JP3210133B2 - 基板ウェット処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は基板ウェット処理技術
に関し、さらに詳細には、液晶表示装置用ガラス基板、
レチクル用あるいはフォトマスク用ガラス基板等の矩形
もしく正方形の薄板状基板にウェット処理を施す技術に
関する。

【０００２】

【従来の技術】家庭用薄形テレビやラップトップパソコ
ン等の画像表示に液晶表示装置が用いられていることは
知られている。液晶表示装置は電力消費が少ない、薄形
で場所をとらない等の理由から、壁掛けテレビやデスク
トップパソコン等への需要も高まり、それに伴い液晶表
示装置用ガラス基板も年々大型化される傾向にある。

【０００３】ところで、これらガラス基板（以下、基板
と称する）や半導体ウェハ（以下、ウェハと称する）の
ウェット処理技術には、基板等を搬送用のキャリアカセ
ットに複数枚収容し一括して処理するカセットタイプの
ものと、基板等を基板搬送装置で直接保持して処理する
カセットレスタイプのものとがあり、さらにカセットレ
スタイプのものには、保持する基板等の枚数が一枚の枚
葉式のものと、複数枚のバッチ式のものとがある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】近時は、洗浄効率を高
めるとともに洗浄液の汚染を防止するためおよび生産効
率を上げるために、ウェハの場合は、カセットレスでバ
ッチ式のウエット処理が一般的になりつつあるが、一
方、基板の場合は、キャリアカセットを用いたバッチ式
か、カセットレスタイプの枚葉式かに限られており、ウ
ェハのような処理方法は採用されていなかった。

【０００５】すなわち、ウェハの場合、その形状寸法は
現在８インチのもので直径約２００ｍｍの円形であり、
まだ基板搬送装置で直接チャッキング保持しやすい。こ
れに対して、基板の場合、その形状寸法は、上述したよ
うに年々大型化されて、近時では４００×５００ｍｍの
大型矩形であることから、ウェハに比べて非常にチャッ
キングし難くしかも重いため、カセットレスでバッチ式
のウエット処理は不可能とされていた。

【０００６】しかしながら、上記キャリアカセットを用
いたウェット処理においては、上記基板の大型化に伴い
キャリアカセットも大型化しており、何槽もの薬液槽を
経てウエット処理する間に、キャリアカセット内に薬液
がかなり付着して残っているため薬液の持ち出しが多く
て、薬液を繰り返し補充しなければならなく不経済であ
った。

【０００７】また、キャリアカセットを用いて長い間何
回も薬液処理していると、経時的にカセットに薬液が染
み込んで、今度はそれが洗浄用純水に染み出して汚染す
る等処理工程に悪影響を与えてしまう。さらに、このよ
うな悪影響を未然に防止するためには、キャリアカセッ
トを比較的短い周期で廃棄・交換しなければならないと
ころ、キャリアカセットは高価であるため、ランニング
コストの大幅増大を招いて非常に不経済であった。

【０００８】一方、カセットレスタイプの枚葉式ウェッ
ト処理においては、ローダ装置によりキャリアカセット
から基板を一枚ずつ抜き出し、ゴムベルトにより水平状
態で搬送し、その間薬液シャワーをかけて処理する方式
のものや、特開昭６４−３７０１６号に開示されている
ように、Ｌ字形あるいはＶ字形の基板保持具に一枚の基
板を保持し、この基板保持具を搬送手段で搬送処理する
方式のものがあるが、いずれのものにおいても次のよう
な問題があった。

【０００９】つまり、前者においては、ゴムベルトと基
板との接触により汚染が発生し、十分なウエット処理効
果が得られないばかりか、平面積の大きい基板を水平に
移動するため、装置の大型化を招いていた。また、後者
においては、上述したキャリアカセットの場合と同様、
基板保持具による薬液の持ち出しや、薬液の染み込み、
染み出しによる汚染の問題や、基板をＬ字形あるいはＶ
字形の基板保持具によって支えるため、基板の対角線が
水平状態に近くなり、したがって保持治具が大きくなり
装置の大型化を招くとともに、枚葉式のため生産効率が
悪い等の問題があった。

【００１０】本発明はかかる従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、大型の基板を汚
染度の低いカセットレスで、なおかつ生産効率の高いバ
ッチ式でウエット処理する技術を提供することにある。

