JP2000049206A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板処理装置を小さなスペースに設置できる
ようにすることにある。 【解決手段】 洗浄装置（基板処理装置）は、複数の処
理ユニット３等を有し、基板に対して一連の処理を行う
装置である。この洗浄装置は、搬送ローラ２１と、下部
及び上部搬送ローラ３１，３２とを備えている。搬送ロ
ーラ２１は、基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾
斜状態で搬送する。下部及び上部搬送ローラ３１，３２
は、基板を垂直状態あるいは垂直状態に近い傾斜状態で
搬送する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板に対して一連
の処理を行う基板処理装置、特に、基板搬出入機構から
基板を各処理部に搬送し処理済みの基板を前記基板搬出
入機構に戻すＵターン型の基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置またはプラズマ表示装置用
のガラス基板（ＦＰＤ基板）や半導体ウエハ等の製造プ
ロセスにおいては、基板の洗浄、薄膜形成、レジスト塗
布、露光、現像、エッチング、レジスト剥離など、種々
の処理を基板に施す基板処理装置が必要である。

【０００３】図９に、ガラス基板に対する初期の工程で
ある受入洗浄工程を行う基板処理装置の一例を示す。こ
の基板処理装置は、いわゆるＩ型の基板処理装置であ
り、両端のローダ１０２及びアンローダ１１２と、これ
らの間に一列に配置される入口移載コンベア１１８，Ｕ
Ｖオゾン洗浄ユニット１０３，コンベア１２４，ロール
ブラシ洗浄ユニット１０４，水洗ユニット１０５，基板
乾燥ユニット１０６，コンベア１２４，出口移載コンベ
ア１１９の各処理部から構成されている。ここでは、図
９の左端に配置されたローダ１０２に運ばれてきたカセ
ットＣから基板が取り出され、各処理部を図９の左から
右へと運ばれ、処理を終えた基板が図９の右端に配置さ
れたアンローダ１１２においてカセットＣに収容され
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のように一列に並
べられた処理部の両端にローダ１０２及びアンローダ１
１２を配置すると、図９に示す装置とは別に、空のカセ
ットＣをローダ１０２からアンローダ１１２に搬送する
装置が必要となる。また、同様の機能を有するローダ１
０２とアンローダ１１２とを別に設置しなければならな
いため、装置コストが増大するとともに、装置全長Ｌ１
が長くなりスペース的にもデメリットとなる。

【０００５】このような不具合を回避するために、図９
に示す装置を図１０に示すようなＵターン型の基板処理
装置とすることが考えられる。この図１０に示す装置で
は、基板は、インデクサー１２２から出発し、各処理部
を回り、Ｕターンしてインデクサー１２２に戻ってく
る。このように基板の搬送経路をＵターンさせれば、Ｕ
ターンさせるためのスライダー１２５が必要とはなる
が、ローダ１０２及びアンローダ１１２（図９参照）の
役割を兼ねたインデクサー１２２（図１０）を１つ設け
るだけでよくなり、図９のものに較べて装置コストが抑
えられるとともに装置全長Ｌ２も短くなる。

【０００６】しかし、Ｕターン型の基板処理装置を採用
する場合には、以下のようなデメリットも生じる。ま
ず、Ｕターンの行きのライン（以下、往路という。）と
帰りのライン（以下、復路という。）とを設けなければ
ならないため、装置の幅が大きくなってしまう。

【０００７】また、複数の処理部から成る往路と復路と
のメンテナンスを行うためにこれらの間にメンテナンス
ゾーン（図１０のゾーンＺ参照）を設ける必要がある
が、装置の幅を抑えようとすると、メンテナンスゾーン
が狭くなってメンテナンスがやり難くなってしまう。さ
らに、各処理ユニットの配置上の制約から、往路と復路
との長さを合わせるために、基板処理を行わない単なる
搬送ゾーンを設けなければならなくなる場合もある。例
えば、図１１に示すように処理ユニットが配置される基
板処理装置では、基板はインデクサー１２２から入口移
載コンベア１１８，超音波剥離ユニット１０７，スプレ
ー剥離ユニット１０８，剥離水洗ユニット１０９ａ，シ
ャトル搬送ユニット１２６，水洗ユニット１０９ｂ，乾
燥ユニット１１０，コンベア搬送ゾーン１２４ａ，出口
移載コンベア１１９を回ってインデクサー１２２に戻さ
れる。ここでは、一連の剥離関係の処理部１０７，１０
８，１０９ａを往路に配置しているため、復路において
長さ合わせのためのコンベア搬送ゾーン１２４ａを設け
ざるを得ないが、このコンベア搬送ゾーン１２４ａは本
来必要がないものである。

