JPH10270530A - 基板搬送処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置全体を小型にしてスループットの向上を
図れるようにすると共に、製品歩留まりの向上を図れる
ようにすること。 【解決手段】 被処理用のウエハＷを水平状態に収納す
るキャリア１の搬入部と、キャリア１の搬出部と、キャ
リア１内のウエハＷを取り出すウエハ取出しアーム１４
と、キャリア１内にウエハＷを収納するウエハ収納アー
ム１６と、ウエハＷを水平状態と垂直状態に変換する姿
勢変換装置４０と、ウエハＷを適宜処理する処理部３
と、姿勢変換装置４０と処理部３との間でウエハＷを受
け渡しすると共に、処理部３にウエハＷを搬入又は搬出
するウエハ搬送アーム５６とで主要部を構成することに
より、キャリア１内に水平状態で収納されるウエハＷを
取出して垂直状態に姿勢変換した後、適宜処理を施し、
処理後水平状態に姿勢変換してキャリア１内に収納する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
エハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理用の基板を連続的
に搬送して適宜処理する基板搬送処理装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス等の被処理用の
基板（以下にウエハ等という）を薬液やリンス液（洗浄
液）等の処理液が貯留された処理槽や乾燥部に順次搬送
して洗浄や乾燥等の処理を行う基板搬送処理装置が広く
採用されている。

【０００３】このような基板搬送処理装置において、複
数枚例えば５０枚のウエハ等を効率良く洗浄等するに
は、ウエハ等を垂直に配列して搬送すると共に、各処理
ユニットに搬入し、処理ユニットから搬出する方法が好
適とされている。

【０００４】また、この種の処理装置において、一般
に、未処理のウエハ等を収納する容器例えばキャリアの
搬入部と、処理済みのウエハ等を収納する容器例えばキ
ャリアの搬出部との間に複数の処理ユニットや搬送手段
の洗浄ユニット等をライン状に配列したシステムが採用
されている。

【０００５】また、近年の半導体デバイスの微細高集積
化、量産化に伴ないウエハも８インチウエハから１２イ
ンチウエハへと大口径化が進んでいる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウエハ
等の大口径化に伴ないウエハ等の大きさ及び重量が嵩む
ため、ウエハの搬入から搬出まで従来通り垂直状態のま
まで搬送すると、搬入及び搬出部と処理部との間でウエ
ハ等を受け渡しする際に、位置ずれが生じたりウエハ等
の移動によりパーティクルが発生し、製品歩留まりが低
下するという問題があった。

【０００７】また、ウエハ等の大口径化に伴ない搬送手
段や各処理ユニット自体が大型となると共に、装置全体
が大型になり、スループットの低下を招くという問題も
あった。

【０００８】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、装置全体を小型にしてスループットの向上を図れる
ようにすると共に、製品歩留まりの向上を図れるように
した基板搬送処理装置を提供することを目的とするもの
である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は以下のように構成される。

【００１０】（１）請求項１記載の発明は、被処理用の
基板を水平状態に収納する容器の搬入部と、 上記容器
の搬出部と、 上記容器内の基板を取り出す基板取出し
手段と、 上記容器内に基板を収納する基板収納手段
と、 上記基板を水平状態と垂直状態に変換する姿勢変
換手段と、 上記基板を適宜処理する処理部と、 上記
姿勢変換手段と処理部との間で上記基板を受け渡しする
と共に、処理部内で基板を搬送する基板搬送手段と、を
具備することを特徴とする。この場合、上記基板取出し
手段と基板収納手段とを、基板取出し部と基板収納部を
有する基板取出し・基板収納手段にて形成してもよい
（請求項７）。このように構成することにより、容器内
に水平状態で収納された基板を垂直状態に変換して処理
を施すことができ、また処理後の基板を水平状態に変換
して容器内に収納することができる。

【００１１】（２）請求項２記載の発明は、被処理用の
基板を水平状態に収納する容器の搬入部と、 上記容器
の搬出部と、 上記容器内の基板を取り出す基板取出し
手段と、 上記容器内に基板を収納する基板収納手段
と、 上記基板を水平状態と垂直状態に変換する姿勢変
換手段と、 上記基板を適宜処理する処理部と、 上記
姿勢変換手段で姿勢変換された上記基板を、上記処理部
を挟んで上記搬入部及び搬出部と反対側に配設されたイ
ンターフェース部に移送する基板移送手段と、上記イン
ターフェース部と処理部との間で上記基板を受け渡しす
ると共に、処理部内で基板を搬送する基板搬送手段と、
を具備することを特徴とする。この場合、上記処理部と
姿勢変換手段との間で上記基板を受け渡しすると共に、
処理部内で基板を搬送する第２の基板搬送手段を設ける
方が好ましい（請求項３）。このように構成することに
より、処理部を挟んで搬入部及び搬出部と反対側に配設
されたインターフェース部に移送された基板を基板搬送
手段により処理部に搬送することができるので、処理工
程や処理ラインが多い場合にも基板の搬送を連続して行
うことができる。また、第１及び第２の基板搬送手段に
よって処理部内で基板の搬送を分担して行うことができ
るので、スループットの向上が図れる（請求項３）。

【００１２】（３）請求項４記載の発明は、被処理用の
基板を水平状態に収納する容器の搬入部と、 上記容器
の搬出部と、 上記基板を適宜処理する処理部と、 上
記処理部を挟んで上記搬入部及び搬出部と反対側に配設
されるインターフェース部と、 上記搬入部に搬入され
る上記容器を、上記インターフェース部に移送する容器
移送手段と、 上記インターフェース部内において、上
記容器内の基板を取り出す基板取出し手段と、上記基板
取出し手段により上記容器から取り出された基板を水平
状態から垂直状態に姿勢変換する第１の姿勢変換手段
と、 上記第１の姿勢変換手段と処理部との間で上記基
板を受け渡しすると共に、処理部内で基板を搬送する基
板搬送手段と、 上記搬入部及び搬出部側に配設され、
上記基板を垂直状態から水平状態に姿勢変換する第２の
姿勢変換手段と、 上記容器内に基板を収納する基板収
納手段と、を具備することを特徴とする。この場合、上
記処理部と第２の姿勢変換手段との間で上記基板を受け
渡しすると共に、処理部内で基板を搬送する第２の基板
搬送手段を設ける方が好ましい（請求項５）。また、上
記容器移送手段の移送路に沿設する位置に容器待機部を
設ける方が好ましい（請求項６）。

【００１３】このように構成することにより、搬入部に
搬入された容器を容器移送手段を介してインターフェー
ス部に移送し、インターフェース部において、第１の姿
勢変換手段により基板の姿勢を水平状態から垂直状態に
変換した後、基板搬送手段によって処理部に搬送するこ
とができるので、処理工程や処理ラインが多い場合にも
基板を連続して搬送することができる。また、第２の基
板搬送手段にて処理後の基板を第２の姿勢変換手段に受
け渡して基板の姿勢を垂直状態から水平状態に変換した
後、基板収納手段によって搬出部のからの容器内に収納
することができる（請求項５）。したがって、第１及び
第２の基板搬送手段によって処理部内で基板の搬送を分
担して行うことができるので、スループットの向上が図
れる。

【００１４】（４）請求項８記載の発明は、請求項１又
は２記載の基板搬送処理装置において、 空の容器を収
容する容器待機部と、 上記搬入部及び搬出部内、及び
上記搬入部及び搬出部と容器待機部との間で容器を搬送
する容器搬送手段と、を具備することを特徴とする。こ
の場合、上記容器待機部内に、容器を移動する容器移動
手段を配設する方が好ましい（請求項１１）。このよう
に構成することにより、搬入部及び搬出部における容器
の搬送を円滑にすると共に、空の容器の搬入部からの搬
出及び空の容器への処理済みの基板の収納を円滑に行う
ことができる。

【００１５】（５）請求項９記載の発明は、請求項１，
２又は４記載の基板搬送処理装置において、 上記搬入
部及び又は搬出部と、上記基板取出し手段により基板が
容器から取り出される基板取出し位置及び上記基板収納
手段により基板が容器へ収納される基板収納位置との間
で、上記容器を搬送する容器搬送手段を設けたことを特
徴とする。このように構成することにより、搬入部及び
搬出部における容器の搬送を円滑にすることができる。

【００１６】（６）請求項１０記載の発明は、請求項１
又は２記載の基板搬送処理装置において、 上記容器を
収容する容器待機部と、 上記搬入部及び搬出部と上記
容器待機部との間で容器を搬送する第１の容器搬送手段
と、 上記容器待機部と上記基板取出し手段及び基板収
納手段との間で容器を搬送する第２の容器搬送手段と、
を具備することを特徴とする。このように構成すること
により、搬入部及び搬出部における容器の搬送を円滑に
することができると共に、容器からの基板の取出し及び
容器への基板の収納を円滑にすることができる。したが
って、多数の容器をストックすることができると共に、
多数の基板を連続的に処理することができる。

【００１７】（７）請求項１２記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記容器内から取り出された基板の位置決め手
段を具備してなることを特徴とする。このように構成す
ることにより、基板を適正な状態で処理することができ
る。

【００１８】（８）請求項１３記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記姿勢変換手段に、複数の基板間の間隔を調
整する間隔調整機構を具備してなることを特徴とする。
このように構成することにより、複数の基板を均一な状
態で処理することができると共に、基板間の間隔を必要
最小限の幅に維持して可及的に多くの基板の処理を可能
にすることができる。

【００１９】（９）請求項１４記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記処理部に、基板を収容する処理槽と、この
処理槽内に基板を搬入及び搬出する移動機構とを具備し
てなることを特徴とする。この場合、上記移動機構を、
複数の処理槽に対して基板を搬入・搬出可能に形成する
方が好ましい（請求項１５）。このように構成すること
により、処理槽内に搬送手段が入り込む構造に比べて処
理部を小型にすることができる。また、移動機構を複数
の処理槽に対して基板を搬入・搬出可能に形成すること
により、薬液等の処理液が基板搬送手段に付着するのを
防止することができる（請求項１５）。

