JP3346823B2 - 基板ウェット処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は基板ウェット処理技術
に関し、さらに詳細には、液晶表示装置用ガラス基板、
レチクル用あるいはフォトマスク用ガラス基板等の矩形
もしく正方形の薄板状基板にウェット処理を施す技術に
関する。

【０００２】

【従来の技術】家庭用薄形テレビやラップトップパソコ
ン等の画像表示に液晶表示装置が用いられていることは
知られている。液晶表示装置は電力消費が少ない、薄形
で場所をとらない等の理由から、壁掛けテレビやデスク
トップパソコン等への需要も高まり、それに伴い液晶表
示装置用ガラス基板も年々大型化される傾向にある。

【０００３】ところで、これらガラス基板（以下、基板
と称する）や半導体ウェハ（以下、ウェハと称する）の
ウェット処理技術には、基板等を搬送用のキャリアカセ
ットに複数枚収容し一括して処理するカセットタイプの
ものと、基板等を基板搬送処理装置で直接保持して処理
するカセットレスタイプのものとがあり、さらにカセッ
トレスタイプのものには、保持する基板等の枚数が一枚
の枚葉式のものと、複数枚のバッチ式のものとがある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】近時は、洗浄効率を高
めるとともに洗浄液の汚染を防止するためおよび生産効
率を上げるために、ウェハの場合は、カセットレスでバ
ッチ式のウエット処理が一般的になりつつあるが、一
方、基板の場合は、キャリアカセットを用いたバッチ式
か、カセットレスタイプの枚葉式かに限られており、ウ
ェハのような処理方法は採用されていなかった。

【０００５】すなわち、ウェハの場合、その形状寸法は
現在例えば直径８インチのもので直径約２００ｍｍの円
形であり、まだ基板搬送処理装置で直接チャッキング保
持しやすい。これに対して、基板の場合、その形状寸法
は、上述したように年々大型化されて、近時では４００
×５００ｍｍの大型矩形であることから、ウェハに比べ
て非常にチャッキングし難くしかも重いため、カセット
レスでバッチ式のウエット処理は不可能とされていた。

【０００６】しかしながら、上記キャリアカセットを用
いたウェット処理においては、上記基板の大型化に伴い
キャリアカセットも大型化しており、何槽もの薬液槽を
経てウエット処理する間に、キャリアカセット内に薬液
がかなり付着して残っているため薬液の持ち出しが多く
て、薬液を繰り返し補充しなければならなく不経済であ
った。

【０００７】また、キャリアカセットを用いて長い間何
回も薬液処理していると、経時的にカセットに薬液が染
み込んで、今度はそれが洗浄用純水に染み出して汚染す
る等処理工程に悪影響を与えてしまう。さらに、このよ
うな悪影響を未然に防止するためには、キャリアカセッ
トを比較的短い周期で廃棄・交換しなければならないと
ころ、キャリアカセットは高価であるため、ランニング
コストの大幅増大を招いて非常に不経済であった。

【０００８】一方、カセットレスタイプの枚葉式ウェッ
ト処理においては、ローダ装置によりキャリアカセット
から基板を一枚ずつ抜き出し、ゴムベルトにより水平状
態で搬送し、その間薬液シャワーをかけて処理する方式
のものや、特開昭６４−３７０１６号に開示されている
ように、Ｌ字形あるいはＶ字形の基板保持具に一枚の基
板を保持し、この基板保持具を搬送手段で搬送処理する
方式のものがあるが、いずれのものにおいても次のよう
な問題があった。

【０００９】つまり、前者においては、ゴムベルトと基
板との接触により汚染が発生し、十分なウエット処理効
果が得られないばかりか、平面積の大きい基板を水平に
移動するため、装置の大型化を招いていた。また、後者
においては、上述したキャリアカセットの場合と同様、
基板保持具による薬液の持ち出しや、薬液の染み込み、
染み出しによる汚染の問題や、基板をＬ字形あるいはＶ
字形の基板保持具によって支えるため、基板の対角線が
水平状態に近くなり、したがって保持治具が大きくなり
装置の大型化を招くとともに、枚葉式のため生産能率が
悪い等の問題があった。

【００１０】本発明はかかる従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、大型の基板を汚
染度の低いカセットレスで、なおかつ生産能率の高いバ
ッチ式でウエット処理する技術を提供することにある。

