JP2010238293A

JP2010238293A - 積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板及び磁気記録媒体

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Publication number: JP2010238293A
Application number: JP2009084009A
Authority: JP
Inventors: Marquez Joseph; マルケスジョセフ
Original assignee: Hoya Corp; Hoya Glass Disk Philippines Inc
Current assignee: Hoya Corp; Hoya Glass Disk Philippines Inc
Priority date: 2009-03-31
Filing date: 2009-03-31
Publication date: 2010-10-21
Anticipated expiration: 2029-03-31
Also published as: JP5214517B2

Abstract

【課題】積層体の形成を自動化できる装置を提供する。
【解決手段】積層体形成装置２１はガラス載置部２５とスペーサ載置部２７を有し、ガラス載置部２５とスペーサ載置部２７の間には積層体載置部２９を有している。
また、積層体形成装置２１はガラス載置部２５、スペーサ載置部２７、積層体載置部２９の配置形状が形成する列に平行に移動可能な第１アクチュエータ３７が設けられている。
さらに、積層体形成装置２１は第１アクチュエータ３７の移動方向に垂直に移動可能な第２アクチュエータ４１が設けられている。
また、第２アクチュエータにはガラスチャック４７ａおよびスペーサチャック４７ｂが設けられている。
【選択図】図４

Description

本発明は積層体形成装置、積層体形成方法、ガラス基板の製造方法、ガラス基板および磁気記録媒体に関するものである。

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。

このような磁気記録技術のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板としては、かつてはアルミニウム基板が広く用いられてきた。

しかしながら、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、近年は、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板の需要が高まっている。

ガラス基板は、従来、例えば、特許文献１の段落〔０００４〕に示すように、ガラスを円盤状に形成して面取りを行い、端面および主表面を研磨し、その後に耐衝撃性や耐振動性を向上させるための化学強化処理を施すことにより製造されていた（特許文献１）。

ここで、端面を研磨する方法としては、一枚ずつ研磨していると手間がかかるため、例えば特許文献２の図４のように、スペーサを介してガラスを複数枚積層させ、ブラシを用いて複数のガラス基板の端面を一度に自動研磨する方法がある（特許文献２）。

なお、スペーサは、端面の研磨残りを防止するため、ならびに、端面研磨時に積層体を固定するためにガラスを締め付けることにより発生する締め付け力によってガラスが破損するのを防止するために設けられている。

特開２０００−０７６６５２号公報特開２００８−２６９７６６号公報

特許文献２に記載の端面研磨方法は、複数枚のガラスを一度に自動研磨できるという点では非常に有用な発明である。

しかしながら、特許文献２に記載の端面研磨を行う場合、基板とスペーサの積層体を事前に用意する必要があるが、積層体の形成は自動化されておらず、これが自動化できればより望ましい。

本発明は上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、積層体の形成を自動化できる装置を提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を有する。

（構成１）ガラス基材が載置されるガラス載置部と、スペーサが載置されるスペーサ載置部と、前記ガラス載置部と前記スペーサ載置部の間に設けられ、前記ガラス基材と前記スペーサが交互に積層された積層体を載置する積層体載置部と、前記ガラス基材をチャックして前記積層体載置部に載置するガラス基材チャック手段と、前記スペーサをチャックして前記積層体載置部に載置するスペーサチャック手段と、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段とが交互に前記ガラス基材と前記スペーサを前記積層体載置部に載置することにより前記積層体を形成可能な形成手段と、を有することを特徴とする積層体形成装置。

（構成２）前記ガラス基材チャック手段および／または前記スペーサチャック手段は、前記ガラス基材チャック手段および／または前記スペーサチャック手段を吸着する手段を有することを特徴とする構成１記載の積層体形成装置。

（構成３）前記スペーサ載置部、前記積層体載置部、前記ガラス基材チャック手段、前記スペーサチャック手段は平面状の配置形状が一列になるように配置されていることを特徴とする構成１または２のいずれかに記載の積層体形成装置。

（構成４）前記ガラス載置部と前記積層体載置部、および、前記積層体載置部と前記スペーサ載置部は、それぞれ等間隔に配置されていることを特徴とする構成１記載の積層体形成装置。

（構成５）前記形成手段は、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を、前記ガラス載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち２つの上方に、一体となって移動させる第１の移動手段と、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を、前記ガラス載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち２つに向けて一体となって移動させる第２の移動手段と、を有することを特徴とする構成１記載の積層体形成装置。