【００２０】（１０）請求項１６記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記処理部に、基板を収容する処理槽と、この
処理槽内に薬液を供給する薬液供給手段と、上記処理槽
内に洗浄液を供給する洗浄液供給手段を具備してなる、
ことを特徴とする。このように構成することにより、基
板の薬液処理と洗浄処理とを連続的に行うことができ、
搬送時のパーティクルの付着防止と装置の小型化を図る
ことができる。

【００２１】（１１）請求項１７記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記処理部に、上記基板搬送手段の少なくとも
基板保持部を洗浄する洗浄手段を具備してなることを特
徴とする。このように構成することにより、基板搬送手
段の基板保持部を清浄にすることができ、処理前、後の
基板の処理部雰囲気による汚染等を防止することができ
る。

【００２２】（１２）請求項１８記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記処理部に、基板の洗浄・乾燥手段を具備し
てなることを特徴とする。このように構成することによ
り、洗浄後の基板を直ちに乾燥することができるので、
基板へのパーティクル等の付着やウォーターマークの発
生を防止することができる。

【００２３】（１３）請求項１９記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記搬入部に、容器搬入口及び基板搬出口を設
け、上記搬出部に、容器搬出口及び基板搬入口を設けて
なる、ことを特徴とする。

【００２４】このように構成することにより、容器及び
基板の搬入及び搬出を円滑にすることができると共に、
スループットの向上を図ることができる。

【００２５】（１４）請求項２０記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記基板取出し手段及び基板収納手段は、複数
枚の基板を搬送可能に形成してなることを特徴とする。
このように構成することにより、複数枚の基板を同時に
容器から取り出すことができると共に、容器内に収納す
ることができ、スループットの向上を図ることができ
る。

【００２６】（１５）請求項２１記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記搬入部と搬出部を併設すると共に、これら
搬入部及び搬出部と対向して処理部を配設してなること
を特徴とする。このように構成することにより、容器及
び基板の搬入、搬出作業を装置の片側より行うことがで
き、クリーンルームの有効活用ができると共に、装置全
体の小型を図ることができる。

【００２７】（１６）請求項２２記載の発明は、請求項
１，２又は４のいずれかに記載の基板搬送処理装置にお
いて、 上記姿勢変換手段から処理部との間で基板を受
け渡しする第１の基板搬送手段と、上記処理部内から上
記姿勢変換手段へ上記基板を受け渡しする第２の基板搬
送手段とを設けたことを特徴とする。このように構成す
ることにより、未処理の基板と処理済みの基板とを別々
の搬送系を用いて搬送することができ、処理済みの基板
へのパーティクル等の再付着等を防止することができ
る。

【００２８】（１７）請求項２３記載の発明は、請求項
１，２又は４記載の基板搬送処理装置において、 上記
基板搬送手段を上記姿勢変換手段と対向する位置に移動
可能に形成し、 上記基板搬送手段と姿勢変換手段との
間に、両者間で基板を受け渡す基板受渡し手段を配設し
てなる、ことを特徴とする。このように構成することに
より、基板搬送手段に回転機構をもたせることなく水
平、垂直の直線機構のみをもたせることができるので、
装置の小型化かつ簡略化が図れると共に、スループット
の向上が図れる。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説
明する。

【００３０】◎第一実施形態 図１はこの発明の基板搬送処理装置を適用した洗浄処理
システムの第一実施形態を示す概略平面図、図２はその
概略側面図、図３はその概略斜視図である。

【００３１】上記洗浄処理システムは、被処理用の基板
である半導体ウエハＷ（以下にウエハという）を水平状
態に収納する容器例えばキャリア１を搬入、搬出するた
めの搬送部２と、ウエハＷを薬液、洗浄液等の液処理す
ると共に乾燥処理する処理部３と、搬送部２と処理部３
との間に位置してウエハＷの受渡し、位置調整及び姿勢
変換等を行うインターフェース部４とで主に構成されて
いる。

【００３２】上記搬送部２は、洗浄処理システムの一側
端部に併設して設けられる搬入部５と搬出部６とで構成
されている。また、搬入部５及び搬出部６のキャリア１
の搬入口５ａ及び搬出口６ｂには、キャリア１を搬入部
５、搬出部６に出入れ自在のスライド式の載置テーブル
７が設けられている。また、搬入部５と搬出部６には、
それぞれキャリアリフタ８（容器搬送手段）が配設さ
れ、このキャリアリフタ８によって搬入部間又は搬出部
間でのキャリア１の搬送、搬入部５と後述するウエハ取
出しアームの取出し位置との間の搬送、あるいは、搬出
部６と後述するウエハ収納アームの収納位置との間の搬
送等を行うことができると共に、空のキャリア１を搬送
部２上方に設けられたキャリア待機部９への受け渡し及
びキャリア待機部からの受け取りを行うことができるよ
うに構成されている（図２及び図３参照）。この場合、
キャリア待機部９には、水平方向（Ｘ，Ｙ方向）及び垂
直方向（Ｚ方向）に移動可能なキャリア搬送ロボット１
０（容器移動手段）が配設されており、このキャリア搬
送ロボット１０によって搬入部５から搬送された空のキ
ャリア１を整列すると共に、搬出部６へ搬出し得るよう
になっている（図４参照）。また、キャリア待機部９に
は、空キャリアだけでなく、ウエハＷが収納された状態
のキャリア１を待機させておくことも可能である。

【００３３】上記キャリア１は、図５及び図６に示すよ
うに、一側に開口部１ａを有し内壁に複数枚例えば２５
枚のウエハＷを適宜間隔をおいて水平状態に保持する保
持溝（図示せず）を有する容器本体１ｂと、この容器本
体１ｂの開口部１ａを開閉する蓋体１ｃとで構成されて
おり、蓋体１ｃ内に組み込まれた係脱機構１ｄを後述す
る蓋開閉装置によって操作することにより、蓋体１ｃが
開閉されるように構成されている。

【００３４】搬入部５のウエハ搬出口５ｂ部及び搬出部
６のウエハ搬入口６ａ部には、図７及び図８に示すよう
に、キャリア１の蓋体１ｃの係脱機構１ｄに係合する係
合ピン１１と蓋体保持板１２を有する昇降及び揺動可能
な蓋開閉装置１３が配設されており、この蓋開閉装置１
３によってキャリア１の蓋体１ｃが開放あるいは閉塞さ
れるようになっている。したがって、搬入部５に搬送さ
れた未処理のウエハＷを収納するキャリア１の蓋体１ｃ
を蓋開閉装置１３によって取り外してキャリア１内のウ
エハＷを搬出可能にし、全てのウエハＷが搬出された
後、再び蓋開閉装置１３によって蓋体１ｃを閉塞するこ
とができる。また、キャリア待機部９から搬出部６に搬
送された空のキャリア１の蓋体１ｃを蓋開閉装置１３に
よって取り外してキャリア１内へのウエハＷを搬入可能
にし、全てのウエハＷが搬入された後、再び蓋開閉装置
１３によって蓋体１ｃを閉塞することができる。

【００３５】上記インターフェース部４は、区画壁４ｃ
によって搬入部５に隣接する第１の室４ａと、搬出部６
に隣接する第２の室４ｂとに区画されている。そして、
第１の室４ａ内には、搬入部５のキャリア１から複数枚
のウエハＷを取り出して搬送する水平方向（Ｘ，Ｙ方
向），垂直方向（Ｚ方向）及び回転（θ方向）可能なウ
エハ取出しアーム１４（基板取出し手段）と、ウエハＷ
に設けられたノッチＷａを検出するノッチアライナー２
０（位置検出手段）と、ウエハ取出しアーム１４によっ
て取り出された複数枚のウエハＷの間隔を調整する間隔
調整機構３０を具備すると共に、水平状態のウエハＷを
垂直状態に変換する第１の姿勢変換装置４０（姿勢変換
手段）が配設されている。

【００３６】また、第２の室４ｂ内には、処理済みの複
数枚のウエハＷを処理部３から垂直状態のまま受け取っ
て搬送するウエハ受渡しアーム１５（基板搬送手段）
と、ウエハ受渡しアーム１５から受け取ったウエハＷを
垂直状態から水平状態に変換する第２の姿勢変換装置４
０Ａ（姿勢変換手段）と、この第２の姿勢変換装置４０
Ａによって水平状態に変換された複数枚のウエハＷを受
け取って搬出部６に搬送された空のキャリア１内に収納
する水平方向（Ｘ，Ｙ方向），垂直方向（Ｚ方向）及び
回転（θ方向）可能なウエハ収納アーム１６（基板収納
手段）が配設されている。なお、第２の室４ｂは外部か
ら密閉されており、図示しない不活性ガス例えば窒素
（Ｎ2）ガスの供給源から供給されるＮ2ガスによって室
内が置換されるように構成されている。

【００３７】上記ノッチアライナー２０は、図９及び図
１０に示すように、ウエハ取出しアーム１４によって搬
送された各ウエハＷの下面周縁を支持する複数段の支持
プレート２１と、支持プレート２１の間隔を変換する変
換機構２２と、支持プレート２１によって支持されるウ
エハＷの下方側に移動してウエハＷを載置すると共に回
転するノッチアーム２３と、ウエハＷの縁部の上下位置
に配設されてウエハＷに設けられたノッチＷａを検出す
るフォトセンサ２４とで主に構成されている。なお、変
換機構２２の昇降動作、ノッチアーム２３のウエハＷ下
面側への進入・後退移動、ノッチアーム２３の昇降・回
転動作は、例えばモータ２５〜２８からの動力を図示し
ないボールねじ機構や伝達機構等を介して行うことがで
きる。

