装置 |
-
1980
- 1980-04-26 JP JP55054870A patent/JPS6028385B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108405425A (zh) * | 2018-03-12 | 2018-08-17 | 王甲亮 | 一种带有消毒功能的骨科机械清洗结构及其使用方法 |
| CN108480278A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-09-04 | 绍兴文理学院 | 一种旋转式光伏硅片用冲洗设备 |
| CN108480278B (zh) * | 2018-04-11 | 2021-05-18 | 绍兴文理学院 | 一种旋转式光伏硅片用冲洗设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56152239A (en) | 1981-11-25 |
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