JP2001096245A - 洗浄方法および洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法および洗浄装置Info
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- JP2001096245A JP2001096245A JP27550099A JP27550099A JP2001096245A JP 2001096245 A JP2001096245 A JP 2001096245A JP 27550099 A JP27550099 A JP 27550099A JP 27550099 A JP27550099 A JP 27550099A JP 2001096245 A JP2001096245 A JP 2001096245A
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い洗浄度でワークを洗浄し得るようにす
る。 【解決手段】 磁気ディスク基板などをワークとし、こ
れの表面に研磨加工などの表面処理を行った後に、該ワ
ークの表面に付着している異物などを除去するための洗
浄に本発明は適用される。それぞれのワークＷは複数の
洗浄槽１１〜１４において所定の間隔を隔ててコンベア
２０により搬送しながら、液体にさらされて洗浄され
る。それぞれの洗浄槽１１〜１４から１つずつ取り出さ
れたワークは、スクラブ洗浄位置１６〜１９に設けられ
たスクラブ洗浄機の回転ブラシにより１つずつスクラブ
洗浄される。洗浄槽による処理とスクラブ洗浄機により
処理は複数回繰り返される。洗浄処理されたワークは、
直ちにスピン乾燥機によって乾燥処理される。
る。 【解決手段】 磁気ディスク基板などをワークとし、こ
れの表面に研磨加工などの表面処理を行った後に、該ワ
ークの表面に付着している異物などを除去するための洗
浄に本発明は適用される。それぞれのワークＷは複数の
洗浄槽１１〜１４において所定の間隔を隔ててコンベア
２０により搬送しながら、液体にさらされて洗浄され
る。それぞれの洗浄槽１１〜１４から１つずつ取り出さ
れたワークは、スクラブ洗浄位置１６〜１９に設けられ
たスクラブ洗浄機の回転ブラシにより１つずつスクラブ
洗浄される。洗浄槽による処理とスクラブ洗浄機により
処理は複数回繰り返される。洗浄処理されたワークは、
直ちにスピン乾燥機によって乾燥処理される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク基板な
どの円板状の部材をワークとし、これの表面を洗浄した
後に直ちに乾燥するようにした洗浄技術に関する。
どの円板状の部材をワークとし、これの表面を洗浄した
後に直ちに乾燥するようにした洗浄技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、コンピュータの記憶媒体とし
て使用される磁気ディスクは、アルミニウム合金製やガ
ラス製の素材を用いて、中心部に貫通孔を有する円板状
のサブストレートつまり磁気ディスク基板を形成した後
に、種々の表面処理工程を経て製造されている。その表
面処理工程としては、研削工程、研磨工程、スパッタリ
ング工程およびめっき工程などがあり、これらの処理が
行われた後に、ワークの表面を洗浄するようにしてい
る。
て使用される磁気ディスクは、アルミニウム合金製やガ
ラス製の素材を用いて、中心部に貫通孔を有する円板状
のサブストレートつまり磁気ディスク基板を形成した後
に、種々の表面処理工程を経て製造されている。その表
面処理工程としては、研削工程、研磨工程、スパッタリ
ング工程およびめっき工程などがあり、これらの処理が
行われた後に、ワークの表面を洗浄するようにしてい
る。
【０００３】このようなワークの洗浄を行うため、従来
では、実公平4-22411 号公報および特開平9-299895号公
報に示されるように、キャリアと言われる容器の中に多
数枚のワークを収容して洗浄液の中を搬送しながら多数
の洗浄ブラシによってスクラブ洗浄するようにしてい
る。
では、実公平4-22411 号公報および特開平9-299895号公
報に示されるように、キャリアと言われる容器の中に多
数枚のワークを収容して洗浄液の中を搬送しながら多数
の洗浄ブラシによってスクラブ洗浄するようにしてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ように、多数枚のワークをバッチ処理で一度にスクラブ
洗浄するようにした場合には、処理能率を向上させるこ
とができるという利点があるが、洗浄度の向上には限度
があった。このため、高い洗浄度を必要とするワークを
従来のバッチ式のスクラブ洗浄により洗浄すると、各ワ
ーク毎に洗浄度にバラツキが発生し、しかもそれぞれの
ワークを高い洗浄度に仕上げることができないというこ
とが判明した。
ように、多数枚のワークをバッチ処理で一度にスクラブ
洗浄するようにした場合には、処理能率を向上させるこ
とができるという利点があるが、洗浄度の向上には限度
があった。このため、高い洗浄度を必要とするワークを
従来のバッチ式のスクラブ洗浄により洗浄すると、各ワ
ーク毎に洗浄度にバラツキが発生し、しかもそれぞれの
ワークを高い洗浄度に仕上げることができないというこ
とが判明した。
【０００５】洗浄処理されたワークはスピン乾燥機によ
り乾燥するようにしているが、スピン乾燥機は１つずつ
ワークを乾燥することになるので、従来のようにバッチ
処理によりスクラブ洗浄を行うようにした場合には、洗
浄処理後のワークを容器の中などに貯留しておく必要が
ある。洗浄後のワークを大気中で貯留するようにする
と、洗浄液の乾燥跡が残ることがあり、それを防止する
には、所定の数のワークを純水が供給された容器の中に
貯留しておき、その中からワークを取り出して乾燥する
必要がある。このため、乾燥装置を含めた洗浄装置を大
型化せざるを得ないという問題点がある。
り乾燥するようにしているが、スピン乾燥機は１つずつ
ワークを乾燥することになるので、従来のようにバッチ
処理によりスクラブ洗浄を行うようにした場合には、洗
浄処理後のワークを容器の中などに貯留しておく必要が
ある。洗浄後のワークを大気中で貯留するようにする
と、洗浄液の乾燥跡が残ることがあり、それを防止する
には、所定の数のワークを純水が供給された容器の中に
貯留しておき、その中からワークを取り出して乾燥する
必要がある。このため、乾燥装置を含めた洗浄装置を大
型化せざるを得ないという問題点がある。
【０００６】本発明の目的は、ワークを高い洗浄度に仕
上げることができるようにすることにある。
上げることができるようにすることにある。
【０００７】本発明の他の目的は、装置の設置スペース
を大型化することなく、効率良くワークを洗浄し得るよ
うにすることにある。
を大型化することなく、効率良くワークを洗浄し得るよ
うにすることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、ワ
ークの表面に研磨加工などの表面処理を行った後に、該
ワークの表面に付着している異物などを除去するための
洗浄方法であって、複数のワークを所定の間隔を隔てて
洗浄槽内で搬送しながら、前記ワークを洗浄する液体洗
浄工程と、該液体洗浄工程により洗浄されたワークを前
記洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシにより前記
ワークを１つずつ洗浄するスクラブ洗浄工程とを有し、
前記液体洗浄工程と前記スクラブ洗浄工程とを複数回繰
り返し、前記ワークの表面の洗浄を行うことを特徴とす
る。
ークの表面に研磨加工などの表面処理を行った後に、該
ワークの表面に付着している異物などを除去するための
洗浄方法であって、複数のワークを所定の間隔を隔てて
洗浄槽内で搬送しながら、前記ワークを洗浄する液体洗
浄工程と、該液体洗浄工程により洗浄されたワークを前
記洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシにより前記
ワークを１つずつ洗浄するスクラブ洗浄工程とを有し、
前記液体洗浄工程と前記スクラブ洗浄工程とを複数回繰
り返し、前記ワークの表面の洗浄を行うことを特徴とす
る。
【０００９】本発明の洗浄方法は、ワークの表面に研磨
加工などの表面処理を行った後に、該ワークの表面に付
着している異物などを除去するための洗浄方法であっ
て、複数のワークを所定の間隔を隔てて洗浄槽内で搬送
しながら、前記ワークを洗浄する液体洗浄工程と、該液
体洗浄工程により洗浄されたワークを前記洗浄槽から１
つずつ取り出して回転ブラシにより前記ワークを１つず
つ洗浄するスクラブ洗浄工程と、前記液体洗浄工程と前
記スクラブ洗浄工程とを複数回繰り返した後に、前記ワ
ークを回転させて水切り乾燥するスピン乾燥工程とを有
し、前記ワークの表面の洗浄と乾燥とを行うことを特徴
とする。
加工などの表面処理を行った後に、該ワークの表面に付
着している異物などを除去するための洗浄方法であっ
て、複数のワークを所定の間隔を隔てて洗浄槽内で搬送
しながら、前記ワークを洗浄する液体洗浄工程と、該液
体洗浄工程により洗浄されたワークを前記洗浄槽から１
つずつ取り出して回転ブラシにより前記ワークを１つず
つ洗浄するスクラブ洗浄工程と、前記液体洗浄工程と前
記スクラブ洗浄工程とを複数回繰り返した後に、前記ワ
ークを回転させて水切り乾燥するスピン乾燥工程とを有
し、前記ワークの表面の洗浄と乾燥とを行うことを特徴
とする。
【００１０】本発明の洗浄方法は、研磨加工されたワー
クの表面に付着している異物などを除去するための洗浄
方法であって、研磨加工済みの複数のワークを所定の間
隔を隔てて第１の洗浄槽内で搬送しながら、前記ワーク
にシャワー液を吹き付けて前記ワークを液体洗浄する第
１の液体洗浄工程と、該第１の液体洗浄工程により洗浄
されたワークを前記第１の洗浄槽から１つずつ取り出し
て回転ブラシにより前記ワークを１つずつブラシ洗浄す
る第１のスクラブ洗浄工程と、該第１のスクラブ洗浄工
程により洗浄された前記ワークを所定の間隔を隔てて第
２の洗浄槽内で搬送しながら、該第２の洗浄槽内に収容
された薬液により前記ワークを洗浄する第２の液体洗浄
工程と、該第２の液体洗浄工程により洗浄されたワーク
を前記第２の洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシ
により前記ワークを１つずつブラシ洗浄する第２のスク
ラブ洗浄工程と、該第２のスクラブ洗浄工程により洗浄
された前記ワークを所定の間隔を隔てて第３の洗浄槽内
で搬送しながら、該第３の洗浄槽内に収容されて超音波
振動が加えられた振動液により前記ワークを洗浄する第
３の液体洗浄工程と、該第３の液体洗浄工程により洗浄
された前記ワークを前記第３の洗浄槽から１つずつ取り
出して回転ブラシにより前記ワークを１つずつブラシ洗
浄する第３のスクラブ洗浄工程と、該第３のスクラブ洗
浄工程により洗浄された前記ワークを所定の間隔を隔て
て第４の洗浄槽内で搬送しながら、該第４の洗浄槽内に
収容された純水により前記ワークを洗浄する第４の液体
洗浄工程と、該第４の液体洗浄工程により洗浄された前
記ワークを前記第４の洗浄槽から１つずつ取り出して回
転ブラシにより前記ワークを１つずつブラシ洗浄する第
４のスクラブ洗浄工程と、該第４のスクラブ洗浄工程に
より洗浄されたワークを回転させて水切り乾燥するスピ
ン乾燥工程とを有し、前記ワークの表面を洗浄および乾
燥することを特徴とする。
クの表面に付着している異物などを除去するための洗浄
方法であって、研磨加工済みの複数のワークを所定の間
隔を隔てて第１の洗浄槽内で搬送しながら、前記ワーク
にシャワー液を吹き付けて前記ワークを液体洗浄する第
１の液体洗浄工程と、該第１の液体洗浄工程により洗浄
されたワークを前記第１の洗浄槽から１つずつ取り出し
て回転ブラシにより前記ワークを１つずつブラシ洗浄す
る第１のスクラブ洗浄工程と、該第１のスクラブ洗浄工
程により洗浄された前記ワークを所定の間隔を隔てて第
２の洗浄槽内で搬送しながら、該第２の洗浄槽内に収容
された薬液により前記ワークを洗浄する第２の液体洗浄
工程と、該第２の液体洗浄工程により洗浄されたワーク
を前記第２の洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシ
により前記ワークを１つずつブラシ洗浄する第２のスク
ラブ洗浄工程と、該第２のスクラブ洗浄工程により洗浄
された前記ワークを所定の間隔を隔てて第３の洗浄槽内
で搬送しながら、該第３の洗浄槽内に収容されて超音波
振動が加えられた振動液により前記ワークを洗浄する第
３の液体洗浄工程と、該第３の液体洗浄工程により洗浄
された前記ワークを前記第３の洗浄槽から１つずつ取り
出して回転ブラシにより前記ワークを１つずつブラシ洗
浄する第３のスクラブ洗浄工程と、該第３のスクラブ洗
浄工程により洗浄された前記ワークを所定の間隔を隔て
て第４の洗浄槽内で搬送しながら、該第４の洗浄槽内に
収容された純水により前記ワークを洗浄する第４の液体
洗浄工程と、該第４の液体洗浄工程により洗浄された前
記ワークを前記第４の洗浄槽から１つずつ取り出して回
転ブラシにより前記ワークを１つずつブラシ洗浄する第
４のスクラブ洗浄工程と、該第４のスクラブ洗浄工程に
より洗浄されたワークを回転させて水切り乾燥するスピ
ン乾燥工程とを有し、前記ワークの表面を洗浄および乾
燥することを特徴とする。
【００１１】本発明の洗浄装置は、ワークの表面に研磨
加工などの表面処理を行った後に、該ワークの表面に付
着している異物などを除去するための洗浄装置であっ
て、複数のワークを所定の間隔を隔てて搬送するコンベ
アが設けられ、前記ワークを液体により洗浄する複数の
洗浄槽と、それぞれの前記洗浄槽の搬出端部に設けら
れ、前記洗浄槽により洗浄されたワークを前記洗浄槽か