【０００８】このように、Ｉ型及びＵターン型の基板処
理装置においては、装置コスト上の課題や装置の幅や全
長等のスペース的な課題が存在している。これを解消す
る方法として装置を２階建てにする方法も提案されてい
るが、装置の高さが高くなるという問題に加えて、ここ
でも１階部分と２階部分との長さ合わせが必要となって
くる。また、２階部分のメンテナンスのための設備も必
要となり、コスト上及びスペース上の課題がある。

【０００９】本発明の課題は、基板処理装置を小さなス
ペースに設置できるようにすることにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る基板処理
装置は、複数の処理部を有し、基板に対して一連の処理
を行う基板処理装置であって、第１基板搬送手段と、第
２基板搬送手段とを備えている。第１基板搬送手段は、
基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態で搬送
する。第２基板搬送手段は、基板を垂直状態あるいは垂
直状態に近い傾斜状態で搬送する。

【００１１】本装置では、第１基板搬送手段は従来と同
様に基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態で
搬送するが、第２基板搬送手段は基板を垂直状態あるい
は垂直状態に近い傾斜状態で搬送する。したがって、基
板を垂直状態あるいは垂直状態に近い傾斜状態にして搬
送する第２基板搬送手段は、第１基板搬送手段に較べて
平面的に小さなスペースに設置することができる。

【００１２】ここでは、必要に応じて第１基板搬送手段
と第２基板搬送手段とを使い分ければ、基板の搬送を全
て第１基板搬送手段のように基板を水平状態あるいは水
平状態に近い傾斜状態で搬送する場合に較べて、基板処
理装置の設置面積を小さくすることができる。また、通
常は、各処理部にユーティリティ関連あるいは駆動関連
の設備が必要であり各処理部が基板を垂直状態に立てた
ときの高さに近い高さを有しているため、第２基板搬送
手段が基板処理装置の高さを極端に高くしてしまうこと
はない。

【００１３】請求項２に係る基板処理装置は、請求項１
に記載の装置であって、第１基板搬送手段は、基板が水
平面に対して４５゜未満の傾斜状態となるように基板を
保持しながら基板を搬送する。また、第２基板搬送手段
は、基板が水平面に対して４５゜以上の傾斜状態となる
ように基板を保持しながら基板を搬送する。請求項３に
係る基板処理装置は、請求項１又は２に記載の装置であ
って、基板搬出入手段により基板が搬出入される装置で
ある。基板搬出入手段は、被処理基板を送り出し、且つ
処理済みの基板を受け取る手段である。

【００１４】本装置では、基板を垂直状態あるいは垂直
状態に近い傾斜状態にして搬送する第２基板搬送手段
は、第１基板搬送手段に較べて平面的に小さなスペース
に設置することができる。また、基板搬出入手段が被処
理基板の送り出し及び処理済みの基板の受け取りの機能
を兼備しているため、これらをそれぞれ備えた被処理基
板の送り出しの手段と処理済みの基板の受け取り用の手
段との本装置に付随する２つの手段を設ける必要がなく
なっている。

【００１５】ここでは、例えば、一連の複数の処理部と
第２基板搬送手段とを並列に並べ、基板搬出入手段から
送り出した基板を第２基板搬送手段により基板搬出入手
段から一番遠い処理部に送り、基板が一連の処理部を経
て第１基板搬送手段によって基板搬出入手段に戻される
ようにした場合、基板処理装置の幅は小さくなる。ま
た、被処理基板の送り出しの手段と処理済みの基板の受
け取り用の手段との２つの付随手段の代わりに基板搬出
入手段を１つだけ付随させる構成のため、付随手段を含
めた基板処理装置の全長も短くすることができる。そし
て、基板搬出入手段に２つの機能を集約させているた
め、コスト的にも有利となる。

