JP2007280451A - ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 - Google Patents

ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007280451A
JP2007280451A JP2006102505A JP2006102505A JP2007280451A JP 2007280451 A JP2007280451 A JP 2007280451A JP 2006102505 A JP2006102505 A JP 2006102505A JP 2006102505 A JP2006102505 A JP 2006102505A JP 2007280451 A JP2007280451 A JP 2007280451A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
holding means
index table
substrate holding
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006102505A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Iihama
孝雄 飯濱
Akira Meguro
晃 目黒
Masahiro Anezaki
雅博 姉崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Co Ltd filed Critical Taiyo Co Ltd
Priority to JP2006102505A priority Critical patent/JP2007280451A/ja
Publication of JP2007280451A publication Critical patent/JP2007280451A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】基板の搬送に伴う搬送効率を向上する。
【解決手段】搬送用基板保持手段13,14,15は供給側6に設けられる1次側基板保持手段13と、1次側基板保持手段13よりも排出側11に設けられる2次側基板保持手段14と、1次側基板保持手段13と2次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを一体的に設ける。1次側基板保持手段13と中間基板保持手段1の長さX1と、中間基板保持手段15と前記2次側基板保持手段14の長さX2と、供給側6と基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1間の搬送長さX3と、基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1と基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1間の搬送長さX4と、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1と排出側11間の搬送長さX5を同じに形成する。基板Dが滞ることなく同調して搬送できる。
【選択図】図1

