JP3662154B2 - 基板処理システム - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）に使われるＴＦＴアレイ基板を形成するための基板処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス基板上にＴＦＴアレイを形成する工程では、薄膜形成前洗浄工程−薄膜形成工程−レジスト塗布工程−露光工程−現像工程−エッチング工程−レジスト剥離工程が、１枚のガラス基板に対してアレイを構成するレイヤの数だけ、例えば６回程度繰り返される。
【０００３】
一般に、上記の洗浄工程は洗浄装置、レジスト剥離工程はレジスト剥離装置、薄膜形成工程は成膜装置、エッチング工程はエッチング装置、レジスト塗布工程及び現像工程は塗布・現像装置、露光工程は露光装置によって行われている。
【０００４】
そして、これらの装置間でのガラス基板の受け渡しは、例えばＡＧＶ（自走型搬送車）がガラス基板を多段に収容可能なカセットを装置間で搬送することによって行われる。この場合、各装置には、ＡＧＶからアクセス可能であってカセットが複数載置される載置台と、この載置台に載置されたカセットとの間で基板の受け渡しを行うための搬送装置とを備えるローダ・アンローダ部が設けられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のようなシステム構成では、各装置毎にローダ・アンローダ部が必要であり、更に多数のＡＧＶが必要であることから、これらを収容する広大なスペースのクリーンルーム等が必要とされ、またシステムのコストアップの原因にもなる、という課題がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に基づきなされたもので、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる基板処理システムを提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、本発明の基板処理システムは、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、前記搬送装置と前記基板搬入部及び／又は前記基板搬出部との離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、前記搬送装置が前記容器内の所望の基板に対してアクセスできるように、予め前記容器を前記基板の所定の高さに位置決めするステップ昇降モードを有することを特徴とする。
【０００８】
本発明では、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、例えば基板の一つのレイヤを形成するためのエッチング装置、レジスト剥離装置、基板待機用のバッファ、洗浄装置及び成膜装置を配置したので、これら装置間で基板を搬送するためのＡＧＶ（自走型搬送車）及びローダ・アンローダ部等は不要となる。また、搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に基板搬入部及び基板搬出部には、容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設けたので、他の装置（例えばレジスト塗布・現像装置）との間で基板の受け渡しを行うためのローダ・アンローダ部等は不要となる。従って、本発明によれば、ローダ・アンローダ部をなくすことができ、ＡＧＶの数を極力減らすことができるので、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる。
【０００９】
また、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、前記容器を前記基板搬入部に搬入し、及び／又は前記容器を前記基板搬出部に搬出するＡＧＶの離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め前記容器を所定の高さに位置決めする容器昇降モードを有することを特徴とする。
さらに、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、前記搬送装置と前記基板搬入部及び／又は前記基板搬出部との離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、前記搬送装置が前記容器内の所望の基板に対してアクセスできるように、予め前記容器を前記基板の所定の高さに位置決めするステップ昇降モードと、前記容器を前記基板搬入部に搬入し、及び／又は前記容器を前記基板搬出部に搬出するＡＧＶの離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め前記容器を所定の高さに位置決めする容器昇降モードとを有し、前記ステップ昇降モードを所定回数繰り返した後、前記容器昇降モードに自動的に切り替えることを特徴とする。
本発明の基板処理システムは、前記搬送路に沿って検査装置を更に配置したことを特徴とする。これにより、検査装置との間での基板の搬送を人手を介することなく行うことができる。従って、検査の自動化が可能となる。
【００１０】
本発明の基板処理システムでは、前記搬送装置は、基板をほぼ９０°回転する機構を具備することを特徴とする。これにより、基板が長方形状であり、エッチング装置、レジスト剥離装置、基板待機用のバッファ、洗浄装置及び成膜装置がそれぞれ長方形の基板の短辺向きで搬送装置との間で基板の受け渡しを行う場合であっても長方形の基板の長辺向きで搬送装置との間で基板の受け渡しを行う場合であってもいずれの場合もシステムに組み込むことが可能となる。
【００１１】
本発明の基板処理システムでは、前記搬送装置は、基板を保持しつつ進退自在なアームを少なくとも上下に２段有することを特徴とする。これにより、各種の装置が混在するシステムであっても、各装置間の干渉を極力少なくすることができる。例えば洗浄前の基板と洗浄後の基板とをそれぞれ別個のアームによって搬送でき、洗浄後の基板の汚染をより少なくすることができる。また、処理温度の異なる基板をそれぞれ別個のアームにより搬送することによって、安定した温度での処理を行うことができる。
【００１２】
本発明の基板処理システムでは、前記搬送装置は、当該搬送装置と共に前記搬送路を移動する収容箱内に収容されていることを特徴とする。これにより、パーティクル等による基板の汚染を減らすことができる。
【００１３】
本発明の基板処理システムでは、前記収容箱は、当該収容箱内に清浄エアーを供給する手段を具備することを特徴とする。これにより、当該システムをクリーンルーム内に配置する必要がなくなり、クリーンルームのコストを削減することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１５】
図１は本発明の一実施形態に係るＴＦＴアレイを形成するための基板処理システムの平面図、図２はその正面図である。
【００１６】