ら１つずつ取り出して回転ブラシにより洗浄するスクラ
ブ洗浄機とを有することを特徴とする。
加工などの表面処理を行った後に、該ワークの表面に付
着している異物などを除去するための洗浄装置であっ
て、複数のワークを所定の間隔を隔てて搬送するコンベ
アが設けられ、前記ワークを液体により洗浄する複数の
洗浄槽と、それぞれの前記洗浄槽の搬出端部に設けら
れ、前記洗浄槽により洗浄されたワークを前記洗浄槽か
ら１つずつ取り出して回転ブラシにより洗浄するスクラ
ブ洗浄機とを有することを特徴とする。
【００１２】本発明の洗浄装置は、ワークの表面に研磨
加工などの表面処理を行った後に、該ワークの表面に付
着している異物などを除去するための洗浄装置であっ
て、複数のワークを所定の間隔を隔てて搬送するコンベ
アが設けられ、前記ワークを液体により洗浄する複数の
洗浄槽と、それぞれの前記洗浄槽の搬出端部に設けら
れ、前記洗浄槽により洗浄されたワークを前記洗浄槽か
ら１つずつ取り出して回転ブラシにより洗浄するスクラ
ブ洗浄機と、最終のスクラブ洗浄機による洗浄が終了し
た後のワークを回転させて水切り乾燥するスピン乾燥機
とを有することを特徴とする。
加工などの表面処理を行った後に、該ワークの表面に付
着している異物などを除去するための洗浄装置であっ
て、複数のワークを所定の間隔を隔てて搬送するコンベ
アが設けられ、前記ワークを液体により洗浄する複数の
洗浄槽と、それぞれの前記洗浄槽の搬出端部に設けら
れ、前記洗浄槽により洗浄されたワークを前記洗浄槽か
ら１つずつ取り出して回転ブラシにより洗浄するスクラ
ブ洗浄機と、最終のスクラブ洗浄機による洗浄が終了し
た後のワークを回転させて水切り乾燥するスピン乾燥機
とを有することを特徴とする。
【００１３】本発明の洗浄装置は、前記コンベアがそれ
ぞれ螺旋状の溝を有する複数本のスクリューコンベアか
らなり、前記ワークを垂直状態を保持しながら搬送する
ようにしたことを特徴とする。
ぞれ螺旋状の溝を有する複数本のスクリューコンベアか
らなり、前記ワークを垂直状態を保持しながら搬送する
ようにしたことを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
に基づいて詳細に説明する。
【００１５】図１は本発明の一実施の形態である洗浄装
置を構成する洗浄ユニット組立体１０を示す斜視図であ
り、図２は図１の洗浄ユニット組立体１０に配置される
カップ型のスクラブ洗浄機を示す斜視図であり、図３は
図１の洗浄ユニット組立体１０に配置されるロール型の
スクラブ洗浄機を示す斜視図である。
置を構成する洗浄ユニット組立体１０を示す斜視図であ
り、図２は図１の洗浄ユニット組立体１０に配置される
カップ型のスクラブ洗浄機を示す斜視図であり、図３は
図１の洗浄ユニット組立体１０に配置されるロール型の
スクラブ洗浄機を示す斜視図である。
【００１６】この洗浄ユニット組立体１０は磁気ディス
ク基板をワークＷとし、表面が研磨加工されたワークＷ
の表面に付着している研磨材などの異物を除去して洗浄
するために適用されており、第１〜第４の４つの洗浄槽
１１〜１４を有している。それぞれの洗浄槽は複数のワ
ークＷを垂直状態に保持しながら所定の間隔を隔てて搬
送し、ワークＷを液体にさらすことによりデップ洗浄す
るようにしたデップ槽となっている。
ク基板をワークＷとし、表面が研磨加工されたワークＷ
の表面に付着している研磨材などの異物を除去して洗浄
するために適用されており、第１〜第４の４つの洗浄槽
１１〜１４を有している。それぞれの洗浄槽は複数のワ
ークＷを垂直状態に保持しながら所定の間隔を隔てて搬
送し、ワークＷを液体にさらすことによりデップ洗浄す
るようにしたデップ槽となっている。
【００１７】第１の洗浄槽１１では、研磨加工終了後の
ワークＷにこれを搬送しながらノズル１５からの洗浄液
を吹き付けて洗浄するようにしており、この洗浄槽１１
はシャワー槽となっている。第２の洗浄槽１２では、こ
の中に供給された薬液にワークをひたした状態で搬送し
て洗浄するようにしており、この洗浄槽１２は薬液槽と
なっている。第３の洗浄槽１３では、この中に供給され
た洗浄液を超音波振動子により振動させ、洗浄液にワー
クをひたした状態で搬送して超音波洗浄するようにして
おり、この洗浄槽１３は超音波槽となっている。第４の
洗浄槽１４では、この中に供給された純水にワークをひ
たした状態で搬送して洗浄するようにしており、この洗
浄槽１４は純水槽となっている。
ワークＷにこれを搬送しながらノズル１５からの洗浄液
を吹き付けて洗浄するようにしており、この洗浄槽１１
はシャワー槽となっている。第２の洗浄槽１２では、こ
の中に供給された薬液にワークをひたした状態で搬送し
て洗浄するようにしており、この洗浄槽１２は薬液槽と
なっている。第３の洗浄槽１３では、この中に供給され
た洗浄液を超音波振動子により振動させ、洗浄液にワー
クをひたした状態で搬送して超音波洗浄するようにして
おり、この洗浄槽１３は超音波槽となっている。第４の
洗浄槽１４では、この中に供給された純水にワークをひ
たした状態で搬送して洗浄するようにしており、この洗
浄槽１４は純水槽となっている。
【００１８】それぞれの洗浄槽には、図１に示すよう
に、４本のスクリューコンベア２０が回転自在に装着さ
れ、それぞれのワークはスクリューコンベア２０に形成
された螺旋状の溝に４個所で接触し、垂直状態に保持さ
れた状態となって連続的に一端部から他端部に向けて搬
送されるようになっている。
に、４本のスクリューコンベア２０が回転自在に装着さ
れ、それぞれのワークはスクリューコンベア２０に形成
された螺旋状の溝に４個所で接触し、垂直状態に保持さ
れた状態となって連続的に一端部から他端部に向けて搬
送されるようになっている。
【００１９】４つの洗浄槽１１〜１４は、一列に直線状
となって配置されており、それぞれの洗浄槽１１〜１４
の搬送端にまで搬送されたワークは洗浄槽から持ち上げ
られて取り出され、取り出された位置をスクラブ洗浄位
置１６〜１９として、それぞれの位置においてスクラブ
洗浄機によりスクラブ洗浄が行われる。
となって配置されており、それぞれの洗浄槽１１〜１４
の搬送端にまで搬送されたワークは洗浄槽から持ち上げ
られて取り出され、取り出された位置をスクラブ洗浄位
置１６〜１９として、それぞれの位置においてスクラブ
洗浄機によりスクラブ洗浄が行われる。
【００２０】スクラブ洗浄位置１６，１７には、図２に
示すスクラブ洗浄機２１が配置されており、このスクラ
ブ洗浄機２１は、ワークＷの表面に接触する２つのカッ
プ型の回転ブラシ２２，２３と、ワークＷの中心孔の内
周面に接触する内周面洗浄ブラシ２４と、ワークの外周
面に接触する外周面洗浄ブラシ２５とを有し、それぞれ
のブラシは矢印で示す方向に回転駆動されるようになっ
ている。
示すスクラブ洗浄機２１が配置されており、このスクラ
ブ洗浄機２１は、ワークＷの表面に接触する２つのカッ
プ型の回転ブラシ２２，２３と、ワークＷの中心孔の内