Description

本発明は、電子装置等に使用されるハードディスクの基板を洗浄し乾燥させるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法に関するものである。
従来、この種のものとして基板の供給側と、インデックステーブルを備えた基板洗浄部と、同じくインデックステーブルを備えた基板乾燥部と、基板の排出側を一列に並べ、供給側と基板洗浄部との間、基板洗浄部と基板乾燥部との間、さらに基板乾燥部と排出側との間にそれぞれ基板搬送案内路を設けて、供給側の基板を基板の保持手段によって順次排出側に搬送することにより基板を連続的に洗浄、乾燥を行うものが知られている(例えば特許文献1)。
この従来技術では図8、図9に示すように、基板の保持手段101は夫々基板を保持していない状態と仮定する。保持手段102が、マガジン103から1枚の基板を取り出し、基板受取位置M1にある保持手段101まで基板を搬送する。保持手段101は例えば3個の基板保持具101A,101B,101Cを夫々外側にずらして基板Dを受け取り、基板Dを回転可能に保持する。その後、洗浄用のインデックステーブル104が矢印105の方向に90度ごとに回転し、保持手段101は夫々第1,2基板洗浄位置M2,M3及び基板取出位置M4となる。保持手段101が第1基板洗浄位置M1になると、基板洗浄器106が移動し、基板Dの両面、内周、外周を洗浄具106A,106B,106Cを用いて中性洗剤によりスクラブ洗浄する。基板Dは回転自由に保持されている。基板受取位置M1において基板の受取が完了し且つ第1基板洗浄位置M2で基板の洗浄が終了すると、基板洗浄器106はインデックステーブル104の回転に支障がない位置に待避し、インデックステーブル104が矢印105の方向に90度回転する。この回転により、保持手段101は夫々第1基板洗浄位置M2、第2基板洗浄位置M3、基板取出位置M4となる。第1の基板洗浄器106と同様の構成の第2の基板洗浄器107は、市水或いは純水により基板を更に洗浄する。この間に、基板洗浄器106は第2の基板Dを中性洗剤により洗浄し、基板受取位置M1にある保持手段101は基板Dを受け取っている。基板Dの受け取り、第1及び第2の基板洗浄が完了すると、インデックステーブル104は更に90度回転する。基板取出位置M4にきた基板Dは例えば純水のシャワーリンスを受けた後、基板搬送手段108により取り外され、基板洗浄室109Aから基板乾燥室109Bに運ばれる。このようにして、基板洗浄室109Aは複数の基板Dを順次洗浄して次段の基板乾燥室109Bに送り出す。乾燥室109Bにはインデックステーブル110を有し、矢印111の方向に回転可能である。インデックステーブル110には、基板Dの保持手段112が設けられ、夫々、基板受取位置N1、第1乾燥位置N2、第2乾燥位置N3、基板取出位置N4にある。保持手段112は夫々基板Dの内周壁の3点で基板を固定して保持するように例えば3個の基板保持具112A,112B,112Cを備えている。113は基板Dを遠心力で乾燥させる際の水滴飛散防止用の壁である。
そして、第1枚目の基板D(第1の基板)が基板受取位置N1にある保持手段101に取り付けられると、インデックステーブル104は矢印111の方向に90度回転し、保持手段112は夫々N2,N3,N4,N1で示す基板処理位置になる。第1基板乾燥位置N2に移動した第1の基板Dに付着した水分は高速回転により除去される(スピン乾燥)。第1基板乾燥位置N2でのスピン乾燥が終了し且つ第2枚目の基板Dが保持手段112に取り付けられると、インデックステーブル110は更に90度回転し、保持手段112はN3で示す基板処理位置になる。第2乾燥位置N3において更にスピン乾燥を受けるが、保持手段112は夫々図示しないスピン乾燥用のモータを備えている。次に、インデックステーブル110が更に90度回転し、保持手段112は夫々N4,N3,N2,N1で示す基板処理位置になり、基板Dは搬送手段114により搬出される。このようにして、基板洗浄部10から送られてくる複数の洗浄済み基板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
さらに、従来技術においては基板洗浄装置106は、3種類の洗浄具106A,106B,106Cを備えている。洗浄具106Aは基板Dの片面を洗浄するパッド状の洗浄具(例えばスポンジパッド)であり、他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板Dの背後にあるため図示していない。つまり、2個のパッド状の洗浄具106Aで基板Dを挟んでその表面を洗浄する。洗浄具106B,106Cは例えばローラ状の洗浄具であり、基板Dの外周及び内周を洗浄するためのものである。このために保持手段101は夫々基板Dを例えば10cm乃至15cm程度インデックステーブル104から離して保持するようになっている。
特開平3−93040号公報
従来技術においては供給側とインデックステーブルとの間の搬送用基板保持手段、さらにはインデックステーブルと排出側との搬送用基板保持手段がそれぞれ独立して作動するものであるが、排出側で基板の流れが詰まっている場合には、インデックステーブルと排出側との基板のやりとりはできず、この結果インデックステーブル側での基板の流れが詰まり、したがって供給側とインデックステーブルとの間での基板のやり取りができなくなってしまいやすいという現状がある。
ところで、ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置においてはハードディスクへのごみの付着は不良品の原因となり、このために装置内でのごみの発生源を極力少なくする必要がある。しかしながら、従来技術においては供給側とインデックステーブルとの間、さらにはインデックステーブルと排出側との間のように搬送用基板保持手段がそれぞれ独立して作動していたのでそれぞれの移動用手段が必要であり、このような複数の移動手段によってごみの発生が高くなってしまうという問題点があった。
解決しようとする問題点は、基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設けたハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法において、基板の搬送に伴う搬送効率を向上することにある。また塵などの異物の発生を低減することにある。