【００１６】請求項４に係る基板処理装置は、請求項３
に記載の装置であって、第１及び第２基板姿勢変換部を
さらに備えている。この装置では、複数の処理部は直列
に並べられている。第１基板姿勢変換部は、直列に並べ
られた複数の処理部の一端の外側に設けられているもの
で、基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態か
ら垂直状態あるいは垂直状態に近い状態へと変化させる
ことができる。第２基板姿勢変換部は、直列に並べられ
た複数の処理部の他端の外側に設けられるもので、基板
を垂直状態あるいは垂直状態に近い状態から水平状態あ
るいは水平状態に近い傾斜状態へと変化させることがで
きる。第１基板搬送手段は、複数の処理部、第１基板姿
勢変換部、及び第２基板姿勢変換部の間において基板の
搬送を行う。第２基板搬送手段は、第１基板姿勢変換部
から第２基板姿勢変換部へと基板を搬送する。

【００１７】本装置では、基板搬出入手段から送り出さ
れた基板は、第１及び第２基板姿勢変換部の少なくとも
一方を経由して、直列に並べられた複数の処理部におい
て順に処理が施される。これらの処理部の間及び処理部
と第１あるいは第２基板搬送手段との間の基板搬送は、
第１基板搬送手段により行われる。そして、処理を終え
た基板は、第１及び第２基板姿勢変換部の少なくとも一
方を経由して、基板搬出入手段に戻される。第２基板搬
送手段は、第１基板姿勢変換部において垂直状態あるい
は垂直状態に近い状態にされた基板を第２基板姿勢変換
部へと搬送する。

【００１８】ここでは、基板の姿勢を変化させる第１及
び第２基板姿勢変換部を設けているため、第１あるいは
第２基板搬送手段等が基板を姿勢変換させる機能を有す
る必要がない。請求項５に係る基板処理装置は、請求項
４に記載の装置であって、第１基板姿勢変換部が第２基
板姿勢変換部よりも基板搬出入手段に近い位置に配置さ
れている。

【００１９】本装置では、基板搬出入手段から送り出さ
れた基板は、第１基板姿勢変換部において姿勢変換させ
られて第２基板搬送手段によって第２基板姿勢変換部へ
と搬送される。そして、ここから第１基板搬送手段によ
って直列に並べられた複数の処理部に送られ、順に処理
が施される。処理を終えた基板は、第１基板姿勢変換部
を経由して、基板搬出入手段に戻される。

【００２０】ここでは、まず基板を第２基板搬送手段に
よって基板搬出入手段から一番遠い場所にある第２基板
姿勢変換部へと運び、ここから各処理部で基板に処理を
施しながら第１基板搬送手段によって基板搬出入手段側
へと基板を搬送する。したがって、逆に処理を終えた基
板を基板搬出入手段から一番遠い第２基板姿勢変換部か
ら基板搬出入手段まで戻す場合に較べて、処理を終えた
基板が基板搬出入手段に戻されるまでの時間が少なくな
る。これにより、処理後の基板に汚れが付くことが抑え
られる。

【００２１】請求項６に係る基板処理装置は、基板搬出
入手段と、第２基板搬送手段と、基板姿勢変換部と、第
１基板搬送手段と、洗浄処理手段とを備えている。基板
搬出入手段は、被処理基板を送り出し且つ処理済みの基
板を受け取る。第２基板搬送手段は、基板搬出入手段か
ら取り出した基板を、垂直状態あるいは垂直状態に近い
傾斜状態で搬送する。基板姿勢変換部は、第２基板搬送
手段により搬送された基板を、水平状態あるいは水平状
態に近い傾斜状態へと変化させる。第１基板搬送手段
は、基板姿勢変換部で姿勢変換された基板を、水平状態
あるいは水平状態に近い傾斜状態で、基板搬出入手段ま
で搬送する。洗浄処理手段は、第１基板搬送手段により
搬送される基板に対して、洗浄処理を施す。

【００２２】本装置では、基板搬出入手段と基板姿勢変
換部との間を第１及び第２基板搬送手段により基板搬送
している。基板は、まず第２基板搬送手段により基板搬
出入手段から基板姿勢変換部へと送られ、第１基板搬送
手段により基板姿勢変換部から基板搬出入手段へと戻さ
れる。そして、基板姿勢変換部から基板搬出入手段へと
戻されるときに、洗浄処理手段により基板に洗浄処理が
施される。

【００２３】ここでは、基板搬出入手段と基板姿勢変換
部との間を結ぶ第１及び第２基板搬送手段のうち洗浄処
理に関与しない第２基板搬送手段には、基板を垂直状態
あるいは垂直状態に近い傾斜状態で搬送させている。こ
のため、第２基板搬送手段の平面視における大きさを小
さくすることができ、装置を平面的に小さなスペースに
設置することができるようになる。