【００１１】また、その目的とするところは、基板をそ
の被処理面を垂直にした場合、下辺が水平からわずかに
傾斜する形で支持搬送およびウェット処理することによ
り、装置全体の小型化を実現することができる構造を備
えた基板ウエット処理装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の基板ウエット処理装置は、複数枚の矩形も
しくは正方形の基板を基板搬送装置に移し替えて、カセ
ットレスで一括して搬送し、複数の処理槽に順次浸漬し
て各処理槽内の基板保持台に移載してウェット処理する
装置であって、上記基板搬送装置は、開閉可能な一対の
吊持アームと、これら吊持アームを開閉制御するアーム
制御部とからなる基板吊持装置を備え、上記両吊持アー
ムには、複数枚の基板を傾斜状態でチャッキング保持す
る基板保持部がそれぞれ設けられ、これら基板保持部
は、上記吊持アームの閉止時において、基板の隣接する
２つの傾斜下辺を下側から吊持状に支持するように構成
され、上記各処理槽の基板保持台は、処理槽内底部にあ
って、上記各基板の隣接する２つの傾斜下辺の下側を上
記傾斜状態のまま支持する基板保持部を備えてなるよう
に構成されていることを特徴とする。

【００１３】好適には、上記吊持アームの基板保持部
は、上記基板の隣接する直交２辺がそれぞれ水平に近い
傾斜下辺と垂直に近い傾斜下辺になるように傾斜した状
態で、これら２つの傾斜下辺を下側から吊持状に支持す
るように配置されているとともに、上記基板保持台の基
板保持部は、上記基板の隣接する直交２辺がそれぞれ水
平に近い傾斜下辺と垂直に近い傾斜下辺になるように傾
斜した状態で、これら２つの傾斜下辺を下側から支持す
るように配置されている。

【００１４】

【作用】本発明においては、基板をカセットレスでウエ
ット処理する方式であって、前工程からキャリアカセッ
トに収納されて搬入される基板を基板移載部で、基板搬
送装置に移し替えた後、この基板搬送装置により、処理
槽列の一端側から複数の処理槽に順次自動で搬送して浸
漬し、ウエット処理を施す。

【００１５】この搬送処理に際しては、基板の隣接する
２辺が傾斜下辺となるようにして、搬送時は、これら２
つの傾斜下辺を吊持状に保持するとともに、ウェット処
理時は、これら２つの傾斜下辺を処理槽内にて保持し、
これにより、簡単な構成で、矩形または正方形の大型基
板をカセットレスでなおかつバッチ式に処理できる。

【００１６】また、基板の傾斜保持に際して、上記２つ
の傾斜下辺のうち一辺を水平に近い角度で支持すること
により、処理装置の小型化を図る。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例を、図面に基づいて詳
細に説明する。

【００１８】本発明に係る基板ウエット処理装置を図
１、図２および図３に示し、この基板ウエット処理装置
は、複数枚（本例においては２０枚）の基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…をカセットレスで一括して行うバッチ式のもので
あって、図２に示すように、基板搬入部Ｌ、搬入側移載
部Ａ、ウエット処理部Ｂ、搬出側移載部Ｃ、基板搬出部
Ｕ、カセット搬送部Ｄおよび制御装置（駆動制御部）Ｅ
を主要部として備えてなる。

【００１９】基板搬入部Ｌは、基板ＳＢ，ＳＢ，…が前
工程から搬入される部位で、ウエット処理部Ｂの搬入側
に配置され、タクト送り機構（図示せず）を備える。前
工程から搬入されてくる基板入りキャリアカセットＣＣ
は、上記タクト送り機構により矢符(1) の方向へ所定間
隔をもってタクト送りされる。この際基板ＳＢは水平状
態（倒伏状態）に保持されている。

【００２０】搬入側移載部Ａは、移載ロボット１と姿勢
変換手段２とを備え、移載ロボット１が、上記タクト送
りされたキャリアカセットＣＣから基板ＳＢを一枚ずつ
順番に水平状態のまま抜き取り、水平状態にある姿勢変
換手段２に移し替える（矢符(2) 参照）。基板ＳＢが２
０枚すべて移載された後、姿勢変換手段２が起立方向へ
９０°回転して起立状態となり、基板ＳＢ，ＳＢ，…の
被処理面が垂直状態（起立状態）となるように姿勢変換
される。この際、各基板ＳＢ，ＳＢ，…の下辺は水平か
らわずかに（本例では５°）傾斜して姿勢変換されて、
ウエット処理部Ｂの基板搬送装置５を待機するように構
成されている。