この基板処理システム１では、搬送路１０が直線状に設けられている。この搬送路１０の一端には、該基板処理システム１内へ搬入するガラス基板Ｇを多段に例えば２５枚収容した容器としてのカセットＣが載置される基板搬入部２０が設けられている。また、この搬送路１０の他端には、該基板処理システム１から搬出されるガラス基板Ｇを収容した同様のカセットＣが載置される基板搬出部３０が設けられている。
【００１７】
搬送路１０の一側には、搬送路１０の一端から順番にガラス基板Ｇの一つのレイヤを形成するためのエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置（アッシング装置）１３、洗浄装置１４、基板待機用のバッファ１５及び成膜装置１６、第２の検査装置１７が設けられている。そして、搬送路１０上には、ガラス基板Ｇを搬送するための搬送装置１８が走行するようになっている。
【００１８】
上記した基板搬入部２０には、カセットＣを上下に収容する２段の棚２１が設けられている。この棚２１の各載置面２２上には、カセットＣの位置決め用の突起２３が設けられている。また、棚２１の下方には例えばシリンダにより構成される昇降機構２５が配置され、棚２１はこの昇降機構２５によって昇降し、上部の載置面２２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したり、下部の載置面２２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したりするようになっている。また、棚２１の正面（搬送装置１８と対面する面と反対側の面）から各載置面２２に対して図示を省略したＡＧＶ（自走型走行車）よりカセットＣの搬入ができるようになっている。
【００１９】
上記した基板搬出部３０も基板搬入部２０と同様の構成であり、カセットＣを上下に収容する２段の棚３１が設けられ、この棚３１の各載置面３２上には、カセットＣの位置決め用の突起３３が設けられている。また、棚３１の下部には例えばシリンダにより構成される昇降機構３５が配置され、棚３１はこの昇降機構３５によって昇降し、上部の載置面３２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したり、下部の載置面３２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したりするようになっている。また、棚３１の正面（搬送装置１８と対面する面と反対側の面）から各載置面３２上のカセットＣをＡＧＶ（図示を省略）が搬出できるようになっている。
【００２０】
なお、上記の各棚２１，３１の載置面２２，３２は２段であるがそれ以上の段であっても勿論構わない。
【００２１】
上記したエッチング装置１１、レジスト剥離装置１３及び成膜装置１６の構成はほぼ同様であり、その代表例としてレジスト剥離装置１３の構成を図３に示す。
【００２２】
図３に示すように、レジスト剥離装置１３は、搬送路１０側に設けられたロードロック室４３と、その奥に設けられた搬送室４４と、搬送室４４の両側面に設けられたアッシング処理室４５とを有している。そして、ロードロック室４３と搬送室４４との間、搬送室４４と各処理室４５との間には、これらの間を気密にシールし、かつ開閉可能に構成されたゲートバルブＶが介挿されている。また、ロードロック室４５と外側の大気雰囲気とを連通する開口部にもゲートバルブＶが設けられている。
【００２３】
アッシング処理室４５は、その中にガラス基板Ｇを載置するためのステージ４５ａが設けられており、その内部を真空排気可能に構成されている。そして、アッシング処理室４５には、アッシングガス例えばオゾンが導入可能となっており、アッシングガスによりエッチング処理後のレジストを除去する。
【００２４】
搬送室４４も真空排気可能に構成され、その中に基板搬送部材４６が設けられている。基板搬送部材４６は、多関節アームタイプであり、ベース４６ａと、中間アーム４６ｂと、先端に設けられた基板支持アーム４６ｃとを有しており、これらの接続部分は旋回可能になっている。この基板搬送部材４６は、ロードロック室４３、アッシング処理室４５との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行う。基板搬送部材４６のベース４６ａの中間アーム４６ｂと反対側にはガラス基板Ｇを保持可能に構成されたバッファ枠体４６ｄが設けられており、これによりガラス基板Ｇを一時的に保持することにより、スループットの向上を図っている。
【００２５】
ロードロック室４３も真空排気可能に構成され、その中にガラス基板Ｇを載置するラック４７及びガラス基板Ｇのアライメントと行うポジショナー４８が設けられている。ポジショナー４８は、矢印Ａ方向に沿って移動することにより、ガラス基板Ｇの相対向する２つの角部をそれぞれ２つのローラ４９で押しつけて、ラック４７上でガラス基板Ｇのアライメントがなされる。アライメントの終了を確認するために、図示しない光学センサが用いられる。ロードロック室４３は、搬送路１０側との間でガラス基板Ｇの受け渡しをする場合には、その中を大気雰囲気とし、ガラス基板Ｇをアッシング処理室４５側へ搬送する場合には、その中を真空雰囲気とする。
【００２６】
なお、成膜装置１６は、図３に示したレジスト剥離装置におけるアッシング処理室４５に代えて、例えば真空雰囲気中でステージに載置されたガラス基板Ｇ上にＣＶＤにより所定の膜を成膜する成膜室を設けたものである。また、エッチング装置１１は、図３に示したレジスト剥離装置におけるアッシング処理室４５に代えて、例えば真空雰囲気中でステージに載置されたガラス基板Ｇ上にエッチング処理を施すエッチング処理室を設けたものである。エッチング処理室には、例えば所定のエッチングガスが導入され、また高周波電界を印加することが可能になっており、これらによりプラズマを形成し、そのプラズマによりガラス基板Ｇの所定の膜をその現像パターンに対応してエッチングする。
【００２７】
上述した洗浄装置１４は、例えばレジスト剥離装置１３によりレジストが剥離されたガラス基板Ｇに対して洗浄水を供給しながらブラシ洗浄するものである。また、第１の検査装置１２は例えばエッチング後のガラス基板Ｇの線幅の検査等を行うものであり、第２の検査装置１７は例えば成膜後のガラス基板Ｇの膜厚を検査するものである。
【００２８】
上述した基板待機用のバッファ１５は、図４に示すように、搬送路１０側に開口面を有する箱体５１により構成され、この箱体５１の左右の内壁には、ガラス基板Ｇを箱体５１内へ案内して保持するための保持ガイド部材５２が左右１組で一対をなし、例えば２０対有することで、２０枚のガラス基板Ｇを一旦保持することが可能となっている。
【００２９】
本実施形態では、特にこのような基板待機用のバッファ１５を有することで、処理待ち状態のガラス基板Ｇをこのバッファ１５内に待機させておくことが可能となる。これにより、処理待ち状態のガラス基板Ｇがシステム内に滞留し、処理の流れが乱れるようなことはなくなる。即ち、異種装置をシステム内に配置した場合のタクトのアンバランスを吸収することが可能になる。特に、システム内における各装置のうち成膜装置１６の処理時間は長いので、本実施形態の如く上記構成のバッファ１５を成膜装置１６の直前に配置することによって、待ち状態になったガラス基板Ｇをスムーズにバッファ１５内に収容することができる。
