JP2010199355A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板に所定の処理を施す液処理ユニットと熱処理ユニット41に対して、搬送手段によって前記基板を搬送する塗布現像処理システム1において、前記液処理ユニットに対しては、搬送手段により前記基板が水平状態で搬入、搬出され、熱処理ユニット41に対しては、搬送手段により基板が搬入出口40から垂直状態で搬入、搬出される。熱処理ユニット41の幅dを高さhよりも小さくして縦型ユニットとして縦置きすることができる。
【選択図】図3
Description
W ウエハ
S1 キャリアブロック
S2 処理ブロック
S3 インターフェイスブロック
S4 露光装置
H1〜H4 液処理ユニット
G1〜G5 熱処理ブロック
G6 検査測定ブロック
G7、G8 受け渡しブロック
41 熱処理ユニット
42 検査測定ユニット
A1〜A3 メインアーム
51、52 アーム体
HP 加熱ユニット
COL 冷却ユニット
CHP 加熱冷却ユニット
62 支持ピン
70 トレイ
82 上部支持ガイド
83 下部支持ガイド
Claims (10)
- 基板に所定の処理を施す複数の処理ユニットを備え、搬送手段によって前記基板を各々の処理ユニットに搬送する基板処理装置において、
前記複数の処理ユニットは、基板に処理液を供給して液処理を行う液処理ユニットと基板に加熱又は冷却処理を行う熱処理ユニットとを含み、
前記液処理ユニットに対しては、前記搬送手段により前記基板が水平状態で搬入、搬出され、
前記熱処理ユニットに対しては、前記搬送手段により前記基板が垂直状態で搬入、搬出されることを特徴とする、基板処理装置。 - 前記熱処理ユニットは、当該熱処理ユニット内に搬入された基板を垂直状態で加熱処理又は冷却処理することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記熱処理ユニットは、前記垂直状態で搬送された基板を受け取り、かつ当該基板に対して加熱処理又は冷却処理を行うユニット本体内の所定の位置に基板を移動する、基板支持手段を備えたことを特徴とする、請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記基板支持手段は、基板側に進退して基板の裏面側に接触可能な複数の支持ピンを有し、
これら複数の支持ピンにおける基板との接触部分には、吸着手段が備えられたことを特徴とする、請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記基板支持手段は、前記基板の裏面側を収容するトレイを有し、
前記トレイはユニット本体に対して出入り可能であり、
前記ユニット本体から出た状態の前記トレイに対して前記搬送手段から前記基板が受け渡されることを特徴とする、請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記トレイは、受け取った基板を掛止可能な掛止手段を備えたことを特徴とする、請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記基板支持手段は、前記基板の外周部を把持する把持手段を備えたことを特徴とする、請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記液処理ユニットは、基板に塗布液を塗布して基板に塗布膜を形成する塗布処理ユニットまたは前記塗布膜が形成された基板に現像液を供給して現像処理を行う現像処理ユニットであり、
前記複数の処理ユニットには、前記塗布処理ユニットまたは前記現像処理ユニットで処理される前または後の基板に対して、所定の検査または測定を行う他のユニットを含み、
前記他のユニットに対しては、前記搬送手段により前記基板が垂直状態で搬入、搬出されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の基板処理装置。 - 基板に所定の処理を施す複数の処理ユニットを備えた基板処理装置内で、搬送手段によって各々の処理ユニットに搬送された前記基板に所定の処理を施す基板処理方法において、
前記複数の処理ユニットには、基板に処理液を供給して液処理を行う液処理ユニットと基板に加熱又は冷却処理を行う熱処理ユニットとを含み、
前記液処理ユニットに対しては、前記搬送手段により前記基板が水平状態で搬入、搬出され、前記液処理ユニットでは水平状態の前記基板に対して液処理が行われ、
前記熱処理ユニットに対しては、前記搬送手段により前記基板が垂直状態で搬入、搬出され、前記熱処理ユニットでは垂直状態の前記基板に対して加熱又は冷却処理が行われることを特徴とする、基板処理方法。 - 前記液処理ユニットは、基板に塗布液を塗布して基板に塗布膜を形成する塗布処理ユニットまたは前記塗布膜が形成された基板に現像液を供給して現像処理を行う現像処理ユニットであり、
前記複数の処理ユニットには、前記塗布処理ユニットまたは前記現像処理ユニットで処理される前または後の基板に対して、所定の検査または測定を行う他のユニットを含み、
前記他のユニットに対しては、前記搬送手段により前記基板が垂直状態で搬入、搬出され、前記他のユニット内では垂直状態の前記基板に対して検査または測定が行われることを特徴とする、請求項9に記載の基板処理方法。
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