請求項1の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄位置に配置される洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し基板受取・取出位置、乾燥位置に配置される乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
請求項2の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記中間基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置における基板搬送方法である。
請求項3の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
請求項4の発明は、基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
前記搬送用基板保持手段は、前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記インデックステーブルの前記基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法である。
請求項5の発明は、前記複数の基板保持手段を一体に連結した連結部材に単一の搬送駆動手段を設けたことを特徴とする請求項1または3記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置である。
請求項6の発明は、で前記搬送駆動手段を前記基板搬送案内路にほぼ密封状態に設けることを特徴とする請求項1または3記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置ある。
請求項1の発明によれば、一体に作動する1次側基板保持手段と2次側基板保持手段と中間基板保持手段によって、供給側から基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置、基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板Dが滞ることなく同調して搬送できる。
請求項2の発明によれば、同調して作動する1次側基板保持手段と2次側基板保持手段と中間基板保持手段によって、供給側から基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置、基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板Dが滞ることなく同調して搬送できる。
請求項3の発明によれば、一体に作動する1次側基板保持手段と2次側基板保持手段によって、供給側から基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板が滞ることなく同調して搬送できる。
請求項4の発明によれば、同調して作動する1次側基板保持手段と2次側基板保持手段によって、供給側から基板受取・取出位置を介して排出側にかけて基板が滞ることなく同調して搬送できる。
請求項5の発明によれば、搬送駆動手段を単一とすることで、搬送駆動手段の作動に伴う塵などの発生を可及的に低減することができる。
請求項6の発明によれば、基板搬送案内路で生ずる塵などの異物の基板への付着を極力防止することができる。
本発明における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。
図1乃至図5実施例1を示しており、ハードディスク基板Dの洗浄・乾燥装置は、図1に示すように箱型ケース状の機枠1を板状の仕切り部材2を介して前方には洗浄室3を、さらにその一側には乾燥室4を形成し、さらに機枠1の後方には仕切り部材2を介して制御機器等を収容する機械室5が形成されている。そして前方には一側へ向けて横並びに、基板Dの供給側6である洗浄・乾燥前の基板Dを複数枚収納するマガジンと、該供給側6の一側に隣接し基板洗浄部を形成するための洗浄用基板保持手段7を備えた基板洗浄用インデックステーブル8と、該基板洗浄用インデックステーブル8の一側に隣接し基板乾燥部を形成するための乾燥用基板保持手段9を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10の一側に隣接する基板Dの排出側11たるマガジンを設けている。尚、基板Dは円板状であって、中心に貫通孔が形成されている。
そして、基板洗浄用インデックステーブル8と基板乾燥用インデックステーブル10はそれぞれ裏側にあるモータ8Aによって回動できるようになっている。
さらに、機枠1の上部に供給側6方向の上方、実施例では基板洗浄用インデックステーブル8側の上方を始端12Aとし基板洗浄用インデックステーブル8の上方と基板乾燥用インデックステーブル10の上方を介して、排出側11方向の上方、実施例では基板乾燥用インデックステーブル10の上方を終端12Bとする基板搬送案内路12がレールによって設けられている。そして、この基板搬送案内路12には、基板Dを掴み或いは離して1枚づつ或いは複数枚づつ搬送する搬送用基板保持手段13,14,15が設けられている。実施例では1枚づつ搬送する場合を示している。
搬送用基板保持手段13,14,15は、供給側4に設けられる1次側基板保持手段13と、該1次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる2次側基板保持手段14と、1次側基板保持手段13と2次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを備え、これら1次側基板保持手段13、2次側基板保持手段14、中間基板保持手段15は連結部材16を介して一体的に設けられるものであって、連結部材16は基板搬送案内路12に沿うように横長に設けられると共に、基板搬送案内路12の長手方向に沿って移動可能に設けられている。そして、連結部材16の供給側6寄りの前側に1次側基板保持手段13が第1のアーム16Aを介して設けられている。この第1のアーム16Aは下向きに配置されるものであって、その先端に1次側基板保持手段13が後方へ向けて設けられている。同様に、連結部材16の排出側11寄りに2次側基板保持手段14が第2のアーム16Bを介して設けられ、連結部材16の1次側基板保持手段13と2次側基板保持手段14との間に第3のアーム16Cを介して中間基板保持手段15が設けられている。尚、1次側基板保持手段13、2次側基板保持手段14及び中間基板保持手段15は後述する基板受取・取出位置L1,M1に基板Dに対して正面側で対向可能に移動できるようになっている。
