JPH07241534A - 基板洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 コンパクトな構成で処理タクトを長くするこ
となくブラシによって基板表面を良好に洗浄することが
可能な基板洗浄装置を提供する。 【構成】 複数の搬送ローラ１が方向Ｘに連設されて各
コンベア部１Ｆ，１Ｒが形成される。搬送ローラ１には
正逆回転可能な駆動部が連結され、その駆動部からの駆
動力に応じて正回転（あるいは逆回転）して基板Ｗが矢
印方向（水平方向）Ｘに往復搬送される。コンベア部１
Ｆ，１Ｒの間にブラシ洗浄部２が配設される。このブラ
シ洗浄部２では、基板Ｗの搬送経路に沿って上方側にブ
ラシ２４が、また下方側にブラシ２５がそれぞれ配置さ
れる。このため、往復搬送されている間、基板Ｗの上面
がブラシ２４により洗浄されるとともに、下面がブラシ
２５により洗浄される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶用ガラス角型基
板、カラーフィルタ用基板、サーマルヘッド用セラミッ
ク基板、フォトマスクなどの基板を洗浄する基板洗浄装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板洗浄装置としては、例えば
複数の搬送ローラによって水平姿勢に基板を保持しなが
ら所定の一方向に搬送するとともに、その基板搬送経路
上にロールブラシもしくはディスクブラシを固定配置
し、搬送されてくる基板の表面に当該ブラシを押し当
て、基板表面を洗浄する装置が知られている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板洗浄装
置では、基板表面を良好に洗浄するため、従来より、搬
送方向に沿って複数のブラシを配置したり、基板の搬送
速度を遅くしていた。

【０００４】しかしながら、複数のブラシを配置した場
合には、基板の搬送方向に装置が長くなり、装置のコン
パクト化を図ることができないという問題がある。ま
た、基板搬送速度を低速に設定すると、装置の処理タク
トが長くなってしまうという問題がある。

【０００５】本発明は、上述のような問題に鑑みてなさ
れたものであって、コンパクトな構成で処理タクトを長
くすることなくブラシによって基板表面を良好に洗浄す
ることが可能な基板洗浄装置を提供することを目的とす
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明は、ブラシを基
板表面に押し当てて基板表面を洗浄する基板洗浄装置で
あって、上記目的を達成するため、基板を水平に保持し
つつ、水平方向に往復搬送させる基板搬送手段と、前記
基板の往復搬送経路上の所定位置で、前記基板搬送手段
によって往復搬送させられる基板の表面に接触し、該基
板の表面を洗浄するブラシを有するブラシ洗浄手段と、
を備えている。

【０００７】

【作用】この発明の基板洗浄装置では、基板搬送手段に
より、基板が水平に保持されつつ、水平方向に往復搬送
される。また、その基板の往復搬送経路上の所定位置に
ブラシが配置される。このため、基板が前記基板搬送手
段により往復搬送されながら、前記ブラシがその基板表
面に接触し、該基板の表面を洗浄する。

【０００８】

【実施例】図１は、この発明にかかる基板洗浄装置の一
実施例を示す側面図である。この基板洗浄装置では、同
図に示すように、前側および後側コンベア部１Ｆ，１Ｒ
とが水平方向Ｘに一定間隔だけ離隔して直列配置されて
いる。各コンベア部１Ｆ，１Ｒは基板Ｗの約１枚分のス
ペースに設けられており、図２に示すように、複数の搬
送ローラ１が方向Ｘに連設されている。各搬送ローラ１
は支軸１１を有しており、この支軸１１の両端側に一対
の段付ローラ１２，１２が固定されている。各段付ロー
ラ１２は小輪１２ａとガイド輪１２ｂとで構成されてお
り、小輪１２ａで基板Ｗの両端部を支持する一方、ガイ
ド輪１２ｂで基板Ｗの蛇行を防止している。また、各搬
送ローラ１は正逆回転可能な駆動部（図示省略）と連結
され、その駆動部からの駆動力に応じて正回転（あるい
は逆回転）して基板Ｗを矢印方向（水平方向）Ｘに往復
搬送させる。このように、この実施例では、前側および
後側コンベア部１Ｆ，１Ｒで基板Ｗを水平に保持しつ
つ、水平方向Ｘに搬送させる基板搬送機構が構成されて
いる。

【０００９】図１に戻って、コンベア部１Ｆ，１Ｒの間
にブラシ洗浄部２が配設されている。このブラシ洗浄部
２では、３組のローラ対２１，２２，２３が基板搬送機
構による基板Ｗの水平搬送経路に沿って所定間隔で設け
られており、前側コンベア部１Ｆから後側コンベア部１
Ｒへの基板搬送を、また後側コンベア部１Ｒから前側コ
ンベア部１Ｆへの基板搬送を、それぞれスムーズに行う
ことができるようになっている。また、ローラ対２１，
２２の間の上方側に上面洗浄用のロールブラシ２４が、
またローラ対２２，２３の間の下方側に下面洗浄用のロ
ールブラシ２５が、それぞれ正逆回転自在に設けられ、
図示を省略するブラシ回転駆動部からの駆動力を受け
て、それぞれ独立して正回転あるいは逆回転するように
構成されている。なお、各ロールブラシ２４，２５の近
傍には、ロールブラシに洗浄水（例えば純水）を供給す
るためのノズル２６が配置されている。また、前側コン
ベア部１Ｆの前端側（図１の左手側）と、後側コンベア
部１Ｒの後端側（図１の右手側）とに、基板Ｗの存在を
検知するための前側および後側センサ２７，２８がそれ
ぞれ配設されている。