【００２１】ウエット処理部Ｂは、高清浄度雰囲気に維
持される処理室内に、２列平行に並設された一対の処理
槽列３，４と基板搬送装置５，７とを備えてなり、これ
ら両処理槽列３，４の一端側はそれぞれオペレータゾー
ンＯに面するように配置されるとともに、両処理槽列
３，４の他端側間には基板搬送装置６が設けられてい
る。

【００２２】つまり、基板ＳＢ，ＳＢ，…のウエット処
理経路は、搬入側の処理槽列３のオペレータゾーンＯ側
端からオペレータゾーンＯ反対側端へ進むとともに、搬
出側の処理槽列４のオペレータゾーンＯ反対側端からオ
ペレータゾーンＯ側端へ進むように構成されている。

【００２３】搬入側の処理槽列３は、複数の処理槽を備
えるとともに、これら処理槽の側部に上記基板搬送装置
５が配設されている。

【００２４】図示例においては、搬入側の処理槽列３は
６つの処理槽３ａ〜３ｆが設けられてなり、具体的に
は、処理槽３ａは基板搬送装置５の吊持アーム１４，１
５（後述）を洗浄する洗浄槽、処理槽３ｂは基板ＳＢ，
ＳＢ，…の被処理面に形成されたフォトレジスト膜をマ
スクとしてエッチング処理するためのエッチング液が満
たされている槽、処理槽３ｃはいわゆるＱＤＲ（クイッ
ク・ダンプ・リンス）槽で、純水が満たされて、上記基
板ＳＢの被処理面に付着したエッチング液を予備洗浄す
る槽、処理槽３ｄは純水が満たされて仕上げ水洗を行う
ＦＩＮＡＬ（ファイナル・リンス）槽、および処理槽３
ｅは基板ＳＢ，ＳＢ，…を浸漬した後、低速度で引上げ
乾燥させるＩＰＡ（イソプロピルアルコール）乾燥機で
ある。処理槽３ｆは実際には、次に詳述する搬出側処理
工程に属するもので、上記フォトレジスト膜を剥離処理
するための第一の剥離液が満たされている槽である。

【００２５】基板搬送装置５は、搬入側移載部Ａの姿勢
変換手段２に収載された基板ＳＢ，ＳＢ，…をカセット
レスで搬送処理する構造とされている。

【００２６】基板搬送装置５は、具体的には図１に示す
ように、装置本体の内部８ａに設けられて、上記処理槽
３ａ〜３ｆの配列方向（図２の矢符(3) 方向）へ平行に
往復移動可能とされた搬送台９と、この搬送台９に上下
方向へ昇降可能に設けられた支柱１０と、この支柱１０
の上端に装着された支持装置台１１と、この支持装置台
１１から処理槽上方へ向かって延びる水平アーム１２
と、この水平アーム１２の先端に装着された基板吊持装
置１３とから構成されており、上記姿勢変換手段２から
受け取った複数枚の基板ＳＢ，ＳＢ，…を、上記処理槽
列３ａ〜３ｆ内の処理液中に順次浸漬して、これら基板
ＳＢ，ＳＢ，…表面を処理する。

【００２７】また、上述した各処理槽の構造は、処理槽
３ａ，３ｃ，３ｄが塩化ビニル樹脂等の材質からなる単
一槽であり、処理槽３ｂ，３ｅ，３ｆが石英ガラス等の
材質からなるオーバーフロー槽である。

【００２８】これらオーバーフロー槽の具体的構造を図
４〜図７に示す処理槽３ｅを用いて説明する。３ｅ₁ は
典型的な基本構造を備えるオーバーフロー槽本体を示
し、給液口３ｅ₂ 、排液口３ｅ₃ およびオーバーフロー
排液口３ｅ₄ を備えるとともに、その底部に基板ＳＢを
保持する基板保持台５０を備える。

【００２９】この基板保持台５０は、基台３ｅ₅ と、こ
の基台３ｅ₅ 上に固設された一対の基板保持部３ｅ₆ ,
３ｅ₇ とからなる。

【００３０】基台３ｅ₅ は、オーバーフロー槽本体３ｅ
₁ に対して位置合わせできる構造とされている。具体的
には、図６に示すように、基台３ｅ₅ の４角に８個の調
整板３ｅ₈ , ３ｅ₈ ，…が固着されるとともに、これら
調整板に８本の調整ボルト３ｅ₉ ，３ｅ₉ ，…が螺進退
可能に取り付けられてなり、これら調整ボルト３ｅ₉，
３ｅ₉ ，…を適宜螺進退調整することにより、その先端
をオーバーフロー槽の内面３ｅ₁₀にそれぞれ押しつけ
て、基台３ｅ₅ の位置合わせが行われるように構成され
ている。

