JP2013132744A - 研磨キャリア、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法、および、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板を研磨する際に用いる研磨キャリアであって、前記研磨キャリアは第1の面と第2の面の2つの主平面を有しており、前記第1の面の純水に対する接触角が、前記第2の面の純水に対する接触角より10度以上大きいことを特徴とする研磨キャリア、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法、および、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【選択図】図1
Description
本実施形態では本発明の研磨キャリアおよび該研磨キャリアを用いた磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法について説明する。
次に第1の実施形態で説明した本発明の研磨キャリアを用いた磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法を用いた研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法について説明する。
(工程1)ガラス素基板から、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工した後、内周端面と外周端面を面取り加工する形状付与工程。
(工程2)ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)を研磨する端面研磨工程。
(工程3)前記ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程。
(工程4)前記ガラス基板を精密洗浄して乾燥する洗浄工程。
(1)接触角
研磨キャリア表面、および、研磨キャリアの第1の面、第2の面を構成する材料について純水に対する接触角の測定を行った。
(2)表面粗さ(算術平均粗さ)Ra
表面粗さはJIS B 0601−2001に準ずる方法により測定を行った。
(例1〜9について)
直径65mm、内径20mm、厚さ約0.64mmであり、ラップ処理、内外周端面について研磨済みの磁気記録媒体用ガラス基板について以下の手順で主平面研磨を2次研磨工程まで行い、その際の研磨キャリア、ガラス基板の研磨パッドへの貼り付きの状態について評価を行った。
ガラス基板は研磨具として硬質ウレタン製の研磨パッドと酸化セリウム砥粒を含有する研磨液(平均粒子直径、以下、平均粒径と略す、約1.3μmの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物)を用いて、16B型両面研磨装置(スピードファム社製、製品名:DSM16B−5PV−4MH)により上下主平面を1次研磨した。
研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、1次研磨工程の酸化セリウム砥粒よりも平均粒径が小さい酸化セリウム砥粒を含有する研磨液(平均粒径約0.5μmの酸化セリウムを主成分とする研磨液組成物)を用いて行った。16B型両面研磨装置(スピードファム社製、製品名:DSM16B−5PV−4MH)により上下主平面を2次研磨し、研磨終了後には酸化セリウムを洗浄除去した。
(例1)
ガラスクロス(ガラス繊維の織布)にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグを準備し、図2(A)、(B)に示すようにプリプレグ6枚を積層し、上下面を鏡面板ではさみ、プレスにかけ、180℃に加熱、4.0MPaの圧力で、60分間加圧して厚さ0.5mmの積層板を作製した。その後、それぞれのキャリアの上下1対の面のうち、一方の面(第2の面)のみをアルゴンガスのプラズマを用いたプラズマエッチング処理して親水性を高めた。そして、16B型両面研磨装置の仕様にあう形状に加工し、研磨キャリアとした。
(例2)
ガラスクロスに含浸させる樹脂としてポリイミド樹脂を用いた以外は例1と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例3)
ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、ガラスクロスにフェノール樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを積層した。この際、図2(A)中21(a)〜21(c)がエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ、21(d)〜(f)がフェノール樹脂を含浸させたプリプレグとなるように積層した。そして、プリプレグの積層体24を、上下を鏡面板ではさみ、プレスにかけ、180℃に加熱、4.0MPaの圧力で、60分間加圧して厚さ0.5mmの積層板を作製した。積層板を作成した後、16B型両面研磨装置の仕様にあう形状に加工し、研磨キャリアとした。
(例4)
ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、ガラスクロスに不飽和ポリエステル樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを用いた点以外は例3と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例5)
ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、ガラスクロスにポリイミド樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを用いた点以外は例3と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例6)
ガラスクロスにポリイミド樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、ガラスクロスにフェノール樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを用いた点以外は例3と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例7)
ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、ガラスクロスにフェノール樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを積層した。この際、図2(A)中21(a)〜21(c)がエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ、21(d)〜(f)がフェノール樹脂を含浸させたプリプレグとなるように積層した。
(例8)
ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグを準備し、図2(A)、(B)に示すように合計6枚を積層し、上下面を鏡面板ではさみ、プレスにかけ、180℃に加熱、4.0MPaの圧力で、60分間加圧して厚さ0.5mmの積層板を作製した。そして、16B型両面研磨装置の仕様にあう形状に加工し、研磨キャリアとした。
(例9)
ガラスクロスにポリイミド樹脂を含浸させたプリプレグを用いた以外は例8と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例10〜18について)
上記例3の2次研磨工程を行ったガラス基板について、2次研磨工程終了後さらに以下の条件により3次研磨工程を行い3次研磨工程における研磨パッドと研磨キャリア、ガラス基板の貼り付きの評価、および、得られたガラス基板について表面検査を行った。
(例10)
アラミド繊維の不織布にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグを準備し、図2(A)、(B)に示すようにそれぞれ6枚を積層し、上下面を鏡面板ではさみ、プレスにかけ、180℃に加熱、4.0MPaの圧力で、60分間加圧して厚さ0.5mmの積層板を作製した。その後、キャリアの上下1対の面のうち、一方の面(第2の面)のみをプラズマエッチング処理して親水性を高めた。そして、16B型両面研磨装置の仕様にあう形状に加工し、研磨キャリアとした。
(例11)
アラミド繊維の不織布に含浸させる樹脂としてポリイミド樹脂を用いた以外は例1と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例12)
アラミド繊維の不織布にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、アラミド繊維の不織布にフェノール樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを積層した。この際、図2(A)中21(a)〜21(c)がエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ、21(d)〜(f)がフェノール樹脂を含浸させたプリプレグとなるように積層した。そして、プリプレグの積層体24を、上下を鏡面板ではさみ、プレスにかけ、180℃に加熱、4.0MPaの圧力で、60分間加圧して厚さ0.5mmの積層板を作製した。積層板を作成した後、16B型両面研磨装置の仕様にあう形状に加工し、研磨キャリアとした。
(例13)
アラミド繊維の不織布にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、アラミド繊維の不織布に不飽和ポリエステル樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを用いた点以外は例12と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例14)
アラミド繊維の不織布にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、アラミド繊維の不織布にポリイミド樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを用いた点以外は例12と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例15)
アラミド繊維の不織布にポリイミド樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、アラミド繊維の不織布にフェノール樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを用いた点以外は例12と同様にして研磨キャリアを作製した。
(例16)
アラミド繊維の不織布にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ3枚、アラミド繊維の不織布にフェノール樹脂を含浸させたプリプレグを3枚準備し、これら計6枚のプリプレグを積層した。この際、図2(A)中21(a)〜21(c)がエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ、21(d)〜(f)がフェノール樹脂を含浸させたプリプレグとなるように積層した。
(例17)
アラミド繊維の不織布にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグを準備し、図2(A)、(B)に示すように合計6枚を積層し、上下面を鏡面板ではさみ、プレスにかけ、180℃に加熱、4.0MPaの圧力で、60分間加圧して厚さ0.5mmの積層板を作製した。そして、16B型両面研磨装置の仕様にあう形状に加工し、研磨キャリアとした。
(例18)
アラミド繊維の不織布にポリイミド樹脂を含浸させたプリプレグ樹脂を用いた以外は例17と同様にして研磨キャリアを作製した。
15 上定盤
16 (上定盤の)研磨パッド
17 下定盤
18 (下定盤の)研磨パッド
Claims (5)
- 磁気記録媒体用ガラス基板を研磨する際に用いる研磨キャリアであって、
前記研磨キャリアは第1の面と第2の面の2つの主平面を有しており、
前記第1の面の純水に対する接触角が、前記第2の面の純水に対する接触角より10度以上大きいことを特徴とする研磨キャリア。 - 前記第1の面を構成する材料の純水に対する接触角が、前記第2の面を構成する材料の純水に対する接触角より10度以上大きいことを特徴とする請求項1記載の研磨キャリア。
- 前記第1の面の表面粗さ(Ra)が、前記第2の面の表面粗さよりも大きく、その差が0.5μm以上15μm以下であることを特徴とする請求項1または2記載の研磨キャリア。
- 請求項1乃至3いずれか一項に記載の研磨キャリアの第1の面を上定盤の研磨パッドに、第2の面を下定盤の研磨パッドに接触させるように配置して研磨を行う、磁気記録媒体用ガラス基板の研磨方法。
- 請求項4に記載の研磨方法を用いた研磨工程を有する、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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