（構成６）前記第１の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部の上方に移動させる制御手段（ａ）と、前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材チャック手段を用いて前記ガラス基材をチャックする制御手段（ｂ）と、前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段（ｃ）と、前記第１の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部の上方に移動させる制御手段（ｄ）と、前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材を前記積層体載置部に載置し、かつ前記スペーサチャック手段を用いて前記スペーサをチャックする制御手段（ｅ）と、前記第１の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段（ｆ）と、前記制御手段（ａ）〜（ｆ）をこの順番で繰り返す制御手段（ｇ）と、を有することを特徴とする構成５記載の積層体形成装置。

（構成７）前記制御手段（ｂ）は、前記スペーサチャック手段が前記スペーサをチャックした状態では、前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材チャック手段を用いて前記ガラス基材をチャックするとともに、前記スペーサを前記積層体載置部に載置する手段であることを特徴とする構成６記載の積層体形成装置。

（構成８）構成１〜７のいずれかに記載の積層体形成装置を用いたことを特徴とする積層体形成方法。

（構成９）構成８記載の積層体形成方法を工程に含むことを特徴とするガラス基板の製造方法。

（構成１０）構成９記載のガラス基材の製造方法により製造されたことを特徴とするガラス基板。

（構成１１）構成１０記載のガラス基板と、前記磁気ディスク用基板の表面に設けられた下地層、磁性層、保護層、潤滑層を有することを特徴とする磁気記録媒体。

本発明によれば、積層体の形成を自動化できる装置を提供することができる。

図１（ａ）はガラス基板１の平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面図、図１（ｃ）は磁気記録媒体１００を示す断面図である。ガラス基板１の製造方法の詳細を示すフローチャートである。端面研磨装置１０１を示す断面図である。積層体形成装置２１を示す斜視図である。積層体形成装置２１を示すブロック図である。積層体形成装置２１を用いて積層体４を形成する手順を示す図である。積層体形成装置２１を用いて積層体４を形成する手順を示す図である。積層体形成装置２１を用いて積層体４を形成する手順を示す図である。積層体形成装置２１を用いて積層体４を形成する手順を示す図である。積層体形成装置２１を用いて積層体４を形成する手順を示す図である。積層体形成装置２１を用いて積層体４を形成する手順を示す図である。

以下、図面に基づき、本発明の実施形態を詳細に説明する。

まず、図１を参照して、本実施形態に係る積層体形成装置２１を用いたガラス基板の製造方法を用いて製造されるガラス基板１の構造について簡単に説明する。

図１（ａ）に示すように、ガラス基板１は、円板形状を有する本体３を有し、本体３の中心には内孔５が形成されている。

図１（ｂ）に示すように、本体３は、実質的に平滑な主表面７ａ、７ｂを有している。

主表面７ａ、７ｂは、情報を記録再生するための層が形成される面であり、例えば図１（ｃ）に示すように、主表面７ａ、７ｂの一方または両方に、下地層１８ａ、磁性層１８ｂ、保護層１８ｃ、潤滑層１８ｄを設けることにより、ガラス基板１は、磁気記録媒体１００となる（少なくとも磁性層１８ｂは記録層として必要）。

また、図１（ｂ）に示すように、本体３は主表面７ａ、７ｂに対して直交している内周端面１１および外周端面９を有している。

内周端面１１および外周端面９は面取されており、それぞれ内周面取面１３および外周面取面１５が設けられている。

さらに、本体３は表面に化学強化層１７が形成されている。

化学強化層１７の詳細については後述するが、例えば、ガラス基板１の原料となるガラスのイオンの一部を、よりイオン半径の大きいイオンに置換し、圧縮応力層とした層である。

次に、図２〜図６を参照して、ガラス基板１の製造方法について説明する。

なお、以下の説明では、製造工程中におけるガラスを「ガラス基材１ａ」と称し、完成品を「ガラス基板１」と称することにする。

まず、図２に示すように、原料となるガラスを円板状に成形してガラス基材１ａを製造する（ステップ１０１）。

次に、図２に示すように、ガラス基材１ａの板厚調整のため、主表面７ａ、７ｂを研削（第１ラッピング）する（ステップ１０２）。

次に、図２に示すように、ガラス基材１ａの中心に内孔５（図１参照）を形成する（ステップ１０３）。

次に、図２に示すように、ガラス基材１ａの端面のクラックを除去するため、内周端面１１および外周端面９の面取を行う（ステップ１０４）。

なお、面取後に主表面７ａ、７ｂを研削（第２ラッピング）する工程を追加してもよい。これにより、内孔５の形成や面取によって生じた凹凸を研削でき、研磨の際の負担を軽減できる。