【００３８】このように構成されるノッチアライナー２
０によってウエハＷの間隔を調整するには、ウエハ取出
しアーム１４によって搬送されて支持プレート２１上に
載置されたウエハＷの間隔を変換機構２２によって広げ
た状態にしてウエハＷの下面側にノッチアーム２３を挿
入し、そして、ノッチアーム２３を上昇させてノッチア
ーム２３上にウエハＷを載置した状態でノッチアーム２
３を回転してフォトセンサ２４にてノッチＷａを検出す
る。このようにして各ウエハＷのノッチＷａの位置検出
を行い、ノッチＷａの位置検出により位置決めが行われ
る。なお、位置決めが行われた後、ノッチアーム２３は
下降した後、ウエハＷの下面側から外部に後退され、そ
の後、変換機構２２によってウエハＷの間隔が搬入され
る状態の間隔に狭められた後、ウエハＷは再びウエハ取
出しアーム１４によって受け取られて姿勢変換装置４０
に搬送される。したがって、複数枚のウエハＷのノッチ
Ｗａを揃えて位置決めした状態で姿勢変換装置４０に搬
送することができる。

【００３９】上記第１及び第２の姿勢変換装置４０，４
０Ａ（ここでは第１の姿勢変換装置４０を代表して示
す）は、図１１ないし図１３に示すように、ウエハＷの
間隔を調整する間隔調整機構３０と、ウエハＷの水平方
向の向きを調整する水平調整機構４１と、ウエハＷの水
平状態の姿勢を垂直状態の姿勢に変換する姿勢変換機構
４５とを具備してなる。

【００４０】この場合、間隔調整機構３０は、ウエハＷ
を保持すべく互いに進退移動可能に対向する複数組の保
持部材３１と、これら保持部材３１を摺動可能に支持す
るガイドバー３２と、アーム３３を介して保持部材３１
及びガイドバー３２を進退移動するボールねじ機構３４
と、保持部材３１から突設されるピン３５を摺動自在に
貫挿するガイド用長孔３６を有するガイド部材３７と、
ピン３５を回転自在に支承して間隔調整用モータ３８に
よって垂直方向に回転するリンク３９とで構成されてい
る。このように間隔調整機構３０を構成することによ
り、間隔調整用モータ３８を駆動して，例えば図１２の
実線で示す状態からリンク３９を反時計方向に回転する
と、保持部材３１が二点鎖線で示す互いに近接する方向
に移動してウエハＷ間の間隔をＰからｐに変換すること
ができ（Ｐ＞ｐ）、ウエハＷの間隔を以後の処理工程に
おける最適状態にすることができる。

【００４１】上記姿勢変換機構４５は、上記間隔調整機
構３０を搭載する支持基盤４６の端部に装着される回転
軸４７と、この回転軸４７を回転する姿勢変換用モータ
４８とで構成されており、姿勢変換用モータ４８を駆動
して回転軸４７を９０度回転することにより、水平状態
のウエハＷを垂直状態に変換することができる。なお、
第２の姿勢変換装置４０Ａにおいては、回転軸４７を上
記と逆方向に回転することにより、垂直状態のウエハＷ
を水平状態に変換することができる。

【００４２】上記水平調整機構４１は、ウエハＷを適正
な垂直状態に変換するためのもので、上記間隔調整機構
３０を搭載する支持基盤４６を回転可能に載置する載置
部４２ａを有する載置軸４２ｂと、この載置軸４２ｂに
ベアリング４２ｃを介して回転自在に装着されると共
に、上記姿勢変換用モータ４８をブラケット４２ｄを介
して装着する回転テーブル４２ｅと、回転テーブル４２
ｅを回転可能に支持する固定基盤４３の下方に装着され
て回転テーブル４２ｅを水平方向に回転する水平調整用
モータ４４とで構成されている。このように水平調整機
構４１を構成することにより、上記ノッチアライナー２
０によって位置決めされたウエハＷをウエハ取出しアー
ム１４から姿勢変換装置４０に受け渡されたウエハＷを
水平調整用モータ４４の駆動によって水平方向に回転さ
せて水平調整を行うことができ、以後の垂直変換に備え
ることができる。

【００４３】一方、上記処理部３には、ウエハＷに付着
するパーティクルや有機物汚染を除去する第１の処理ユ
ニット５１と、ウエハＷに付着する金属汚染を除去する
第２の処理ユニット５２と、ウエハＷに付着する化学酸
化膜を除去すると共に乾燥処理する洗浄・乾燥処理ユニ
ット５３及びチャック洗浄ユニット５４が直線状に配列
されており、これら各ユニット５１〜５４と対向する位
置に設けられた搬送路５５に、Ｘ，Ｙ方向（水平方
向）、Ｚ方向（垂直方向）及び回転（θ）可能なウエハ
搬送アーム５６（搬送手段）が配設されている。

【００４４】この場合、ウエハ搬送アーム５６は、図１
４に示すように、搬送路５５に設けられたガイドレール
（図示せず）に沿って移動する昇降可能な移動台５７
と、この移動台５７上に回転及び水平移動可能に装着さ
れる駆動台５８と、この駆動台５９から突設される互い
に進退移動可能な一対のウエハ保持チャック５９とで構
成されている。

【００４５】上記第１及び第２の処理ユニット５１，５
２は、第１５図及び第１６図に示すように、ウエハＷを
収容する処理槽６０と、この処理槽６０の上端開口部に
連接し、処理槽６０からオーバーフローした薬液例えば
ＡＰＭ溶液（アンモニア，過酸化水素水及び純水の混合
溶液）やＨＰＭ溶液（塩酸，過酸化水素水及び純水の混
合溶液）等や洗浄液例えば純水を受け止める外槽６１
と、処理槽６０内において所定枚数例えば５０枚のウエ
ハＷを適宜間隔をおいて配列した状態で保持すると共に
処理槽６０に対してウエハＷを搬入、搬出する移動手段
例えばウエハボート７０及び処理槽６０の底部に配設さ
れてウエハＷに薬液又は純水を供給する薬液及び純水供
給手段例えばジェットノズル８０を具備してなる。

【００４６】上記処理槽６０及び外槽６１は、耐食性及
び耐薬品性に富む材質例えば石英やポリプロピレン
（Ｐ．Ｐ）にて形成されている。また、処理槽６０の底
部には排液口６２が設けられ、この排液口６２にドレン
弁６３を介してドレン管６４が接続されている。また、
外槽６１の底部には排液口６５が設けられており、この
排液口６５と上記ジェットノズル８０とに循環管路８１
が接続されている。この循環管路８１には排液口６５側
から順に、ポンプ８２，ダンパ８３及びフィルタ８４が
介設されている。また、排液口６５とポンプ８２との間
には切換弁８５を介してドレン管８６が接続され、切換
弁８５とポンプ８２の間には切換弁８７が介設されてお
り、切換弁８７には薬液供給管８８が接続されている。
また、フィルタ８４とジェットノズル８０との間には、
切換弁８９が介設されており、この切換弁８９に純水供
給管９０が接続されている。そして、純水供給管９０に
図示しない純水供給源が接続され、薬液供給管８８には
図示しない薬液供給源が接続されている。また、フィル
タ８４と切換弁８９の間にはドレン弁９１を介してドレ
ン管９２が接続されている。

【００４７】上記のように、ジェットノズル８０と外槽
６１の排液口６２との間に循環配管系を設けることによ
り、図示しない薬液供給源から処理槽６０内に供給され
る薬液を処理槽６０からオーバーフローさせ、循環管路
８１を循環させてジェットノズル８０から再度ウエハＷ
に供給させながらウエハＷの表面に付着するパーティク
ルや金属イオン等を除去することができる。また、薬液
を排出した後、切換弁を切り換えて純水供給源から供給
される純水をジェットノズル８０に供給することによ
り、ジェットノズル８０に残留する薬液を除去すること
ができ、ジェットノズル８０から純水をウエハＷに噴射
してウエハＷに付着する薬液を除去することができる。
なおこの場合、処理槽６０からオーバーフローした純水
はドレン管８６を介して排出される。ここでは、ジェッ
トノズル８０から純水を供給して薬液を除去している
が、この薬液除去工程において、純水はジェットノズル
８０から供給するのではなく、例えば処理槽６０の底部
側あるいは上方側等のような別の箇所に純水供給部を設
けて、そこから純水を供給するようにしてもよい。

【００４８】なお、上記処理槽６０及び外槽６１の上方
には図示しない純水タンクが配設されており、この純水
タンク内の純水が外槽６１を介して処理槽６０内に急速
供給されるようになっている。このように、処理槽６０
内に収容されるウエハＷを薬液処理すると共に、洗浄処
理することができるので、洗浄処理の効率の向上が図れ
ると共に、処理ユニットを小型にすることができる。

【００４９】上記ウエハボート７０は、図１５に示すよ
うに、処理槽６０の外側に配設される昇降機構７１に連
結される取付部材７２にボルト７３をもって固定される
逆Ｔ字状の支持部材７４と、この支持部材７４にて水平
に支持される一対の保持部材７５とで構成されており、
昇降機構７１の駆動によって処理槽６０内を昇降し得る
ように構成されている。なおこの場合、保持部材７５に
はそれぞれ長手方向に適宜間隔をおいて複数個例えば５
０個の保持溝７５ａが設けられている。これら支持部材
７４及び保持部材７５は、耐食性、耐熱性及び耐強度性
に優れた材質、例えばポリエーテルエーテルケトン（Ｐ
ＥＥＫ）製あるいは石英製部材にて形成されている。

【００５０】上記実施形態では、ウエハボート７０が逆
Ｔ字状の支持部材７４と、この支持部材７４に水平に支
持される一対の保持部材７５とで構成される場合につい
て説明したが、別のウエハボートとして図１７ないし図
２２に示すような構造のウエハボート７０Ａを使用する
ことができる。

【００５１】上記ウエハボート７０Ａは、上記昇降機構
７１の取付部材７２に取り付けられる支持基部材７６ａ
と、この支持基部材７６ａの下面に垂設される一対の支
持棒７６ｂと、各支持棒７６ｂの下端側部から水平に突
出される一対の側部保持部材７７と、支持棒７６ｂの下
端部間に連結される連結部材７６ｃから両側部保持部材
７７との間にかつ側部保持部材７７と平行に突出される
下部保持部材７８とで主に構成されている。