そして、連結部材16の横向き方向の中央の後側には、後方に突設する第4のアーム17を介して基板搬送案内路12に摺動自在に設けられるモータ(図示せず)駆動の搬送駆動手段たる単一の摺動部18が一体的に設けられている。
前記基板洗浄用インデックステーブル8は、中心軸8Bを中心として矢印Aの方向に回転可能であり、図示の実施例では、洗浄用基板保持手段7は第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21,22,23を周方向に等間隔に有する。第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21,22,23により基板Dを回転可能に保持する。
第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21,22,23は、夫々、基板受取・取出位置L1、第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3にあり、軸8Bを中心として基板Dを断続的に回転可能に保持している。基板受取・取出位置L1は、基板Dの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Dを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル8の上部に配置されている。第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3はインデックステーブル8の左右に配置される。そして、第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3では、洗浄具24が設けられている。尚、洗浄具24は例えば基板Dを洗浄するパッド状のもの(例えばスポンジパッド)などを備えて2個のパッド状のもので基板Dを挟んで基板の表面を洗浄する。
従って、インデックステーブル8が120度ごとに回転することにより基板受取・取出位置L1、第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3に、第1乃至第3の洗浄用基板保持手段21,22,23 が順次配置され、基板受取・取出位置L1においては基板Dが受取され、第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3においては洗浄され、そして洗浄された基板Dは再び基板受取・取出位置L1に配置されて取出されるようになっている。
前記基板乾燥用インデックステーブル10は、矢印Bの方向に回転可能であり、このインデックステーブル10上には、乾燥用基板保持手段9として第1乃至第3の乾燥用基板保持手段25,26,27を周方向に等間隔に有する。第1乃至第3の乾燥用基板保持手段25,26,27は、夫々、基板受取・取出位置M1、第1の基板乾燥位置M2、第2の基板乾燥位置M3にあり、基板Dを回転可能に保持している。基板受取・取出位置M1は、基板Dの受取位置と取出位置を同一個所で兼用したもので基板Dを受取るか或いは取出できるようになっており、インデックステーブル10の上部に配置されている。第1の基板乾燥位置M2、第2の基板乾燥位置M3においては、基板Dを高速回転して基板Dを遠心力で乾燥させるものであり、そのために乾燥用基板保持手段25,26,27の外側には水滴飛散防止用の壁28が設けられている。
従って、インデックステーブル10が120度(360度/位置の数3)ごとに回転することにより回転することにより基板受取・取出位置M1、第1の基板乾燥位置M2、第2の基板乾燥位置M3に、第1乃至第3の乾燥用基板保持手段25,26,27が順次配置され、基板受取・取出位置M1においては基板Dが受取され、第1の基板乾燥位置M2、第2の基板乾燥位置M3においてはスピン乾燥され、そして乾燥された基板Dは再び基板受取・取出位置M1に配置されて取出されるようになっている。
さらに、前記基板搬送案内路12は、基板洗浄用インデックステーブル8及び基板乾燥用インデックステーブル10の真上よりも後方へ後退して設けられている。実施例では基板Dを所定方向に移動するための基板搬送案内路12は仕切り部材2の上部に横向きに設けられた断面が箱形形状のレールであって、開口部19を仕切り部材2に臨ませるように洗浄室3、乾燥室4側に開口しており、この開口部19の内外を第4のアーム17が貫通している。また基板搬送案内路12は開口部19を除いて仕切り部材2に対して密封しており、このように洗浄室3、乾燥室4に開口部19以外は連通しないようにほぼ密封された基板搬送案内路12を摺動部18が摺動するようになっている。
そして、1次側基板保持手段13と中間基板保持手段15との一側横向き方向の長さX1と、中間基板保持手段15と2次側基板保持手段14との間の一側横向き方向の長さX2と、供給側6と基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1間の一側横向き方向の搬送長さX3と、基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1と基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1間の一側横向き方向の搬送長さX4と、基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1と排出側11間の一側横向き方向の搬送長さX5を同じに形成している(X1=X2=X3=X4=X5)。