【００３０】
図５は上記の搬送装置１８の一例を示す斜視図である。
【００３１】
図５に示す搬送装置１８は、搬送路１０に沿って移動可能な本体６３と、装置本体６３に対して上下動および旋回動が可能なベース部材６４と、ベース部材６４上を水平方向に沿ってそれぞれ独立して移動可能な上下２枚のアーム６５ａ，６５ｂとを有している。そして、ベース部材６４の中央部と装置本体６３とが連結部６６により連結されている。本体６３に内蔵された図示しないモータにより連結部６６を上下動または回転させることにより、ベース部材６４が上下動または旋回動される。このようなベース部材６４の上下動および旋回動、ならびにアーム６５ａ，６５ｂの水平移動によりガラス基板Ｇの搬送が行われる。参照符号６７ａ，６７ｂは、それぞれアーム６５ａ，６５ｂをガイドするガイドレールである。搬送装置１８は、以上の構成を有することによって基板搬入部２０及び基板搬出部３０に載置されたカセットＣとの間、並びにエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、洗浄装置１４、基板待機用のバッファ１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７との間でガラス基板Ｇの受け渡しが行えるようになっている。また、本実施形態では、特に上記の如く２組のアーム６５ａ，６５ｂを上下に２段有するので、例えば洗浄装置１５による洗浄前のガラス基板Ｇと洗浄後のガラス基板Ｇとをそれぞれ別個のアーム６５ａ，６５ｂによって搬送でき、洗浄後のガラス基板Ｇの汚染をより少なくすることができる。また、処理温度の異なるガラス基板Ｇをそれぞれ別個のアーム６５ａ，６５ｂにより搬送することによって、安定した温度での処理を行うことができる。
【００３２】
また、装置本体６３のほぼ中央には、ガラス基板Ｇを９０°回転する基板回転機構６８が設けられている。この基板回転機構６８は、図６に示すように、ガラス基板Ｇのほぼ中心を保持する保持部材７１と、この保持部材７１を回転するモータ（回転手段）７２と、これら保持部材７１及びモータ７２を昇降するシリンダ（昇降手段）７３とを有する。そして、上部のアーム６５ａにより保持されたガラス基板Ｇを９０°回転させる場合には、図７（ａ）に示すように、該ガラス基板Ｇが上部のアーム６５ａより浮くようになるまで保持部材７１が上昇し、その上昇した状態で図７（ｂ）に示すように、保持部材７１が９０°回転する。また、下部のアーム６５ｂにより保持されたガラス基板Ｇを９０°回転させる場合には、図８（ａ）に示すように、該ガラス基板Ｇが下部のアーム６５ｂより浮くようになるまで保持部材７１が上昇し、その上昇した状態で図８（ｂ）に示すように、保持部材７１が９０°回転する。
【００３３】
本実施形態では、特に搬送装置１８が基板回転機構６８を有するので、ガラス基板Ｇが長方形状であり、エッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７がそれぞれガラス基板Ｇの短辺向きで搬送装置１８との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行う場合であってもガラス基板Ｇの長辺向きで搬送装置１８との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行う場合であってもいずれの場合も当該基板処理システム１内に組み込むことが可能となる。
【００３４】
また、本実施形態では、特に上記構成の基板回転機構６８を有することによって、アームの数が複数であっても１つの基板回転機構６８によって各アームの基板上を９０°回転することが可能である。
【００３５】
以上のように構成された搬送装置１８は、図５に示すように、当該搬送装置１８と共に搬送路１０を移動する収容箱６９内に収容されている。そして、収容箱６９の上部には、ダウンフローの清浄エアーをこの収容箱６９内に供給するエアー供給装置７０が配置されている。エアー供給装置７０は、例えばファンから送風された気体をフィルタを介して収容箱６９内に供給することによって実現可能である。本実施形態では、このように搬送装置１８を収容箱６９内に収容すると共に収容箱６９内に清浄エアーを供給することで、該基板処理システム１をクリーンルーム内に収容しなくとも所望の清浄度を保つことが可能となる。なお、エアー供給装置７０には温度や湿度を管理するための温調機構を設けてもよく、これにより局所的で効率の良い正確な温調が可能となる。
【００３６】
このように構成された基板処理システム１では、ＡＧＶ（図示を省略）により処理前のガラス基板Ｇが収容されたカセットＣが基板搬入部２０に搬入されると、搬送装置１８がこのカセットＣからガラス基板Ｇを取り出し、エッチング装置１１に搬入する。以下、このガラス基板Ｇは、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置（アッシング装置）１３、洗浄装置１４、基板待機用のバッファ１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７の順番で搬送され、各装置内でそれぞれ所定の処理等が行われる。そして、第２の検査装置１７で検査が終了したガラス基板Ｇは、基板搬出部３０におけるカセットＣに搬入される。基板搬出部３０に載置されたカセットＣは例えばガラス基板Ｇが満杯になるとＡＧＶ（図示を省略）によりレジスト塗布現像装置及び露光装置（図示を省略）側に搬送される。
【００３７】
このように本実施形態に係る基板処理システム１では、ガラス基板Ｇを搬送する搬送装置１８が走行する搬送路１０に沿って、ガラス基板Ｇの一のレイヤを形成するためのエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７を配置したので、従来の如くこれら装置間でガラス基板Ｇを搬送するためのＡＧＶ（自走型搬送車）及びローダ・アンローダ部等は不要となる。また、搬送路１０の一端に、基板搬入部２０を配置し、搬送路１０の他端に、基板搬出部３０を配置し、更に基板搬入部２０及び基板搬出部３０には、カセットＣを多段に収容し、かつ搬送装置１８が各カセットＣに対してアクセス可能となるように棚２１，３１を設けると共に棚２１，３１を昇降する昇降機構３５を設けたので、基板搬入部２０及び基板搬出部３０が従来のローダ・アンローダ部に相当することになる。従来のローダ・アンローダ部は例えば複数のカセットが列設されたカセット載置部及びローダ・アンローダ部専用の基板搬送装置等により構成される。従って、基板搬入部２０及び基板搬出部３０は従来のローダ・アンローダ部に比し面積が小さくなり、構成も簡略化される。以上より、本実施形態に係る基板処理システム１によれば、従来構成のローダ・アンローダ部をなくすことができ、ＡＧＶの数を極力減らすことができるので、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる。
【００３８】
また、本実施形態の基板処理システム１では、特に搬送路１０に沿って処理の順番にエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７を配置したので、ガラス基板Ｇの搬送をスムーズに短時間で行うことができる。