【００１０】次に、上記にように構成された基板洗浄装
置の動作について、図３ないし図５を参照しつつ説明す
る。なお、ここでは、前側（図面の左手側）より基板Ｗ
を装置内部に搬入し、洗浄処理を行った後、再度前側よ
り基板Ｗを搬出する場合について説明する。

【００１１】まず、搬送ロボットや搬送コンベアなどの
搬送装置により、洗浄処理を行うべき基板Ｗが前側コン
ベア部１Ｆに搬入されると、図３に示すように、搬送ロ
ーラ１を矢印Ａ方向に回転させ、基板Ｗの方向Ｘへの搬
送を開始する。また、各ノズル２６から純水を供給する
とともに、ロールブラシ２４を矢印（−Ａ）方向に、ま
たロールブラシ２５を矢印Ａ方向に回転して、基板Ｗの
ブラシ洗浄が可能な状態になる。

【００１２】図４に示すように、ブラシ洗浄部２に搬送
されてきた基板Ｗの上面はローラ対２１，２２の間でロ
ールブラシ２４と接触して、その表面上に付着するパー
ティクルが洗浄除去される。さらに、方向Ｘへの基板搬
送が進むと、ローラ対２２，２３の間で、今度は基板Ｗ
の下面がロールブラシ２５と接触し、当該基板表面に付
着するパーティクルが洗浄除去される。

【００１３】上記のようにしてロールブラシ２４による
上面洗浄およびロールブラシ２５による下面洗浄が完了
し、基板Ｗの一方端ＥRが後側センサ２８の直下位置ま
で移動すると、搬送ローラ１およびロールブラシ２４，
２５の回転を停止させた後、今度は搬送ローラ１および
ロールブラシ２４，２５をそれぞれ反転させる（図
５）。すなわち、搬送ローラ１を方向（−Ａ）に回転さ
せて基板Ｗを方向（−Ｘ）に搬送するとともに、ロール
ブラシ２４，２５をそれぞれ方向Ａ，（−Ａ）に回転さ
せて基板Ｗの上面および下面洗浄を可能とする。

【００１４】こうして、基板Ｗを方向（−Ｘ）に搬送し
ながら、ブラシ洗浄部２ではまずロールブラシ２５で基
板Ｗの下面を、続いてロールブラシ２４により上面を洗
浄する。そして、ロールブラシ２４，２５による洗浄が
完了し、基板Ｗの他方端ＥFが前側センサ２７の直下位
置まで移動すると（図３を参照）、搬送ローラ１および
ロールブラシ２４，２５の回転を停止させる。このよう
に基板Ｗを一回往復搬送することで、ロールブラシ２４
による上面洗浄およびロールブラシ２５による下面洗浄
がそれぞれ２回行われたこととなる。

【００１５】また、この実施例では、上記一連の処理、
つまり水平方向Ｘにおける基板Ｗの往復搬送およびロー
ルブラシ２４，２５によるブラシ洗浄処理を、複数回行
った後、上記の搬送装置により前側コンベア部１Ｆから
搬出する。なお、往復搬送の回数は複数回に限定される
ものではなく、１往復させた後、直ちに基板Ｗを搬出す
るようにしてもよい。

【００１６】以上のように、この実施例では、基板Ｗを
水平に保持した状態で、水平方向Ｘに往復搬送しなが
ら、ロールブラシ２４，２５を基板Ｗの両表面（上面お
よび下面）に接触させて、該基板Ｗの表面を洗浄するよ
うにしているので、１回の往復搬送で上面および下面が
それぞれ２回洗浄されたこととなり、搬送経路に沿って
上下にそれぞれ２個のロールブラシを配置した従来例と
同一の洗浄効果が得られる。すなわち、基板Ｗの往復搬
送により、少ないブラシの数で良好な洗浄を行うことが
できる。したがって、この実施例によれば、従来のよう
にブラシを数多く配置する必要がなく、良好な洗浄効果
を有する装置をコンパクトに構成することができる。

【００１７】また、ブラシ個数の減少により、装置コス
トを低くすることができるとともに、純水使用量を抑え
ることができる。

【００１８】また、この装置では、ブラシが上下に１個
ずつ配置されているにすぎないが、上記のように基板Ｗ
を往復搬送させることで、基板Ｗを複数のブラシにより
洗浄していることと等価であるため、従来のように基板
を良好に洗浄するために基板Ｗの搬送速度を低速に設定
する必要がなくなり、処理タクトの増大を防止すること
ができる。