【００３１】一対の基板保持部３ｅ₆ , ３ｅ₇ は、基板
搬送装置５の吊持アーム１４，１５のチャッキング位置
（図４の実線位置）と相互に干渉しない位置に配置され
ており、それぞれ複数の基板保持溝Ｍ，Ｍ，…を有す
る。

【００３２】一方の基板保持部３ｅ₆ の各基板保持溝Ｍ
₁ は、図５に示すように傾斜した直角形状断面を有して
おり、基板ＳＢの一角つまり傾斜下辺ＳＢ_a とＳＢ_b の
交角部分を傾斜状態に保持して、傾斜保持機能（傾斜保
持部）を兼備している。他方の保持部３ｅ₇ の各基板保
持溝Ｍ₂ は、図５に示すように傾斜した直線状断面を有
しており、基板ＳＢの一辺つまり傾斜下辺ＳＢ_a を保持
する。

【００３３】また、上記基板保持溝Ｍ₁ ，Ｍ₂ の傾斜保
持角度は、後述する吊持アーム１４，１５の基板保持バ
ー１９，１９，１９の相対的位置に対応して、基板ＳＢ
の下辺が水平から５°程度傾斜した状態で保持されるよ
うに設定されている。

【００３４】なお、他の処理槽３ａ，３ｂ，３ｃ，３
ｄ，３ｆ内にも上記とほぼ同様の基板保持台が備えてあ
り、基板搬送装置５により搬送された基板ＳＢが、この
基板保持台に移載されて、各処理槽内にて所定のウェッ
ト処理が施される。

【００３５】なお、図示しないが、処理槽３ｂ，３ｆに
は薬液飛散防止用のフタがそれぞれ開閉可能に取り付け
られている。

【００３６】上記基板吊持装置１３の具体的構造は図４
および図８〜図１０に示すように、左右一対の吊持アー
ム１４，１５およびこれらを開閉制御するアーム制御部
１６を主要部として備えてなる。

【００３７】一方の吊持アーム１４は、２本の細長プレ
ート１７，１７と、その下端部に水平状に取り付けられ
た上下一対の基板保持バー１９，１９とを備えてなる。
また、もう一方の吊持アーム１５は、吊持アーム１４と
同様で、細長プレート２０，２０と、これら細長プレー
ト２０，２０間に橋絡状に設けられた一本の基板保持バ
ー１９とを備えてなる。つまり、細長プレート２０は吊
持アーム１４の細長プレート１７よりも短く（ほぼ半分
程度）設定されるとともに、両細長プレート２０，２０
の下端に、上記基板保持バー１９が水平状に取り付けら
れている。

【００３８】上記細長プレート１７は、ステンレス鋼材
にフッ素樹脂がコーティングされてなる耐薬品性に優れ
るものである。また、基板保持バー１９は、図８に示す
ように、フッ素樹脂等から形成されるとともに、その外
周に複数の基板保持溝１９ａ，１９ａ，…を有する外筒
１９ｂと、この外筒１９ｂの内部に封入されたステンレ
ス鋼製の心金１９ｃとから構成されている。

【００３９】吊持アーム１４，１５の上端は、それぞれ
前述の水平アーム１２に接続されたフレーム２１に揺動
可能に枢着されるとともに、アーム制御部１６に接続さ
れている。これにより、吊持アーム１４，１５は相互に
揺動されて、その閉止位置において基板ＳＢを吊持状に
チャッキング保持し、またその拡開位置において基板Ｓ
Ｂのチャッキングを解除する。

【００４０】両吊持アーム１４，１５に取り付けられた
３本の基板保持バー１９，１９，１９の相対的位置は、
吊持アーム１４，１５が閉止して基板ＳＢをチャッキン
グ保持した時、この基板ＳＢの下辺が水平から５°程度
傾斜した状態で吊持状に保持されるように設定されてい
る。つまり、図４に示すように、両吊持アーム１４，１
５下端の基板保持バー（基板保持部）１９，１９が各基
板ＳＢの傾斜下辺ＳＢａとＳＢｂの上端部を吊持状に支
持するとともに、吊持アーム１４のもう一つの基板保持
バー（傾斜保持部）１９が各基板ＳＢの他の一辺ＳＢｃ
の下端部を支持して、各基板ＳＢの前方（図４において
右方向）への回転を防止する。