【００１１】また、その目的とするところは、基板をそ
の被処理面を垂直にした場合、下辺が水平からわずかに
傾斜する形で支持搬送することにより、装置全体の小型
化を実現することができる構造を備えた基板ウエット処
理装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の基板ウエット処理装置は、複数枚の矩形も
しくは正方形の基板を、基板搬送処理装置によりカセッ
トレスで一括してウェット処理する装置であって、上記
基板搬送処理装置は、開閉可能な一対の吊持アームと、
これら吊持アームを開閉制御するアーム制御部とからな
る基板吊持装置を備え、上記両吊持アームには、基板を
複数枚チャッキング保持する基板保持部がそれぞれ設け
られ、これら基板保持部は、上記両吊持アームの閉止時
において、各基板の隣接する２つの傾斜下辺を下側から
吊持状に支持するように構成されていることを特徴とす
る。

【００１３】好適な実施態様として、上記基板保持部
は、上記基板の隣接する２つの傾斜下辺のうちの一辺が
水平から５°程度傾斜した状態で、これら２つの傾斜下
辺を下側から吊持状に支持するように配置されている。
また、上記両吊持アームの少なくとも一方に、基板を吊
持状に支持する上記基板保持部に加えて、基板の傾斜状
態を保持する傾斜保持部を備え、この傾斜保持部は、上
記両吊持アームの閉止時において、上記基板保持部が吊
持状に支持する各基板の傾斜下辺と異なる他の一辺を支
持する構造とされている。 これら基板保持部および傾斜
保持部は、望ましくは、水平状に支持された基板保持バ
ーの形態で、各基板保持バーの外周には、基板の縁部を
収容保持する基板保持溝が所定間隔をもって複数設けら
れている。

【００１４】

【作用】本発明の基板ウエット処理装置においては、基
板搬送処理装置により複数枚の矩形もしくは正方形の基
板がカセットレスで一括してウエット処理される。前工
程からキャリアカセットに収納されて搬入される基板
は、基板移載部で、基板搬送処理装置に移し替えられ、
処理槽列の一端側から複数の処理槽に順次自動で浸漬さ
れて、ウエット処理される。 このウエット処理するに際
しては、上記基板搬送処理装置の開閉可能な一対の吊持
アームに設けられた基板保持部により、複数枚の矩形も
しくは正方形の基板が、その隣接する２つの傾斜下辺を
下側から吊持状に一括して支持され、これにより、簡単
な構成で、矩形または正方形の大型基板がカセットレス
でなおかつバッチ式に処理されることが可能となる。

【００１５】この際、上記２つの傾斜下辺のうち一辺が
水平から５°程度傾斜した水平に近い角度で支持される
ことにより、処理装置の小型化が図られる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の実施例を、図面に基づいて詳
細に説明する。

【００１７】実施例１ 本発明に係る基板ウエット処理装置を図１、図２および
図３に示し、この基板ウエット処理装置は、複数枚（本
例においては２０枚）の基板ＳＢ，ＳＢ，…をカセット
レスで一括して行うバッチ式のものであって、図に示す
ように、基板搬入部Ｌ、搬入側移載部Ａ、ウエット処理
部Ｂ、搬出側移載部Ｃ、基板搬出部Ｕ、カセット搬送部
Ｄおよび制御装置（駆動制御部）Ｅを主要部として備え
てなる。

【００１８】基板搬入部Ｌは、基板ＳＢ，ＳＢ，…が前
工程から搬入される部位で、ウエット処理部Ｂの搬入側
に配置され、タクト送り機構（図示せず）を備える。前
工程から搬入されてくる基板入りキャリアカセットＣＣ
は、上記タクト送り機構により矢符(1) の方向へ所定間
隔をもってタクト送りされる。この際基板ＳＢは水平状
態（倒伏状態）に保持されている。

【００１９】搬入側移載部Ａは、移載ロボット１と姿勢
変換手段２とを備え、移載ロボット１が、上記タクト送
りされたキャリアカセットＣＣから基板ＳＢを一枚ずつ
順番に水平状態のまま抜き取り、水平状態にある姿勢変
換手段２に移し替える（矢符(2) 参照）。基板ＳＢが２
０枚すべて移載された後、姿勢変換手段２が起立方向へ
９０°回転して起立状態となり、基板ＳＢ，ＳＢ，…の
被処理面が垂直状態（起立状態）となるように姿勢変換
される。この際、各基板ＳＢ，ＳＢ，…の下辺は水平か
らわずかに（本例では５°）傾斜して姿勢変換されて、
ウエット処理部Ｂの基板搬送処理装置５を待機するよう
に構成されている。

【００２０】ウエット処理部Ｂは、高清浄度雰囲気に維
持される処理室内に、２列平行に並設された一対の処理
槽列３，４と基板搬送処理装置５，７とを備えてなり、
これら両処理槽列３，４の一端側はそれぞれオペレータ
ゾーンＯに面するように配置されるとともに、両処理槽
列３，４の他端側間には基板搬送処理装置６が設けられ
ている。