【００１９】また、この実施例では、基板Ｗの搬送方向
に応じて、ロールブラシ２４，２５をそれぞれ正・反転
させるようにしている、例えばロールブラシ２４に着目
すると、基板Ｗの方向Ｘへの搬送時には、図３および図
４に示すように、方向（−Ａ）に回転させる一方、逆に
基板Ｗの方向（−Ｘ）への搬送時には、図５に示すよう
に、方向Ａに回転させているため、ブラシ２４の毛先に
一定方向の倒れが生じるという不具合、いわゆるクセが
生じるのを効果的に防止することができる。

【００２０】さらに、上記実施例では、前側（図面の左
手側）より基板Ｗを装置内部に搬入し、洗浄処理を行っ
た後、再度前側より基板Ｗを搬出するようにしているの
で、当該基板洗浄装置の基板処理システムへの組み込み
自由度が大きくなるという効果もある。というのも、通
常、この種の装置では、上述したように基板を一方向に
搬送しながら洗浄処理を行うため、基板処理システムに
当該基板洗浄装置を組み込むためには、基板処理システ
ムの処理ラインの途中に当該装置を挿入する必要があ
り、その結果、処理システムを新たに再配置しなければ
ならないが、上記実施例にかかる基板洗浄装置を組み込
む場合には、組み込みたい位置で処理ラインと直交する
形で装置を配置するだけで、処理システムを変更するこ
となく、任意の位置で基板洗浄処理が可能となるからで
ある。

【００２１】以上、実施例に即して本発明を説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、様
々な変形が可能である。

【００２２】図６はこの発明にかかる基板洗浄装置の変
形例を示す側面図である。この変形例では、ロールブラ
シの代わりにディスクブラシが用いられている。すなわ
ち、同図に示すように、前側コンベア部１Ｆと後側コン
ベア部１Ｒとの間に、２つのディスクブラシ部３１を連
設してブラシ洗浄部３を構成してもよい。なお、各ディ
スクブラシ部３１は、例えば図７に示すように、ディス
クブラシ３２と、そのディスクブラシに向けて純水３３
を供給するノズル３４とで構成されている。

【００２３】また、上記実施例では、上方および下方側
にブラシをそれぞれ配置しているが、上方側のみ、ある
いは下方側のみに配置するようにしてもよい。また、配
置するブラシの個数は任意である。

【００２４】また、ブラシに上下動作させるための上下
機構を接続し、必要に応じてブラシを上下移動させるこ
とで、任意の洗浄処理が可能となる。例えば、方向Ｘに
基板を搬送する際にのみブラシを基板に接触させる一
方、逆に方向（−Ｘ）に搬送している間、ブラシを退避
させてブラシ洗浄を行わないようにしてもよい。

【００２５】さらに、上記実施例では、前側（図１の左
手側）より基板Ｗを装置内部に搬入し、洗浄処理を行っ
た後、再度同一側より基板Ｗを搬出する場合について説
明したが、装置内で基板Ｗを往復搬送しながらブラシに
よる洗浄処理を行った後、後側（図１の右手側）より基
板Ｗを搬出するようにしてもよい。

【００２６】

【発明の効果】以上説明したように、この発明の基板洗
浄装置では、基板を水平に保持した状態で水平方向に往
復搬送しながらブラシを基板の表面に接触させることで
該基板の表面を洗浄するようにしているので、１回の往
復搬送で２回洗浄されたこととなり、従来のようにブラ
シを数多く配置する必要がなく、装置のコンパクト化が
可能であり、しかも従来のように基板を良好に洗浄する
ために基板の搬送速度を低速に設定する必要がなくな
り、処理タクトの増大を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明にかかる基板洗浄装置の一実施例を示
す側面図である。

【図２】図１の前側および後側コンベア部を示す斜視図
である。

【図３】図１の基板洗浄装置の動作を示す側面図であ
る。

【図４】図１の基板洗浄装置の動作を示す側面図であ
る。

【図５】図１の基板洗浄装置の動作を示す側面図であ
る。

【図６】この発明にかかる基板洗浄装置の変形例を示す
側面図である。

【図７】ディスクブラシ部を示す斜視図である。

【符号の説明】

１ 搬送ローラ １Ｆ 前側コンベア部 １Ｒ 後側コンベア部 ２，３ ブラシ洗浄部 ２４，２５ ロールブラシ ３２ ディスクブラシ Ｗ 基板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ブラシを基板表面に押し当てて基板表面
   を洗浄する基板洗浄装置において、 基板を水平に保持しつつ、水平方向に往復搬送させる基
   板搬送手段と、 前記基板の往復搬送経路上の所定位置で、前記基板搬送
   手段によって往復搬送させられる基板の表面に接触し、
   該基板の表面を洗浄するブラシを有するブラシ洗浄手段
   と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。