周面に接触する内周面洗浄ブラシ２４と、ワークの外周
面に接触する外周面洗浄ブラシ２５とを有し、それぞれ
のブラシは矢印で示す方向に回転駆動されるようになっ
ている。
【００２１】スクラブ洗浄位置１８，１９には、図３に
示すスクラブ洗浄機２６が配置されており、このスクラ
ブ洗浄機２６は、ワークＷの表面と内外周面とに接触す
る２つのロール型の回転ブラシ２７，２８を有し、それ
ぞれのブラシは矢印で示す方向に回転駆動されるように
なっている。
示すスクラブ洗浄機２６が配置されており、このスクラ
ブ洗浄機２６は、ワークＷの表面と内外周面とに接触す
る２つのロール型の回転ブラシ２７，２８を有し、それ
ぞれのブラシは矢印で示す方向に回転駆動されるように
なっている。
【００２２】それぞれのスクラブ洗浄機は、それぞれの
洗浄槽の搬送端の上方に配置されており、洗浄槽とスク
ラブ洗浄機とにより対となった１つの洗浄ユニットを構
成している。図１に示す場合には、４つの洗浄ユニット
により１つの洗浄ユニット組立体１０を形成している
が、ワークの種類や洗浄処理前の表面処理工程に対応さ
せて任意の数の洗浄ユニットにより１つの洗浄ユニット
組立体１０を構成することができる。たとえば、４つ以
下あるいは４つ以上の洗浄ユニットにより１つの洗浄ユ
ニット組立体を構成するようにしても良い。
洗浄槽の搬送端の上方に配置されており、洗浄槽とスク
ラブ洗浄機とにより対となった１つの洗浄ユニットを構
成している。図１に示す場合には、４つの洗浄ユニット
により１つの洗浄ユニット組立体１０を形成している
が、ワークの種類や洗浄処理前の表面処理工程に対応さ
せて任意の数の洗浄ユニットにより１つの洗浄ユニット
組立体１０を構成することができる。たとえば、４つ以
下あるいは４つ以上の洗浄ユニットにより１つの洗浄ユ
ニット組立体を構成するようにしても良い。
【００２３】図４は図１に示した洗浄ユニット組立体が
組み込まれた洗浄処理部３１と、その隣りに配置された
乾燥処理部３２とを有する洗浄装置を示す平面図であ
り、図５は図４の正面図であり、図６は図４における６
−６線に沿う概略断面図であり、図７は図４における７
−７線に沿う概略断面図である。
組み込まれた洗浄処理部３１と、その隣りに配置された
乾燥処理部３２とを有する洗浄装置を示す平面図であ
り、図５は図４の正面図であり、図６は図４における６
−６線に沿う概略断面図であり、図７は図４における７
−７線に沿う概略断面図である。
【００２４】洗浄処理部３１のハウジング３３内には、
図４に示すように、２組の洗浄ユニット組立体１０が相
互に平行となって組み込まれており、両方の洗浄ユニッ
ト組立体１０の間には、スクラブ洗浄機２１，２６を駆
動する洗浄機駆動部３４が設けられている。したがっ
て、この洗浄処理部３１においては、それぞれの洗浄ユ
ニット組立体１０の洗浄槽内でワークを搬送しながらデ
ップ洗浄し、それぞれのスクラブ洗浄機によって１枚の
ワーク毎にスクラブ洗浄が枚葉処理される。
図４に示すように、２組の洗浄ユニット組立体１０が相
互に平行となって組み込まれており、両方の洗浄ユニッ
ト組立体１０の間には、スクラブ洗浄機２１，２６を駆
動する洗浄機駆動部３４が設けられている。したがっ
て、この洗浄処理部３１においては、それぞれの洗浄ユ
ニット組立体１０の洗浄槽内でワークを搬送しながらデ
ップ洗浄し、それぞれのスクラブ洗浄機によって１枚の
ワーク毎にスクラブ洗浄が枚葉処理される。
【００２５】ハウジング３３の上部にはフィルタにより
清浄化された空気を矢印で示すように吹き出す空気供給
部３５が設けられており、スクラブ洗浄はクリーンな空
気の中で行われる。
清浄化された空気を矢印で示すように吹き出す空気供給
部３５が設けられており、スクラブ洗浄はクリーンな空
気の中で行われる。
【００２６】図８は図６において符号８で示す部分を拡
大して示す断面図であり、図９は図８における９−９線
に沿う断面図であり、全ての洗浄槽はほぼ同様の構造と
なっている。
大して示す断面図であり、図９は図８における９−９線
に沿う断面図であり、全ての洗浄槽はほぼ同様の構造と
なっている。
【００２７】図８および図９に示すように、それぞれの
洗浄槽の槽本体３６には４本のスクリューコンベア２０
が回転自在に装着され、槽本体３６内に搬入されたワー
クＷは所定の間隔を隔てて搬入端部から搬出端部に向け
て垂直状態となって搬送されるようになっている。それ
ぞれのスクリューコンベア２０は、両端部が槽本体３６
の外部に突出し、外部に設けられた図示しない駆動手段
によって回転駆動されるようになっており、槽本体３６
に設けられたシール部材によって槽本体３６内の液体の
漏れが防止される。
洗浄槽の槽本体３６には４本のスクリューコンベア２０
が回転自在に装着され、槽本体３６内に搬入されたワー
クＷは所定の間隔を隔てて搬入端部から搬出端部に向け
て垂直状態となって搬送されるようになっている。それ
ぞれのスクリューコンベア２０は、両端部が槽本体３６
の外部に突出し、外部に設けられた図示しない駆動手段
によって回転駆動されるようになっており、槽本体３６
に設けられたシール部材によって槽本体３６内の液体の
漏れが防止される。
【００２８】槽本体３６には搬入端部と搬出端部とに対
応させて上下動部材３７が設けられており、それぞれの
上下動部材３７には、図８に示すように、ワークＷを保
持する支持爪３８が設けられている。搬入端部における
上下動部材３７を上昇限位置とした状態で支持爪３８に
ワークを載置させた後に、上下動部材３７を下降移動さ
せると、ワークＷは４本のスクリューコンベア２０の溝
に接触して槽本体３６内に搬入される。一方、搬出端部
における上下動部材３７を上昇移動させると、支持爪３
８がワークＷに接触してワークＷは上昇限位置まで持ち
上げられる。
応させて上下動部材３７が設けられており、それぞれの
上下動部材３７には、図８に示すように、ワークＷを保
持する支持爪３８が設けられている。搬入端部における
上下動部材３７を上昇限位置とした状態で支持爪３８に
ワークを載置させた後に、上下動部材３７を下降移動さ
せると、ワークＷは４本のスクリューコンベア２０の溝
に接触して槽本体３６内に搬入される。一方、搬出端部
における上下動部材３７を上昇移動させると、支持爪３
８がワークＷに接触してワークＷは上昇限位置まで持ち
上げられる。
【００２９】第１と第２の２つの洗浄槽１１，１２の搬
出端部の上方には、上下動部材３７によって上昇された
ワークをスクラブ洗浄するためにスクラブ洗浄機２１が
設けられており、このスクラブ洗浄機２１の一方のカッ
プ型の回転ブラシ２２を有するアーム４１が洗浄機駆動
部３４に旋回自在に装着され、他方のカップ型の回転ブ
ラシ２３を有するアーム４２も洗浄機駆動部３４に旋回
自在に装着されている。さらに、図２に示した内周面洗
浄ブラシ２４と外周面洗浄ブラシ２５を有する図示しな
いアームも洗浄機駆動部３４に旋回自在に装着されてい
る。
出端部の上方には、上下動部材３７によって上昇された