【００５２】この場合、側部保持部材７７は、図１９及
び図２０に示すように、剛性を有する心材例えばステン
レス鋼製パイプ７７ａと、このステンレスパイプ７７ａ
の表面に被覆され、異なる種類の洗浄液例えば薬液と純
水に対して耐液性を有する合成樹脂製部材例えばポリエ
ーテル・エーテル・ケトン（ＰＥＥＫ）からなる被覆部
材７７ｂとで形成されている。この被覆部材７７ｂは、
外側が上方に向かって起立するウエハ保持部７７ｃを有
し、下部には下方に向かって狭小となるテーパ面を有す
る液切り突起７７ｄを有する。そして、ウエハ保持部７
７ｃには、図２２（ａ）に示すように、断面略Ｖ字状の
保持溝７７ｅが適宜間隔をおいて設けられている。一
方、下部保持部材７８は例えばＰＥＥＫ等の合成樹脂製
部材にて形成されており、その上部には、図２２（ｂ）
に示すように、拡開テーパ面７８ａと狭小テーパ面７８
ｂとからなる断面略Ｙ字状の傾斜防止用溝７８ｃが適宜
間隔をおいて設けられている。

【００５３】なお、上記支持棒７６ｂも、側部保持部材
７７と同様に、心材例えばステンレスパイプ７６ｄと、
ＰＥＥＫ製被覆部材７６ｅとで形成されている。この場
合、支持棒７６ｂのステンレスパイプ７６ｄと側部保持
部材７７のステンレスパイプ７７ａは、図２０（ｂ）に
示すように、ステンレス鋼製ボルト７９によって連結固
定され、その表面を被覆する被覆部材７６ｅ，７７ｂ同
士がアップセット溶接（バット溶接ともいう）によって
溶融接合されている。なお、支持基部材７６ａも同様に
ステンレス鋼製心材７６ｆとこの心材７６ｆを被覆する
ＰＥＥＫ製被覆部材７６ｇとで形成されており、心材７
６ｆを貫通して支持棒７６ｂのステンレスパイプ７６ｄ
にねじ結合するステンレス鋼製ボルト７９にて心材７６
ｆとステンレスパイプ７６ｄが連結されている。そし
て、被覆部材７６ｅ，７６ｇ同士がアップセット溶接
（バット溶接）にて接合されている（図２０（ａ）参
照）。

【００５４】上記のように、ウエハボート７０Ａをステ
ンレス鋼製心材７７ａ，７６ｄ，７６ｆとＰＥＥＫ聖被
覆部材７７ｂ，７６ｅ，７６ｇとで形成することによ
り、強度をもたせることができると共に、容積を可及的
に少なくすることができる。

【００５５】なお、上記洗浄・乾燥処理ユニット５３で
は、フッ化水素酸によってウエハＷに生成される化学酸
化膜が除去された後、乾燥蒸気例えばイソピルアルコー
ル（ＩＰＡ）ガスの接触によって乾燥される。また、チ
ャック洗浄ユニット５４では、ウエハ搬送アーム５６の
チャック５９に純水を供給して洗浄すると共に、例えば
Ｎ2ガスや空気等の乾燥気体を供給して乾燥処理される
ようになっている。

【００５６】次に、上記洗浄処理ユニットのウエハＷの
搬送及び処理工程について図２３を参照して説明する。
なお、図２３において、白抜きの矢印はキャリア１の流
れを示し、黒塗りの矢印はウエハＷの流れを示す。

【００５７】まず、オペレータあるいは搬送ロボットに
よって未処理のウエハＷを収納したキャリア１を搬入部
５のキャリア搬入口５ａの手前の載置テーブル７上に載
置すると、載置テーブル７が移動してキャリア１が搬入
部５内に搬入される。搬入部５内に搬入されたキャリア
１は蓋開閉装置１３によって蓋体１ｃが開放された状態
でインターフェース部４に向かって待機する。すると、
インターフェース部４内に配設されたウエハ取出しアー
ム１４がキャリア１内に進入してキャリア１内のウエハ
Ｗを取り出し、取出したウエハＷをノッチアライナー２
０に受け渡す。なお、ウエハＷが取り出された空のキャ
リア１はキャリアリフタ８によって搬送部上方のキャリ
ア待機部９に搬送される。また、搬入部５に搬送される
キャリア１はキャリアリフタ８によってキャリア搬入口
５ａ部に搬送され、次の搬入に備える。

【００５８】ノッチアライナー２０に搬送された複数枚
のウエハＷは、ノッチアライナー２０によって各ウエハ
ＷのノッチＷａの位置が揃えられて位置決めが行われ
る。位置決めされたウエハＷは再びウエハ取出しアーム
１４に受け取られた後、姿勢変換装置４０に搬送され
る。

【００５９】姿勢変換装置４０に搬送された複数枚のウ
エハＷは、姿勢変換装置４０に設けられた間隔調整機構
３０によって所定の間隔に調整された後、水平調整機構
４１によって水平調整され、その後、姿勢変換機構４５
によって水平状態から垂直状態に姿勢変換される。

【００６０】ウエハＷが垂直状態に変換されると、姿勢
変換されたウエハＷの下側にウエハ搬送アーム５６が進
入してウエハＷを受け取り、受け取ったウエハＷをまず
第１の処理ユニット５１のウエハボート７０に受け渡し
て、ウエハボート７０，７０Ａの下降によって処理槽６
０内に収容する。処理槽６０内に収容されたウエハＷ
は、薬液例えばＡＰＭ溶液（アンモニア，過酸化水素水
及び純水の混合溶液）によってパーティクルや有機物汚
染が除去された後、洗浄液例えば純水によって洗浄され
る。このようにして一次洗浄されたウエハＷは再びウエ
ハ搬送アーム５６に受け取られて第２の処理ユニット５
２のウエハボート７０に受け渡されて薬液例えばＨＰＭ
溶液（塩酸，過酸化水素水及び純水の混合溶液）によっ
て金属汚染が除去された後、純水によって洗浄される。
このようにして洗浄処理されたウエハＷは再びウエハ搬
送アーム５６に受け取られて洗浄・乾燥処理ユニット５
３に搬送され、洗浄・乾燥処理ユニット５３内において
フッ化水素酸によって化学酸化膜が除去された後、乾燥
蒸気例えばイソピルアルコール（ＩＰＡ）ガスが接触さ
れて乾燥される。

【００６１】乾燥処理されたウエハＷは第２の室４ｂ内
のウエハ受渡しアーム１５によって受け取られた後、第
２の姿勢変換装置４０Ａに受け渡され、垂直状態から水
平状態に姿勢変換される。水平状態に姿勢変換されたウ
エハＷはウエハ収納アーム１６に受け取られて搬出部６
で待機する空のキャリア１内に収納される。この際、空
のキャリア１はキャリアリフタ８によってキャリア待機
部９から搬出部６に搬送され、蓋開閉装置１３によって
蓋体１ｃが開放された状態で搬出部６に待機し、キャリ
ア１内にウエハＷが収納された後、蓋体１ｃが閉塞され
て、搬出部６から搬出される。

【００６２】なお、処理部３において、洗浄処理後のウ
エハＷを洗浄・乾燥処理ユニット５３に搬送したウエハ
搬送アーム５６には薬液や洗浄液等が付着しているの
で、次の未処理のウエハＷを受け取る前に、チャック洗
浄ユニット５４に移動して、ウエハ搬送アーム５６のチ
ャック５９部を洗浄すると共に乾燥して、次のウエハＷ
の搬送に供される。

【００６３】なお、図示しないが、上記搬送部２と処理
部３とインターフェース部４上に、例えばＨＥＰＡフィ
ルタ，ＵＬＰＡフィルタ等のファンフィルタユニットを
設けることにより、より清浄度の高い装置が提供でき
る。

【００６４】◎第二実施形態 上記第一実施形態では、ウエハボート７０，７０Ａが、
各処理ユニット５１〜５４の処理槽６０に対して各々設
けられる場合について説明したが、必ずしもこのような
構造である必要はなく、複数例えば２つの処理槽６０に
対して１つのウエハボート７０Ｂを用いるようにしても
よい（図２４参照）。すなわち、図２４に示すように、
昇降機構７１を隣接する処理槽６０，６０に沿って配設
される例えば互いに平行なガイドレール７０ａと、ボー
ルねじ軸７０ｂとを具備する案内移動手段７０ｃにて水
平方向（Ｘ方向）に移動可能に形成して、２つの処理槽
に対してウエハＷを搬入・搬出するようにしてもよい。

【００６５】上記のように構成することにより、例えば
薬液処理した後のウエハＷをウエハ搬送アーム５６で受
け取らずに上記ウエハボート７０Ｂにて隣接する処理槽
６０内にウエハＷを収容して純水による洗浄処理を行う
ことができる。したがって、薬液処理が終了した直後の
ウエハＷをウエハ搬送アーム５６で受け取る場合ではウ
エハ搬送アーム５６に薬液が付着する問題があったが、
このように構成することにより、かかる問題を解決する
ことができる。なお、第二実施形態において、その他の
部分は上記第一実施形態と同じであるので、同一部分に
は同一符号を付して説明を省略する。

【００６６】◎第三実施形態 上記実施形態では、キャリア１が蓋体１ｃを有する密閉
式の場合について説明したが、必ずしもキャリアは蓋体
を有するクローズタイプである必要はなく、蓋体のない
オープンタイプのキャリアについても同様にウエハＷを
搬送し、処理することができる。なお、オープンタイプ
のキャリアを使用する場合には、図２５に示すように、
搬入部５のウエハ搬出口５ｂ、搬出部６のウエハ搬入口
６ａ及びインターフェース部４と処理部３の連通口１０
０にシャッタ１０１，１０２及び１０３を開閉可能に設
け、搬入部５からのウエハＷの受け渡し時は、搬出部６
のウエハ搬入口６ａのシャッタ１０２とインターフェー
ス部４と処理部３の連通口１００のシャッタ１０１を閉
じておき、処理部３へのウエハＷの受け渡し時には、搬
入部５のウエハ搬出口５ｂのシャッタ１０１及び搬出部
６のウエハ搬入口６ａのシャッタ１０２を閉じておく必
要がある。なお、搬出部６へのウエハＷの受け渡し以外
は搬出部６のウエハ搬入口６ａのシャッタ１０２は閉じ
ておく必要がある。なお、図２５において、その他の部
分は上記第一実施形態と同じであるので、同一部分には
同一符号を付して、その説明は省略する。