【００３９】
更に、本実施形態の基板処理システム１では、特に搬送路１０に沿って第１及び第２の検査装置１２，１７を配置したので、検査装置との間でのガラス基板Ｇの搬送を人手を介することなく行うことができる。これにより、検査の自動化が可能となる。
【００４０】
なお、上述した実施形態では、エッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７の順番でガラス基板Ｇを搬送・処理していくものであったが、ユーザの設定によりガラス基板Ｇを任意の順番で搬送・処理していくように構成しても構わない。
【００４１】
また、搬送装置１８と基板搬入部２０や基板搬出部３０との離間距離情報（例えばシステム全体を統括制御する図示を省略した制御部によって得られる。）に基づいて昇降機構２５，３５を昇降させ、搬送装置１８が容器内の所望のガラス基板Ｇに対してアクセスできるように、予め容器を基板の所定の高さに位置決めすることも可能である（ステップ昇降モード）。これにより、搬送装置１８が容器に対して一定の高さで確実に基板を搬出入することが可能となる。さらにＡＧＶの離間距離情報に基づいて昇降機構２５，３５を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め容器を所定の高さに位置決めすることも可能である（容器昇降モード）。そして、ステップ昇降モードを所定回数繰り返した後、容器昇降モードに自動的に切り替えるようにしてもよい。
【００４２】
次に、このように構成された基板処理システム１の適用例を説明する。
【００４３】
図９は基板処理システム１を含んだシステムの構成を示す図である。
【００４４】
図９に示すように、このシステムでは、当該システムのほぼ中央にレジスト塗布・現像装置に露光装置を接続してなるレジスト塗布・現像・露光システム１０１を２組配置すると共に、これらレジスト塗布・現像・露光システム１０１を取り囲むように第１のレイヤを形成するための１組のイン側基板処理システム１０２、それぞれ第２〜第５のレイヤを形成するための４組の基板処理システム１、第６のレイヤを形成するための１組のアウト側基板処理システム１０３をこの順番で連接したものである。ここで、イン側基板処理システム１０２は、基板処理システム１からエッチング装置及びレジスト剥離装置を取り除いて、システム内に等入された未処理のガラス基板を洗浄するためのガラス基板洗浄装置１０４を配置したものである。アウト側基板処理システム１０３は、基板処理システム１から成膜装置を取り除いたものである。そして、レジスト塗布・現像・露光システム１０１とこれらイン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３との間でのカセットの搬送は例えば符号１０５に示す経路を通るＡＧＶ（図示を省略）によって行われる。
【００４５】
このように構成されたシステムでは、ＴＦＴアレイ基板を効率よく製造することができる。また、レジスト塗布・現像・露光システム１０１の処理時間は残りの処理システム（イン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３）の処理時間より短いので、上記システム構成の如くレジスト塗布・現像・露光システム１０１をライン上に配置するのではなくシステムの中央に独立して配置し、残りの処理システム（イン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３）をその周囲に配置することで、全体のタクトをバランス良くすることができ、しかもレジスト塗布・現像・露光システム１０１と残りの処理システム（イン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３）との間でのカセットのやり取りを効率よく行うことができる。
【００４６】
なお、本発明は上述した実施の形態には限定されず、その技術思想の範囲内で様々な変形が可能である。
【００４７】
例えば上述した実施形態では基板としてガラス基板を例にとり説明したが、半導体ウエハ等の基板であっても本発明を適用できる。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成を示す平面図である。
【図２】図１に示した基板処理システムの正面図である。
【図３】図１に示した基板処理システムにおけるレジスト剥離装置の構成を示す平面図である。
【図４】図１に示した基板処理システムにおける基板待機用のバッファの構成を示す平面図である。
【図５】図１に示した基板処理システムにおける搬送装置の構成を示す斜視図である。
【図６】図５に示した搬送装置の一部側面図である。
【図７】図５に示した搬送装置の動作説明図（その１）である。
【図８】図５に示した搬送装置の動作説明図（その２）である。
【図９】本発明に係る基板処理システムを適用したシステム構成を示す平面図である。
【符号の説明】
１ 基板処理システム
１０ 搬送路
１１ エッチング装置
１２ 第１の検査装置
１３ レジスト剥離装置
１４ 洗浄装置
１５ 基板待機用のバッファ
１６ 成膜装置
１７ 第２の検査装置
１８ 搬送装置
２０ 基板搬入部
２１，３１ 棚
３０ 基板搬出部
３５ 昇降機構
６５ａ，６５ｂ アーム
６８ 基板回転機構
６９ 収容箱
７０ エアー供給装置
７１ 保持部材
７２ モータ（回転手段）
７３ シリンダ（昇降手段）
Ｃ カセット
Ｇ ガラス基板
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）に使われるＴＦＴアレイ基板を形成するための基板処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ガラス基板上にＴＦＴアレイを形成する工程では、薄膜形成前洗浄工程−薄膜形成工程−レジスト塗布工程−露光工程−現像工程−エッチング工程−レジスト剥離工程が、１枚のガラス基板に対してアレイを構成するレイヤの数だけ、例えば６回程度繰り返される。
【０００３】
一般に、上記の洗浄工程は洗浄装置、レジスト剥離工程はレジスト剥離装置、薄膜形成工程は成膜装置、エッチング工程はエッチング装置、レジスト塗布工程及び現像工程は塗布・現像装置、露光工程は露光装置によって行われている。
【０００４】
そして、これらの装置間でのガラス基板の受け渡しは、例えばＡＧＶ（自走型搬送車）がガラス基板を多段に収容可能なカセットを装置間で搬送することによって行われる。この場合、各装置には、ＡＧＶからアクセス可能であってカセットが複数載置される載置台と、この載置台に載置されたカセットとの間で基板の受け渡しを行うための搬送装置とを備えるローダ・アンローダ部が設けられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のようなシステム構成では、各装置毎にローダ・アンローダ部が必要であり、更に多数のＡＧＶが必要であることから、これらを収容する広大なスペースのクリーンルーム等が必要とされ、またシステムのコストアップの原因にもなる、という課題がある。