【００２４】また、ここでは、第１基板搬送手段によっ
て基板姿勢変換部から基板搬出入手段へと基板を戻すと
きに、洗浄処理手段により基板に洗浄処理を施してい
る。そして、第１基板搬送手段には、基板を洗浄処理に
適した水平状態あるいは水平に近い状態で搬送させてい
る。さらに、ここでは、基板への洗浄処理を、基板姿勢
変換部から基板搬出入手段へと基板を戻すときに行わせ
ている。したがって、逆に基板搬出入手段から基板姿勢
変換部へと基板を搬送するときに洗浄処理を行わせる場
合に較べて、洗浄処理を終えた基板が基板搬出入手段に
戻されるまでの時間が少なくなる。これにより、洗浄処
理後の基板に汚れが付くことが抑えられる。

【００２５】

【発明の実施の形態】［第１実施形態］ ＜装置の構成＞図１に、本発明の一実施形態であるイン
ライン型の洗浄装置（基板処理装置）１を示す。この装
置１は、インデクサー２から基板の供給を受け、基板に
一連の洗浄処理を施した後にインデクサー２に基板を戻
すものであって、主として、複数の処理ユニット（ＵＶ
オゾン洗浄ユニット３，ロールブラシ洗浄ユニット４，
超音波スプレー洗浄ユニット５，基板乾燥ユニット６）
と、第１及び第２基板姿勢変換ユニット１８，１９と、
垂直基板搬送室２２とから構成されている。

【００２６】インデクサー２は、インデクサーロボット
（基板搬出入手段）２ａを有している。インデクサーロ
ボット２ａは、インデクサー２に運ばれてきたカセット
Ｃから基板を取り出して、第１基板姿勢変換ユニット１
８に載置する。複数の処理ユニット３〜６は、インデク
サー２から遠い場所から近い場所へと一列に配置されて
いる。ＵＶオゾン洗浄ユニット３は、基板に紫外線を照
射して、基板表面の有機汚染物を酸化分解するユニット
である。ロールブラシ洗浄ユニット４は、円筒形状のブ
ラシを回転させながら基板表面に接触させ、基板をスク
ラブ洗浄するユニットである。超音波スプレー洗浄ユニ
ット５は、超音波振動を加えながら洗浄液を基板にスプ
レーすることにより基板を洗浄するユニットである。基
板乾燥ユニット６は、エアーナイフにより基板を乾燥さ
せるユニットである。

【００２７】第１基板姿勢変換ユニット１８は、基板乾
燥ユニット６とインデクサー２との間に配置されてい
る。このユニット１８は、基板の姿勢、具体的には基板
の水平面に対する傾斜状態を変化させることのできる装
置（図示せず）を備えている。第２基板姿勢変換ユニッ
ト１９は、ＵＶオゾン洗浄ユニット３の外側（インデク
サー２から遠いサイド）に配置されている。このユニッ
ト１９も、ユニット１８と同様に、基板の水平面に対す
る傾斜状態を変化させることのできる装置を備えてい
る。

【００２８】これらの複数の処理ユニット３〜６及び両
基板姿勢変換ユニット１８，１９内には、これらを貫通
してこれらの間で基板を搬送する複数の搬送ローラ（第
１基板搬送手段）２１が設けられている（図２参照）。
これらの搬送ローラ２１は、それぞれ、ローラ軸２１ａ
と、ローラ軸２１ａに固定され基板の下面及び側面を支
持する支持部材２１ｂとから構成されている。ローラ軸
２１ａは、支持部材２１ｂに支持される基板が水平面に
対して３゜〜７゜だけ傾斜するように、傾いた状態で各
ユニットの側壁に回転自在に支持されている。搬送ロー
ラ２１は、図示しない駆動装置によって回転させられる
ことにより、支持部材２１ｂ上に載置される基板Ｗ（図
２参照）を搬送する。