【００６７】◎第四実施形態 上記実施形態では、上記インターフェース部４と処理部
３との間でウエハＷの受渡しを行い、処理部３内でウエ
ハ搬送アーム５６が水平（Ｘ，Ｙ）方向、垂直（Ｚ）方
向及び回転（θ）移動してウエハＷを各処理ユニット５
１〜５３に受渡しする場合について説明したが、ウエハ
搬送アーム５６の動作を水平（Ｘ，Ｙ）方向のみにして
ウエハ搬送アームの機構の簡略化及び装置の小型化を図
れるようにすることもできる。

【００６８】すなわち、図２６に示すように、ウエハ搬
送アーム５６Ａを水平（Ｘ，Ｙ）方向に移動可能に形成
し、このウエハ搬送アーム５６Ａの搬送路５５Ａを処理
部３からインターフェース部４に渡って延在して設け、
インターフェース部４内に配設される第１の姿勢変換装
置４０及び第２の姿勢変換装置４０Ａを搬送路５５Ａに
対向して配設する。そして、第１及び第２の姿勢変換装
置４０，４０Ａと搬送路５５Ａとの間に、それぞれ基板
受渡し手段例えばスライダ１１０を配設して、第１及び
第２の姿勢変換装置４０（４０Ａ）とウエハ搬送アーム
５６Ａとの間でウエハＷの受渡しを行うように構成す
る。この場合、スライダ１１０は、図２７に示すよう
に、複数例えば５０枚のウエハＷを支持し得る複数の支
持溝１１１を有する一対の支持部材１１２と、これら支
持部材１１２を水平（Ｙ）方向に移動する水平移動部１
１３と、支持部材１１２及び水平移動部１１３を回転
（θ）する回転部１１４及び支持部材１１２、水平移動
部１１３及び回転部１１４を垂直（Ｚ）方向に移動する
垂直移動部１１５を具備する。

【００６９】また、ウエハ搬送アーム５６Ａは、図２８
に示すように、搬送路５５Ａに沿設されたガイドレール
５６ａに沿って水平移動（Ｘ方向移動）可能な可動体５
６ｂと、この可動体５６ｂの上部に水平移動（Ｙ方向移
動）可能に取り付けられる水平移動体５６ｃと、水平移
動体５６ｃの上部に載置される駆動部５６ｄからＹ方向
に突設されるウエハチャック５６ｅとで主に構成されて
いる。この場合、ウエハチャック５６ｅは、駆動部５６
ｄに内蔵される図示しないモータによって垂直方向に回
転可能な回転アーム５６ｆに突設される一対の側部保持
棒５６ｇと、これら側部保持棒５６ｇの間に位置する下
部保持棒５６ｈとで構成されている。

【００７０】上記のように構成することにより、搬入部
５から搬入され、第１の姿勢変換装置４０によって垂直
状態に姿勢変換されたウエハＷをスライダ１１０によっ
て受け取ることができ、受け取ったウエハＷをウエハ搬
送アーム５６Ａに受け渡すことができる。ウエハＷを受
け取ったウエハ搬送アーム５６Ａは、水平（Ｘ，Ｙ）方
向に移動して処理部３内の各処理ユニット５１〜５３と
の間でウエハＷを受渡して処理済みのウエハＷを第２の
姿勢変換装置４０Ａのスライダ１１０に受け渡す。そし
て、スライダ１１０によってウエハＷを第２の姿勢変換
装置４０Ａに受け渡し、第２の姿勢変換装置４０Ａによ
ってウエハＷを垂直状態から水平状態に姿勢変換した
後、ウエハ収納アーム１６によって搬出部６のキャリア
１内に収納することができる。

【００７１】なお、第四実施形態においては、上記ウエ
ハ受渡しアーム１５の代わりにスライダ１１０が設けら
れており、また、搬入部５のウエハ搬出口５ｂとウエハ
取出しアーム１５及び第１の姿勢変換装置４０とは直線
状に配設されており、また、第１及び第２の姿勢変換装
置４０（４０Ａ）と搬送路５５Ａとの間に配設される両
スライダ１１０は互いに平行に配設されて、全体的にウ
エハＷの移動を直線的に行えるようにしてある。したが
って、このように構成することにより、装置の小型化が
図れると共に、ウエハＷの搬送を円滑に行うことがで
き、スループットの向上を図ることができる。なお、第
四実施形態において、その他の部分は上記第一実施形態
と同じであるので、同一部分には同一符号を付して、説
明は省略する。

【００７２】◎第五実施形態 図２９はこの発明の基板搬送処理装置を適用した洗浄処
理システムの第五実施形態の概略平面図、図３０は第五
実施形態におけるキャリア待機部の概略平面図、図３１
は第五実施形態におけるキャリアのストック形態を示す
概略斜視図である。

【００７３】第五実施形態は、上記第四実施形態と同様
に水平（Ｘ，Ｙ）及び垂直（Ｚ）方向に移動可能なウエ
ハ搬送アーム５６Ａとスライダ１１０とを設けてウエハ
Ｗの搬送を直線的に行うように構成する他、キャリアの
ストック形態及びウエハの搬送形態を代えた場合であ
る。

【００７４】すなわち、図２９に示すように、上記搬送
路５５Ａと対向する位置に、それぞれスライダ１１０を
介して第１の姿勢変換装置４０と第２の姿勢変換装置４
０Ａを互いに平行に配設し、また、第１及び第２の姿勢
変換装置４０，４０Ａの背部側に、それぞれウエハ取出
しアーム１４とウエハ収納アーム１６を互いに平行に配
設し、更に、ウエハ取出しアーム１４及びウエハ収納ア
ーム１６と対向する位置に第２の容器搬送手段である搬
入用キャリアリフタ１３１及び搬出用キャリアリフタ１
３２を配設して、上記キャリア待機部９に待機されたキ
ャリア１との間でウエハＷの受渡しを行うようにした場
合である。

【００７５】この場合、搬入部５及び搬出部６とキャリ
ア待機部９との間でキャリア１を搬送するキャリアリフ
タ８Ａは、図３２に示すように、ボールねじ軸８ａ及び
ブレーキ付きパルスモータ８ｂ等からなるボールねじ機
構８ｃと、このボールねじ機構８ｃによって支柱８ｄに
沿って昇降可能な昇降台８ｅと、昇降台８ｄ上に水平回
転可能に載置される回転テーブル８ｆとで主に構成され
ている。このように構成されるキャリアリフタ８Ａは搬
入部５の載置テーブル７上に載置されたキャリア１を受
け取ってキャリア待機部９に搬送することができる。ま
た、キャリア待機部９から受け取ったキャリア１を搬出
部６の載置テーブル７上に搬送することができる。な
お、キャリアリフタ８Ａの回転テーブル８ｆ上にはキャ
リア１の有無を検出するキャリアセンサ８ｇが取り付け
られている。また、載置テーブル７の外側にはカバー８
ｈが取り付けられており、このカバー８ｈにキャリア検
出センサ８ｉが取り付けられている。

【００７６】上記キャリア待機部９内に配設されるキャ
リア搬送ロボット１０Ａは、図３０及び図３３に示すよ
うに、キャリア待機部９の両側のＸ方向に配設される一
対のスライドレール１２１と、これらスライドレール１
２１に架設されてＸ方向に移動自在な可動部材１２２
と、この可動部材１２２に沿ってＹ方向に移動自在に装
着される垂直駆動部１２３と、垂直駆動部１２３に取り
付けられたシリンダ（図示せず）によって垂直（Ｚ）方
向に移動自在な昇降台１２４と、昇降台１２４の下面に
接離移動可能かつ水平回転可能に取り付けられる一対の
保持爪１２５からなるキャリアホールド１２６とで主に
構成されている。なお、Ｘ方向及びＹ方向の移動はボー
ルねじ機構１２７，１２８にて行われている。また、こ
れらボールねじ機構１２７，１２８及びウエハホールド
１２６の回転は、図示しない電源に接続する屈曲可能な
ケーブルダクト１２９内に配線されるケーブル（図示せ
ず）からの電気によって駆動されるように構成されてい
る。

【００７７】一方、上記搬入用及び搬出用キャリアリフ
タ１３１，１３２は、図３４に示すように、図示しない
垂直シリンダによって支柱１３３に沿って昇降可能な昇
降台１３４と、昇降台１３４上に水平移動（Ｙ方向移
動）可能に載置されるスライドステージ１３５とで主に
構成されている。また、スライドステージ１３５の上面
にはキャリア位置決めピン１３６とキャリア支持ピン１
３７が突設されている。なお、搬入用及び搬出用キャリ
アリフタ１３１，１３２とキャリア待機部９との間には
キャリア１の蓋体１ｃを開閉する蓋開閉装置１３Ａとウ
エハカウンタ１４０が配設されている。

【００７８】上記蓋開閉装置１３Ａは、上記第一実施形
態で説明した蓋開閉装置１３と同様の構造であるので、
ここでは説明は省略する（図７及び図８参照）。また、
ウエハカウンタ１４０は、図３５に示すように、垂直駆
動部１４１に内蔵された図示しないボールねじ機構によ
って垂直移動可能な水平シリンダ１４２と、水平シリン
ダ１４２によって水平移動可能な垂下ロッド１４３の下
端部に水平に取り付けられる二又状のアーム１４４と、
二又アーム１４４の先端部に取り付けられる発光部と受
光部とからなるファイバーセンサ１４５とで構成されて
いる。このように構成されるウエハカウンタ１４０は、
二又アーム１４４がキャリア１の開口部に近接すると共
に、キャリア１の開口部に沿って垂直方向にスキャンす
ることによってキャリア１内に収納されているウエハＷ
の枚数を計測することができるように構成されている。