【００２１】つまり、基板ＳＢ，ＳＢ，…のウエット処
理経路は、搬入側の処理槽列３のオペレータゾーンＯ側
端からオペレータゾーンＯ反対側端へ進むとともに、搬
出側の処理槽列４のオペレータゾーンＯ反対側端からオ
ペレータゾーンＯ側端へ進むように構成されている。

【００２２】搬入側の処理槽列３は、複数の処理槽を備
えるとともに、これら処理槽の側部に上記基板搬送処理
装置５が配設されている。

【００２３】図示例においては、搬入側の処理槽列３は
６つの処理槽３ａ〜３ｆが設けられてなり、具体的に
は、処理槽３ａは基板搬送処理装置５の吊持アーム１
４，１５（後述）を洗浄する洗浄槽、処理槽３ｂは基板
ＳＢ，ＳＢ，…の被処理面に形成されたフォトレジスト
膜をマスクとしてエッチング処理するためのエッチング
液が満たされている槽、処理槽３ｃはいわゆるＱＤＲ
（クイック・ダンプ・リンス）槽で、純水が満たされ
て、上記基板ＳＢの被処理面に付着したエッチング液を
予備洗浄する槽、処理槽３ｄは純水が満たされて仕上げ
水洗を行うＦＩＮＡＬ（ファイナル・リンス）槽、およ
び処理槽３ｅは基板ＳＢ，ＳＢ，…を浸漬した後、低速
度で引上げ乾燥させるＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）乾燥機である。処理槽３ｆは実際には、次に詳述す
る搬出側処理工程に属するもので、上記フォトレジスト
膜を剥離処理するための第一の剥離液が満たされている
槽である。

【００２４】基板搬送処理装置５は、搬入側移載部Ａの
姿勢変換手段２に収載された基板ＳＢ，ＳＢ，…をカセ
ットレスで搬送処理する構造とされている。

【００２５】基板搬送処理装置５は、具体的には図１に
示すように、装置本体の内部８ａに設けられて、上記処
理槽３ａ〜３ｆの配列方向（図２の矢符(3) 方向）へ平
行に往復移動可能とされた搬送台９と、この搬送台９に
上下方向へ昇降可能に設けられた支柱１０と、この支柱
１０の上端に装着された支持装置台１１と、この支持装
置台１１から処理槽上方へ向かって延びる水平アーム１
２と、この水平アーム１２の先端に装着された基板吊持
装置１３とから構成されており、上記姿勢変換手段２か
ら受け取った複数枚の基板ＳＢ，ＳＢ，…を、上記処理
槽列３ａ〜３ｆ内の処理液中に順次浸漬して、これら基
板ＳＢ，ＳＢ，…表面を処理する。

【００２６】また、上述した各処理槽の構造は、処理槽
３ａ，３ｃ，３ｄが塩化ビニル樹脂等の材質からなる単
一槽であり、処理槽３ｂ，３ｅ，３ｆが石英ガラス等の
材質からなるオーバーフロー槽である。

【００２７】これらオーバーフロー槽の具体的構造を図
４に示す処理槽３ｅの断面図を用いて説明する。３ｅ₁
は典型的な基本構造を備えるオーバーフロー槽本体を示
し、給液口３ｅ₂ 、排液口３ｅ₃ およびオーバーフロー
排液口３ｅ₄ を備えるとともに、その低部に基板ＳＢを
保持する基板保持部を備える。この基板保持部は、基台
３ｅ₅ とこの基台３ｅ₅ 上に固設された一対の保持部３
ｅ₆ , ３ｅ₇ とからなる。これら保持部３ｅ₆ , ３ｅ₇
はそれぞれ複数の基板保持溝を有し、一方の保持部３ｅ
₆ の各基板保持溝に基板ＳＢの一角が保持されるととも
に、他方の保持部３ｅ₇ の各基板保持溝に基板ＳＢの一
辺が保持される構造とされている。

【００２８】なお、他の処理槽３ａ，３ｂ，３ｃ，３
ｄ，３ｆ内にも上記とほぼ同様の基板保持部が備えてあ
り、基板搬送処理装置５により搬送された基板ＳＢが、
この基板保持部に移載されて、各処理槽内にて所定のウ
ェット処理が施される。

【００２９】また、図示しないが、処理槽３ｂ，３ｆに
は薬液飛散防止用のフタがそれぞれ開閉可能に取り付け
られている。

【００３０】上記基板吊持装置１３の具体的構造は図４
〜図７に示すように、左右一対の吊持アーム１４，１５
およびこれらを開閉制御するアーム制御部１６を主要部
として備えてなる。

