JPH0714810A - ガラス基板洗浄装置 - Google Patents
ガラス基板洗浄装置Info
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- JPH0714810A JPH0714810A JP17856693A JP17856693A JPH0714810A JP H0714810 A JPH0714810 A JP H0714810A JP 17856693 A JP17856693 A JP 17856693A JP 17856693 A JP17856693 A JP 17856693A JP H0714810 A JPH0714810 A JP H0714810A
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- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 動作効率を高めるとともに、洗浄されたガラ
ス基板の再汚染を防止する。 【構成】 水平な状態で受け渡されるガラス基板の表面
を検査する表面検査手段９、垂直な状態で受け渡される
ガラス基板Ｐを洗浄する洗浄手段、および少なくとも前
記表面検査手段と洗浄手段との間でガラス基板を搬送し
て受渡しを行う搬送手段を備えるガラス基板洗浄装置に
おいて、洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス
基板を垂直に保持する保持部１７〜２０をそれぞれ有す
るとともにガラス基板の並列処理が可能なように制御さ
れ得る複数の洗浄部５〜８を有するものであり、ガラス
基板搬送手段１〜３は、ガラス基板をガラス基板の端部
において保持するとともに、そのように保持したままガ
ラス基板の姿勢をほぼ水平からほぼ垂直まで自在に制御
可能であることを特徴とするガラス基板洗浄装置。
ス基板の再汚染を防止する。 【構成】 水平な状態で受け渡されるガラス基板の表面
を検査する表面検査手段９、垂直な状態で受け渡される
ガラス基板Ｐを洗浄する洗浄手段、および少なくとも前
記表面検査手段と洗浄手段との間でガラス基板を搬送し
て受渡しを行う搬送手段を備えるガラス基板洗浄装置に
おいて、洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス
基板を垂直に保持する保持部１７〜２０をそれぞれ有す
るとともにガラス基板の並列処理が可能なように制御さ
れ得る複数の洗浄部５〜８を有するものであり、ガラス
基板搬送手段１〜３は、ガラス基板をガラス基板の端部
において保持するとともに、そのように保持したままガ
ラス基板の姿勢をほぼ水平からほぼ垂直まで自在に制御
可能であることを特徴とするガラス基板洗浄装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体回路パターン露
光用のフォトマスクやレチクル、あるいは液晶基板等の
ガラス基板を洗浄する洗浄装置に関する。
光用のフォトマスクやレチクル、あるいは液晶基板等の
ガラス基板を洗浄する洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、フォトマスクやレチクル等のガラ
ス基板の枚葉式洗浄装置は、特開昭６０−１１０１９４
号等に記載されているとおり、表面検査手段と洗浄手段
と基板搬送手段とで構成され、図４に示すように、搬送
手段が、水平状態での搬送部２２、垂直状態での搬送部
２３、および姿勢転換部２４で基板を受け渡しつつ、１
枚ずつ洗浄部２１で洗浄していた。
ス基板の枚葉式洗浄装置は、特開昭６０−１１０１９４
号等に記載されているとおり、表面検査手段と洗浄手段
と基板搬送手段とで構成され、図４に示すように、搬送
手段が、水平状態での搬送部２２、垂直状態での搬送部
２３、および姿勢転換部２４で基板を受け渡しつつ、１
枚ずつ洗浄部２１で洗浄していた。
【０００３】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
記従来例においては、基板を検査部９から洗浄部２１
へ、あるいは洗浄部２１から検査部９へ搬送する場合に
必ず姿勢転換部２４を経由しなければならないため、動
作効率が悪いのみならず、洗浄後の基板を受け渡す回数
が多くなるので再汚染の危険性も高くなるという欠点が
あった。
記従来例においては、基板を検査部９から洗浄部２１
へ、あるいは洗浄部２１から検査部９へ搬送する場合に
必ず姿勢転換部２４を経由しなければならないため、動
作効率が悪いのみならず、洗浄後の基板を受け渡す回数
が多くなるので再汚染の危険性も高くなるという欠点が
あった。
【０００４】また、要求される基板表面の清浄度も年々
高くなってきており、それに伴って洗浄方法も複雑化
し、処理時間が長くなることが容易に予想される現在、
上記従来例のように１枚ずつの処理では効率が悪いとい
う欠点もあった。
高くなってきており、それに伴って洗浄方法も複雑化
し、処理時間が長くなることが容易に予想される現在、
上記従来例のように１枚ずつの処理では効率が悪いとい
う欠点もあった。
【０００５】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、ガラス基板洗浄装置において、動作効率を
高めるとともに、洗浄されたガラス基板の再汚染を防止
することにある。
題点に鑑み、ガラス基板洗浄装置において、動作効率を
高めるとともに、洗浄されたガラス基板の再汚染を防止