【００４１】制御部１６は、図８〜図１０に示すよう
に、吊持アーム１４または１５を枢支する揺動シャフト
３３と、駆動手段であるエアシリンダ２６とを１セット
とし、両吊持アーム１４，１５を別々に駆動するために
２セット装着されてなる。

【００４２】上記揺動シャフト３３は、上記フレーム２
１に、ベアリング３２，３２を介して回転可能に軸支さ
れている。この揺動シャフト３３の両端部は、カバー２
８を貫通して外部へ突出され、ここに接続ブロック２
９，２９を介して吊持アーム１４または１５の上端が取
り付け固定されている。

【００４３】上記エアシリンダ２６は両ロッド型のもの
で、上記フレーム２１上にブラケット３５を介して装着
されており、このエアシリンダ２６の一方のピストンロ
ッド２６ａが、コネクティングロッド３６を介して、揺
動シャフト３３に固設された揺動レバー３４に連結され
ている。また、フレーム２１には、エアシリンダ２６の
他方のピストンロッド２６ｂを停止するためのストッパ
３７が固設されている。

【００４４】しかして、以上のように構成された基板吊
持装置１３において、吊持アーム１４，１５は、アーム
制御部１６のエアシリンダ２６，２６により、相互に揺
動されて拡縮動作され、その閉止位置において基板ＳＢ
を吊持状にチャッキング保持するとともに、拡開位置に
おいて基板ＳＢのチャッキングを解除して、基板ＳＢ，
ＳＢ，…をカセットレスで搬送処理する。

【００４５】上記搬入側処理槽列３に続く基板搬送装置
６は、搬入側処理槽列３から搬出側処理槽列４へ基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…を移送および処理する装置であって、図３
に示すように、装置本体の部位８ｂに設置されている。
この基板搬送装置６の基本構造は、上述した基板搬送装
置５とほぼ同様であり、基板ＳＢ，ＳＢ，…の保持方向
が左右から前後方向に変わっただけである。つまり、基
板搬送装置６の基板吊持装置１３は、基板搬送装置５に
より搬送処理される基板ＳＢ，ＳＢ，…をその姿勢のま
まチャッキング保持できるように支柱１０に対して取り
付けられている。

【００４６】搬送側処理槽列４は、前述した搬入側処理
槽列３と同様、複数の処理槽を備えるとともに、これら
の処理槽の側部に、基板搬送装置７が配設されている。
図示例においては、４つの処理槽４ａ〜４ｄとＩＰＡベ
ーパー乾燥機４ｅが設けられてなる。

【００４７】具体的には、処理槽４ａは、上記搬入側に
設置されたフォトレジスト膜を剥離処理する第一の剥離
液の入った処理槽３ｆに続いて、同様な剥離処理を施す
第二の剥離液の入った処理槽である。処理槽４ｂはリン
ス液が満たされているリンス槽、処理槽４ｃは純水が満
たされているＱＤＲ槽、４ｄは同じく純水が満たされ
て、最後に基板ＳＢ，ＳＢ，…を濯ぐＦＩＮＡＬ槽であ
り、またＩＰＡベーパー乾燥機は、ＩＰＡの蒸気により
基板ＳＢ，ＳＢ，…を乾燥させる乾燥部として機能す
る。

【００４８】また各処理槽の構造は、処理槽４ａ，４ｂ
が石英ガラス等の材料からなるオーバーフロー槽、処理
槽４ｃ，４ｄが塩化ビニール機能等の材質からなる単一
槽であり、各処理槽内には前記搬入側処理槽列３と同
様、基板保持部が備えられている。

【００４９】なお図示しないが、処理槽４ａには、薬液
飛散防止用のフタが開閉可能に取り付けられている。

【００５０】また、上記基板搬送装置７は、図１に示す
ように装置本体の部位８ｃに設置され、前述した基板搬
送装置５とほぼ同様な基本構造であり、処理槽４ａから
基板搬出側の姿勢変換手段２までの搬送処理を行う構成
とされている。

【００５１】この基板搬送装置７は、上記処理槽４ａ〜
４ｃおよびＩＰＡベーパー乾燥機４ｅの配列方向（矢符
(5) 方向）へ平行に移動するように駆動制御され、これ
により、基板ＳＢ，ＳＢ，…を順次上記処理槽４ａ〜４
ｄに浸漬させた後、基板搬出側移載部Ｃの姿勢変換手段
２上に基板ＳＢ，ＳＢ，…を収載する。