【００３１】一方の吊持アーム１４は、細長プレート１
７，１７と、これら細長プレート１７，１７間に橋絡状
に設けられた上下一対の基板保持バー１９，１９とを備
えてなる。上記細長プレート１７は、ステンレス鋼材に
フッ素樹脂がコーティングされてなる耐薬品性に優れる
ものである。また、上記両基板保持バー１９，１９は、
両細長プレート１７，１７の先端つまり下端と上下方向
中央部近傍に、その両端がそれぞれ固定ナット１８，１
８によって水平状に固定されてなる。

【００３２】基板保持バー１９は、図６に示すように、
フッ素樹脂等から形成されるとともに、その外周に複数
の基板保持溝１９ａ，１９ａ，…を有する外筒１９ｂ
と、この外筒１９ｂの内部に封入されたステンレス鋼製
の心金１９ｃとから構成されている。

【００３３】もう一方の吊持アーム１５は、吊持アーム
１４と同様で、細長プレート２０，２０と、これら細長
プレート２０，２０間に橋絡状に設けられた一本の基板
保持バー１９とを備えてなる。つまり、細長プレート２
０は吊持アーム１４の細長プレート１７よりも短く（ほ
ぼ半分程度）設定されるとともに、両細長プレート２
０，２０の先端つまり下端に、上記基板保持バー１９の
両端が固定ナット１８，１８によって水平状に固定され
てなる。この基板保持バー１９の具体的構造は上述した
とおりである。

【００３４】両吊持アーム１４，１５に取り付けられた
３本の基板保持バー１９，１９，１９の相対的位置は、
吊持アーム１４，１５が閉止して基板ＳＢをチャッキン
グ保持した時、この基板ＳＢの下辺が水平から５°程度
傾斜した状態で吊持状に保持されるように設定されてい
る。つまり、図５に示すように、両吊持アーム１４，１
５下端の基板保持バー（基板保持部）１９，１９が各基
板ＳＢの傾斜下辺ＳＢａとＳＢｂの上端部を吊持状に支
持するとともに、吊持アーム１４の上側基板保持バー
（傾斜保持部）１９が各基板ＳＢの他の一辺ＳＢｃの上
端部を支持して、各基板ＳＢの前方（図５において右方
向）への回転を防止する。

【００３５】吊持アーム１４，１５の基端つまり上端は
それぞれ上記アーム制御部１６に接続されており、これ
により、吊持アーム１４，１５は相互に平行移動され
て、その閉止位置において基板ＳＢを吊持状にチャッキ
ング保持し、またその拡開位置において基板ＳＢのチャ
ッキングを解除する。

【００３６】制御部１６は、図６および図７に示すよう
に、吊持アーム１４または１５を支持するキャリッジ２
４と、駆動手段であるエアシリンダ２６とを１セットと
し、両吊持アーム１４，１５を別々に駆動するために２
セット装着されてなる。

【００３７】上記キャリッジ２４は、リニアレール２
２，２２上を滑動するリニアガイド２３，２３に装着さ
れており、リニアレール２２，２２は上記水平アーム１
２に接続されたフレーム２１上に固定されている。上記
エアシリンダ２６は、上記フレーム２１上にブラケット
２５を介して装着されており、このエアシリンダ２６の
ピストンロッドが、連結ブラケット２７を介して上記キ
ャリッジ２４に連結されている。各キャリッジ２４の両
端には、吊持アーム１４，１５の上端がカバー２８の窓
２８ａ〜２８ｄを貫通して延びる接続ブロック２９を介
して取付け固定されている。

【００３８】上記搬入側処理槽列３に続く基板搬送処理
装置６は、搬入側処理槽列３から搬出側処理槽列４へ基
板ＳＢ，ＳＢ，…を移送および処理する装置であって、
図３に示すように、装置本体の部位８ｂに設置されてい
る。この基板搬送処理装置６の基本構造は、上述した基
板搬送処理装置５とほぼ同様であり、基板ＳＢ，ＳＢ，
…の保持方向が左右から前後方向に変わっただけであ
る。つまり、基板搬送処理装置６の基板吊持装置１３
は、基板搬送処理装置５により搬送処理される基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…をその姿勢のままチャッキング保持できる
ように、支柱１０に対して取り付けられている。

【００３９】搬出側処理槽列４は、前述した搬入側処理
槽列３と同様、複数の処理槽を備えるとともに、これら
処理槽の側部に、基板搬送処理装置７が配設されてい
る。図示例においては４つの処理槽４ａ〜４ｄとＩＰＡ
ベーパー乾燥機４ｅが設けられてなる。