次に、図２に示すように、ガラス基材１ａの内周端面１１および外周端面９の研磨、即ち端面研磨を行う（ステップ１０５）。

ここで、ステップ１０５の詳細について説明する。

まず、ステップ１０５における端面研磨に用いられる装置および方法について詳細に説明する。

まず、端面を研磨するための端面研磨装置１０１の構造について、図３を参照して説明する。

図３に示すように、端面研磨装置１０１は、ガラス基材１ａの端面を、複数枚が（スペーサ２を介して）積層された積層体４の状態で複数枚を同時に研磨する装置であり、積層体４を固定する固定部１２２と、積層体４を研磨する研磨体１２４と、研磨体１２４を駆動する研磨駆動部１１８と、研磨液を供給する研磨液供給部１４１を含んで構成されている。

積層体４は、ガラス基材１ａとスペーサ２とを交互に積層したものである。

固定部１２２は、積層体４を収納する基板ケース１３０と、基板ケース１３０に嵌合され、カラー１３６を介して積層体４を締め付けて固定する締め付けカバー１３２と、基板ケース１３０を固定保持し、回動する回転保持台１３４とを有している。

研磨体１２４は、積層体４のガラス基材１ａに直交し、ガラス基材１ａの内孔５の中心軸に一致し、当該研磨体１２４の回転中心となる回転軸を有し、研磨本体１４０と、研磨本体１４０側壁に設けられた複数の研磨布１２６とを有している。

端面研磨装置１０１を用いて端面を研磨する場合は、研磨体１２４（の研磨布１２６）を積層体４のガラス基材１ａの内周端面１１および内周面取面１３に接触させ、内周端面１１と研磨体１２４との間に研磨液供給部１４１を用いて研磨液を供給し、研磨体１２４を、回転軸を中心に方向に回転して、内周端面１１および内周面取面１３を研磨する。

なお、図３では内周端面１１および内周面取面１３を研磨する装置のみを開示しているが、外周端面９および外周面取面１５を研磨する装置も構成は基本的に同一である。

即ち、積層体４を固定する固定部と、研磨体と、研磨体を回転させる駆動部とを有しており、固定部で積層体４を固定した状態で研磨体を回転させて積層体中のガラス基材１ａの外周端面９および外周面取面１５を研磨する。

このように、端面研磨装置１０１は積層体４の状態にてガラス基材１ａの端面研磨を行うため、端面研磨前に積層体４を形成する必要がある。

次に、積層体を形成するための積層体形成装置２１の構成および動作について、図４〜図１１を参照して説明する。

まず、積層体形成装置２１の構成について、図４および図５を参照して説明する。

図４に示すように、積層体形成装置２１は板状の台座２３を有し、台座２３上にはガラス基材１ａを載置するガラス載置部２５とスペーサ２を載置するスペーサ載置部２７が設けられ、ガラス載置部２５とスペーサ載置部２７の間には積層体４が載置される積層体載置部２９が設けられている。

ガラス載置部２５、スペーサ載置部２７、積層体載置部２９は図４では棒状の形状を有しており、それぞれ、ガラス基材１ａ、スペーサ２、積層体４の孔を挿入することにより、これらが各載置部に固定される。

なお、各載置部の形状は、ガラス基材１ａ、スペーサ２、積層体４を固定可能で、かつ後述するガラスチャック４７ａおよびスペーサチャック４７ｂの動作の邪魔にならない形状であれば、特に棒には限定されない。

また、ガラス載置部２５、スペーサ載置部２７、積層体載置部２９は平面状の配置形状が一列になるように等間隔に配列されている。

一方、台座２３には、ガラス載置部２５、スペーサ載置部２７、積層体載置部２９の配置形状が形成する列に平行になるようにして、板状の側壁３１が設けられている。

側壁３１には支持部３３ａ、３３ｂを介して当該列に平行にレール３５が設けられている。

レール３５には第１の移動手段としての第１アクチュエータ３７が設けられており、第１アクチュエータ３７はレール３５に沿って図４のＢ１、Ｂ２の向きに移動可能である。

さらに、第１アクチュエータ３７には、レール３５に直交するようにしてレール３９ａ、３９ｂが設けられており、レール３９ａ、３９ｂには第２の移動手段としての第２アクチュエータ４１が設けられている。第２アクチュエータ４１は、レール３９ａ、３９ｂに沿って図４のＣ１、Ｃ２の向きに移動可能である。