【００５２】搬出側移載部Ｃは、搬入側移載部Ａと同
様、姿勢変換手段２と移載ロボット１とからなる。そし
て、姿勢変換手段２が倒伏方向へ９０°回転して水平状
態となり、上記にて収載された基板ＳＢ，ＳＢ，…が水
平状態（倒伏状態）となるように姿勢変換される。続い
て、移載ロボット１により、水平状態になった基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…が順番に一枚ずつ、基板搬出部Ｕに置かれ
た空カセットＣＣ内に収納される。

【００５３】この空カセットＣＣは、後述するように、
カセット搬送部Ｄを介して矢符(7)の経路で搬送されて
きた洗浄処理済みのもので、上記基板ＳＢ，ＳＢ，…が
搬入時に収納されていたのとそれぞれ同一のものであ
る。

【００５４】移載ロボット１によりカセットＣＣ内に収
納枚数分の基板ＳＢ，ＳＢ，…が収納されると、図示し
ないタクト送り機構により、カセットＣＣがタクト送り
されて、次工程へ搬出される。

【００５５】カセット搬送部Ｄは、基板搬入部Ａから基
板搬出部Ｃへ空カセットＣＣを搬送する部位で、これら
基板搬入部Ａと基板搬出部Ｃとを連結している。また、
このカセット搬送部Ｄは、カセット搬送装置３０を備え
るとともに、その移送経路(7) の中途箇所にはカセット
洗浄槽３１が設けられている。

【００５６】カセット搬送装置３０は、装置本体の部位
８ｄ（図３参照）内に矢符(7) の経路に沿って往復移動
可能とされるとともに、空カセットＣＣをチャックする
一対のチャッキングアーム３０ａ，３０ａなどを備えて
なる。これらチャッキングアーム３０ａ，３０ａは、基
板搬入部Ａで基板ＳＢ，ＳＢ，…が取り出された空カセ
ットＣＣをチャックし、カセット洗浄槽３１に浸漬して
洗浄、引上げ乾燥処理を施した後、上記基板搬出部Ｃへ
搬送する。

【００５７】この場合のサイクルタイムは、上記洗浄部
Ｂにおけるサイクルタイムと同期されて、前述のごと
く、空カセット（キャリアカセット）ＣＣには、前工程
からの搬入時に収納していたのと同一の基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…が基板搬出部Ｃで再び収納されるように制御され
る。

【００５８】制御装置Ｅは、前述した図示しないタクト
送り機構、移載ロボット１、姿勢変換手段２、基板搬送
装置５，６，７およびカセット搬送装置３０などを互い
に同期して駆動制御するもので、この制御装置Ｅによ
り、以下のウェット処理工程が基板ＳＢ，ＳＢ，…の搬
入時から搬出時まで全自動で行われることとなる。

【００５９】Ａ．基板ＳＢ，ＳＢ，…の搬入： 前工程の終了した基板ＳＢ，ＳＢ，…は、キャリア
カセットＣＣ内に収納された状態で、図示しない無人搬
送車（ＡＧＶ）あるいはオペレータによる手作業で基板
搬入部Ｌに搬入される。 搬入されたキャリアカセットＣＣは、図示しないタ
クト送り機構により、前述の如く矢符(1) の経路でタク
ト送りされて移載位置に配置される。

【００６０】 このキャリアカセットＣＣ内の基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…は、移載ロボット１により一枚ずつ姿勢変
換手段２に移し替えられる。 全ての基板ＳＢ，ＳＢ，…がキャリアカセットＣＣ
から姿勢変換手段２に移し替えられると、姿勢変換手段
２が起立方向へ９０°回転して、基板ＳＢ，ＳＢ，…が
垂直状態（起立状態）に姿勢変換される。

【００６１】 洗浄部Ｂの基板搬送装置５が姿勢変換
手段２に接近して、吊持アーム１４，１５が姿勢変換手
段２に保持された複数の基板ＳＢ，ＳＢ，…を一括して
チャッキングし吊持状態に保持する。

【００６２】Ｂ．基板ＳＢ，ＳＢ，…のウェット処理： 搬入側の基板搬送装置５にカセットレスで吊持状態
に保持された基板ＳＢ，ＳＢ，…は、各処理槽３ａ〜３
ｄへの浸漬・移載が順次繰り返されてエッチングと洗浄
処理が施され、続いてＩＰＡ乾燥機３ｅで乾燥処理され
た後、処理槽３ｆ内の基板保持台５０に保持される。