【００４０】具体的には、処理槽４ａは、上記搬入側に
設置されたフォトレジスト膜を剥離処理する第一の剥離
液の入った処理槽３ｆに続いて、同様な剥離処理を施す
第二の剥離液の入った処理槽である。処理槽４ｂはリン
ス液が満たされているリンス槽、処理槽４ｃは純水が満
たされているＱＤＲ槽、４ｄは同じく純水が満たされ
て、最後に基板ＳＢ，ＳＢ，…を濯ぐＦＩＮＡＬ槽であ
り、またＩＰＡベーパー乾燥機は、ＩＰＡの蒸気により
基板ＳＢ，ＳＢ，…を乾燥させる乾燥部として機能す
る。

【００４１】また各処理槽の構造は、処理槽４ａ，４ｂ
が石英ガラス等の材料からなるオーバーフロー槽、処理
槽４ｃ，４ｄが塩化ビニール機能等の材質からなる単一
槽であり、各処理槽内には前記搬入側処理槽列３と同
様、基板保持部が備えられている。

【００４２】なお図示しないが、処理槽４ａには、薬液
飛散防止用のフタが開閉可能に取り付けられている。

【００４３】また、上記基板搬送処理装置７は、図１に
示すように装置本体の部位８ｃに設置され、前述した基
板搬送処理装置５とほぼ同様な基本構造であり、処理槽
４ａから基板搬出側の姿勢変換手段２までの搬送処理を
行う構成とされている。

【００４４】この基板搬送処理装置７は、上記処理槽４
ａ〜４ｃおよびＩＰＡベーパー乾燥機４ｅの配列方向
（矢符(5) 方向）へ平行に移動するように駆動制御さ
れ、これにより、基板ＳＢ，ＳＢ，…を順次上記処理槽
４ａ〜４ｄに浸漬させた後、基板搬出側移載部Ｃの姿勢
変換手段２上に基板ＳＢ，ＳＢ，…を収載する。

【００４５】搬出側移載部Ｃは、搬入側移載部Ａと同
様、姿勢変換手段２と移載ロボット１とからなる。そし
て、姿勢変換手段２が倒伏方向へ９０°回転して水平状
態となり、上記にて収載された基板ＳＢ，ＳＢ，…が水
平状態（倒伏状態）となるように姿勢変換される。続い
て、移載ロボット１により、水平状態になった基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…が順番に一枚ずつ、基板搬出部Ｕに置かれ
た空カセットＣＣ内に収納される。

【００４６】この空カセットＣＣは、後述するように、
カセット搬送部Ｄを介して矢符(7)の経路で搬送されて
きた洗浄処理済みのもので、上記基板ＳＢ，ＳＢ，…が
搬入時に収納されていたのとそれぞれ同一のものであ
る。

【００４７】移載ロボット１によりカセットＣＣ内に収
納枚数分の基板ＳＢ，ＳＢ，…が収納されると、図示し
ないタクト送り機構により、カセットＣＣがタクト送り
されて、次工程へ搬出される。

【００４８】カセット搬送部Ｄは、基板搬入部Ａから基
板搬出部Ｃへ空カセットＣＣを搬送する部位で、これら
基板搬入部Ａと基板搬出部Ｃとを連結している。また、
このカセット搬送部Ｄは、カセット搬送装置３０を備え
るとともに、その移送経路(7) の中途箇所にはカセット
洗浄槽３１が設けられている。

【００４９】カセット搬送装置３０は、装置本体の部位
８ｄ（図３参照）内に矢符(7) の経路に沿って往復移動
可能とされるとともに、空カセットＣＣをチャックする
一対のチャッキングアーム３０ａ，３０ａなどを備えて
なる。これらチャッキングアーム３０ａ，３０ａは、基
板搬入部Ａで基板ＳＢ，ＳＢ，…が取り出された空カセ
ットＣＣをチャックし、カセット洗浄槽３１に浸漬して
洗浄、引上げ乾燥処理を施した後、上記基板搬出部Ｃへ
搬送する。

【００５０】この場合のサイクルタイムは、上記洗浄部
Ｂにおけるサイクルタイムと同期されて、前述のごと
く、空カセット（キャリアカセット）ＣＣには、前工程
からの搬入時に収納していたのと同一の基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…が基板搬出部Ｃで再び収納されるように制御され
る。

【００５１】制御装置Ｅは、前述した図示しないタクト
送り機構、移載ロボット１、姿勢変換手段２、基板搬送
処理装置５，６，７およびカセット搬送装置３０などを
互いに同期して駆動制御するもので、この制御装置Ｅに
より、以下のウェット処理工程が基板ＳＢ，ＳＢ，…の
搬入時から搬出時まで全自動で行われることとなる。