なお、第１アクチュエータ３７と第２アクチュエータ４１で形成手段を構成している。

また、第２アクチュエータ４１にはレール３９ａ、３９ｂに平行にレール４３ａ、４３ｂが設けられており、レール４３ａの下端にはガラス基材１ａをチャックするガラスチャック４７ａがガラス基材チャック手段として設けられている。レール４３ｂの下端にはスペーサ２をチャックするスペーサチャック４７ｂがスペーサチャック手段として設けられている。

ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂのチャック方式は特に限定されないが、図４では吸着する方式を採用している。

ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂはレール４３ａ、４３ｂには固定されておらず、Ｃ１、Ｃ２の向きに自由に移動可能である。ただし、通常は自重で上端が第２アクチュエータ４１と接触するように位置しているため、落下しないように、上端にはストッパ４５ａ、４５ｂが設けられている。

なお、第１アクチュエータ３７および第２アクチュエータ４１の駆動方式は、特に制限されず、空圧、油圧、電動等、種々の方式を用いることができる。

また、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂにはそれぞれガラス載置部２５、スペーサ載置部２７、積層体載置部２９の形状に対応した孔４８ａ、４８ｂが設けられており、孔４８ａ、４８ｂの間隔と、ガラス載置部２５、スペーサ載置部２７、積層体載置部２９の間隔が等しくなるように、等間隔に設けられている。

さらに、図５に示すように、積層体形成装置２１はコンピュータ等で構成された制御部４９を有し、制御部４９は第１アクチュエータ３７、第２アクチュエータ４１、ガラスチャック４７ａ、スペーサチャック４７ｂに接続され、後述するように、これらの駆動を制御している。

また、制御部４９は、第１アクチュエータ３７、第２アクチュエータ４１、ガラスチャック４７ａ、スペーサチャック４７ｂの駆動を制御するための制御手段（制御プログラム）として、プログラム（ａ）〜プログラム（ｇ）を有している。これらの役割は後述する。

次に、積層体形成装置２１を用いた積層体４の形成方法について、図４〜図１１を参照して説明する。

なお、以下の説明では、図４に示すように、積層体４の最上面にスペーサ２が載置され、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂは何もチャックしていない状態からの各部材の動作について説明する。

まず、図４に示すように、制御部４９はプログラム（ａ）を用いて第１アクチュエータ３７を図４のＢ１、Ｂ２の向きに移動させ、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂがそれぞれガラス載置部２５と積層体載置部２９の上方に配置されるように移動させる。

次に、図６に示すように、制御部４９はプログラム（ｂ）を用いて第２アクチュエータ４１を図６のＣ１の向きに移動させ（即ち、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂをガラス載置部２５と積層体載置部２９に向かって移動させ）、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂがそれぞれガラス載置部２５のガラス基材１ａと積層体載置部２９の積層体４と接触するように移動させる。

なお、レール４３ａ、４３ｂは固定されていないため、ガラス載置部２５のガラス基材１ａと積層体載置部２９の積層体４の高さが異なる場合であっても、それぞれの高さに対応した位置にガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂを配置することができる（図６参照）。

このとき、制御部４９はプログラム（ｂ）を用いてガラスチャック４７ａでガラス載置部２５のガラス基材１ａのうち、最上面のガラス基材１ａをチャックする。

次に、図７に示すように、制御部４９はプログラム（ｃ）を用いて第２アクチュエータ４１を図７のＣ２の向きに移動させ、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂをガラス載置部２５と積層体載置部２９から離れるように移動させる。

次に、図８に示すように、制御部４９はプログラム（ｄ）を用いて第１アクチュエータ３７を図８のＢ１の向きに移動させ、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂがそれぞれ積層体載置部２９とスペーサ載置部２７の上方に配置されるように移動させる。

次に、図９に示すように、制御部４９はプログラム（ｅ）を用いて第２アクチュエータ４１を図９のＣ１の向きに移動させ（即ち、積層体載置部２９とスペーサ載置部２７に向かって移動させ）、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂがそれぞれ積層体載置部２９の積層体４とスペーサ載置部２７のスペーサ２と接触するように移動させる。

なお、レール４３ａ、４３ｂは固定されていないため、積層体載置部２９の積層体４とスペーサ載置部２７のスペーサ２の高さが異なる場合であっても、それぞれの高さに対応した位置にガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂを配置することができる（図９参照）。

