JP2007280451A - ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】搬送用基板保持手段13,14,15は供給側6に設けられる1次側基板保持手段13と、1次側基板保持手段13よりも排出側11に設けられる2次側基板保持手段14と、1次側基板保持手段13と2次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを一体的に設ける。1次側基板保持手段13と中間基板保持手段1の長さX1と、中間基板保持手段15と前記2次側基板保持手段14の長さX2と、供給側6と基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1間の搬送長さX3と、基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1と基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1間の搬送長さX4と、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1と排出側11間の搬送長さX5を同じに形成する。基板Dが滞ることなく同調して搬送できる。
【選択図】図1
Description
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記中間基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置における基板搬送方法である。
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
前記搬送用基板保持手段は、前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記インデックステーブルの前記基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法である。
第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21,22,23は、夫々、基板受取・取出位置L1、第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3にあり、軸8Bを中心として基板Dを断続的に回転可能に保持している。基板受取・取出位置L1は、基板Dの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Dを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル8の上部に配置されている。第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3はインデックステーブル8の左右に配置される。そして、第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3では、洗浄具24が設けられている。尚、洗浄具24は例えば基板Dを洗浄するパッド状のもの(例えばスポンジパッド)などを備えて2個のパッド状のもので基板Dを挟んで基板の表面を洗浄する。
さらに、前記基板搬送案内路12は、基板洗浄用インデックステーブル8及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して設けられている。実施例では基板Dを所定方向に移動するための基板搬送案内路12は仕切り部材2の上部に横向きに設けられた断面が箱形形状のレールであって、開口部19を仕切り部材2に臨ませるように洗浄室3、乾燥室4側に開口しており、この開口部19の内外を第4のアーム17が貫通している。また基板搬送案内路12は開口部19を除いて仕切り部材2に対して密封しており、このように洗浄室3、乾燥室4に開口部19以外は連通しないようにほぼ密封された基板搬送案内路12を摺動部18が摺動するようになっている。
そして、基板Dの供給側6と、該供給側6に隣接し基板受取・取出位置L1、洗浄又は及び乾燥位置L2,Mに配置される基板保持手段21,22,23を有するインデックステーブル8と、該インデックステーブル8に隣接する基板Dの排出側11と、前記供給側6を始端12Aとし前記インデックステーブル8を介して前記排出側11を終端12Aとする基板搬送案内路12と、前記基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段13,14を設け、前記基板Dを前記搬送用基板保持手段13,14を介して基板搬送案内路12に従って搬送するようになっている。
8 基板洗浄用インデックステーブル
10 基板乾燥用インデックステーブル
11 排出側
12 基板搬送案内路
12A 始端
12B 終端
13 1次側基板保持手段
14 2次側基板保持手段
15 中間基板保持手段
18 摺動部(搬送駆動手段)
21,22,23 洗浄用基板保持手段
25,26,27 乾燥用基板保持手段
D 基板
Claims (6)
- 基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄位置に配置される洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し基板受取・取出位置、乾燥位置に配置される乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。 - 基板の供給側と、該供給側に隣接し洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記中間基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置における基板搬送方法。 - 基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。 - 基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は、前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記インデックステーブルの前記基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法。 - 前記複数の基板保持手段を一体に連結した連結部材に単一の搬送駆動手段を設けたことを特徴とする請求項1または3記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
- 前記搬送駆動手段を前記基板搬送案内路にほぼ密封状態に設けることを特徴とする請求項1または3記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
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JP2006102505A JP2007280451A (ja) | 2006-04-03 | 2006-04-03 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010238292A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Hoya Corp | 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体 |
JP2010238293A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Hoya Corp | 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02126981A (ja) * | 1988-11-05 | 1990-05-15 | Sony Corp | 多槽式洗浄装置 |
JPH0344880A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | ディスク洗浄装置 |
JPH0393040A (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-18 | Syst Seiko Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
JPH09206705A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-08-12 | Mitsubishi Chem Corp | ディスク基板洗浄装置 |
JP2001216634A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-10 | Hirata Corp | ディスク洗浄・乾燥装置 |
-
2006
- 2006-04-03 JP JP2006102505A patent/JP2007280451A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02126981A (ja) * | 1988-11-05 | 1990-05-15 | Sony Corp | 多槽式洗浄装置 |
JPH0344880A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | ディスク洗浄装置 |
JPH0393040A (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-18 | Syst Seiko Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
JPH09206705A (ja) * | 1996-02-07 | 1997-08-12 | Mitsubishi Chem Corp | ディスク基板洗浄装置 |
JP2001216634A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-10 | Hirata Corp | ディスク洗浄・乾燥装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010238292A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Hoya Corp | 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体 |
JP2010238293A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Hoya Corp | 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体 |
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