【００５２】Ａ．基板ＳＢ，ＳＢ，…の搬入： 前工程の終了した基板ＳＢ，ＳＢ，…は、キャリア
カセットＣＣ内に収納された状態で、図示しない無人搬
送車（ＡＧＶ）あるいはオペレータによる手作業で基板
搬入部Ｌに搬入される。 搬入されたキャリアカセットＣＣは、図示しないタ
クト送り機構により、前述の如く矢符(1) の経路でタク
ト送りされて移載位置に配置される。

【００５３】 このキャリアカセットＣＣ内の基板Ｓ
Ｂ，ＳＢ，…は、移載ロボット１により一枚ずつ姿勢変
換手段２に移し替えられる。 全ての基板ＳＢ，ＳＢ，…がキャリアカセットＣＣ
から姿勢変換手段２に移し替えられると、姿勢変換手段
２が起立方向へ９０°回転して、基板ＳＢ，ＳＢ，…が
垂直状態（起立状態）に姿勢変換される。

【００５４】 洗浄部Ｂの基板搬送処理装置５が姿勢
変換手段２に接近して、吊持アーム１４，１５が姿勢変
換手段２に保持された複数の基板ＳＢ，ＳＢ，…を一括
してチャッキングし吊持状態に保持する。

【００５５】Ｂ．基板ＳＢ，ＳＢ，…のウェット処理： 搬入側の基板搬送処理装置５にカセットレスで吊持
状態に保持された基板ＳＢ，ＳＢ，…は、各処理槽３ａ
〜３ｄへの浸漬・移載が順次繰り返されてエッチングと
洗浄処理が施され、続いてＩＰＡ乾燥機３ｅで乾燥処理
された後、処理槽３ｆ内の基板保持部に保持される。

【００５６】 この処理槽３ｆにて第一の剥離処理が
施された基板ＳＢ，ＳＢ，…は、基板搬送処理装置６に
よりカセットレスで吊持状態に保持されて、搬出側処理
槽列４の処理槽４ａ内の基板保持部まで搬送されて、保
持される。 この処理槽４ａで、第二の剥離処理が施された後、
今度は基板搬送処理装置７によりカセットレスで吊持状
に保持されて、搬出側処理槽列４の各処理槽４ｂ〜４ｄ
に浸漬・移載が順次繰り返されて、リンス処理と純水洗
浄処理が施され、続いてＩＰＡベーパー乾燥機４ｅで乾
燥処理された後、搬出側移載部Ｃへ搬送されて（矢符
(5) 参照）、姿勢変換手段２に収載される。

【００５７】Ｃ．空カセットＣＣの搬送：搬入側移載部
Ａで空になったキャリアカセットＣＣは、このキャリア
カセットＣＣから取り出された基板ＳＢ，ＳＢ，…の洗
浄処理工程と並行して、カセット搬送装置３０により、
カセット洗浄槽３１に浸漬して洗浄処理が施され、低速
度にて引上げ、乾燥処理された後、上記搬出側移載部Ｃ
に搬送される（矢符(7) 参照）。

【００５８】Ｄ．基板ＳＢ，ＳＢ，…の搬出： 両洗浄槽列３，４でのウェット処理工程が終了した
基板ＳＢ，ＳＢ，…は、搬出側移載部Ｃにおいて、姿勢
変換手段２から移載ロボット１により洗浄済みの空カセ
ットＣＣに移し替えられる（矢符(6) 参照）。この場合
に、収納される空カセットＣＣは、上記基板ＳＢ，Ｓ
Ｂ，…が搬入時に収納されていたものであって、前述の
ごとくカセット搬送部Ｄを通って基板搬出部Ｕへ予め搬
送され、ここで上記基板ＳＢ，ＳＢ，…の洗浄工程が終
了するのを待機している。 基板ＳＢ，ＳＢ，…を収納したキャリアカセットＣ
Ｃは、図示しないタクト送り機構により矢符(8) の経路
でタクト送りされるとともに、図示しないＡＧＵやオペ
レータの手作業により次の工程へ向けて搬送される。

【００５９】実施例２ 本例は、図８〜図１１に示し、基板ＳＢ，ＳＢ，…を吊
持状に保持する基板吊持装置１３の構造を改変したもの
である。

【００６０】すなわち、本例の基板吊持装置１３におい
て、一方の吊持アーム１４は、２本の細長プレート１
７，１７と、その下端部に水平状に取り付けられた上下
一対の基板保持バー１９，１９とを備えてなる。また、
もう一方の吊持アーム１５は、吊持アーム１４と同様
で、細長プレート２０，２０と、これら細長プレート２
０，２０間に橋絡状に設けられた一本の基板保持バー１
９とを備えてなる。つまり、細長プレート２０は吊持ア
ーム１４の細長プレート１７よりも短く（ほぼ半分程
度）設定されるとともに、両細長プレート２０，２０の
下端に、上記基板保持バー１９が水平状に取り付けられ
ている。