【００２９】なお、第１基板姿勢変換ユニット１８内の
搬送ローラ２１は、水平面に対する傾斜角３゜〜７゜の
状態と水平状態とが切り換わるようにされている。垂直
基板搬送室２２は、図１及び図２に示すように、複数の
処理ユニット３〜６及び両基板姿勢変換ユニット１８，
１９の側方に設けられる細長い室である。この垂直基板
搬送室２２は、図２に示すように、処理ユニット３〜６
の側方下部に位置する取り合い配管配置空間の上方に配
置されている。この取り合い配管配置空間には、クリー
ンルームの床面Ｇの下方に配置されている配管から複数
の処理ユニット３〜６に供給される洗浄液やドライエア
ー等のユーティリティの取り合い配管３ａが配置されて
いる。垂直基板搬送室２２の内部には、図２に示す下部
搬送ローラ３１及び上部搬送ローラ３２（第２基板搬送
手段）が長手方向に複数設けられている。下部搬送ロー
ラ３１は、垂直基板搬送室２２の下部に配置されてお
り、回転軸３１ａと保持部材３１ｂとを有している。こ
の下部搬送ローラ３１は、図２に示すように概ね垂直状
態にある基板Ｗの下端部を保持部材３１ｂによって保持
しつつ、回転して基板Ｗを搬送する。上部搬送ローラ３
２は、垂直基板搬送室２２の上部に配置されており、概
ね垂直状態にある基板Ｗの上部を支持する。この上部搬
送ローラ３２は、両端が垂直基板搬送室２２に回転自在
に支持されている。

【００３０】また、第１基板姿勢変換ユニット１８と垂
直基板搬送室２２との間には第１基板姿勢変換ユニット
１８から垂直基板搬送室２２へと基板をスライドさせる
スライド機構（図示せず）が設けられており、垂直基板
搬送室２２と第２基板姿勢変換ユニット１９との間には
垂直基板搬送室２２から第２基板姿勢変換ユニット１９
へと基板をスライドさせるスライド機構が設けられてい
る。＜装置の動作＞カセットＣに収容された状態の基板
がインデクサー２に運ばれてくると、インデクサーロボ
ット２ａがカセットＣから基板を取り出して第１基板姿
勢変換ユニット１８に水平状態で載置する。

【００３１】第１基板姿勢変換ユニット１８において
は、水平状態の基板が概ね垂直状態となるように姿勢変
換される。ここでの垂直状態は、図２の垂直基板搬送室
２２内の基板Ｗの傾斜状態と等しく、水平面に対して６
０〜８０゜ぐらいに設定すればよいが、ここでは垂直基
板搬送室２２の幅寸法及び垂直基板搬送室２２内での基
板Ｗの姿勢の安定性を考慮して約７０゜に設定されてい
る。

【００３２】概ね垂直状態となった基板は、図１の矢印
Ａ１に示すように、第１基板姿勢変換ユニット１８から
隣接する垂直基板搬送室２２へと移される。垂直基板搬
送室２２においては、基板が下部搬送ローラ３１及び上
部搬送ローラ３２に保持された状態で図１の右側へと移
送される（図１の矢印Ａ２参照）。このときには、基板
Ｗは、図２に示すように概ね垂直状態で移送される。

【００３３】垂直基板搬送室２２の第２基板姿勢変換ユ
ニット１９に隣接する空間にまで基板が移送されると、
基板が垂直基板搬送室２２から第２基板姿勢変換ユニッ
ト１９へと移される（図１の矢印Ａ３参照）。このとき
には基板は概ね垂直状態にあるが、第２基板姿勢変換ユ
ニット１９に移された後に、基板が概ね水平状態に姿勢
変換される。この第２基板姿勢変換ユニット１９では、
基板を、図２のＵＶオゾン洗浄ユニット３内の基板Ｗの
ように水平面に対する傾斜角が３゜〜７゜の状態となる
ように姿勢変換させる。

【００３４】第２基板姿勢変換ユニット１９で傾斜角３
゜〜７゜の状態とされ概ね水平状態となった基板は、搬
送ローラ２１に載せられてＵＶオゾン洗浄ユニット３へ
と運ばれる。ここでの処理を終えた基板は、この後、搬
送ローラ２１によって各処理ユニット４〜６に運ばれて
（図１の矢印Ａ４参照）それぞれの処理が施される。そ
して、全ての洗浄処理を終えた基板は、基板乾燥ユニッ
ト６から第１基板姿勢変換ユニット１８へと概ね水平状
態のまま搬送ローラ２１により移送される。

