JPS6143430A - カセツト洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、半導体ウェーハを収納し処理済みの空のカ
セットを、水洗洗浄し乾燥するカセット洗浄装置に関す
る。

〔従来技術〕

半導体ウェーハ（以下「ウエーノ・」と称する）を多数
枚並立して収容するカセットは、ウェーハの処理工程を
経るごとに、シリコンやレジストの微少粉、じんあいな
どが付着し汚染されてくる。

そこで、カセットを定期的に洗浄することが必要となる
。

従来、カセットを洗浄するには、例えば、中性洗剤を溶
解した水槽内に浸漬して人手によってブラシなどでこす
り、次に洗浄水を充満した水槽内でカセットを丸洗いし
、その後、カセットを引上げ空気ノズル等で１個宛乾燥
していた。

このため、作業能率が著しく低く、洗浄むらが多く、ま
た、カセットを傷付けやすいなどの欠点があった。

〔発明の概要〕

この発明は、汚染したカセットをブラシング洗浄機構に
よりブラシかけと純水の噴出で洗浄し、つぎに、超音波
洗浄機構に移し純水中に浸漬して超音波洗浄し、つづい
て、水滴除去乾燥機構に移し空気を吹付けて水滴を除去
乾燥し、さらに、温風乾燥機構に移し温風を吹出して乾
燥するようにし、カセットの汚染を効果的に除去し、作
業性を向上したカセット洗浄装置を提供することを目的
としている。

〔発明の実施例〕

図はこの発明の一実施例によるカセット洗浄装置の概要
構成を示す平面図である。（１）は被洗浄物であるカセ
ットで、内側の対応する両内面には多数の収容溝が形成
され、ウエーノ・を多数枚並立して収納できるようにし
である０このカセット（１）は上、下部が開放され、両
側部（１ａ）及び一方の端部（１ｂ）はふさがれ、他方
の端部（ＩＯ）は、自動機などで向きを判別するため、
上、下部が大きくくり取られて中間部に桟部が形成され
、位置決めの目安としている。（２）は上記カセット（
１）をまず、水洗するブラシング洗浄機構で、次のよう
に構成されている。（３）はカセット（１）を収容する
ブラシング水洗槽、（４）は円形ブラシで、回転手段（
図示は略す）により回転されながら、カセット（１）の
内面をブラシかけするようにされており、移動手段（図
示は略す）により矢印Ａのように往復移動される。（５
）はカセット（１）の両側部（１ａ）外面をブラシかけ
する１対の円形ブラシで、回転手段（図示は略す）によ
り回転されながら、移動手段（図示は略す）により矢印
Ｂ方向に往復移動される。（６）はカセット（１）の端
部（１ｂ）面をブラシかけする円形ブラシで、回転手段
（図示は略す）により回転されながら、移動手段（図示
は略す）により矢印Ｏ方向に往復移動される。（７）は
水洗槽（３）内に配設された多数の水洗ノズルで、カセ
ット（１）の周囲及び内部に高圧純水を噴出し洗浄する
。

つぎに、（９）はブラシング洗浄機構（２）に続いて配
設された超音波洗浄機構で、次のように構成されている
。（ＩＣｊは超音波水洗槽で、カセット（１）を収容す
る。（１１）は洗浄水供給管で、水洗槽（１０内に下部
から純水を充満し上方からあふれ出させる。水洗槽（１
υの下方には超音波発信器＠が配設されており、超音波
に上りカ七ツ）　（１）を洗浄する。

α葎は超音波水洗槽αηの次に配設された水滴除去乾燥
機構で、次のように構成されている０α→は超音波水洗
槽からのカ七ツ）　＋１１を収容し、付着している水滴
を除去させるための乾燥槽、６時はカセット（１）の内
側を乾燥させる両側１対の空気ノズルで、圧縮空気源（
図示は略す）からの高圧空気を噴出しながら、移動手段
（図示は略す）により矢印りのように往復移動される。

Ｑｆ９はカセット（１）の両外側を乾燥させる両側１対
の空気ノズルで、圧縮空気源（図示は略す）からの高圧
空気を噴出しながら、移動手段（図示は略す）によシ矢
印Ｅ方向に往復移動する。αηはカセット（１）の両端
面を乾燥させる１対の空気ノズルで、圧縮空気源（図示
は略す）からの高圧空気を噴出しながら、首振り手段（
図示は略す）により矢印Ｒのように往復首振りをする０
上記各圧縮空気源は、空気ろ過器に通した清浄空気を供
給する。