【００６１】吊持アーム１４，１５の上端は、それぞれ
前述の水平アーム１２に接続されたフレーム２１に揺動
可能に枢着されるとともに、アーム制御部１６に接続さ
れている。これにより、吊持アーム１４，１５は相互に
揺動されて、その閉止位置において基板ＳＢを吊持状に
チャッキング保持し、またその拡開位置において基板Ｓ
Ｂのチャッキングを解除する。

【００６２】両吊持アーム１４，１５に取り付けられた
３本の基板保持バー１９，１９，１９の相対的位置は、
吊持アーム１４，１５が閉止して基板ＳＢをチャッキン
グ保持した時、この基板ＳＢの下辺が水平から５°程度
傾斜した状態で吊持状に保持されるように設定されてい
る。つまり、図８に示すように、両吊持アーム１４，１
５下端の基板保持バー（基板保持部）１９，１９が各基
板ＳＢの傾斜下辺ＳＢａとＳＢｂの上端部を吊持状に支
持するとともに、吊持アーム１４の上側基板保持バー
（傾斜保持部）１９が各基板ＳＢの他の一辺ＳＢｃの下
端部を支持して、各基板ＳＢの前方（図８において右方
向）への回転を防止する。

【００６３】制御部１６は、図９〜図１１に示すよう
に、吊持アーム１４または１５を枢支する揺動シャフト
３３と、駆動手段であるエアシリンダ２６とを１セット
とし、両吊持アーム１４，１５を別々に駆動するために
２セット装着されてなる。

【００６４】上記揺動シャフト３３は、上記フレーム２
１に、ベアリング３２，３２を介して回転可能に軸支さ
れている。この揺動シャフト３３の両端部は、カバー２
８を貫通して外部へ突出され、ここに接続ブロック２
９，２９を介して吊持アーム１４または１５の上端が取
り付け固定されている。

【００６５】上記エアシリンダ２６は両ロッド型のもの
で、上記フレーム２１上にブラケット３５を介して装着
されており、このエアシリンダ２６の一方のピストンロ
ッド２６ａが、コネクティングロッド３６を介して、揺
動シャフト３３に固設された揺動レバー３４に連結され
ている。また、フレーム２１には、エアシリンダ２６の
他方のピストンロッド２６ｂを停止するためのストッパ
３７が固設されている。

【００６６】しかして、以上のように構成された基板吊
持装置１３において、吊持アーム１４，１５は、アーム
制御部１６のエアシリンダ２６，２６により、相互に揺
動されて拡縮動作され、その閉止位置において基板ＳＢ
を吊持状にチャッキング保持するとともに、拡開位置に
おいて基板ＳＢのチャッキングを解除して、基板ＳＢ，
ＳＢ，…をカセットレスで搬送処理する。その他の構成
および作用は実施例１と同様である。

【００６７】なお、上述した実施例１および実施例２は
あくまでも本発明の好適な具体例を示すものであって、
本発明はこれに限定されることなく種々設計変更可能で
ある。

【００６８】例えば、基板吊持装置１３の吊持アーム１
４，１５の基板保持バー１９は、必須の条件、つまり基
板ＳＢの隣接する２辺ＳＢａ，ＳＢｂが傾斜下辺となる
ように傾斜した状態で、これら両傾斜下辺ＳＢａ，ＳＢ
ｂを吊持状に支持する２本の基板保持バー１９，１９を
備えていれば、図示例のような３本配置のほか、対象と
なる基板の形状寸法に応じて適宜増設することができ、
また、これら基板保持バーの相対的な配置関係について
も、実施例１および実施例２に限定されることなく適宜
設定可能である。

【００６９】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
複数枚の矩形もしくは正方形の基板をカセットレスで一
括してウェット処理する基板搬送処理装置が、開閉可能
な一対の吊持アームと、これら吊持アームを開閉制御す
るアーム制御部とからなる基板吊持装置を備え、上記両
吊持アームには、基板を複数枚チャッキング保持する基
板保持部がそれぞれ設けられ、これら基板保持部は、上
記両吊持アームの閉止時において、各基板の隣接する２
つの傾斜下辺を下側から吊持状に支持するように構成さ
れているから、簡単な構成により、大型の基板をカセッ
トレスでなおかつバッチ式に処理でき、これにより、汚
染度が低く生産能率の高いウエット処理を実現すること
ができる。

【００７０】さらに、上記２つの傾斜下辺のうち一辺を
水平から５°程度傾斜した水平に近い角度で支持するこ
とにより、装置の小型化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施例１である基板ウェット処理
装置の内部を示す側面断面図である。