【００３５】処理を終えた基板は、第１基板姿勢変換ユ
ニット１８において、搬送ローラ２１が水平面に対する
傾斜角３゜〜７゜の状態から水平状態へと切り換わるこ
とによって、水平状態とされる。この水平状態となった
基板は、ここからインデクサーロボット２ａによってカ
セットＣに戻される。 ＜装置の特徴＞ （１）本装置では、垂直基板搬送室２２内において、基
板を垂直状態に近い傾斜状態で搬送している。したがっ
て、垂直基板搬送室２２の横幅寸法が小さくなってお
り、装置全体としての幅寸法が小さく抑えられている。
また、この幅の小さな垂直基板搬送室２２をユーティリ
ティの取り合い配管３ａが配置される空間の上部に持っ
てきているため、Ｉ型の装置と較べたときの設置面積の
幅の増加が最小限に抑えられている。 （２）本装置はＵターン型の装置となっているが、概ね
水平状態で基板を搬送する各処理ユニット３〜６と垂直
基板搬送室２２とを並列に並べているため、水平状態で
基板を搬送する処理ユニットが並列に並ぶ従来のＵター
ン型の装置と較べて幅寸法が小さくなっている。 （３）本装置では、インデクサー２が被処理基板の送り
出し及び処理済みの基板の受け取りの両機能を兼備して
いるため、Ｉ型の装置のようにローダ及びアンローダを
それぞれ備えた装置に較べて、コスト的にもスペース的
にも有利となっている。 （４）本装置では、インデクサー２から送り出された基
板は、第１基板姿勢変換ユニット１８で姿勢変換させら
れて垂直基板搬送室２２を通って第２基板姿勢変換ユニ
ット１９へと搬送される。次に、基板は、ここから搬送
ローラ２１によって一列に並べられた複数の処理ユニッ
ト３〜６に送られ、順に処理が施される。そして、処理
を終えた基板は、第１基板姿勢変換ユニット１８からイ
ンデクサー２に戻される。したがって、処理を終えた基
板がインデクサー２に戻されるまでの間には１つのユニ
ット（第１基板姿勢変換ユニット１８）しか存在せず、
処理後の基板に汚れが付くことが少なくなっている。

【００３６】［第２実施形態］上記第１実施形態におい
ては図２に示す下部搬送ローラ３１及び上部搬送ローラ
３２によって基板を概ね垂直状態に支持しながら搬送し
ているが、図３に示すような垂直基板搬送室２２内を移
動するシャトル４１に基板を垂直状態に保持させて基板
搬送を行わせることもできる。

【００３７】シャトル（第２基板搬送手段）４１は、垂
直基板搬送室２２内を長手方向に移動するものであっ
て、上部に吸着部４１ａを、下部に基板保持溝４１ｂを
有している。基板Ｗは、下端部が基板保持溝４１ｂ内に
はまり、上部が吸着部４１ａに吸着された状態となっ
て、シャトル４１に垂直状態で保持される。ここでは、
第１基板姿勢変換ユニット１８において水平状態の基板
が垂直状態に姿勢変換され、垂直状態の基板が垂直基板
搬送室２２へと移されてシャトル４１に載せられる。垂
直基板搬送室２２においては、基板を保持したシャトル
４１が図１の右側へと移動する（図１の矢印Ａ２参
照）。このときには、基板Ｗは、図３に示すように垂直
状態で移送される。そして、垂直基板搬送室２２の第２
基板姿勢変換ユニット１９に隣接する空間にまでシャト
ル４１が移動すると、基板がシャトル４１から第２基板
姿勢変換ユニット１９へと移される（図１の矢印Ａ３参
照）。このときには基板は垂直状態にあるが、第２基板
姿勢変換ユニット１９に移された後に、基板が概ね水平
状態に姿勢変換される。

【００３８】［第３実施形態］上記第１実施形態におい
ては図２に示す下部搬送ローラ３１及び上部搬送ローラ
３２によって基板を概ね垂直状態に支持しながら搬送し
ているが、図４に示すような垂直基板搬送室２２内をス
ライドするスライダー５１に基板を垂直状態に保持させ
て基板搬送を行わせることもできる。また、第１実施形
態においては各処理ユニット３〜６における基板処理の
促進のために各処理ユニット３〜６において基板を傾斜
角３゜〜７゜の傾斜状態で搬送及び基板処理しているが
（図２参照）、図４に示すように各処理ユニット３〜６
において基板を水平状態で搬送及び基板処理してもよ
い。

【００３９】スライダー（第２基板搬送手段）５１は、
垂直基板搬送室２２内を長手方向にスライドするもので
あって、上部に保持部５１ａを有している。保持部５１
ａは、クランプ機構として基板上部を挟み込むように構
成してもよいし、吸着機構として基板上部を吸着保持さ
せるように構成してもよい。基板Ｗは、上端部が保持部
５１ａに保持され吊り下げられた状態となって、スライ
ダー５１に垂直状態で保持される。