ワークをスクラブ洗浄するためにスクラブ洗浄機２１が
設けられており、このスクラブ洗浄機２１の一方のカッ
プ型の回転ブラシ２２を有するアーム４１が洗浄機駆動
部３４に旋回自在に装着され、他方のカップ型の回転ブ
ラシ２３を有するアーム４２も洗浄機駆動部３４に旋回
自在に装着されている。さらに、図２に示した内周面洗
浄ブラシ２４と外周面洗浄ブラシ２５を有する図示しな
いアームも洗浄機駆動部３４に旋回自在に装着されてい
る。
【００３０】第３と第４の２つの洗浄槽１３，１４の搬
出端部の上方には、上下動部材３７によって上昇された
ワークをスクラブ洗浄するためにスクラブ洗浄機２６が
設けられており、このスクラブ洗浄機２６のそれぞれの
ロール型の回転ブラシ２７，２８が設けられたシャフト
４３，４４が、図４に示すように、洗浄機駆動部３４に
設けられ、それぞれのシャフト４３，４４は相互に接近
離反移動自在となっている。
出端部の上方には、上下動部材３７によって上昇された
ワークをスクラブ洗浄するためにスクラブ洗浄機２６が
設けられており、このスクラブ洗浄機２６のそれぞれの
ロール型の回転ブラシ２７，２８が設けられたシャフト
４３，４４が、図４に示すように、洗浄機駆動部３４に
設けられ、それぞれのシャフト４３，４４は相互に接近
離反移動自在となっている。
【００３１】第１の洗浄槽１１の搬出端部上方のスクラ
ブ洗浄機２１によりスクラブ洗浄されたワークを第２の
洗浄槽の搬入端部上方に搬送するために、図９に示すよ
うに、両方の洗浄槽１１，１２の間にはワーク移送機４
５が設けられている。このワーク移送機４５はガイドレ
ール４６に沿って往復動自在となったスライドブロック
４７を有し、このスライドブロック４７に１８０度の範
囲で回転自在に装着された旋回軸４８には、ワークＷを
保持する支持爪４９が取り付けられている。したがっ
て、スラクブ洗浄されたワークを保持爪４９に支持した
後に、支持爪４９を１８０度旋回させると、ワークＷは
第２の洗浄槽１２の搬入端部上方に移送される。
ブ洗浄機２１によりスクラブ洗浄されたワークを第２の
洗浄槽の搬入端部上方に搬送するために、図９に示すよ
うに、両方の洗浄槽１１，１２の間にはワーク移送機４
５が設けられている。このワーク移送機４５はガイドレ
ール４６に沿って往復動自在となったスライドブロック
４７を有し、このスライドブロック４７に１８０度の範
囲で回転自在に装着された旋回軸４８には、ワークＷを
保持する支持爪４９が取り付けられている。したがっ
て、スラクブ洗浄されたワークを保持爪４９に支持した
後に、支持爪４９を１８０度旋回させると、ワークＷは
第２の洗浄槽１２の搬入端部上方に移送される。
【００３２】図４に示すように、それぞれの洗浄槽の間
と、第１の洗浄槽１１の搬入端部と、第４の洗浄槽１４
の搬出端部には、それぞれ図９に示したワーク移送機４
５が設けられている。ただし、第４の洗浄槽１４の搬出
端部に設けられたワーク移送機４５は、支持爪４９が９
０度旋回することによって乾燥処理部３２に搬出される
ようになっている。
と、第１の洗浄槽１１の搬入端部と、第４の洗浄槽１４
の搬出端部には、それぞれ図９に示したワーク移送機４
５が設けられている。ただし、第４の洗浄槽１４の搬出
端部に設けられたワーク移送機４５は、支持爪４９が９
０度旋回することによって乾燥処理部３２に搬出される
ようになっている。
【００３３】それぞれのスクラブ洗浄機２１，２６の駆
動部は洗浄機駆動部３２内に設けられており、スクラブ
洗浄機２１，２６はそれぞれの洗浄槽の搬出端部に上方
に設けられているので、空気供給部３５によりハウジン
グ３３内に上部から下部に向けて流れるクリーンエアに
よってワークＷからの水分が飛散することを防止でき
る。
動部は洗浄機駆動部３２内に設けられており、スクラブ
洗浄機２１，２６はそれぞれの洗浄槽の搬出端部に上方
に設けられているので、空気供給部３５によりハウジン
グ３３内に上部から下部に向けて流れるクリーンエアに
よってワークＷからの水分が飛散することを防止でき
る。
【００３４】乾燥処理部３２のハウジング５１内には、
図４に示すように、洗浄機駆動部３４に連なるようにし
て乾燥機駆動部５２が設けられ、２つの洗浄ユニット組
立体１０に対応させて乾燥機駆動部５２の両側には、２
つずつスピン乾燥機５３が設けられている。それぞれの
スピン乾燥機５３はワークＷをその外周部で把持するフ
ィンガーを有し、ワークＷを回転させることによってワ
ークＷに付着した水分を除去するようにしている。
図４に示すように、洗浄機駆動部３４に連なるようにし
て乾燥機駆動部５２が設けられ、２つの洗浄ユニット組
立体１０に対応させて乾燥機駆動部５２の両側には、２
つずつスピン乾燥機５３が設けられている。それぞれの
スピン乾燥機５３はワークＷをその外周部で把持するフ
ィンガーを有し、ワークＷを回転させることによってワ
ークＷに付着した水分を除去するようにしている。
【００３５】ハウジング５１の上部には洗浄処理部３１
と同様に空気供給部３５が設けられており、スピン乾燥
もクリーンな空気の中で行われる。
と同様に空気供給部３５が設けられており、スピン乾燥
もクリーンな空気の中で行われる。
【００３６】ハウジング５１内には、それぞれの洗浄ユ
ニット組立体１０から搬出されたワークをスピン乾燥機
５３に直ちに装填し、乾燥済みのワークを搬送するため
に、乾燥機駆動部５２の両側には搬送ヘッド５４が２つ
ずつ配置されており、それぞれ搬送ヘッド５４は水平方
向に移動自在にガイドレール５５に装着され、搬送ヘッ
ド５４はスピン乾燥機５３に向けて接近離反移動自在と
なっている。
ニット組立体１０から搬出されたワークをスピン乾燥機
５３に直ちに装填し、乾燥済みのワークを搬送するため
に、乾燥機駆動部５２の両側には搬送ヘッド５４が２つ
ずつ配置されており、それぞれ搬送ヘッド５４は水平方
向に移動自在にガイドレール５５に装着され、搬送ヘッ
ド５４はスピン乾燥機５３に向けて接近離反移動自在と
なっている。
【００３７】したがって、洗浄処理部３１により洗浄処
理されたワークを乾燥処理部３２に搬送して直ちにスピ
ン乾燥することができるので、洗浄処理してから乾燥処
理するまでの間に異物などが付着することを防止でき、
ワークの洗浄度を高めることができる。しかも、洗浄処
理されたワークを純水が供給された容器の中に水没させ
て保管する必要がなく、容器の設置スペースが不要とな
る。
理されたワークを乾燥処理部３２に搬送して直ちにスピ
ン乾燥することができるので、洗浄処理してから乾燥処
理するまでの間に異物などが付着することを防止でき、
ワークの洗浄度を高めることができる。しかも、洗浄処
理されたワークを純水が供給された容器の中に水没させ
て保管する必要がなく、容器の設置スペースが不要とな
る。
【００３８】本発明は前記実施の形態に限定されるもの
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。
ではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
あることはいうまでもない。
【００３９】たとえば、図示する洗浄装置にあっては、
２組みの洗浄ユニット１０を有しているが、１組のみの
洗浄ユニット１０をハウジング３３内に組み込むように
しても良い。スクラブ洗浄機はカップ型とロール型とを
混在させているが、全てをカップ型の回転ブラシを有す
るスクラブ洗浄機、あるいはロール型の回転ブラシを有
するスクラブ洗浄機としても良く、いずれのタイプのス
クラブ洗浄機を使用するようにしても良い。ワークをデ
ップ洗浄するデップ槽は、前記説明では、シャワー槽、
薬液槽、超音波槽、純水槽を組み合わせているが、これ
らの組み合わせ順序は適宜変更でき、槽数についても自
由に設定することができ、さらに他の種類のデップ槽と
も適宜組み合わせて使用することができる。それぞれの
洗浄槽内におけるワークの連続搬送は、スクリューコン
ベア２０に代えて、ワークを保持するフックやフィンガ
ーが設けられた部材を洗浄槽内や洗浄槽の上部に移動さ
せるようにしたウォーキングビーム式のコンベアによっ
て行うようにしても良い。
２組みの洗浄ユニット１０を有しているが、１組のみの
洗浄ユニット１０をハウジング３３内に組み込むように
しても良い。スクラブ洗浄機はカップ型とロール型とを
混在させているが、全てをカップ型の回転ブラシを有す
るスクラブ洗浄機、あるいはロール型の回転ブラシを有
するスクラブ洗浄機としても良く、いずれのタイプのス
クラブ洗浄機を使用するようにしても良い。ワークをデ
ップ洗浄するデップ槽は、前記説明では、シャワー槽、
薬液槽、超音波槽、純水槽を組み合わせているが、これ
らの組み合わせ順序は適宜変更でき、槽数についても自
由に設定することができ、さらに他の種類のデップ槽と
も適宜組み合わせて使用することができる。それぞれの
洗浄槽内におけるワークの連続搬送は、スクリューコン
ベア２０に代えて、ワークを保持するフックやフィンガ
ーが設けられた部材を洗浄槽内や洗浄槽の上部に移動さ
せるようにしたウォーキングビーム式のコンベアによっ
て行うようにしても良い。
【００４０】
【発明の効果】本発明によれば、洗浄槽内において複数
のワークを連続的に搬送しながらワークに液体をさらす
ことにより洗浄し、それぞれの洗浄槽からワークを取り
出してスクラブ洗浄機により枚葉処理してスクラブ洗浄
するようにしたので、ワークを高い洗浄度で洗浄するこ
とができ、しかも、ワーク毎の洗浄度のバラツキを無く
すことができる。洗浄終了後のワークをスピン乾燥機に
よって直ちに乾燥させることができるので、洗浄終了後
のワークを待機させておくスペースが不要となり、効率
的に洗浄と乾燥とを行うことができる。
のワークを連続的に搬送しながらワークに液体をさらす
ことにより洗浄し、それぞれの洗浄槽からワークを取り
出してスクラブ洗浄機により枚葉処理してスクラブ洗浄
するようにしたので、ワークを高い洗浄度で洗浄するこ
とができ、しかも、ワーク毎の洗浄度のバラツキを無く
すことができる。洗浄終了後のワークをスピン乾燥機に
よって直ちに乾燥させることができるので、洗浄終了後
のワークを待機させておくスペースが不要となり、効率
的に洗浄と乾燥とを行うことができる。
【図１】本発明の一実施の形態である洗浄装置を構成す
る洗浄ユニット組立体を示す斜視図である。
る洗浄ユニット組立体を示す斜視図である。
【図２】図１の洗浄ユニット組立体に配置されるカップ
型のスクラブ洗浄機を示す斜視図である。
型のスクラブ洗浄機を示す斜視図である。
【図３】図１の洗浄ユニット組立体に配置されるロール
型のスクラブ洗浄機を示す斜視図である。
型のスクラブ洗浄機を示す斜視図である。
【図４】図１に示した洗浄ユニット組立体が２組組み込
まれた洗浄処理部とその隣りに配置された乾燥処理部と
を有する洗浄装置を示す平面図である。
まれた洗浄処理部とその隣りに配置された乾燥処理部と
を有する洗浄装置を示す平面図である。
【図５】図４の正面図である。
【図６】図４における６−６線に沿う概略断面図であ
る。
る。
【図７】図４における７−７線に沿う概略断面図であ
る。
る。
【図８】図６において符号８で示す部分を拡大して示す
断面図である。
断面図である。
【図９】図８における９−９線に沿う断面図である。
１０ 洗浄ユニット組立体 １１ 第１の洗浄槽（シャワー槽） １２ 第２の洗浄槽（薬液槽） １３ 第３の洗浄槽（超音波槽） １４ 第４の洗浄槽（純水槽） １５ ノズル １６〜１９ スクラブ洗浄位置 ２１ スクラブ洗浄機 ２２，２３ カップ型ブラシ ２４ 内周面洗浄ブラシ ２５ 外周面洗浄ブラシ ２６ スクラブ洗浄機 ２７，２８ ロール型ブラシ ３１ 洗浄処理部 ３２ 乾燥処理部 ３４ 洗浄機駆動部 ４５ ワーク移送機 ５３ スピン乾燥機 ５４ 搬送ヘッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｚ Ｆターム(参考） 3B116 AA03 AB14 AB33 AB42 BA02 BA08 BA13 BA15 BB22 BB33 BB83 CC01 CC03 3B201 AA03 AB14 AB25 AB33 AB42 BA02 BA08 BA13 BA15 BB02 BB22 BB33 BB83 BB94 BB95 CB15 CC01 CC13 4K053 PA11 QA07 RA07 SA04 SA06 SA17 SA18 TA01 XA01 XA09 XA22 XA26 XA38 5D112 AA02 AA24 GA02 GA08 GA10 KK02
Claims (6)
- 【請求項１】 ワークの表面に研磨加工などの表面処理
を行った後に、該ワークの表面に付着している異物など
を除去するための洗浄方法であって、 複数のワークを所定の間隔を隔てて洗浄槽内で搬送しな
がら、前記ワークを洗浄する液体洗浄工程と、 該液体洗浄工程により洗浄されたワークを前記洗浄槽か
ら１つずつ取り出して回転ブラシにより前記ワークを１
つずつ洗浄するスクラブ洗浄工程とを有し、 前記液体洗浄工程と前記スクラブ洗浄工程とを複数回繰
り返し、前記ワークの表面の洗浄を行うことを特徴とす
る洗浄方法。 - 【請求項２】 ワークの表面に研磨加工などの表面処理
を行った後に、該ワークの表面に付着している異物など
を除去するための洗浄方法であって、 複数のワークを所定の間隔を隔てて洗浄槽内で搬送しな
がら、前記ワークを洗浄する液体洗浄工程と、 該液体洗浄工程により洗浄されたワークを前記洗浄槽か
ら１つずつ取り出して回転ブラシにより前記ワークを１
つずつ洗浄するスクラブ洗浄工程と、 前記液体洗浄工程と前記スクラブ洗浄工程とを複数回繰
り返した後に、前記ワークを回転させて水切り乾燥する
スピン乾燥工程とを有し、 前記ワークの表面の洗浄と乾燥とを行うことを特徴とす
る洗浄方法。 - 【請求項３】 研磨加工されたワークの表面に付着して
いる異物などを除去するための洗浄方法であって、 研磨加工済みの複数のワークを所定の間隔を隔てて第１