【０００６】
本発明は、このような事情に基づきなされたもので、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる基板処理システムを提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため、本発明の基板処理システムは、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、前記搬送装置と前記基板搬入部及び／又は前記基板搬出部との離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、前記搬送装置が前記容器内の所望の基板に対してアクセスできるように、予め前記容器を前記基板の所定の高さに位置決めするステップ昇降モードを有することを特徴とする。
【０００８】
本発明では、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、例えば基板の一つのレイヤを形成するためのエッチング装置、レジスト剥離装置、基板待機用のバッファ、洗浄装置及び成膜装置を配置したので、これら装置間で基板を搬送するためのＡＧＶ（自走型搬送車）及びローダ・アンローダ部等は不要となる。また、搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に基板搬入部及び基板搬出部には、容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設けたので、他の装置（例えばレジスト塗布・現像装置）との間で基板の受け渡しを行うためのローダ・アンローダ部等は不要となる。従って、本発明によれば、ローダ・アンローダ部をなくすことができ、ＡＧＶの数を極力減らすことができるので、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる。
【０００９】
また、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、前記容器を前記基板搬入部に搬入し、及び／又は前記容器を前記基板搬出部に搬出するＡＧＶの離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め前記容器を所定の高さに位置決めする容器昇降モードを有することを特徴とする。
さらに、基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、前記搬送装置と前記基板搬入部及び／又は前記基板搬出部との離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、前記搬送装置が前記容器内の所望の基板に対してアクセスできるように、予め前記容器を前記基板の所定の高さに位置決めするステップ昇降モードと、前記容器を前記基板搬入部に搬入し、及び／又は前記容器を前記基板搬出部に搬出するＡＧＶの離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め前記容器を所定の高さに位置決めする容器昇降モードとを有し、前記ステップ昇降モードを所定回数繰り返した後、前記容器昇降モードに自動的に切り替えることを特徴とする。
本発明の基板処理システムは、前記搬送路に沿って検査装置を更に配置したことを特徴とする。これにより、検査装置との間での基板の搬送を人手を介することなく行うことができる。従って、検査の自動化が可能となる。
【００１０】
本発明の基板処理システムでは、前記搬送装置は、基板をほぼ９０°回転する機構を具備することを特徴とする。これにより、基板が長方形状であり、エッチング装置、レジスト剥離装置、基板待機用のバッファ、洗浄装置及び成膜装置がそれぞれ長方形の基板の短辺向きで搬送装置との間で基板の受け渡しを行う場合であっても長方形の基板の長辺向きで搬送装置との間で基板の受け渡しを行う場合であってもいずれの場合もシステムに組み込むことが可能となる。
【００１１】
本発明の基板処理システムでは、前記搬送装置は、基板を保持しつつ進退自在なアームを少なくとも上下に２段有することを特徴とする。これにより、各種の装置が混在するシステムであっても、各装置間の干渉を極力少なくすることができる。例えば洗浄前の基板と洗浄後の基板とをそれぞれ別個のアームによって搬送でき、洗浄後の基板の汚染をより少なくすることができる。また、処理温度の異なる基板をそれぞれ別個のアームにより搬送することによって、安定した温度での処理を行うことができる。
【００１２】
本発明の基板処理システムでは、前記搬送装置は、当該搬送装置と共に前記搬送路を移動する収容箱内に収容されていることを特徴とする。これにより、パーティクル等による基板の汚染を減らすことができる。
【００１３】
本発明の基板処理システムでは、前記収容箱は、当該収容箱内に清浄エアーを供給する手段を具備することを特徴とする。これにより、当該システムをクリーンルーム内に配置する必要がなくなり、クリーンルームのコストを削減することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１５】
図１は本発明の一実施形態に係るＴＦＴアレイを形成するための基板処理システムの平面図、図２はその正面図である。
【００１６】
この基板処理システム１では、搬送路１０が直線状に設けられている。この搬送路１０の一端には、該基板処理システム１内へ搬入するガラス基板Ｇを多段に例えば２５枚収容した容器としてのカセットＣが載置される基板搬入部２０が設けられている。また、この搬送路１０の他端には、該基板処理システム１から搬出されるガラス基板Ｇを収容した同様のカセットＣが載置される基板搬出部３０が設けられている。
【００１７】
搬送路１０の一側には、搬送路１０の一端から順番にガラス基板Ｇの一つのレイヤを形成するためのエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置（アッシング装置）１３、洗浄装置１４、基板待機用のバッファ１５及び成膜装置１６、第２の検査装置１７が設けられている。そして、搬送路１０上には、ガラス基板Ｇを搬送するための搬送装置１８が走行するようになっている。
【００１８】
上記した基板搬入部２０には、カセットＣを上下に収容する２段の棚２１が設けられている。この棚２１の各載置面２２上には、カセットＣの位置決め用の突起２３が設けられている。また、棚２１の下方には例えばシリンダにより構成される昇降機構２５が配置され、棚２１はこの昇降機構２５によって昇降し、上部の載置面２２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したり、下部の載置面２２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したりするようになっている。また、棚２１の正面（搬送装置１８と対面する面と反対側の面）から各載置面２２に対して図示を省略したＡＧＶ（自走型走行車）よりカセットＣの搬入ができるようになっている。
【００１９】