次に、前記構成の作用について説明する。予め供給側6には洗浄前の基板Dが供給されている。そして、図1に示すように摺動部18が基板搬送案内路12に従って移動することにより連結部材16と一体的な1次側基板保持手段13を供給側6に対向するように対応させ、中間基板保持手段15を基板洗浄用インデックステーブル8における基板受取・取出位置L1にある第1の洗浄用基板保持手段21に対向するように対応させ、2次側基板保持手段14を基板乾燥用インデックステーブル10における基板受取・取出位置M1にある第1の乾燥用基板保持手段25に対向するように対応させる。そして、1次側基板保持手段13により供給側6の基板Dを取出し、さらに2次側基板保持手段14により基板受取・取出位置L1の基板Dを取出し、中間基板保持手段15により基板受取・取出位置M1の基板Dを取出す。
次に摺動部18が基板搬送案内路12を一側に長さX1分移動すると、第1のアーム16A、第2のアーム16B、第3のアーム16Cを介して1次側基板保持手段13、2次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは基板受取・取出位置L1、基板受取・取出位置M1、排出側11に対向するように対応する。これにより1次側基板保持手段13によって供給側6の基板Dを基板受取・取出位置L1に受け取る。2次側基板保持手段14、中間基板保持手段15によってそれぞれ基板受取・取出位置L1、基板受取・取出位置M1の基板Dを受け取る。そして、インデックステーブル8が回転することにより基板受取・取出位置L1にあった基板Dは第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3において洗浄され、そして洗浄された基板Dは再び基板受取・取出位置L1に位置する。同様に、インデックステーブル10が回転することにより基板受取・取出位置M1にあった基板Dは第1の基板乾燥位置M2、第2の基板乾燥位置M3においてスピン乾燥され、そして乾燥された基板Dは再び基板受取・取出位置M1に位置する。
このような基板Dの洗浄、乾燥の間に、摺動部18が基板搬送案内路12を他側に長さX1分移動すると、第1のアーム16A、第2のアーム16B、第3のアーム16Cを介して1次側基板保持手段13、2次側基板保持手段14、中間基板保持手段15も移動してこれらは供給側6、基板受取・取出位置L1、基板受取・取出位置M1に対向するように対応する。そして、1次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、2次側基板保持手段14を介して再び供給側6の基板Dは基板受取・取出位置L1へ、基板受取・取出位置L1にある洗浄された基板Dは基板受取・取出位置M1へ、基板受取・取出位置M1の乾燥された基板Dは排出側11へ同時に搬送される。このようにして基板Dは順次搬送されて洗浄、乾燥が繰り返される。尚、1次側基板保持手段13、中間基板保持手段15、2次側基板保持手段14における一側横向き方向ではなく、基板Dを着脱するため前後方向の移動についてはその記載を省略する。
以上のように、基板Dの供給側6と、該供給側6に隣接し基板受取・取出位置L1、洗浄位置L2,L3に配置される洗浄用基板保持手段21,22,23を備えた基板洗浄用インデックステーブル8と、該基板洗浄用インデックステーブル8に隣接し基板受取・取出位置M1、乾燥洗浄位置M2,M3に配置される乾燥用基板保持手段25,26,27を備えた基板乾燥用インデックステーブル10と、該基板乾燥用インデックステーブル10に隣接する基板の排出側11と、前記供給側6を始端12Aとし前記基板洗浄用インデックステーブル8と前記基板乾燥用インデックステーブル10を介して前記排出側11を終端12Bとする基板搬送案内路12と、前記基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段13,14,15を設け、前記基板Dは前記搬送用基板保持手段13,14,15を介して前記基板搬送案内路12に沿って搬送され、前記搬送用基板保持手段13,14,15は前記供給側6に設けられる1次側基板保持手段13と、該1次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる2次側基板保持手段14と、前記1次側基板保持手段13と2次側基板保持手段14との間に設けられる中間基板保持手段15とを一体的に設けたことにおり、それぞれの搬送用基板保持手段13,14,15を同時に同調して作動することができる。また、前記1次側基板保持手段13と前記中間基板保持手段15との間の長さX1と、前記中間基板保持手段15と前記2次側基板保持手段14との間の長さX2と、前記供給側6と前記基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1間の搬送長さX3と、前記基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1と前記基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1間の搬送長さX4と、前記基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1と前記排出側11間の搬送長さX5を同じに形成したことにより、1次側基板保持手段13が供給側6にあるときには、前記中間基板保持手段15は基板受取・取出位置L1、2次側基板保持手段14は基板受取・取出位置M1にあり、1次側基板保持手段13が基板受取・取出位置L1に移動すると、同時に中間基板保持手段15は基板受取・取出位置L1に、2次側基板保持手段14は排出側11に移動するので、供給側6から基板受取・取出位置L1、基板受取・取出位置M1を介して排出側11にかけて基板Dが滞ることなく同調して搬送できる。