【００６３】この場合、各処理槽３ａ〜３ｆの基板保持
台５０は、その基板保持部３ｅ₆ ,３ｅ₇ が、基板搬送
装置５の吊持アーム１４，１５のチャッキング位置と相
互に干渉しない位置に配置されており、かつその傾斜保
持角度も、吊持アーム１４，１５の傾斜保持角度に対応
して設定されているため（図４参照）、基板搬送装置５
と基板保持台５０相互間における基板ＳＢ，ＳＢ，…の
受渡しは円滑に行われる。

【００６４】 この処理槽３ｆにて第一の剥離処理が
施された基板ＳＢ，ＳＢ，…は、基板搬送装置６により
カセットレスで吊持状態に保持されて、搬出側処理槽列
４の処理槽４ａ内の基板保持部まで搬送されて、保持さ
れる。

【００６５】 この処理槽４ａで、第二の剥離処理が
施された後、今度は基板搬送装置７によりカセットレス
で吊持状に保持されて、搬出側処理槽列４の各処理槽４
ｂ〜４ｄに浸漬・移載が順次繰り返されて、リンス処理
と純水洗浄処理が施され、続いてＩＰＡベーパー乾燥機
４ｅで乾燥処理された後、搬出側移載部Ｃへ搬送されて
（矢符(5) 参照）、姿勢変換手段２に収載される。

【００６６】Ｃ．空カセットＣＣの搬送：搬入側移載部
Ａで空になったキャリアカセットＣＣは、このキャリア
カセットＣＣから取り出された基板ＳＢ，ＳＢ，…の洗
浄処理工程と並行して、カセット搬送装置３０により、
カセット洗浄槽３１に浸漬して洗浄処理が施され、低速
度にて引上げ、乾燥処理された後、上記搬出側移載部Ｃ
に搬送される（矢符(7) 参照）。

【００６７】Ｄ．基板ＳＢ，ＳＢ，…の搬出： 両洗浄槽列３，４でのウェット処理工程が終了した
基板ＳＢ，ＳＢ，…は、搬出側移載部Ｃにおいて、姿勢
変換手段２から移載ロボット１により洗浄済みの空カセ
ットＣＣに移し替えられる（矢符(6) 参照）。この場合
に、収納される空カセットＣＣは、上記基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…が搬入時に収納されていたものであって、前述の
ごとくカセット搬送部Ｄを通って基板搬出部Ｕへ予め搬
送され、ここで上記基板ＳＢ，ＳＢ，…の洗浄工程が終
了するのを待機している。 基板ＳＢ，ＳＢ，…を収納したキャリアカセットＣ
Ｃは、図示しないタクト送り機構により矢符(8) の経路
でタクト送りされるとともに、図示しないＡＧＶやオペ
レータの手作業により次の工程へ向けて搬送される。

【００６８】なお、上述した実施例はあくまでも本発明
の好適な具体例を示すものであって、本発明はこれに限
定されることなく種々設計変更可能である。

【００６９】例えば、基板吊持装置１３の吊持アーム１
４，１５の基板保持バー１９は、必須の条件、つまり基
板ＳＢの隣接する２辺ＳＢａ，ＳＢｂが傾斜下辺となる
ように傾斜した状態で、これら両傾斜下辺ＳＢａ，ＳＢ
ｂを吊持状に支持する２本の基板保持バー１９，１９を
備えていれば、図示例のような３本配置のほか、対象と
なる基板の形状寸法に応じて適宜増設することができ、
また、これら基板保持バーの相対的な配置関係について
も、実施例に限定されることなく適宜設定可能である。

【００７０】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
基板をその隣接する２辺が傾斜下辺となるようにして、
搬送時はこれら２つの傾斜下辺を吊持状に保持するとと
もに、ウェット処理時はこれら２つの傾斜下辺を処理槽
内にて保持する簡単な構成により、大型の基板をカセッ
トレスでなおかつバッチ式に処理でき、これにより、汚
染度が低く生産効率の高いウエット処理を実現すること
ができる。

【００７１】さらに、上記２つの傾斜下辺のうち一辺を
水平に近い角度で支持することにより、装置の小型化を
図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る一実施例である基板ウェット処理
装置の内部を示す側面断面図である。