上記した基板搬出部３０も基板搬入部２０と同様の構成であり、カセットＣを上下に収容する２段の棚３１が設けられ、この棚３１の各載置面３２上には、カセットＣの位置決め用の突起３３が設けられている。また、棚３１の下部には例えばシリンダにより構成される昇降機構３５が配置され、棚３１はこの昇降機構３５によって昇降し、上部の載置面３２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したり、下部の載置面３２に載置されたカセットＣが搬送装置１８と対面したりするようになっている。また、棚３１の正面（搬送装置１８と対面する面と反対側の面）から各載置面３２上のカセットＣをＡＧＶ（図示を省略）が搬出できるようになっている。
【００２０】
なお、上記の各棚２１，３１の載置面２２，３２は２段であるがそれ以上の段であっても勿論構わない。
【００２１】
上記したエッチング装置１１、レジスト剥離装置１３及び成膜装置１６の構成はほぼ同様であり、その代表例としてレジスト剥離装置１３の構成を図３に示す。
【００２２】
図３に示すように、レジスト剥離装置１３は、搬送路１０側に設けられたロードロック室４３と、その奥に設けられた搬送室４４と、搬送室４４の両側面に設けられたアッシング処理室４５とを有している。そして、ロードロック室４３と搬送室４４との間、搬送室４４と各処理室４５との間には、これらの間を気密にシールし、かつ開閉可能に構成されたゲートバルブＶが介挿されている。また、ロードロック室４５と外側の大気雰囲気とを連通する開口部にもゲートバルブＶが設けられている。
【００２３】
アッシング処理室４５は、その中にガラス基板Ｇを載置するためのステージ４５ａが設けられており、その内部を真空排気可能に構成されている。そして、アッシング処理室４５には、アッシングガス例えばオゾンが導入可能となっており、アッシングガスによりエッチング処理後のレジストを除去する。
【００２４】
搬送室４４も真空排気可能に構成され、その中に基板搬送部材４６が設けられている。基板搬送部材４６は、多関節アームタイプであり、ベース４６ａと、中間アーム４６ｂと、先端に設けられた基板支持アーム４６ｃとを有しており、これらの接続部分は旋回可能になっている。この基板搬送部材４６は、ロードロック室４３、アッシング処理室４５との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行う。基板搬送部材４６のベース４６ａの中間アーム４６ｂと反対側にはガラス基板Ｇを保持可能に構成されたバッファ枠体４６ｄが設けられており、これによりガラス基板Ｇを一時的に保持することにより、スループットの向上を図っている。
【００２５】
ロードロック室４３も真空排気可能に構成され、その中にガラス基板Ｇを載置するラック４７及びガラス基板Ｇのアライメントと行うポジショナー４８が設けられている。ポジショナー４８は、矢印Ａ方向に沿って移動することにより、ガラス基板Ｇの相対向する２つの角部をそれぞれ２つのローラ４９で押しつけて、ラック４７上でガラス基板Ｇのアライメントがなされる。アライメントの終了を確認するために、図示しない光学センサが用いられる。ロードロック室４３は、搬送路１０側との間でガラス基板Ｇの受け渡しをする場合には、その中を大気雰囲気とし、ガラス基板Ｇをアッシング処理室４５側へ搬送する場合には、その中を真空雰囲気とする。
【００２６】
なお、成膜装置１６は、図３に示したレジスト剥離装置におけるアッシング処理室４５に代えて、例えば真空雰囲気中でステージに載置されたガラス基板Ｇ上にＣＶＤにより所定の膜を成膜する成膜室を設けたものである。また、エッチング装置１１は、図３に示したレジスト剥離装置におけるアッシング処理室４５に代えて、例えば真空雰囲気中でステージに載置されたガラス基板Ｇ上にエッチング処理を施すエッチング処理室を設けたものである。エッチング処理室には、例えば所定のエッチングガスが導入され、また高周波電界を印加することが可能になっており、これらによりプラズマを形成し、そのプラズマによりガラス基板Ｇの所定の膜をその現像パターンに対応してエッチングする。
【００２７】
上述した洗浄装置１４は、例えばレジスト剥離装置１３によりレジストが剥離されたガラス基板Ｇに対して洗浄水を供給しながらブラシ洗浄するものである。また、第１の検査装置１２は例えばエッチング後のガラス基板Ｇの線幅の検査等を行うものであり、第２の検査装置１７は例えば成膜後のガラス基板Ｇの膜厚を検査するものである。
【００２８】
上述した基板待機用のバッファ１５は、図４に示すように、搬送路１０側に開口面を有する箱体５１により構成され、この箱体５１の左右の内壁には、ガラス基板Ｇを箱体５１内へ案内して保持するための保持ガイド部材５２が左右１組で一対をなし、例えば２０対有することで、２０枚のガラス基板Ｇを一旦保持することが可能となっている。
【００２９】
本実施形態では、特にこのような基板待機用のバッファ１５を有することで、処理待ち状態のガラス基板Ｇをこのバッファ１５内に待機させておくことが可能となる。これにより、処理待ち状態のガラス基板Ｇがシステム内に滞留し、処理の流れが乱れるようなことはなくなる。即ち、異種装置をシステム内に配置した場合のタクトのアンバランスを吸収することが可能になる。特に、システム内における各装置のうち成膜装置１６の処理時間は長いので、本実施形態の如く上記構成のバッファ１５を成膜装置１６の直前に配置することによって、待ち状態になったガラス基板Ｇをスムーズにバッファ１５内に収容することができる。
【００３０】
図５は上記の搬送装置１８の一例を示す斜視図である。
【００３１】
図５に示す搬送装置１８は、搬送路１０に沿って移動可能な本体６３と、装置本体６３に対して上下動および旋回動が可能なベース部材６４と、ベース部材６４上を水平方向に沿ってそれぞれ独立して移動可能な上下２枚のアーム６５ａ，６５ｂとを有している。そして、ベース部材６４の中央部と装置本体６３とが連結部６６により連結されている。本体６３に内蔵された図示しないモータにより連結部６６を上下動または回転させることにより、ベース部材６４が上下動または旋回動される。このようなベース部材６４の上下動および旋回動、ならびにアーム６５ａ，６５ｂの水平移動によりガラス基板Ｇの搬送が行われる。参照符号６７ａ，６７ｂは、それぞれアーム６５ａ，６５ｂをガイドするガイドレールである。搬送装置１８は、以上の構成を有することによって基板搬入部２０及び基板搬出部３０に載置されたカセットＣとの間、並びにエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、洗浄装置１４、基板待機用のバッファ１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７との間でガラス基板Ｇの受け渡しが行えるようになっている。また、本実施形態では、特に上記の如く２組のアーム６５ａ，６５ｂを上下に２段有するので、例えば洗浄装置１５による洗浄前のガラス基板Ｇと洗浄後のガラス基板Ｇとをそれぞれ別個のアーム６５ａ，６５ｂによって搬送でき、洗浄後のガラス基板Ｇの汚染をより少なくすることができる。また、処理温度の異なるガラス基板Ｇをそれぞれ別個のアーム６５ａ，６５ｂにより搬送することによって、安定した温度での処理を行うことができる。