さらに、前記中間基板保持手段15は前記1次側基板保持手段13が前記供給側6に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1に対応するか或いは前記1次側基板保持手段13が前記基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1に対応するとき前記乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段14は前記1次側基板保持手段13が前記供給側6に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブル10の基板受取・取出位置M1に対応するか或いは前記1次側基板保持手段13が前記基板洗浄用インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1に対応するとき前記排出側11に選択的に対応することにより、1次側基板保持手段13が基板受取・取出位置L1に移動すると、同時に中間基板保持手段15は基板受取・取出位置L1に、2次側基板保持手段14は排出側11に移動するので、供給側6から基板受取・取出位置L1、基板受取・取出位置M1を介して排出側11にかけて基板Dが滞ることなく同調して搬送できる。
さらに、前記複数の基板保持手段13,14,15を一体に連結した連結部16に搬送駆動手段たる単一の摺動部18を設けたことにより、基板保持手段13,14,15にそれぞれ摺動駆動部を必要とせず、それぞれの駆動部を共有した単一の摺動部18とすることで、摺動駆動部の作動に伴う塵などの発生を可及的に低減することができる。
また、基板搬送案内路12の開口部19のみを洗浄室3、乾燥室4側に開口し、前記摺動部18を前記基板搬送案内路12の開口部19に配置することにより、洗浄室3、乾燥室4側に対して基板搬送案内路12をほぼ密封状態に設けることで、基板搬送案内路12で生ずる塵などの異物の洗浄室3、乾燥室4側への侵入を極力防止することができる。
図6は実施例2を示しており、前記実施例1と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。実施例2においては、1台のインデックステーブル8において、第2の洗浄位置を乾燥位置Mにして1台のインデックステーブル8で、基板受取・取出位置L1と、洗浄位置L2と、乾燥位置Mとを備えたものである。
そして、基板Dの供給側6と、該供給側6に隣接し基板受取・取出位置L1、洗浄又は及び乾燥位置L2,Mに配置される基板保持手段21,22,23を有するインデックステーブル8と、該インデックステーブル8に隣接する基板Dの排出側11と、前記供給側6を始端12Aとし前記インデックステーブル8を介して前記排出側11を終端12Aとする基板搬送案内路12と、前記基板搬送案内路12に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段13,14を設け、前記基板Dを前記搬送用基板保持手段13,14を介して基板搬送案内路12に従って搬送するようになっている。
そして、前記搬送用基板保持手段13,14は前記供給側6に設けられる1次側基板保持手段13と該1次側基板保持手段13よりも前記排出側11に設けられる2次側基板保持手段14を一体的に設け、前記1次側基板保持手段13と前記2次側基板保持手段14との間の一側横向き方向の長さY1と、前記供給側6と前記インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1間の一側横向き方向の搬送長さY2と、前記インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1と前記排出側11間の一側横向き方向の搬送長さY3とを同じに形成する。
そして、連結部材16の移動に伴って、1次側基板保持手段13、2次側基板保持手段14は実線で示す位置と2点鎖線で示す位置とを選択的に移動して、順次基板Dは基板受取・取出位置L1で受取、取出され、第1の基板洗浄位置L2で洗浄され、基板洗浄位置Lで乾燥が行われるものである。
前記1次側基板保持手段13は前記供給側6及び前記インデックステーブル8の前記基板受取・取出位置L1に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段14は前記1次側基板保持手段13が前記供給側6に対応するとき前記インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1に対応するか或いは前記1次側基板保持手段13が前記インデックステーブル8の基板受取・取出位置L1に対応するとき前記排出側11に選択的に対応することにより、1次側基板保持手段13が基板受取・取出位置L1に移動すると、同時に2次側基板保持手段14は排出側11に移動するので、供給側6から基板受取・取出位置L1を介して排出側11にかけて基板Dが滞ることなく同調して搬送できる。
図7は実施例3を示しており、前記実施例1と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明を省略する。実施例3においては、第1のアーム16A等には洗浄用基板保持手段21等が左右一対設けられたものであり、一対の基板保持手段21によりそれぞれ基板Dを保持して、同時に洗浄、乾燥できるようにしたものである。この場合は、インデックステーブル8,10に基板受取・取出位置M1、第1の基板乾燥位置M2、第2の基板乾燥位置M3、基板受取・取出位置L1、第1の基板洗浄位置L2、第2の基板洗浄位置L3が左右一対にそれぞれ設けられることとなる。
以上のように本発明に係るハードディスク基板の洗浄・乾燥装置は、各種の用途に適用できる。
本発明の実施例1を示す作動前の概略正面図である。 同作動後の概略正面図である。 同概略側断面図である。 同基板保持手段の概略正面図であり、図4(A)は洗浄用基板保持手段の概略正面図であり、図4(B)は乾燥用基板保持手段の概略正面図である。 同要部の斜視図である。 本発明の実施例2を示す概略正面図である。 本発明の実施例3を示す概略正面図である。 従来技術の概略正面図である。 従来技術のインデックステーブルまわりの概略断面図である。
符号の説明
6 供給側
8 基板洗浄用インデックステーブル
10 基板乾燥用インデックステーブル
11 排出側
12 基板搬送案内路
12A 始端
12B 終端
13 1次側基板保持手段
14 2次側基板保持手段
15 中間基板保持手段
18 摺動部(搬送駆動手段)
21,22,23 洗浄用基板保持手段
25,26,27 乾燥用基板保持手段
D 基板