【００７９】上記のように構成される搬入用キャリアリ
フタ１３１は、ウエハＷの投入時には、キャリア待機部
９内にストックされたウエハＷを収納するキャリア１を
受け取って下方のウエハ取出しアーム１４と対向する位
置に降ろし、ウエハ取出しアーム１４によってキャリア
１内のウエハＷを取り出した空のキャリア１をキャリア
待機部９に上昇させて、キャリア待機部９内に搬送する
ことができる。また、搬出用キャリアリフタ１３２は、
ウエハＷの搬出時に、キャリア待機部９内の空のキャリ
ア１を受け取ってウエハ収納アーム１６の対向する位置
に降ろし、ウエハ収納アーム１６によってキャリア１内
にウエハＷを収納した後、キャリア１をキャリア待機部
９に上昇させて、キャリア待機部９内に搬送することが
できる。

【００８０】なお、第五実施形態において、その他の部
分は上記第一実施形態及び第四実施形態と同じであるの
で、同一部分には同一符号を付して、その説明は省略す
る。

【００８１】次に、上記のように構成される第五実施形
態の洗浄処理システムの動作態様について説明する。ま
ず、搬入部５に搬入されたキャリア１はキャリアリフタ
８Ａによってキャリア待機部９内に搬送されてストック
される。キャリア待機部９内にストックされたキャリア
１は、キャリア搬送ロボット１０Ａによって搬入用及び
搬出用キャリアリフタ１３１，１３２に搬送され、ウエ
ハ投入時には、上述したように、搬入用キャリアリフタ
１３１によりキャリア待機部９からウエハ取出しアーム
１４と対向する位置に下降される。下降されたキャリア
１内からウエハ取出しアーム１４にて取り出されたウエ
ハＷは、ノッチアライナー２０によって位置決めされた
後、第１の姿勢変換装置４０によって水平状態から垂直
状態に姿勢変換される。垂直状態に姿勢変換されたウエ
ハＷは、スライダ１１０に受け取られてウエハ搬送アー
ム５６Ａに受け渡される。そして、ウエハ搬送アーム５
６Ａによって各処理ユニット５１〜５３に搬送され、処
理後再びウエハ搬送アーム５６Ａによって処理部３から
インターフェース部４まで搬送されたウエハＷは、スラ
イダ１１０によって受け取られて第２の姿勢変換装置４
０Ａに受け渡される。第２の姿勢変換装置４０Ａによっ
て垂直状態から水平状態に姿勢変換されたウエハＷは、
ウエハ収納アーム１６によって搬出用キャリアリフタ１
３２によってキャリア待機部９から降ろされた空のキャ
リア１内に収納される。キャリア１内にウエハＷが収納
されると、搬出用キャリアリフタ１３２が上昇して、キ
ャリア１をキャリア待機部９内に搬送する。キャリア待
機部９に搬送されたキャリア１はキャリア搬送ロボット
１０Ａによって搬出部６のキャリアリフタ８の位置まで
搬送され、キャリアリフタ８によって受け取られた後、
搬出部６まで搬送される。

【００８２】◎第六実施形態 図３６はこの発明の基板搬送処理装置を適用した洗浄処
理システムの第六実施形態を示す概略側面図、図３７は
図３６のＡ−Ａ線に沿う概略断面図、図３８は図３６の
Ｂ−Ｂ線に沿う概略断面図である。

【００８３】第六実施形態は、処理部３内におけるウエ
ハＷの搬送時間の短縮を図れるようにした場合である。
この場合、図３６及び図３７に示すように、処理部３を
挟んでインターフェース部４と反対側に第２のインター
フェース部４Ａが設けられ、また、これらインターフェ
ース部４，４Ａを処理部３の上部に設けたウエハ移送路
１５０によって連通する。ウエハ移送路１５０内には、
インターフェース部４内に配設されるウエハリフタ１５
１から受け取ったウエハＷをインターフェース部４Ａに
移送するウエハ移送用ライナ１５２（基板移送手段）が
配設されている。

【００８４】また、インターフェース部４Ａ内には上記
ウエハ移送用ライナ１５２から受け取ったウエハＷを下
降するウエハリフタ１５３と、このウエハリフタ１５３
からウエハＷを受け取ると共に、処理部３内にウエハＷ
を搬送する第１のウエハ搬送アーム５６Ｂ（第１の基板
搬送手段）が配設されている。一方、上記インターフェ
ース部４及び搬送路５５には、処理部３で処理されたウ
エハＷを受け取ると共に、受け取ったウエハＷを姿勢変
換装置４０Ａに受け渡す第２のウエハ搬送アーム５６Ｃ
が配設されている。なお、処理部３の天井部と、ウエハ
移送路１５０の天井部には、例えばＨＥＰＡフィルタ，
ＵＬＰＡフィルタ等のファンフィルタユニット１６０が
配設されている。なお、図３７では、第１の姿勢変換装
置４０及びノッチアライナー２０の図示を省略したが、
上記第一実施形態と同様に設けられている。また、第１
の姿勢変換装置と第２の姿勢変換装置は、処理前と処理
後のウエハＷの接触部を変えることによって１つにする
ことも可能である。なお、第六実施形態において、その
他の部分は上記第一実施形態と同じであるので、同一部
分には同一符号を付して、その説明は省略する。

【００８５】次に、上記のように構成される第六実施形
態の洗浄処理システムの動作態様について説明する。ま
ず、搬入部５に搬入されたキャリア１から取り出された
ウエハＷは、上述と同様に、位置決めされた後、水平状
態から垂直状態に姿勢変換される。姿勢変換されたウエ
ハＷは、ウエハリフタ１５１によってウエハ移送路１５
０に搬送され、ウエハ移送用ライナ１５２によって受け
取られてインターフェース部４Ａに移送される。インタ
ーフェース部４Ａに移送されたキャリア１は、ウエハリ
フタ１５３によってインターフェース部４Ａ内に下降さ
れ、第１のウエハ搬送アーム５６Ｂによって受け取られ
た後、各処理ユニット５１〜５３に搬送される。処理部
３によって処理されたウエハＷは第２のウエハ搬送アー
ム５６Ｃによって受け取られた後、姿勢変換装置４０Ａ
によって垂直状態から水平状態に姿勢変換される。そし
て、図示しないウエハ収納アームによって搬出部６のキ
ャリア１内に収納される。

【００８６】上記のように、第１のウエハ搬送アーム５
６Ｂによって未処理のウエハＷを処理部３内の各処理ユ
ニット５１〜５３に搬送し、処理済みのウエハＷを第２
のウエハ搬送アーム５６Ｃによって搬送することによ
り、１つのウエハ搬送アームによってウエハＷの搬送を
行う場合と比較して、処理ユニットの数が多くなった場
合にもウエハＷの搬送を連続的に行うことができるの
で、スループットの向上を図ることができる。

【００８７】◎第七実施形態 図３９はこの発明の基板搬送処理装置を適用した洗浄処
理システムの第七実施形態を示す概略側面図、図４０は
図３９のＣ−Ｃ線に沿う概略断面図、図４１は図３９の
Ｄ−Ｄ線に沿う概略断面図である。

【００８８】第七実施形態は、上記第六実施形態と同様
に、処理部３内におけるウエハＷの搬送時間の短縮を図
れるようにした場合である。この場合、図３９及び図４
０に示すように、処理部３を挟んでインターフェース部
４Ｂと４Ｃが設けられている。また、インターフェース
部４Ｂと４Ｃは処理部３の上方に設けられたキャリア移
送路１７０にて連通されている。キャリア移送路１７０
内には、搬入部５に配設されるキャリアリフタ１７１か
ら受け取ったキャリア１をインターフェース部４Ｃに移
送するキャリア移送用ライナ１７２（容器移送手段）が
配設されている。

【００８９】また、インターフェース部４Ｃ内には上記
キャリア移送用ライナ１７２から受け取ったキャリア１
を下降するキャリアリフタ１７３と、このキャリアリフ
タ１７３によって下降されたキャリア１からウエハを取
り出すウエハ取出しアーム１４と、ウエハＷの位置決め
を行うノッチアライナー２０と、ウエハＷの姿勢を水平
状態から垂直状態に変換する第１の姿勢変換装置４０
と、この第１の姿勢変換装置４０からウエハＷを受け取
ると共に、受け取ったウエハＷを処理部３の各処理ユニ
ット５１〜５３に搬送する第１のウエハ搬送アーム５６
Ｂが配設されている。また、インターフェース部４Ｂ
は、搬入部５及び搬出部６に隣接して設けられ、このイ
ンターフェース部４Ｂ内には、搬出部６のキャリア１内
にウエハＷを収納するウエハ収納アーム１６と、ウエハ
Ｗの姿勢を垂直状態から水平状態に姿勢変換する第２の
姿勢変換装置４０Ａと、処理部３で処理されたウエハＷ
を受け取ると共に、受け取ったウエハＷを第２の姿勢変
換装置４０Ａに受け渡す第２のウエハ搬送アーム５６Ｃ
が配設されている。

【００９０】なお、キャリア移送路１７０の一側部にキ
ャリア待機部９Ａが設けられており、このキャリア待機
部９ＡにウエハＷを収納するキャリア１あるいは空のキ
ャリア１をストックさせることができるようになってい
る。なお、キャリア待機部９Ａをキャリア移送路１７０
と隣接する位置に設けずに上記第一実施例と同様にイン
ターフェース部４Ｂ上に設けるようにしてもよい。ま
た、処理部３の天井部とキャリア移送路１７０の天井部
には例えばＨＥＰＡフィルタ，ＵＬＰＡフィルタ等のフ
ァンフィルタユニット１６０が配設されている。なお、
第七実施形態において、その他の部分は上記第一実施形
態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して、
その説明は省略する。