【００３２】
また、装置本体６３のほぼ中央には、ガラス基板Ｇを９０°回転する基板回転機構６８が設けられている。この基板回転機構６８は、図６に示すように、ガラス基板Ｇのほぼ中心を保持する保持部材７１と、この保持部材７１を回転するモータ（回転手段）７２と、これら保持部材７１及びモータ７２を昇降するシリンダ（昇降手段）７３とを有する。そして、上部のアーム６５ａにより保持されたガラス基板Ｇを９０°回転させる場合には、図７（ａ）に示すように、該ガラス基板Ｇが上部のアーム６５ａより浮くようになるまで保持部材７１が上昇し、その上昇した状態で図７（ｂ）に示すように、保持部材７１が９０°回転する。また、下部のアーム６５ｂにより保持されたガラス基板Ｇを９０°回転させる場合には、図８（ａ）に示すように、該ガラス基板Ｇが下部のアーム６５ｂより浮くようになるまで保持部材７１が上昇し、その上昇した状態で図８（ｂ）に示すように、保持部材７１が９０°回転する。
【００３３】
本実施形態では、特に搬送装置１８が基板回転機構６８を有するので、ガラス基板Ｇが長方形状であり、エッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７がそれぞれガラス基板Ｇの短辺向きで搬送装置１８との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行う場合であってもガラス基板Ｇの長辺向きで搬送装置１８との間でガラス基板Ｇの受け渡しを行う場合であってもいずれの場合も当該基板処理システム１内に組み込むことが可能となる。
【００３４】
また、本実施形態では、特に上記構成の基板回転機構６８を有することによって、アームの数が複数であっても１つの基板回転機構６８によって各アームの基板上を９０°回転することが可能である。
【００３５】
以上のように構成された搬送装置１８は、図５に示すように、当該搬送装置１８と共に搬送路１０を移動する収容箱６９内に収容されている。そして、収容箱６９の上部には、ダウンフローの清浄エアーをこの収容箱６９内に供給するエアー供給装置７０が配置されている。エアー供給装置７０は、例えばファンから送風された気体をフィルタを介して収容箱６９内に供給することによって実現可能である。本実施形態では、このように搬送装置１８を収容箱６９内に収容すると共に収容箱６９内に清浄エアーを供給することで、該基板処理システム１をクリーンルーム内に収容しなくとも所望の清浄度を保つことが可能となる。なお、エアー供給装置７０には温度や湿度を管理するための温調機構を設けてもよく、これにより局所的で効率の良い正確な温調が可能となる。
【００３６】
このように構成された基板処理システム１では、ＡＧＶ（図示を省略）により処理前のガラス基板Ｇが収容されたカセットＣが基板搬入部２０に搬入されると、搬送装置１８がこのカセットＣからガラス基板Ｇを取り出し、エッチング装置１１に搬入する。以下、このガラス基板Ｇは、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置（アッシング装置）１３、洗浄装置１４、基板待機用のバッファ１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７の順番で搬送され、各装置内でそれぞれ所定の処理等が行われる。そして、第２の検査装置１７で検査が終了したガラス基板Ｇは、基板搬出部３０におけるカセットＣに搬入される。基板搬出部３０に載置されたカセットＣは例えばガラス基板Ｇが満杯になるとＡＧＶ（図示を省略）によりレジスト塗布現像装置及び露光装置（図示を省略）側に搬送される。
【００３７】
このように本実施形態に係る基板処理システム１では、ガラス基板Ｇを搬送する搬送装置１８が走行する搬送路１０に沿って、ガラス基板Ｇの一のレイヤを形成するためのエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７を配置したので、従来の如くこれら装置間でガラス基板Ｇを搬送するためのＡＧＶ（自走型搬送車）及びローダ・アンローダ部等は不要となる。また、搬送路１０の一端に、基板搬入部２０を配置し、搬送路１０の他端に、基板搬出部３０を配置し、更に基板搬入部２０及び基板搬出部３０には、カセットＣを多段に収容し、かつ搬送装置１８が各カセットＣに対してアクセス可能となるように棚２１，３１を設けると共に棚２１，３１を昇降する昇降機構３５を設けたので、基板搬入部２０及び基板搬出部３０が従来のローダ・アンローダ部に相当することになる。従来のローダ・アンローダ部は例えば複数のカセットが列設されたカセット載置部及びローダ・アンローダ部専用の基板搬送装置等により構成される。従って、基板搬入部２０及び基板搬出部３０は従来のローダ・アンローダ部に比し面積が小さくなり、構成も簡略化される。以上より、本実施形態に係る基板処理システム１によれば、従来構成のローダ・アンローダ部をなくすことができ、ＡＧＶの数を極力減らすことができるので、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる。
【００３８】
また、本実施形態の基板処理システム１では、特に搬送路１０に沿って処理の順番にエッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７を配置したので、ガラス基板Ｇの搬送をスムーズに短時間で行うことができる。
【００３９】
更に、本実施形態の基板処理システム１では、特に搬送路１０に沿って第１及び第２の検査装置１２，１７を配置したので、検査装置との間でのガラス基板Ｇの搬送を人手を介することなく行うことができる。これにより、検査の自動化が可能となる。
【００４０】
なお、上述した実施形態では、エッチング装置１１、第１の検査装置１２、レジスト剥離装置１３、基板待機用のバッファ１４、洗浄装置１５、成膜装置１６及び第２の検査装置１７の順番でガラス基板Ｇを搬送・処理していくものであったが、ユーザの設定によりガラス基板Ｇを任意の順番で搬送・処理していくように構成しても構わない。
【００４１】
また、搬送装置１８と基板搬入部２０や基板搬出部３０との離間距離情報（例えばシステム全体を統括制御する図示を省略した制御部によって得られる。）に基づいて昇降機構２５，３５を昇降させ、搬送装置１８が容器内の所望のガラス基板Ｇに対してアクセスできるように、予め容器を基板の所定の高さに位置決めすることも可能である（ステップ昇降モード）。これにより、搬送装置１８が容器に対して一定の高さで確実に基板を搬出入することが可能となる。さらにＡＧＶの離間距離情報に基づいて昇降機構２５，３５を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め容器を所定の高さに位置決めすることも可能である（容器昇降モード）。そして、ステップ昇降モードを所定回数繰り返した後、容器昇降モードに自動的に切り替えるようにしてもよい。
【００４２】
次に、このように構成された基板処理システム１の適用例を説明する。
【００４３】
図９は基板処理システム１を含んだシステムの構成を示す図である。
【００４４】