Claims (6)

  1. 基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄位置に配置される洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し基板受取・取出位置、乾燥位置に配置される乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
    前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
  2. 基板の供給側と、該供給側に隣接し洗浄用基板保持手段を備えた基板洗浄用インデックステーブルと、該基板洗浄用インデックステーブルに隣接し乾燥用基板保持手段を備えた基板乾燥用インデックステーブルと、該基板乾燥用インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記基板洗浄用インデックステーブルと前記基板乾燥用インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板は前記搬送用基板保持手段を介して前記基板搬送案内路に沿って搬送されるハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
    前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と、該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段と、前記1次側基板保持手段と2次側基板保持手段との間に設けられる中間基板保持手段とを設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記中間基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記基板乾燥用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記基板洗浄用インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置における基板搬送方法。
  3. 基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置であって、
    前記搬送用基板保持手段は前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を一体的に設けたことを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
  4. 基板の供給側と、該供給側に隣接し基板受取・取出位置、洗浄及び乾燥位置に配置される基板保持手段を有するインデックステーブルと、該インデックステーブルに隣接する基板の排出側と、前記供給側を始端とし前記インデックステーブルを介して前記排出側を終端とする基板搬送案内路と、前記基板搬送案内路に沿って移動可能に設けられる搬送用基板保持手段を設け、前記基板を前記搬送用基板保持手段を介して基板搬送案内路に従って搬送するハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法であって、
    前記搬送用基板保持手段は、前記供給側に設けられる1次側基板保持手段と該1次側基板保持手段よりも前記排出側に設けられる2次側基板保持手段を設け、前記1次側基板保持手段は前記供給側及び前記インデックステーブルの前記基板受取・取出位置に選択的に対応し、前記2次側基板保持手段は前記1次側基板保持手段が前記供給側に対応するとき前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するか或いは前記1次側基板保持手段が前記インデックステーブルの基板受取・取出位置に対応するとき前記排出側に選択的に対応することを特徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置の基板搬送方法。
  5. 前記複数の基板保持手段を一体に連結した連結部材に単一の搬送駆動手段を設けたことを特徴とする請求項1または3記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
  6. 前記搬送駆動手段を前記基板搬送案内路にほぼ密封状態に設けることを特徴とする請求項1または3記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
JP2006102505A 2006-04-03 2006-04-03 ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 Pending JP2007280451A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006102505A JP2007280451A (ja) 2006-04-03 2006-04-03 ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006102505A JP2007280451A (ja) 2006-04-03 2006-04-03 ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007280451A true JP2007280451A (ja) 2007-10-25

