JP2006253501A - 塗布、現像装置及びその方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 レジスト膜の上下に反射防止膜を形成するにあたり、反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれにも対応することができ、省スペース化を図ること。
【解決手段】 処理ブロックS2に、3層の塗布膜形成用の単位ブロックB3〜B5と、2層の現像処理用の単位ブロックB1,B2とを互いに積層して設ける。前記塗布膜形成用の単位ブロックB3〜B5の夫々には、レジスト膜の下方側又は上方側の反射防止膜を形成する第1又は第2の反射防止膜ユニット31,33と、塗布ユニット32とが設けられているので、レジスト膜の上下に反射防止膜を形成するにあたり、省スペース化を図ることができ、また反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれにも対応することができる。
【選択図】 図1
Description
a)前記処理ブロックは、互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックと、前記塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層された現像処理用の単位ブロックと、を備え、
b)前記各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備え、
c)前記互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックに設けられる液処理ユニットは、基板にレジスト液を塗布するための塗布ユニットと、レジスト液を塗布する前に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第1の反射防止膜ユニットと、レジスト液を塗布した後に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第2の反射防止膜ユニットとを含み、塗布膜形成用の単位ブロックでは、単位ブロック単位で、基板に対してレジスト膜を含む塗布膜の形成が行なわれることを特徴とする。
a)前記処理ブロックは、互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックと、前記塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層された現像処理用の単位ブロックと、を備え、
b)前記各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備え、
c)前記互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックに設けられる液処理ユニットは、基板にレジスト液を塗布するための塗布ユニットと、レジスト液を塗布する前に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第1の反射防止膜ユニットと、レジスト液を塗布した後に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第2の反射防止膜ユニットとを含み、塗布膜形成用の単位ブロックでは、単位ブロック単位で、基板に対してレジスト膜を含む塗布膜の形成が行なわれることを特徴とする塗布、現像装置で行なわれる塗布、現像方法において、
前記塗布膜形成用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なうことを特徴とする。
また第4の単位ブロックB4では、メインアームA4により、疎水化処理ユニット(ADH)→冷却ユニット(COL42)→塗布ユニット32→加熱ユニット(CHP42)の順序で搬送されて、ウエハWBの上にレジスト膜が形成される。次いでウエハWBは、冷却ユニット(COL43)→第2の反射防止膜ユニット33→加熱ユニット(CHP43)→周縁露光装置(WEE)→棚ユニットU2の第2の受け渡しステージTRS9の順序で搬送されて、レジスト膜の上に第2の反射防止膜が形成される。
以上において本発明では、現像処理用の単位ブロックB1,B2のみにウエハWを搬送して処理を行うようにしてもよい。また現像処理用の単位ブロックを1層としてもよいし、塗布膜形成用の単位ブロックを3層以外の複数層としてもよい。さらにまた本発明では、トランスファーアームCにてアクセスできるキャリアブロック用受け渡しステージは、トランスファーアームCと積層された単位ブロックの1つ以上の単位ブロックとの間でウエハWの受け渡しが行われるものであればよい。さらにまた棚ユニットU2,U5についてもインターフェイスアームEとの間でウエハWの受け渡しを行うための専用の第2の受け渡しステージTRSを設け、この第2の受け渡しステージTRSと第2の受け渡しアームD2とを介して各単位ブロックB1〜B5とインターフェイスブロックS2との間でウエハWの受け渡しを行なうようにしてもよい。
20 キャリア
S1 キャリアブロック
S2 処理ブロック
S3 インターフェイスブロック
S4 露光装置
S5 補助ブロック
A1〜A5 メインアーム
B1〜B5 単位ブロック
C トランファーアーム
D1 第1の受け渡しアーム
D2 第2の受け渡しアーム
E インターフェイスアーム