図９に示すように、このシステムでは、当該システムのほぼ中央にレジスト塗布・現像装置に露光装置を接続してなるレジスト塗布・現像・露光システム１０１を２組配置すると共に、これらレジスト塗布・現像・露光システム１０１を取り囲むように第１のレイヤを形成するための１組のイン側基板処理システム１０２、それぞれ第２〜第５のレイヤを形成するための４組の基板処理システム１、第６のレイヤを形成するための１組のアウト側基板処理システム１０３をこの順番で連接したものである。ここで、イン側基板処理システム１０２は、基板処理システム１からエッチング装置及びレジスト剥離装置を取り除いて、システム内に等入された未処理のガラス基板を洗浄するためのガラス基板洗浄装置１０４を配置したものである。アウト側基板処理システム１０３は、基板処理システム１から成膜装置を取り除いたものである。そして、レジスト塗布・現像・露光システム１０１とこれらイン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３との間でのカセットの搬送は例えば符号１０５に示す経路を通るＡＧＶ（図示を省略）によって行われる。
【００４５】
このように構成されたシステムでは、ＴＦＴアレイ基板を効率よく製造することができる。また、レジスト塗布・現像・露光システム１０１の処理時間は残りの処理システム（イン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３）の処理時間より短いので、上記システム構成の如くレジスト塗布・現像・露光システム１０１をライン上に配置するのではなくシステムの中央に独立して配置し、残りの処理システム（イン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３）をその周囲に配置することで、全体のタクトをバランス良くすることができ、しかもレジスト塗布・現像・露光システム１０１と残りの処理システム（イン側基板処理システム１０２、基板処理システム１、アウト側基板処理システム１０３）との間でのカセットのやり取りを効率よく行うことができる。
【００４６】
なお、本発明は上述した実施の形態には限定されず、その技術思想の範囲内で様々な変形が可能である。
【００４７】
例えば上述した実施形態では基板としてガラス基板を例にとり説明したが、半導体ウエハ等の基板であっても本発明を適用できる。
【００４８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、システムの収容スペースを削減しつつコストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理システムの構成を示す平面図である。
【図２】図１に示した基板処理システムの正面図である。
【図３】図１に示した基板処理システムにおけるレジスト剥離装置の構成を示す平面図である。
【図４】図１に示した基板処理システムにおける基板待機用のバッファの構成を示す平面図である。
【図５】図１に示した基板処理システムにおける搬送装置の構成を示す斜視図である。
【図６】図５に示した搬送装置の一部側面図である。
【図７】図５に示した搬送装置の動作説明図（その１）である。
【図８】図５に示した搬送装置の動作説明図（その２）である。
【図９】本発明に係る基板処理システムを適用したシステム構成を示す平面図である。
【符号の説明】
１ 基板処理システム
１０ 搬送路
１１ エッチング装置
１２ 第１の検査装置
１３ レジスト剥離装置
１４ 洗浄装置
１５ 基板待機用のバッファ
１６ 成膜装置
１７ 第２の検査装置
１８ 搬送装置
２０ 基板搬入部
２１，３１ 棚
３０ 基板搬出部
３５ 昇降機構
６５ａ，６５ｂ アーム
６８ 基板回転機構
６９ 収容箱
７０ エアー供給装置
７１ 保持部材
７２ モータ（回転手段）
７３ シリンダ（昇降手段）
Ｃ カセット
Ｇ ガラス基板
Claims (8)
- 基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、
前記搬送装置と前記基板搬入部及び／又は前記基板搬出部との離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、前記搬送装置が前記容器内の所望の基板に対してアクセスできるように、予め前記容器を前記基板の所定の高さに位置決めするステップ昇降モードを有することを特徴とする基板処理システム。 - 基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、
前記容器を前記基板搬入部に搬入し、及び／又は前記容器を前記基板搬出部に搬出するＡＧＶの離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め前記容器を所定の高さに位置決めする容器昇降モードを有することを特徴とする基板処理システム。 - 基板を搬送する搬送装置が走行する搬送路に沿って、エッチング装置、レジスト剥離装置、洗浄装置、基板待機用のバッファ及び成膜装置を配置すると共に、前記搬送路の一端に、当該システム内に搬入される基板を複数収容する容器が載置される基板搬入部を配置し、前記搬送路の他端に、当該システムから搬出される基板を複数収容する容器が載置される基板搬出部を配置し、更に前記基板搬入部及び前記基板搬出部には、前記容器を上下に多段に配置可能であって、これら多段に配置された容器を昇降する機構を設け、
前記搬送装置と前記基板搬入部及び／又は前記基板搬出部との離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、前記搬送装置が前記容器内の所望の基板に対してアクセスできるように、予め前記容器を前記基板の所定の高さに位置決めするステップ昇降モードと、
前記容器を前記基板搬入部に搬入し、及び／又は前記容器を前記基板搬出部に搬出するＡＧＶの離間距離情報に基づいて前記昇降機構を昇降させ、ＡＧＶが所望の容器に対してアクセスできるように、予め前記容器を所定の高さに位置決めする容器昇降モードとを有し、
前記ステップ昇降モードを所定回数繰り返した後、前記容器昇降モードに自動的に切り替えることを特徴とする基板処理システム。 - 前記搬送路に沿って検査装置を更に配置したことを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか１項に記載の基板処理システム。
- 前記搬送装置は、基板をほぼ９０°回転する機構を具備することを特徴とする請求項１から請求項４のうちのいずれか１項に記載の基板処理システム。
- 前記搬送装置は、基板を保持しつつ進退自在なアームを少なくとも上下に２段有することを特徴とする請求項１から請求項５のうちいずれか１項に記載の基板処理システム。
- 前記搬送装置は、当該搬送装置と共に前記搬送路を移動する収容箱内に収容されていることを特徴とする請求項１から請求項６のうちいずれか１項に記載の基板処理システム。
- 前記収容箱は、当該収容箱内に清浄エアーを供給する手段を具備することを特徴とする請求項７に記載の基板処理システム。
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