JP2007280450A - ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 464
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 130
- 238000001035 drying Methods 0.000 title claims abstract description 116
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 15
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 27
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009046 primary transport Effects 0.000 description 1
- 230000009049 secondary transport Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
【解決手段】基板Dの供給側6の一側に隣接し洗浄用基板保持手段21,22,23を備えた基板洗浄用インデックステーブル8と、乾燥用基板保持手段25,26,27を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、インデックステーブル10の一側に隣接する基板Dの排出側11と、供給側6を始端としインデックステーブル8,10を介して排出側11を終端とする基板搬送案内路12と、基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる基板搬送用保持手段13,14,15を設ける。インデックステーブル8,10の真上よりも後方へ後退して基板搬送案内路12を設ける。基板搬送案内路12及びこれに沿って移動する基板搬送用保持手段13,14,15に起因する塵などの異物がインデックステーブル8,10の真上から落下することはなく、基板Dの搬送に伴う異物の付着を防止できる。
【選択図】図1
Description
さらに、従来技術においては基板洗浄装置106は、3種類の洗浄具106A,106B,106Cを備えている。洗浄具106Aは基板Dの片面を洗浄するパッド状の洗浄具(例えばスポンジパッド)であり、他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板Dの背後にあるため図示していない。つまり、2個のパッド状の洗浄具106Aで基板Dを挟んでその表面を洗浄する。洗浄具106B,106Cは例えばローラ状の洗浄具であり、基板Dの外周及び内周を洗浄するためのものである。このために保持手段101は夫々基板Dを例えば10cm乃至15cm程度インデックステーブル104から離して保持するようになっている。
8 基板洗浄用インデックステーブル
10 基板乾燥用インデックステーブル
11 排出側
12 基板搬送案内路
13,14,15 搬送用基板保持手段
29 噴出し部
D 基板
Z クリーンエア
Claims (2)
- 基板の供給側と、該供給側に隣接し保持手段を備えたインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設けたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置において、前記基板搬送案内路は前記インデックステーブルの真上よりも後方へ後退して設けられることを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置
- 前記インデックステーブルの真上にクリーンエアの噴出し部を下方に向けて設けたことを特徴とする請求項1記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006102504A JP4556245B2 (ja) | 2006-04-03 | 2006-04-03 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006102504A JP4556245B2 (ja) | 2006-04-03 | 2006-04-03 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007280450A true JP2007280450A (ja) | 2007-10-25 |
JP4556245B2 JP4556245B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=38681749
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006102504A Active JP4556245B2 (ja) | 2006-04-03 | 2006-04-03 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4556245B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008176893A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 乾燥機 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091105 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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