Family

ID=38681750

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006102505A Pending JP2007280451A (ja) 2006-04-03 2006-04-03 ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007280451A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010238292A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Hoya Corp 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体
JP2010238293A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Hoya Corp 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02126981A (ja) * 1988-11-05 1990-05-15 Sony Corp 多槽式洗浄装置
JPH0344880A (ja) * 1989-07-13 1991-02-26 Hitachi Electron Eng Co Ltd ディスク洗浄装置
JPH0393040A (ja) * 1989-09-04 1991-04-18 Syst Seiko Kk ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置
JPH09206705A (ja) * 1996-02-07 1997-08-12 Mitsubishi Chem Corp ディスク基板洗浄装置
JP2001216634A (ja) * 2000-01-31 2001-08-10 Hirata Corp ディスク洗浄・乾燥装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02126981A (ja) * 1988-11-05 1990-05-15 Sony Corp 多槽式洗浄装置
JPH0344880A (ja) * 1989-07-13 1991-02-26 Hitachi Electron Eng Co Ltd ディスク洗浄装置
JPH0393040A (ja) * 1989-09-04 1991-04-18 Syst Seiko Kk ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置
JPH09206705A (ja) * 1996-02-07 1997-08-12 Mitsubishi Chem Corp ディスク基板洗浄装置
JP2001216634A (ja) * 2000-01-31 2001-08-10 Hirata Corp ディスク洗浄・乾燥装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010238292A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Hoya Corp 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体
JP2010238293A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Hoya Corp 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9666455B2 (en) Substrate cleaning apparatus
EP1186006B1 (en) Method and system for cleaning a semiconductor wafer
US10879086B2 (en) Substrate cleaning device, substrate cleaning apparatus, method for manufacturing cleaned substrate and substrate processing apparatus
TW201811454A (zh) 基板處理裝置
JP2021057379A (ja) 基板処理装置
JP2007280451A (ja) ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法
JP6224974B2 (ja) 基板洗浄機、基板洗浄装置、洗浄済基板の製造方法及び基板処理装置
JPH1131674A (ja) ウェーハ洗浄装置
TW200507034A (en) Transport method and transport apparatus for semiconductor wafer
JP3628919B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2802783B2 (ja) ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置
TWI668074B (zh) 鑽頭自動清洗裝置
JP4556245B2 (ja) ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置
JP2001009713A (ja) ポリッシング装置
TWI626091B (zh) 板邊清洗系統
JPH10223583A (ja) ブラシ式洗浄装置
JP2008021342A (ja) ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置
KR20140123207A (ko) 자재 생산 설비 내에서의 자재 회전을 위한 컨베이어 장치
JPH07241534A (ja) 基板洗浄装置
JP2021034686A (ja) 基板処理装置
JPWO2018221395A1 (ja) 表面処理装置及び搬送治具
KR100665662B1 (ko) 수직형 다중 기판 처리 시스템 및 그 처리 방법
JP2015162258A (ja) ハードディスク基板の洗浄装置
JPH11274283A (ja) 搬送方法及び搬送装置
JP2006179955A (ja) ポリッシング装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071129

A977 Report on retrieval

Effective date: 20091105

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20091207

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100203

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20100301

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

RD13 Notification of appointment of power of sub attorney

Effective date: 20100416

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433

A521 Written amendment

Effective date: 20100428

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

RD15 Notification of revocation of power of sub attorney

Effective date: 20100512

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7435

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100514

A521 Written amendment

Effective date: 20100514

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100628