さらに、α１は水滴除去乾燥機構ａ罎の次に配設された
温風乾燥機構で、次のように構成されている０翰は乾燥
槽α→からのカセット（１）を収容し、乾燥させるだめ
の温風乾燥槽、Ｑηはこの温風乾燥！Ｍ（イ）内に配設
された複数の温風ノズルで、温風送風機（図示は略す）
からの温風をカセット（１）の周囲に吹出し、完全乾燥
させる０上記温風送風機は、空気ろ過器に通した清浄空
気を供給する０ 上記−実施例の装置によるカセット（１）の洗浄は、次
のようにする０まず、ローダ（図示は略す）側からロボ
ット（図示せず）などでカセット（１）を、矢印Ｆのよ
うに、ブラシング洗浄機構（２）のブラシング水洗槽（
３）に入れ、位置決めの桟部によりカセット（１）を定
位置にする。各円形ブラシ（４）〜（６）を回転させな
がら、カセットの内面及び外側周をブラシかけする（例
えば２分間）０こうして、カセット（１）に付着してい
る汚れを機械的に落す。ブラシかけが終れば、各水洗ノ
ズル（７）から純水を噴出しカセツ）　＋１１の内外面
を十分に水洗する。

水洗後、カセツ）　（１１をロボットなどの搬送手段に
より、矢印Ｇのように、超音波洗浄機構（１１の超音波
水洗槽Ｈに移す。ここで、水洗槽αηに純水が供給され
上部からあふれ出させながら、超音波をかけ約２分間続
行し、カセット（１）のすみずみの汚れを落す。

超音波洗浄されたカセット（１）をロボットなどの搬送
手段により、矢印Ｈのように、水滴除去乾燥機構０３の
乾燥槽（１７０に移す。各空気ノズルαυ〜αηから清
浄な高圧空気を（例えば２分間）噴出し、カセツ）　ｔ
ｌ）の内、外面に付着している水滴を吹き飛ばし除去す
る。

水滴除去乾燥されたカセツ）　（１）は、ロボットなど
の搬送手段により、矢印工のように、次の温風乾燥機横
曲の温風乾燥′ｍ翰に移される。ここで、各温風ノズル
Ｃυから温風を、例えば５０℃で２分間吹出し、カセッ
ト（１）を乾燥させる。

こうして、完全に乾燥されたカセット（１）は、ロボッ
トなどの搬送手段で矢印Ｊのように、次工程へ移動され
る。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば、ブラシング洗浄機構
、超音波洗浄機構、水滴除去乾燥機構及び温風乾燥機構
を順に配設し、カセットを上記各機構に順次移し、洗浄
処理をするようにしたので、カセットの汚染が効果的に
除去され、レジストなどの強く付着した汚れも容易に洗
浄でき、作業性が向上される。

【図面の簡単な説明】

図はこの発明の一実施例によるカセット洗浄装置の概要
構成を示す平面図である０ １・・・カセット、２・・・ブラシング洗浄機構、３・
・・ブラシング水洗楢、４〜６・・・円形ブラシ、７・
・・水洗ノズル、９・・・超音波洗浄機構、ｌＯ・・・
超音波水洗槽、　　　１１・・・洗浄水供給管、１２・
・・超音波発振器、１３・・・水滴除去乾燥機構、１４
・・・乾燥槽、１５〜１７・・・空気ノズル、１９・・
・温風乾燥機構、２０・・・温風乾燥槽、２１・・・温
風ノズル

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　汚染したカセットが収容されるブラシング洗浄槽と、
   上記収容されたカセットの内、外面に対し回転しながら
   ブラシかけをする複数の回転ブラシと、純水を噴出し上
   記カセットの汚染物を除去する複数の空気ノズルとから
   なるブラシング洗浄機構、この洗浄機構の次に配置され
   、上記ブラシかけ洗浄を終えたカセットが収容される超
   音波水洗槽と、この水洗槽に純水を充満し上部からあふ
   れ出させる洗浄水供給管と、超音波を出し収容されてい
   る上記カセットを洗浄する超音波発信器とからなる超音
   波洗浄機構と、この超音波洗浄機構の次に配され、超音
   波洗浄を終えたカセットが収容される乾燥槽と、この乾
   燥槽内の上記カセットの内、外面に空気を吹付け水滴を
   除去する複数のノズルとからなる水滴除去乾燥機構、及
   びこの水滴除去乾燥機構の次に配置され、水滴除去され
   たカセットが収容される温風乾燥槽と、この温風乾燥槽
   内のカセットに対し温風を吹出し乾燥させる複数の温風
   ノズルとからなる温風乾燥機構を備えたカセット洗浄装
   置。