F 第3の受け渡しアーム
31 第1の反射防止膜形成ユニット
32 塗布ユニット
33 第2の反射防止膜形成ユニット
81 検査ユニット
82 洗浄ユニット
100 制御部
Claims (11)
- キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、
a)前記処理ブロックは、互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックと、前記塗布膜形成用の単位ブロックに対して積層された現像処理用の単位ブロックと、を備え、
b)前記各単位ブロックは、薬液を基板に塗布するための液処理ユニットと、基板を加熱する加熱ユニットと、基板を冷却する冷却ユニットと、これらユニット間で基板を搬送する単位ブロック用の搬送手段と、を備え、
c)前記互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックに設けられる液処理ユニットは、基板にレジスト液を塗布するための塗布ユニットと、レジスト液を塗布する前に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第1の反射防止膜ユニットと、レジスト液を塗布した後に基板に反射防止膜用の薬液を塗布するための第2の反射防止膜ユニットとを含み、塗布膜形成用の単位ブロックでは、単位ブロック単位で、基板に対してレジスト膜を含む塗布膜の形成が行なわれることを特徴とする塗布、現像装置。 - 塗布膜形成用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なうように制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。
- 各単位ブロック毎にキャリアブロック側に設けられ、各単位ブロックの搬送手段との間で基板の受け渡しを行なう第1の受け渡しステージを積層して構成された第1の受け渡しステージ群と、
前記第1の受け渡しステージ同士の間で基板の受け渡しを行なうための第1の基板受け渡し手段と、を備えることを特徴とする請求項1記載の塗布、現像装置。 - 各単位ブロック毎にインターフェイスブロック側に設けられ、各単位ブロックの搬送手段との間で基板の受け渡しを行なう第2の受け渡しステージを積層して構成された第2の受け渡しステージ群と、
前記第2の受け渡しステージ同士の間で基板の受け渡しを行なうための第2の基板受け渡し手段と、を備えることを特徴とする請求項1又は3記載の塗布、現像装置。 - 第1の受け渡しステージ群は、キャリアブロックと処理ブロックとの間で基板の受け渡しを行なうためキャリアブロック用受け渡しステージを含むことを特徴とする請求項3記載の塗布、現像装置。
- 第2の受け渡しステージ群は、インターフェイスブロックと処理ブロックとの間で基板の受け渡しを行なうためインターフェイスブロック用受け渡しステージを含むことを特徴とする請求項4記載の塗布、現像装置。
- 処理ブロックとインターフェイスブロックとの間に、塗布膜形成後露光処理前及び/又は露光処理後現像処理前並びに現像処理後の処理を行なうユニットを備えた補助ブロックを設けることを特徴とする請求項1、3ないし6のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記補助ブロックに設けられるユニットは、基板表面の状態を検査するための、基板に形成された塗布膜の膜厚を検査するための膜厚検査ユニット、露光前及び/又は露光後の基板を洗浄するための洗浄ユニット、露光装置にて生じるパターンの位置ずれを検出するためのデフォーカス検査装置、レジスト液の塗布ムラを検出するための塗布ムラ検出装置、現像処理の不良を検出するための現像不良検出装置、基板に付着したパーティクル数を検出するためのパーティクル数検出装置、レジスト塗布後の基板に発生するコメットを検出するためのコメット検出装置、スプラッシュバック検出装置、基板表面の欠陥を検出するための欠陥検出装置、現像処理後の基板に残存するレジスト残渣を検出するためのスカム検出装置、レジスト塗布処理及び/又は現像処理の不具合を検出するための不具合検出装置、基板上に形成されたレジスト膜の線幅を測定するための線幅測定装置、露光後の基板とフォトマスクとの重ね合わせ精度を検査するための重ね合わせ検査装置の少なくとも一つであることを特徴とする請求項7記載の塗布、現像装置。
- 前記露光装置は、基板表面に液層を形成して液浸露光するものであり、
前記補助ブロックに設けられるユニットは、前記液浸露光された後の基板を洗浄する洗浄ユニットであることを特徴とする請求項8記載の塗布、現像装置。 - 前記互いに積層された複数の塗布膜形成用の単位ブロックに対して、レジスト膜が形成された基板に対して、前記レジスト膜の上に撥水性の保護膜を形成するための塗布膜形成用の単位ブロックをさらに積層して設けることを特徴とする請求項9記載の塗布、現像装置。
- 請求項1記載の塗布、現像装置において行われる塗布、現像方法において、
前記塗布膜形成用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の塗布膜形成用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なうことを特徴とする塗布、現像方法。
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