の洗浄槽内で搬送しながら、前記ワークにシャワー液を
吹き付けて前記ワークを液体洗浄する第１の液体洗浄工
程と、 該第１の液体洗浄工程により洗浄されたワークを前記第
１の洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシにより前
記ワークを１つずつブラシ洗浄する第１のスクラブ洗浄
工程と、 該第１のスクラブ洗浄工程により洗浄された前記ワーク
を所定の間隔を隔てて第２の洗浄槽内で搬送しながら、
該第２の洗浄槽内に収容された薬液により前記ワークを
洗浄する第２の液体洗浄工程と、 該第２の液体洗浄工程により洗浄されたワークを前記第
２の洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシにより前
記ワークを１つずつブラシ洗浄する第２のスクラブ洗浄
工程と、 該第２のスクラブ洗浄工程により洗浄された前記ワーク
を所定の間隔を隔てて第３の洗浄槽内で搬送しながら、
該第３の洗浄槽内に収容されて超音波振動が加えられた
振動液により前記ワークを洗浄する第３の液体洗浄工程
と、 該第３の液体洗浄工程により洗浄された前記ワークを前
記第３の洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシによ
り前記ワークを１つずつブラシ洗浄する第３のスクラブ
洗浄工程と、 該第３のスクラブ洗浄工程により洗浄された前記ワーク
を所定の間隔を隔てて第４の洗浄槽内で搬送しながら、
該第４の洗浄槽内に収容された純水により前記ワークを
洗浄する第４の液体洗浄工程と、 該第４の液体洗浄工程により洗浄された前記ワークを前
記第４の洗浄槽から１つずつ取り出して回転ブラシによ
り前記ワークを１つずつブラシ洗浄する第４のスクラブ
洗浄工程と、 該第４のスクラブ洗浄工程により洗浄されたワークを回
転させて水切り乾燥するスピン乾燥工程とを有し、前記
ワークの表面を洗浄および乾燥することを特徴とする洗
浄方法。 - 【請求項４】 ワークの表面に研磨加工などの表面処理
を行った後に、該ワークの表面に付着している異物など
を除去するための洗浄装置であって、 複数のワークを所定の間隔を隔てて搬送するコンベアが
設けられ、前記ワークを液体により洗浄する複数の洗浄
槽と、 それぞれの前記洗浄槽の搬出端部に設けられ、前記洗浄
槽により洗浄されたワークを前記洗浄槽から１つずつ取
り出して回転ブラシにより洗浄するスクラブ洗浄機とを
有することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項５】 ワークの表面に研磨加工などの表面処理
を行った後に、該ワークの表面に付着している異物など
を除去するための洗浄装置であって、 複数のワークを所定の間隔を隔てて搬送するコンベアが
設けられ、前記ワークを液体により洗浄する複数の洗浄
槽と、 それぞれの前記洗浄槽の搬出端部に設けられ、前記洗浄
槽により洗浄されたワークを前記洗浄槽から１つずつ取
り出して回転ブラシにより洗浄するスクラブ洗浄機と、 最終のスクラブ洗浄機による洗浄が終了した後のワーク
を回転させて水切り乾燥するスピン乾燥機とを有するこ
とを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項６】 請求項５記載の洗浄装置において、前記
コンベアはそれぞれ螺旋状の溝を有する複数本のスクリ
ューコンベアからなり、前記ワークを垂直状態を保持し
ながら搬送するようにしたことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27550099A JP2001096245A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27550099A JP2001096245A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001096245A true JP2001096245A (ja) | 2001-04-10 |
Family
ID=17556368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27550099A Pending JP2001096245A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001096245A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007207377A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの洗浄方法およびディスク洗浄システム |
| JP2007280450A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP2008024446A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Hitachi High-Technologies Corp | スクリュー搬送機構およびこれを用いるディスク洗浄装置 |
| WO2009093484A1 (ja) * | 2008-01-22 | 2009-07-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
| JP2009289777A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Sumco Corp | シリコンウェーハ洗浄装置および方法 |
| US7691207B2 (en) | 2005-07-19 | 2010-04-06 | Asahi Glass Company, Limited | Method for cleaning disk-shape glass substrate and magnetic disk |
| JP2010092524A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-22 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| WO2010047119A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
| US7841035B2 (en) | 2005-10-13 | 2010-11-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Disc cleaning machinery, disc cleaning device thereof and rotary brush thereof |