【図２】同基板ウェット処理装置の内部を示す平面断面
図である。

【図３】同基板ウェット処理装置の内部を示す正面断面
図である。

【図４】同基板ウェット処理装置における処理槽の内部
構造を示す側面断面図である。

【図５】同基板ウェット処理装置における処理槽内の基
板保持台を示す側面図である。

【図６】同基板保持台を示す平面断面図である。

【図７】同基板保持台の保持溝を示す断面図である。

【図８】同基板ウェット処理装置における基板搬送装置
の基板吊持装置を一部断面で示す正面図である。

【図９】同基板吊持装置のアーム制御部を示す平面断面
図である。

【図１０】同基板吊持装置のアーム制御部を示す側面断
面図である。

【符号の説明】

Ｌ 基板搬入部 Ａ 搬入側移載部 Ｂ ウエット処理部 Ｃ 搬出側移載部 Ｄ カセット搬送部 Ｅ 制御装置（駆動制御部） Ｕ 基板搬出部 Ｏ オペレータゾーン ＳＢ 基板 ＣＣ キャリアカセット １ 移載ロボット ２ 姿勢変換手段 ３ 搬入側処理槽列 ３ａ〜３ｆ 処理槽 ３ｅ₆ 基板保持部（傾斜保持部兼務） ３ｅ₇ 基板保持部 ４ 搬出側処理槽列 ４ａ〜４ｅ 処理槽 ５，６，７ 基板搬送装置 ９ 搬送台 １１ 支持装置台 １２ 水平アーム １３ 基板吊持装置 １４，１５ 吊持アーム １６ アーム制御部 １９ 基板保持バー １９ａ 基板保持バーの基板保持溝 ３０ カセット搬送装置 ３１ カセット洗浄槽 ５０ 基板保持台 Ｍ₁ ，Ｍ₂ 基板保持溝

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−95958（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−291379（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/04 G03F 1/08 H01L 21/304 648 H01L 21/306

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の矩形もしくは正方形の基板を基
   板搬送装置に移し替えて、カセットレスで一括して搬送
   し、複数の処理槽に順次浸漬して各処理槽内の基板保持
   台に移載してウェット処理する装置であって、 上記基板搬送装置は、開閉可能な一対の吊持アームと、
   これら吊持アームを開閉制御するアーム制御部とからな
   る基板吊持装置を備え、 上記両吊持アームには、複数枚の基板を傾斜状態でチャ
   ッキング保持する基板保持部がそれぞれ設けられ、 これら基板保持部は、上記吊持アームの閉止時におい
   て、基板の隣接する２つの傾斜下辺を下側から吊持状に
   支持するように構成され、 上記各処理槽の基板保持台は、処理槽内底部にあって、
   上記各基板の隣接する２つの傾斜下辺の下側を上記傾斜
   状態のまま支持する基板保持部を備えてなるように構成
   されていることを特徴とする基板ウェット処理装置。
2. 【請求項２】 上記吊持アームの基板保持部は、上記基
   板の隣接する直交２辺がそれぞれ水平に近い傾斜下辺と
   垂直に近い傾斜下辺になるように傾斜した状態で、これ
   ら２つの傾斜下辺を下側から吊持状に支持するように配
   置されているとともに、 上記基板保持台の基板保持部は、上記基板の隣接する直
   交２辺がそれぞれ水平に近い傾斜下辺と垂直に近い傾斜
   下辺になるように傾斜した状態で、これら２つの傾斜下
   辺を下側から支持するように配置されている請求項１に
   記載の基板ウェット処理装置。
3. 【請求項３】 上記基板保持台の基板保持部は、上記吊
   持アームの基板保持部のチャッキング位置と相互に干渉
   しない位置に配置されている請求項２に記載の基板ウェ
   ット処理装置。
4. 【請求項４】 上記両吊持アームの少なくとも一方に、
   基板を吊持状に支持する上記基板保持部に加えて、基板
   の傾斜状態を保持する傾斜保持部を備えている請求項１
   に記載の基板ウェット処理装置。
5. 【請求項５】 上記処理槽の基板保持台は、上記基板の
   隣接する２つの傾斜下辺の下側を支持する上記基板保持
   部に加えて、基板の傾斜状態を保持する傾斜保持部を備
   えている請求項１に記載の基板ウェット処理装置。
6. 【請求項６】 上記基板搬送装置は、処理槽の配列方向
   へ往復移動可能とされた搬送台と、この搬送台に上下方
   向へ昇降可能に設けられた支持装置台と、この支持装置
   台から処理槽上方へ向かって延びる水平アームと、この
   水平アームの先端に装着された上記基板吊持装置とから
   なる請求項１に記載の基板ウェット処理装置。