【００９１】次に、第七実施形態の動作態様について説
明する。まず、搬入部１に搬入されたキャリア１をキャ
リアリフタ１７１によってキャリア移送路１７０に搬送
し、キャリア移送用ライナ１７２によってキャリア１を
インターフェース部４Ｃに移送する。インターフェース
部４Ｃ上に移送されたキャリア１はキャリアリフタ１７
３によってインターフェース部４Ｃ内に搬送され、キャ
リア１内からウエハ取出しアーム１４によって取り出さ
れたウエハＷはノッチアライナー２０によって位置決め
された後、第１の姿勢変換装置４０に受け渡される。第
１の姿勢変換装置４０によって水平状態から垂直状態に
変換されたウエハＷは第１のウエハ搬送アーム５６Ｂに
よって受け取られ、処理部３内の各処理ユニット５１〜
５３に搬送される。処理部３によって処理されたウエハ
Ｗは第２のウエハ搬送アーム５６Ｃによって受け取られ
た後、第２の姿勢変換装置４０Ａによって垂直状態から
水平状態に姿勢変換される。そして、ウエハ収納アーム
１６によって搬出部６のキャリア１内に収納される。一
方、ウエハＷが取り出された空のキャリア１は、上述と
逆に搬送され、必要に応じてキャリア待機部９Ａにスト
ックされる。

【００９２】上記のように、搬入部５に搬入されるキャ
リア１をインターフェース部４Ｃに移送して、ウエハＷ
の姿勢を垂直状態に変換した後、第１のウエハ搬送アー
ム５６Ｂによって未処理のウエハＷを処理部３内の各処
理ユニット５１〜５３に搬送し、処理済みのウエハＷを
第２のウエハ搬送アーム５６Ｃによって搬送することに
より、処理ユニットの数が多い場合にもウエハＷの搬送
を連続的に行うことができるので、スループットの向上
を図ることができる。

【００９３】◎その他の実施形態 （１）上記第一実施形態では、ウエハ取出しアーム１４
とウエハ収納アーム１６とを別個に設けた場合について
説明したが、例えばウエハＷを保持するウエハ保持部を
２段に設けることにより、ウエハ取出し部とウエハ収納
部とを有するウエハ取出し・収納アームにてキャリア１
からのウエハＷの取出しと、キャリア１内へのウエハＷ
の収納とを行うことができる。したがって、１台のアー
ムによってウエハＷの取出しと収納を行うことができる
ので、更に装置の小型化を図ることができる。

【００９４】（２）上記第一実施形態では、処理部３の
各処理ユニットにウエハＷを受け渡すウエハ搬送アーム
５６と処理後のウエハＷを受け取るウエハ受渡しアーム
１５とを設けた場合について説明したが、必ずしも２種
類のアームを設ける必要はなく、これらウエハ搬送アー
ム５６とウエハ受渡しアーム１５を１つの搬送アームで
兼用させることも可能である。

【００９５】（３）また、上記実施形態では、この発明
の基板搬送処理装置を半導体ウエハの洗浄処理システム
に適用した場合について説明したが、洗浄処理以外の処
理システムにも適用できることは勿論であり、また、半
導体ウエハ以外のＬＣＤ用ガラス基板等にも適用できる
ことは勿論である。

【００９６】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の基板
搬送処理装置によれば、上記のように構成されているの
で、以下のような優れた効果が得られる。

【００９７】１）請求項１又は７記載の発明によれば、
容器内に水平状態で収納された基板を垂直状態に変換し
て処理を施すことができ、また処理後の基板を水平状態
に変換して容器内に収納することができるので、大型で
重量の嵩む基板を垂直状態で受け渡して搬送するものに
比べて、装置を大型にすることなく基板の位置ずれ等を
防止して搬送し、処理することができる。したがって、
製品歩留まり及びスループットの向上を図ることができ
る。

【００９８】２）請求項２ないし６記載の発明によれ
ば、処理工程や処理ラインが多い場合にも基板の搬送を
連続して行うことができるので、上記１）に加えて更に
スループットの向上が図れる。また、第１及び第２の基
板搬送手段によって処理部内で基板の搬送を分担して行
うことで、更にスループットの向上が図れる。

【００９９】３）請求項８ないし１０記載の発明によれ
ば、搬入部及び又は搬出部における容器の搬送を円滑に
することができる。また、請求項８又は１０記載の発明
によれば、更に空の容器の搬入部からの搬出及び空の容
器への処理済みの基板の収納を円滑に行うことができ
る。したがって、上記１）に加えて更にスループットの
向上を図ることができる。

【０１００】４）請求項１２記載の発明によれば、容器
内から取り出された基板の位置決め手段を具備するの
で、上記１），２）に加えて更に基板を適正な状態で処
理することができる。

【０１０１】５）請求項１３記載の発明によれば、姿勢
変換手段に、複数の基板間の間隔を調整する間隔調整機
構を具備するので、複数の基板を均一な状態で処理する
ことができると共に、基板間の間隔を必要最小限の幅に
維持して可及的に多くの基板の処理を可能にすることが
できる。

【０１０２】６）請求項１４記載の発明によれば、処理
部に、基板を収容する処理槽と、この処理槽内に基板を
搬入及び搬出する移動機構とを具備するので、処理槽内
に搬送手段が入り込む構造に比べて処理部を小型にする
ことができ、装置全体を更に小型にすることができる。
また、移動機構を複数の処理槽に対して基板を搬入・搬
出可能に形成することにより、薬液等の処理液が基板搬
送手段に付着するのを防止することができる（請求項１
５）。

【０１０３】７）請求項１６記載の発明によれば、処理
部に、基板を収容する処理槽と、この処理槽内に薬液を
供給する薬液供給手段と、処理槽内に洗浄液を供給する
洗浄液供給手段を具備するので、基板の薬液処理と洗浄
処理とを連続的に行うことができ、搬送時のパーティク
ルの付着防止と装置の小型化を図ることができる。

【０１０４】８）請求項１７記載の発明によれば、処理
部に、基板搬送手段の少なくとも基板保持部を洗浄する
洗浄手段を具備するので、基板搬送手段の基板保持部を
清浄にすることができ、処理前、後の基板の処理部雰囲
気による汚染等を防止することができる。

【０１０５】９）請求項１８記載の発明によれば、処理
部に、基板の洗浄・乾燥手段を具備するので、基板への
パーティクル等の付着やウォーターマークの発生を防止
することができる。

【０１０６】１０）請求項１９記載の発明によれば、搬
入部に、容器搬入口及び基板搬出口を設け、搬出部に、
容器搬出口及び基板搬入口を設けるので、容器及び基板
の搬入及び搬出を円滑にすることができると共に、スル
ープットの向上を図ることができる。

【０１０７】１１）請求項２０記載の発明によれば、基
板取出し手段及び基板収納手段は、複数枚の基板を搬送
可能に形成してなるので、複数枚の基板を同時に容器か
ら取り出すことができると共に、容器内に収納すること
ができ、スループットの向上を図ることができる。

【０１０８】１２）請求項２１記載の発明によれば、搬
入部と搬出部を併設すると共に、これら搬入部及び搬出
部と対向して処理部を配設するので、容器及び基板の搬
入、搬出作業を装置の片側より行うことができ、クリー
ンルームの有効活用ができると共に、更に装置全体の小
型を図ることができる。

【０１０９】１３）請求項２２記載の発明によれば、未
処理の基板と処理済みの基板とを別々の搬送系を用いて
搬送することができ、処理済みの基板へのパーティクル
等の再付着等を防止することができるので、上記１）に
加えて更に製品歩留まりの向上を図ることができる。

【０１１０】１４）請求項２３記載の発明によれば、基
板搬送手段に回転機構をもたせることなく水平、垂直の
直線機構のみをもたせることができるので、装置の小型
化かつ簡略化が図れると共に、スループットの向上が図
れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の基板搬送処理装置を適用した洗浄処
理システムの第一実施形態を示す概略平面図である。