| US8211241B2 (en) | 2006-11-28 | 2012-07-03 | Showa Denko K.K. | Washing device and washing method for substrate for magnetic recording medium |
| CN103252328A (zh) * | 2013-05-15 | 2013-08-21 | 上海净超机械有限公司 | 打印机硒鼓部件清洗设备和清洗方法 |
| US8968484B2 (en) | 2010-08-18 | 2015-03-03 | Showa Denko K.K. | Lifting and drying device and method of manufacturing magnetic recording medium substrate or magnetic recording medium using the same |
| JP2015112586A (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-22 | 株式会社シンオーサービス | 組立式超音波洗浄装置 |
| CN107080509A (zh) * | 2016-02-15 | 2017-08-22 | E.G.O.电气设备制造股份有限公司 | 清洗工艺和清洗装置 |
| CN107088555A (zh) * | 2017-06-14 | 2017-08-25 | 安徽省中阳管业有限公司 | 一种钢带清洗机 |
| WO2024210981A1 (en) * | 2023-04-03 | 2024-10-10 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method of brush cleaning using periodic chemical treatments |
-
1999
- 1999-09-29 JP JP27550099A patent/JP2001096245A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7691207B2 (en) | 2005-07-19 | 2010-04-06 | Asahi Glass Company, Limited | Method for cleaning disk-shape glass substrate and magnetic disk |
| US7841035B2 (en) | 2005-10-13 | 2010-11-30 | Hitachi High-Technologies Corporation | Disc cleaning machinery, disc cleaning device thereof and rotary brush thereof |
| JP2007207377A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの洗浄方法およびディスク洗浄システム |
| JP2007280450A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP4556245B2 (ja) * | 2006-04-03 | 2010-10-06 | 株式会社太陽 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP2008024446A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Hitachi High-Technologies Corp | スクリュー搬送機構およびこれを用いるディスク洗浄装置 |
| US8211241B2 (en) | 2006-11-28 | 2012-07-03 | Showa Denko K.K. | Washing device and washing method for substrate for magnetic recording medium |
| WO2009093484A1 (ja) * | 2008-01-22 | 2009-07-30 | Konica Minolta Opto, Inc. | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 |
| JP2009289777A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Sumco Corp | シリコンウェーハ洗浄装置および方法 |
| JP2010092524A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-22 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2010102772A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
| WO2010047119A1 (ja) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体用基板の洗浄装置及び磁気記録媒体用基板の洗浄方法 |
| US8968484B2 (en) | 2010-08-18 | 2015-03-03 | Showa Denko K.K. | Lifting and drying device and method of manufacturing magnetic recording medium substrate or magnetic recording medium using the same |
| CN103252328A (zh) * | 2013-05-15 | 2013-08-21 | 上海净超机械有限公司 | 打印机硒鼓部件清洗设备和清洗方法 |
| JP2015112586A (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-22 | 株式会社シンオーサービス | 組立式超音波洗浄装置 |
| CN107080509A (zh) * | 2016-02-15 | 2017-08-22 | E.G.O.电气设备制造股份有限公司 | 清洗工艺和清洗装置 |
| CN107088555A (zh) * | 2017-06-14 | 2017-08-25 | 安徽省中阳管业有限公司 | 一种钢带清洗机 |
| WO2024210981A1 (en) * | 2023-04-03 | 2024-10-10 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method of brush cleaning using periodic chemical treatments |
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