【００４０】ここでは、第１基板姿勢変換ユニット１８
において水平状態の基板が垂直状態に姿勢変換され、垂
直状態の基板が垂直基板搬送室２２へと移されてスライ
ダー５１に保持される。垂直基板搬送室２２において
は、基板を保持したスライダー５１が図１の右側へと移
動する（図１の矢印Ａ２参照）。このときには、基板Ｗ
は、図４に示すように垂直状態で移送される。そして、
垂直基板搬送室２２の第２基板姿勢変換ユニット１９に
隣接する空間にまでスライダー５１が移動すると、基板
が第２基板姿勢変換ユニット１９へと移される（図１の
矢印Ａ３参照）。このときには基板は垂直状態にある
が、第２基板姿勢変換ユニット１９に移された後に、基
板が水平状態に姿勢変換される。第２基板姿勢変換ユニ
ット１９で水平状態となった基板は、搬送ローラ２１に
載せられてＵＶオゾン洗浄ユニット３へと運ばれる。こ
こでの処理を終えた基板は、この後、搬送ローラ２１に
よって各処理ユニット４〜６に運ばれてそれぞれの処理
が施される。そして、全ての洗浄処理を終えた基板は、
基板乾燥ユニット６から第１基板姿勢変換ユニット１８
へと水平状態のまま搬送ローラ２１により移送され、イ
ンデクサーロボット２ａによってカセットＣに戻され
る。

【００４１】［第４実施形態］本発明は、上記第１実施
形態のような洗浄装置だけではなく、図５に示すような
レジスト剥離ユニット７，洗浄ユニット８，超音波洗浄
液スプレーユニット９，及び基板乾燥ユニット１０を備
えたレジスト剥離装置にも適用することができる。

【００４２】また、本発明は、スピンコーター１１，エ
ッジリンスユニット１２，及び基板搬出入ロボット１３
ａを有する複数段構成のプリベークユニット１３を備え
た図６に示すレジスト塗布装置にも適用することができ
る。また、本発明は、現像ユニット１４，洗浄ユニット
１５ａ，１５ｂ，基板乾燥ユニット１６，基板搬出入ロ
ボット１７ａを有する複数段構成のポストベークユニッ
ト１７を備えた図７に示す現像装置にも適用することが
できる。ここでは、現像ユニット１４及び洗浄ユニット
１５ａ，１５ｂにおいては基板を傾斜させた状態で基板
処理を行いポストベークユニット１７では基板を水平状
態にして処理を行うため、これらの間に基板姿勢変換ユ
ニット２０を配置している。

【００４３】［第５実施形態］上記実施形態ではインデ
クサー２から第１基板姿勢変換ユニット１８に基板を搬
出入しているが、図８に示すようにコンベア２３により
運ばれてくる基板を基板搬出入ロボット（基板搬出入手
段）６１，６２によって各装置に搬出入させてもよい。

【００４４】この図８に示すシステムでは、ＵＶオゾン
洗浄ユニット３等から成る洗浄装置とスピンコーター１
１等から成るレジスト塗布装置とを並べ、これらにコン
ベア２３から基板搬出入ロボット６１，６２を介して基
板を搬出入する。このように各装置及びコンベアを配置
すれば、洗浄装置において洗浄処理を終えた基板がコン
ベア２３によってレジスト塗布装置に運ばれるというよ
うに、基板処理に関する各工程を順番に効率よく進める
ことができる。

【００４５】［他の実施形態］上記第１実施形態におい
ては、搬送ローラ２１を傾斜させる場合にその傾斜角を
３゜〜７゜に設定しているが、この傾斜角は処理ユニッ
トの条件に合わせて適当な値に設定すればよい。また、
第１及び／又は第２基板姿勢変換ユニット１８，１９を
設ける代わりに、一連の処理ユニットの両端部にある処
理ユニット内に基板の水平／垂直姿勢を変換することの
できる機構を設置しても良い。この場合には、装置をさ
らに小型化することができる。

【００４６】

【発明の効果】本発明では、基板を垂直状態あるいは垂
直状態に近い傾斜状態にして搬送する第２基板搬送手段
を設けている。この第２基板搬送手段は小さなスペース
に設置することができるため、基板処理装置の設置面積
を小さくすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る洗浄装置の概略図。