このとき、制御部４９はプログラム（ｅ）を用いてガラスチャック４７ａのガラス基材１ａをデチャックし、ガラス基材１ａを積層体４のスペーサ２上に載置する。

また、制御部４９はプログラム（ｅ）を制御して、スペーサチャック４７ｂを用い、スペーサ載置部２７のスペーサ２のうち、最上面のスペーサ２をチャックする。

次に、図１０に示すように、制御部４９はプログラム（ｆ）を用いて第２アクチュエータ４１を図１０のＣ２の向きに移動させ、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂをガラス載置部２５と積層体載置部２９から離れるように移動させる。

以下はプログラム（ｇ）を用いて、プログラム（ａ）〜プログラム（ｆ）を繰り返して実行し、あらかじめ定められた枚数だけガラス基材１ａが積層されるまで上記した動作を繰り返す。

即ち、図１１に示すように、制御部４９はプログラム（ａ）を用いて第１アクチュエータ３７を図１１のＢ２の向きに移動させ、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂがそれぞれガラス載置部２５と積層体載置部２９の上方に配置されるように移動させる。

次に、図６に示すように、制御部４９はプログラム（ｂ）を用いて第２アクチュエータ４１を図６のＣ１の向きに移動させ、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂをそれぞれガラス載置部２５のガラス基材１ａと積層体載置部２９の積層体４と接触させ、ガラスチャック４７ａでガラス載置部２５のガラス基材１ａのうち、最上面のガラス基材１ａをチャックするとともに、スペーサチャック４７ｂのスペーサ２をデチャックし、スペーサ２を積層体４のスペーサ２上に載置する。以下の動作は記載が重複するため省略する。

このように、積層体形成装置２１は第１アクチュエータ３７と第２アクチュエータ４１を用いてガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂを左右（Ｂ２、Ｂ１）上下（Ｃ２、Ｃ１）に移動させ、交互にガラス基材１ａとスペーサ２をチャックして積層する構造としている。

そのため、従来は手作業で行っていた積層体４の形成を自動化できる。

また、積層体形成装置２１は、第１アクチュエータ３７と第２アクチュエータ４１を用いてガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂを同時に移動させて積層体４を形成している。

そのため、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂを独立駆動させる場合と比べてアクチュエータの数を減らすことができ、また制御プログラムも簡略化できる。

以上がステップ１０５の詳細である。

次に、図２に示すように、ガラス基材１ａに化学強化を行い、化学強化層１７を形成する（ステップ１０６）。

具体的には、化学強化液にガラス基材１ａを浸漬し、化学強化液に含まれているイオンと、ガラス基材１ａに含まれているイオンとをイオン交換する。

この際、ガラス基材１ａに含まれているイオンよりもイオン半径が大きいイオンとイオン交換が生じることにより、化学強化層１７は圧縮応力層となり、ガラス基材１ａの表面の強度が上昇する。

次に、化学強化が終わると、ガラス基材１ａを洗浄して表面の化学強化液を除去した後、図２に示すように、ガラス基材１ａの主表面７ａ、７ｂの平坦度と表面粗さを調整する（実質的に平滑にする）ため、主表面７ａ、７ｂを研磨する（ステップ１０７）。

なお、研磨は２段階に分けて行っても良い。

具体的には、例えば、研磨液に含まれる砥粒として、粒径が異なる２種類の砥粒を用い、まず粒径が相対的に大きい砥粒を用いて第１研磨を行い、次に粒径が相対的に小さい砥粒を用いて第２研磨を行う。

研磨が終了すると、図２に示すように、ガラス基材１ａを洗浄し、製造中に表面に付着した研磨剤や不純物を除去する（ステップ１０８）。

具体的にはスクラブ洗浄、超音波洗浄等の物理的な洗浄や、フッ化物、有機酸、過酸化水素、界面活性剤等を用いた薬液洗浄が挙げられる。

最後に、図２に示すように、製品検査（例えば主表面７ａ、７ｂの表面粗さやパーティクルの量の検査）を行う（ステップ１０９）。

具体的には、例えばＯＤＴ（Optical Defect Tester）やＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）を用いて欠陥検査を行う。

以上の工程により、ガラス基板１が完成する。

このように、本実施形態によれば、積層体形成装置２１はガラス載置部２５、スペーサ載置部２７、積層体載置部２９、第１アクチュエータ３７、第２アクチュエータ４１、ガラスチャック４７ａおよびスペーサチャック４７ｂを有し、ガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂを用いてガラスチャック４７ａとスペーサチャック４７ｂを左右（Ｂ２、Ｂ１）上下（Ｃ２、Ｃ１）に移動させ、交互にガラス基材１ａとスペーサ２をチャックして積層する構造としている。