【図２】上記洗浄処理システムの概略側面図である。

【図３】上記洗浄処理システムの概略斜視図である。

【図４】この発明における容器搬送手段及び容器待機部
を示す斜視図である。

【図５】この発明における容器の一例を示す斜視図であ
る。

【図６】上記容器の横断面図である。

【図７】この発明における基板排出口部を示す斜視図で
ある。

【図８】基板排出口部における容器の蓋体の取外し状態
を示す斜視図である。

【図９】この発明における位置決め手段を示す概略断面
図である。

【図１０】上記位置決め手段の要部を示す斜視図であ
る。

【図１１】この発明における間隔調整手段及び姿勢変換
手段を示す側面図である。

【図１２】上記間隔調整手段を示す側面図である。

【図１３】上記間隔調整手段の要部を示す斜視図であ
る。

【図１４】この発明における基板搬送手段の要部を示す
斜視図である。

【図１５】この発明における基板の移動手段を示す要部
斜視図である。

【図１６】この発明における処理ユニットの一例を示す
断面図である。

【図１７】この発明におけるウエハボートの別の実施形
態を示す平面図である。

【図１８】上記ウエハボートの側面図である。

【図１９】上記ウエハボートの断面図である。

【図２０】上記ウエハボートの支持基部材と支持棒との
連結部を示す断面図（ａ）及び支持棒と保持部材との連
結部を示す断面図（ｂ）である。

【図２１】上記支持棒と保持部材の連結部の垂直断面図
である。

【図２２】上記ウエハボートの側部保持部材の保持溝を
示す拡大断面図（ａ）及び下部保持部材の傾斜防止用溝
を示す拡大断面図（ｂ）である。

【図２３】この発明における基板の搬送形態を示す概略
斜視図である。

【図２４】この発明の第二実施形態を示す概略斜視図で
ある。

【図２５】この発明の第三実施形態を示す概略平面図で
ある。

【図２６】この発明の第四実施形態を示す概略平面図で
ある。

【図２７】第四実施形態における基板受渡し手段を示す
斜視図である。

【図２８】第四実施形態における基板搬送手段を示す斜
視図である。

【図２９】この発明の第五実施形態を示す概略平面図で
ある。

【図３０】第五実施形態における容器待機部を示す概略
平面図である。

【図３１】第五実施形態の容器のストック形態を示す概
略斜視図である。

【図３２】第五実施形態における容器搬送手段を示す概
略斜視図である。

【図３３】第五実施形態における容器搬送ロボットを示
す概略斜視図である。

【図３４】第五実施形態における搬入用及び搬出用容器
搬送手段を示す概略斜視図である。

【図３５】第五実施形態におけるウエハカウンタを示す
概略斜視図である。

【図３６】この発明の第六実施形態を示す概略側面図で
ある。

【図３７】図３６のＡ−Ａ線に沿う概略断面図である。

【図３８】図３６のＢ−Ｂ線に沿う概略断面図である。

【図３９】この発明の第七実施形態を示す概略側面図で
ある。

【図４０】図３９のＣ−Ｃ線に沿う概略断面図である。

【図４１】図３９のＤ−Ｄ線に沿う概略断面図である。

【符号の説明】

Ｗ 半導体ウエハ（基板） Ｗａ ノッチ １ キャリア（容器） ３ 処理部 ４，４Ａ，４Ｂ，４Ｃ インターフェース部 ５ 搬入部 ５ａ キャリア搬入口 ５ｂ ウエハ搬出口 ６ 搬出部 ６ａ ウエハ搬入口 ６ｂ キャリア搬出口 ８ キャリアリフタ（容器搬送手段） ８Ａ 第１の容器搬送手段 ９，９Ａ キャリア待機部 １０，１０Ａ キャリア搬送ロボット（容器移動手段） １４ ウエハ取出しアーム（基板取出し手段） １５ ウエハ受渡しアーム（基板搬送手段） １６ ウエハ収納アーム（基板収納手段） ２０ ノッチアライナー（位置決め手段） ３０ 間隔調整機構（間隔調整手段） ４０，４０Ａ 姿勢変換装置（姿勢変換手段） ５１ 第１の処理ユニット ５２ 第２の処理ユニット ５３ 洗浄・乾燥処理ユニット（洗浄・乾燥手段） ５４ チャック洗浄ユニット（洗浄手段） ５５，５５Ａ 搬送路 ５６，５６Ａ ウエハ搬送アーム（基板搬送手段） ５６Ｂ 第１のウエハ搬送アーム（第１の基板搬送手
段） ５６Ｃ 第２のウエハ搬送アーム（第２の基板搬送手
段） ６０ 処理槽 ７０，７０Ａ，７０Ｂ ウエハボート（移動手段） ８０ ジェットノズル（薬液・洗浄液供給手段） １３１，１３２ キャリアリフタ（第２の容器搬送手
段） １５０ ウエハ移送路 １５１，１５３ ウエハリフタ １５２ ウエハ移送用ライナ（基板移送手段） １７０ キャリア移送路 １７１，１７３ キャリアリフタ １７２ キャリア移送用ライナ（容器移送手段）

フロントページの続き (72)発明者 黒田 修 佐賀県鳥栖市西新町1375番地41 東京エレ クトロン九州株式会社佐賀事業所内 (72)発明者 北原 重徳 佐賀県鳥栖市西新町1375番地41 東京エレ クトロン九州株式会社佐賀事業所内

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理用の基板を水平状態に収納する容
   器の搬入部と、 上記容器の搬出部と、 上記容器内の基板を取り出す基板取出し手段と、 上記容器内に基板を収納する基板収納手段と、 上記基板を水平状態と垂直状態に変換する姿勢変換手段
   と、 上記基板を適宜処理する処理部と、 上記姿勢変換手段と処理部との間で上記基板を受け渡し
   すると共に、処理部内で基板を搬送する基板搬送手段
   と、を具備することを特徴とする基板搬送処理装置。
2. 【請求項２】 被処理用の基板を水平状態に収納する容
   器の搬入部と、 上記容器の搬出部と、 上記容器内の基板を取り出す基板取出し手段と、 上記容器内に基板を収納する基板収納手段と、 上記基板を水平状態と垂直状態に変換する姿勢変換手段
   と、 上記基板を適宜処理する処理部と、 上記姿勢変換手段で姿勢変換された上記基板を、上記処
   理部を挟んで上記搬入部及び搬出部と反対側に配設され
   たインターフェース部に移送する基板移送手段と、 上記インターフェース部と処理部との間で上記基板を受
   け渡しすると共に、処理部内で基板を搬送する基板搬送
   手段と、を具備することを特徴とする基板搬送処理装
   置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の基板搬送処理装置におい
   て、 上記処理部と姿勢変換手段との間で上記基板を受け渡し
   すると共に、処理部内で基板を搬送する第２の基板搬送
   手段を設けたことを特徴とする基板搬送処理装置。
4. 【請求項４】 被処理用の基板を水平状態に収納する容
   器の搬入部と、 上記容器の搬出部と、 上記基板を適宜処理する処理部と、 上記処理部を挟んで上記搬入部及び搬出部と反対側に配
   設されるインターフェース部と、 上記搬入部に搬入される上記容器を、上記インターフェ
   ース部に移送する容器移送手段と、 上記インターフェース部内において、上記容器内の基板
   を取り出す基板取出し手段と、上記基板取出し手段によ
   り上記容器から取り出された基板を水平状態から垂直状
   態に姿勢変換する第１の姿勢変換手段と、 上記第１の姿勢変換手段と処理部との間で上記基板を受
   け渡しすると共に、処理部内で基板を搬送する基板搬送
   手段と、 上記搬入部及び搬出部側に配設され、上記基板を垂直状
   態から水平状態に姿勢変換する第２の姿勢変換手段と、 上記容器内に基板を収納する基板収納手段と、を具備す
   ることを特徴とする基板搬送処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４記載の基板搬送処理装置におい
   て、 上記処理部と第２の姿勢変換手段との間で上記基板を受
   け渡しすると共に、処理部内で基板を搬送する第２の基
   板搬送手段を設けたことを特徴とする基板搬送処理装
   置。
6. 【請求項６】 請求項４記載の基板搬送処理装置におい
   て、 上記容器移送手段の移送路に沿設する位置に容器待機部
   を設けたことを特徴とする基板搬送処理装置。
7. 【請求項７】 請求項１又は２記載の基板搬送処理装置
   において、 上記基板取出し手段と基板収納手段とを基板取出部と基
   板収納部とを有する基板取出し・収納手段にて形成して
   なることを特徴とする基板搬送処理装置。
8. 【請求項８】 請求項１又は２記載の基板搬送処理装置
   において、 空の容器を収容する容器待機部と、 上記搬入部及び搬出部内、及び上記搬入部及び搬出部と
   容器待機部との間で容器を搬送する容器搬送手段と、 を具備することを特徴とする基板搬送処理装置。
9. 【請求項９】 請求項１，２又は４記載の基板搬送処理
   装置において、 上記搬入部及び又は搬出部と、上記基板取出し手段によ
   り基板が容器から取り出される基板取出し位置及び上記
   基板収納手段により基板が容器へ収納される基板収納位
   置との間で、上記容器を搬送する容器搬送手段を設けた
   ことを特徴とする基板搬送処理装置。
10. 【請求項１０】 請求項１又は２記載の基板搬送処理装
    置において、 上記容器を収容する容器待機部と、 上記搬入部及び搬出部と上記容器待機部との間で容器を
    搬送する第１の容器搬送手段と、 上記容器待機部と上記基板取出し手段及び基板収納手段
    との間で容器を搬送する第２の容器搬送手段と、を具備
    することを特徴とする基板搬送処理装置。
11. 【請求項１１】 請求項８又は１０記載の基板搬送処理
    装置において、 上記容器待機部内に、容器を移動する容器移動手段を配
    設してなることを特徴とする基板搬送処理装置。
12. 【請求項１２】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記容器内から取り出された基板の位置決め手段を具備
    してなることを特徴とする基板搬送処理装置。
13. 【請求項１３】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記姿勢変換手段に、複数の基板間の間隔を調整する間
    隔調整機構を具備してなることを特徴とする基板搬送処
    理装置。
14. 【請求項１４】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記処理部に、基板を収容する処理槽と、この処理槽内
    に基板を搬入及び搬出する移動機構とを具備してなるこ
    とを特徴とする基板搬送処理装置。
15. 【請求項１５】 請求項１４記載の基板搬送処理装置に
    おいて、 上記移動機構を、複数の処理槽に対して基板を搬入及び
    搬出可能に形成してなることを特徴とする基板搬送処理
    装置。
16. 【請求項１６】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記処理部に、基板を収容する処理槽と、この処理槽内
    に薬液を供給する薬液供給手段と、上記処理槽内に洗浄
    液を供給する洗浄液供給手段を具備してなる、ことを特
    徴とする基板搬送処理装置。
17. 【請求項１７】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記処理部に、上記基板搬送手段の少なくとも基板保持
    部を洗浄する洗浄手段を具備してなることを特徴とする
    基板搬送処理装置。
18. 【請求項１８】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記処理部に、基板の洗浄・乾燥手段を具備してなるこ
    とを特徴とする基板搬送処理装置。
19. 【請求項１９】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記搬入部に、容器搬入口及び基板搬出口を設け、 上記搬出部に、容器搬出口及び基板搬入口を設けてな
    る、ことを特徴とする基板搬送処理装置。
20. 【請求項２０】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記基板取出し手段及び基板収納手段は、複数枚の基板
    を搬送可能に形成してなることを特徴とする基板搬送処
    理装置。
21. 【請求項２１】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記搬入部と搬出部を併設すると共に、これら搬入部及
    び搬出部と対向して処理部を配設してなることを特徴と
    する基板搬送処理装置。
22. 【請求項２２】 請求項１，２又は４のいずれかに記載
    の基板搬送処理装置において、 上記姿勢変換手段から処理部との間で基板を受け渡しす
    る第１の基板搬送手段と、上記処理部内から上記姿勢変
    換手段へ上記基板を受け渡しする第２の基板搬送手段と
    を設けたことを特徴とする基板搬送処理装置。
23. 【請求項２３】 請求項１，２又は４記載の基板搬送処
    理装置において、 上記基板搬送手段を上記姿勢変換手段と対向する位置に
    移動可能に形成し、 上記基板搬送手段と姿勢変換手段との間に、両者間で基
    板を受け渡す基板受渡し手段を配設してなる、ことを特
    徴とする基板搬送処理装置。