【図２】図１のII-II矢視図。

【図３】第２実施形態の装置の概略横断面図。

【図４】第３実施形態の装置の概略横断面図。

【図５】第４実施形態のレジスト剥離装置の概略図。

【図６】第４実施形態のレジスト塗布装置の概略図。

【図７】第４実施形態の現像装置の概略図。

【図８】第５実施形態のシステムの概略図。

【図９】従来のＩ型の基板処理装置の概略図。

【図１０】従来のＵターン型の基板処理装置の概略図。

【図１１】従来の他のＵターン型の基板処理装置の概略
図。

【符号の説明】

２ａ インデクサーロボット（基板搬出入手段） ３ ＵＶオゾン洗浄ユニット（処理部） ４ ロールブラシ洗浄ユニット（処理部） ５ 超音波スプレー洗浄ユニット（処理部） ６ 基板乾燥ユニット（処理部） １８ 第１基板姿勢変換ユニット（第１基板姿勢変換
部） １９ 第２基板姿勢変換ユニット（第２基板姿勢変換
部） ２１ 搬送ローラ（第１基板搬送手段） ２２ 垂直基板搬送室 ３１ 下部搬送ローラ（第２基板搬送手段） ３２ 上部搬送ローラ（第２基板搬送手段） ４１ シャトル（第２基板搬送手段） ５１ スライダー（第２基板搬送手段） ６１，６２ 基板搬出入ロボット（基板搬出入手段）

フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB04 BA13 BB21 BB83 BC01 CB15 CC12 5F031 AA10 BB05 CC20 KK02 KK06 KK07 5F046 JA04 JA15 JA22 KA01 KA07 LA18

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数の処理部を有し、基板に対して一連の
   処理を行う基板処理装置であって、 基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態で搬送
   する第１基板搬送手段と、 基板を垂直状態あるいは垂直状態に近い傾斜状態で搬送
   する第２基板搬送手段と、を備えた基板処理装置。
2. 【請求項２】前記第１基板搬送手段は、基板が水平面に
   対して４５゜未満の傾斜状態となるように基板を保持し
   ながら基板を搬送し、 前記第２基板搬送手段は、基板が水平面に対して４５゜
   以上の傾斜状態となるように基板を保持しながら基板を
   搬送する、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】被処理基板を送り出し且つ処理済みの基板
   を受け取る基板搬出入手段により基板が搬出入される、
   請求項１又は２に記載の基板処理装置。
4. 【請求項４】前記複数の処理部は直列に並べられてお
   り、 直列に並べられた複数の処理部の一端の外側に設けら
   れ、基板を水平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態か
   ら垂直状態あるいは垂直状態に近い状態へと変化させる
   ことができる、第１基板姿勢変換部と、 直列に並べられた複数の処理部の他端の外側に設けら
   れ、基板を垂直状態あるいは垂直状態に近い状態から水
   平状態あるいは水平状態に近い傾斜状態へと変化させる
   ことができる、第２基板姿勢変換部と、をさらに備え、 前記第１基板搬送手段は、前記複数の処理部、前記第１
   基板姿勢変換部、及び前記第２基板姿勢変換部の間にお
   いて基板の搬送を行い、 前記第２基板搬送手段は、前記第１基板姿勢変換部から
   前記第２基板姿勢変換部へと基板を搬送する、請求項３
   に記載の基板処理装置。
5. 【請求項５】前記第１基板姿勢変換部が前記第２基板姿
   勢変換部よりも前記基板搬出入手段に近い位置に配置さ
   れる、請求項４に記載の基板処理装置。
6. 【請求項６】被処理基板を送り出し且つ処理済みの基板
   を受け取る基板搬出入手段と、 前記基板搬出入手段から取り出した基板を垂直状態ある
   いは垂直状態に近い傾斜状態で搬送する第２基板搬送手
   段と、 前記第２基板搬送手段により搬送された基板を、水平状
   態あるいは水平状態に近い傾斜状態へと変化させる基板
   姿勢変換部と、 前記基板姿勢変換部で姿勢変換された基板を水平状態あ
   るいは水平状態に近い傾斜状態で前記基板搬出入手段ま
   で搬送する第１基板搬送手段と、 前記第１基板搬送手段により搬送される基板に対して洗
   浄処理を施す洗浄処理手段と、を備えた基板処理装置。