上述した実施形態では、本発明を磁気記録媒体用のガラス基板１を製造する製造工程に適用した場合について説明したが、本発明は何らこれに限定されることなく、基板とスペーサを交互に積層する必要がある全ての装置に適用できる。

また、上述した実施形態ではガラス基材１ａに化学強化を行っているが、化学強化の代わりにエッチングを行っても良い。

さらに、上述した実施形態ではガラス基材１ａに化学強化を行った後に研磨装置２１ａを用いて研磨を行っているが、研磨装置２１ａを用いて研磨を行った後に化学強化を行ってもよい。

１……………ガラス基板
１ａ…………ガラス基材
２……………スペーサ
３……………本体
４……………積層体
５……………内孔
７ａ…………主表面
１７…………化学強化層
１８ｂ………磁性層
２１…………積層体形成装置
２５…………ガラス載置部
２７…………スペーサ載置部
２９…………積層体載置部
３７…………第１アクチュエータ
４１…………第２アクチュエータ
４７ａ………ガラスチャック
４７ｂ………スペーサチャック
４９…………制御部

Claims

ガラス基材が載置されるガラス載置部と、
スペーサが載置されるスペーサ載置部と、
前記ガラス載置部と前記スペーサ載置部の間に設けられ、前記ガラス基材と前記スペーサが交互に積層された積層体を載置する積層体載置部と、
前記ガラス基材をチャックして前記積層体載置部に載置するガラス基材チャック手段と、
前記スペーサをチャックして前記積層体載置部に載置するスペーサチャック手段と、
前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段とが交互に前記ガラス基材と前記スペーサを前記積層体載置部に載置することにより前記積層体を形成可能な形成手段と、
を有することを特徴とする積層体形成装置。
前記ガラス基材チャック手段および／または前記スペーサチャック手段は、前記ガラス基材チャック手段および／または前記スペーサチャック手段を吸着する手段を有することを特徴とする請求項１記載の積層体形成装置。
前記スペーサ載置部、前記積層体載置部、前記ガラス基材チャック手段、前記スペーサチャック手段は平面状の配置形状が一列になるように配置されていることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の積層体形成装置。
前記ガラス載置部と前記積層体載置部、および、前記積層体載置部と前記スペーサ載置部は、それぞれ等間隔に配置されていることを特徴とする請求項１記載の積層体形成装置。
前記形成手段は、
前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を、前記ガラス載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち２つの上方に、一体となって移動させる第１の移動手段と、
前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段を、前記ガラス載置部、前記積層体載置部、前記スペーサ載置部のうち２つに向けて一体となって移動させる第２の移動手段と、
を有することを特徴とする請求項１記載の積層体形成装置。
前記第１の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部の上方に移動させる制御手段（ａ）と、
前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材チャック手段を用いて前記ガラス基材をチャックする制御手段（ｂ）と、
前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段（ｃ）と、
前記第１の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部の上方に移動させる制御手段（ｄ）と、
前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材を前記積層体載置部に載置し、かつ前記スペーサチャック手段を用いて前記スペーサをチャックする制御手段（ｅ）と、
前記第１の移動手段を用いて、前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記積層体載置部および前記スペーサ載置部から離れる方向に向けて移動させる制御手段（ｆ）と、
前記制御手段（ａ）〜（ｆ）をこの順番で繰り返す制御手段（ｇ）と、
を有することを特徴とする請求項５記載の積層体形成装置。
前記制御手段（ｂ）は、前記スペーサチャック手段が前記スペーサをチャックした状態では、前記第２の移動手段を用いて前記ガラス基材チャック手段と前記スペーサチャック手段をそれぞれ前記ガラス基材載置部および前記積層体載置部に向けて移動させ、前記ガラス基材チャック手段を用いて前記ガラス基材をチャックするとともに、前記スペーサを前記積層体載置部に載置する手段であることを特徴とする請求項６記載の積層体形成装置。
請求項１〜７のいずれかに記載の積層体形成装置を用いたことを特徴とする積層体形成方法。
請求項８記載の積層体形成方法を工程に含むことを特徴とするガラス基板の製造方法。
請求項９記載のガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とするガラス基板。
請求項１０記載のガラス基板と、
前記磁気ディスク用基板の表面に設けられた下地層、磁性層、保護層、潤滑層を有することを特徴とする磁気記録媒体。