【図２】同基板ウェット処理装置の内部を示す平面断面
図である。

【図３】同基板ウェット処理装置の内部を示す正面断面
図である。

【図４】同基板ウェット処理装置における処理槽の内部
構造を示す側面断面図である。

【図５】同基板ウェット処理装置における基板搬送処理
装置の基板吊持装置を示す側面図である。

【図６】同基板吊持装置を一部断面で示す正面図であ
る。

【図７】同基板吊持装置のアーム制御部を示す平面断面
図である。

【図８】本発明に係る実施例２である基板ウェット処理
装置における基板搬送処理装置の基板吊持装置を示す側
面図である。

【図９】同基板吊持装置を一部断面で示す正面図であ
る。

【図１０】同基板吊持装置のアーム制御部を示す平面断
面図である。

【図１１】同基板吊持装置のアーム制御部を示す側面断
面図である。

【符号の説明】

Ｌ 基板搬入部 Ａ 搬入側移載部 Ｂ ウエット処理部 Ｃ 搬出側移載部 Ｄ カセット搬送部 Ｅ 制御装置（駆動制御部） Ｕ 基板搬出部 Ｏ オペレータゾーン ＳＢ 基板 ＣＣ キャリアカセット １ 移載ロボット ２ 姿勢変換手段 ３ 搬入側処理槽列 ３ａ〜３ｆ 処理槽 ４ 搬出側処理槽列 ４ａ〜４ｅ 処理槽 ５，６，７ 基板搬送処理装置 ９ 搬送台 １１ 支持装置台 １２ 水平アーム １３ 基板吊持装置 １４，１５ 吊持アーム １６ アーム制御部 １９ 基板保持バー １９ａ 基板保持バーの基板保持溝 ３０ カセット搬送装置 ３１ カセット洗浄槽

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−190867（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−19740（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−58429（ＪＰ，Ａ) 特公 昭63−45875（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304,21/306 B08B 3/00 - 3/14 B65G 49/06,49/07

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の矩形もしくは正方形の基板を、
   基板搬送処理装置によりカセットレスで一括してウェッ
   ト処理する装置であって、 上記基板搬送処理装置は、開閉可能な一対の吊持アーム
   と、これら吊持アームを開閉制御するアーム制御部とか
   らなる基板吊持装置を備え、 上記両吊持アームには、基板を複数枚チャッキング保持
   する基板保持部がそれぞれ設けられ、 これら基板保持部は、上記両吊持アームの閉止時におい
   て、各基板の隣接する２つの傾斜下辺を下側から吊持状
   に支持するように構成されていることを特徴とする基板
   ウェット処理装置。
2. 【請求項２】 上記基板保持部は、上記基板の隣接する
   ２つの傾斜下辺のうちの一辺が水平から５°程度傾斜し
   た状態で、これら２つの傾斜下辺を下側から吊持状に支
   持するように配置されている請求項１に記載の基板ウェ
   ット処理装置。
3. 【請求項３】 上記両吊持アームの少なくとも一方に、
   基板を吊持状に支持する上記基板保持部に加えて、基板
   の傾斜状態を保持する傾斜保持部を備えている請求項１
   に記載の基板ウェット処理装置。
4. 【請求項４】 上記両吊持アームの閉止時において、上
   記基板保持部が各基板の傾斜下辺の上端部を吊持状に支
   持するとともに、上記傾斜保持部が各基板の他の一辺の
   上端部を支持する請求項３に記載の基板ウェット処理装
   置。
5. 【請求項５】 上記両吊持アームの閉止時において、上
   記基板保持部が各基板の傾斜下辺の上端部を吊持状に支
   持するとともに、上記傾斜保持部が各基板の他の一辺の
   下端部を支持する請求項３に記載の基板ウェット処理装
   置。
6. 【請求項６】 上記吊持アームは、相互に平行移動され
   て拡縮動作する請求項１に記載の基板ウェット処理装
   置。
7. 【請求項７】 上記吊持アームは、その上端が揺動可能
   に枢着されて拡縮動作する請求項１に記載の基板ウェッ
   ト処理装置。
8. 【請求項８】 上記基板保持部および傾斜保持部は、水
   平状に支持された基板保持バーの形態で、各基板保持バ
   ーの外周には、基板の縁部を収容保持する基板保持溝が
   所定間隔をもって複数設けられている請求項３に記載の
   基板ウェット処理装置。
9. 【請求項９】 上記基板搬送処理装置は、処理槽の配列
   方向へ往復移動可能とされた搬送台と、この搬送台に上
   下方向へ昇降可能に設けられた支持装置台と、この支持
   装置台から処理槽上方へ向かって延びる水平アームと、
   この水平アームの先端に装着された上記基板吊持装置と
   からなる請求項１から８のいずれか一つに記載の基板ウ
   ェット処理装置。