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明では、水平な状態で受け渡されるガラス基板の表
面を検査する表面検査手段、垂直な状態で受け渡される
ガラス基板を洗浄する洗浄手段、および少なくとも前記
表面検査手段と洗浄手段との間でガラス基板を搬送して
受渡しを行う搬送手段を備えるガラス基板洗浄装置にお
いて、洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス基
板を垂直に保持する保持部をそれぞれ有するとともにガ
ラス基板の並列処理が可能なように制御され得る複数の
洗浄部を有するものであり、ガラス基板搬送手段は、ガ
ラス基板をガラス基板の端部において保持するととも
に、そのように保持したままガラス基板の姿勢をほぼ水
平からほぼ垂直まで自在に制御可能なものであることを
特徴とする。
本発明では、水平な状態で受け渡されるガラス基板の表
面を検査する表面検査手段、垂直な状態で受け渡される
ガラス基板を洗浄する洗浄手段、および少なくとも前記
表面検査手段と洗浄手段との間でガラス基板を搬送して
受渡しを行う搬送手段を備えるガラス基板洗浄装置にお
いて、洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス基
板を垂直に保持する保持部をそれぞれ有するとともにガ
ラス基板の並列処理が可能なように制御され得る複数の
洗浄部を有するものであり、ガラス基板搬送手段は、ガ
ラス基板をガラス基板の端部において保持するととも
に、そのように保持したままガラス基板の姿勢をほぼ水
平からほぼ垂直まで自在に制御可能なものであることを
特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明によれば、ガラス基板搬送手段は、ガラ
ス基板をガラス基板の端部において保持するとともに、
そのように保持したままガラス基板の姿勢をほぼ水平か
らほぼ垂直まで自在に制御可能であるため、ガラス基板
は、基板姿勢の異なる表面検査手段と洗浄手段との間
で、持ち替えられることなくかつ汚染されることなく直
接搬送される。また、複数の洗浄部を、ガラス基板を並
列処理するように制御することにより、複数のガラス基
板が同時に効率的に処理される。
ス基板をガラス基板の端部において保持するとともに、
そのように保持したままガラス基板の姿勢をほぼ水平か
らほぼ垂直まで自在に制御可能であるため、ガラス基板
は、基板姿勢の異なる表面検査手段と洗浄手段との間
で、持ち替えられることなくかつ汚染されることなく直
接搬送される。また、複数の洗浄部を、ガラス基板を並
列処理するように制御することにより、複数のガラス基
板が同時に効率的に処理される。
【０００８】
【実施例】図１は、本発明の一実施例に係るガラス基板
洗浄装置の概略正面図、図２はその概略上面図、そして
図５はその装置の斜視図である。この装置は、水平な状
態で受け渡されるガラス基板Ｐの表面を検査する異物検
査部９、垂直な状態で受け渡されるガラス基板を洗浄す
る洗浄手段、および異物検査部９と洗浄手段との間でガ
ラス基板Ｐを搬送して受渡しを行う搬送手段を備える。
洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス基板を垂
直に保持する保持部１７，１８，１９，２０をそれぞれ
有するとともにガラス基板の並列処理が可能なように制
御され得る複数の洗浄部５，６，７，８を有するもので
ある。ガラス基板搬送手段は、基板Ｐの端部を両側から
挟んで保持するアーム部１と、基板姿勢を自在に変えら
れるようにアーム部１を回転可能に支持するアーム支持
部２と、アーム支持部２をｘ，ｙ，ｚ，θの４方向に移
動可能な搬送部３を有し、基板収納・取出し部４、洗浄
部５，６，７，８、異物検査部９の各部間を、基板の姿
勢を変えながら直接搬送できるように構成されている。
ここで、ｘ，ｙ，ｚ，θの各方向は例えば図示のよう
に、図の左右方向をｘ、前後方向をｙ、上下方向をｚ、
ｚ軸基準の回転方向をθと定義する。各洗浄部５，６，
７，８は、任意に基板を受け取り、他の洗浄部と並行し
て処理ができるように不図示の制御部によって制御され
るようになっている。また、各部における基板Ｐの姿勢
が、収納・取出し部４および異物検査部９では水平とな
るように、洗浄部５，６，７，８では垂直となるように
構成されている。
洗浄装置の概略正面図、図２はその概略上面図、そして
図５はその装置の斜視図である。この装置は、水平な状
態で受け渡されるガラス基板Ｐの表面を検査する異物検
査部９、垂直な状態で受け渡されるガラス基板を洗浄す
る洗浄手段、および異物検査部９と洗浄手段との間でガ
ラス基板Ｐを搬送して受渡しを行う搬送手段を備える。
洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス基板を垂
直に保持する保持部１７，１８，１９，２０をそれぞれ
有するとともにガラス基板の並列処理が可能なように制
御され得る複数の洗浄部５，６，７，８を有するもので
ある。ガラス基板搬送手段は、基板Ｐの端部を両側から
挟んで保持するアーム部１と、基板姿勢を自在に変えら
れるようにアーム部１を回転可能に支持するアーム支持
部２と、アーム支持部２をｘ，ｙ，ｚ，θの４方向に移
動可能な搬送部３を有し、基板収納・取出し部４、洗浄
部５，６，７，８、異物検査部９の各部間を、基板の姿
勢を変えながら直接搬送できるように構成されている。
ここで、ｘ，ｙ，ｚ，θの各方向は例えば図示のよう
に、図の左右方向をｘ、前後方向をｙ、上下方向をｚ、
ｚ軸基準の回転方向をθと定義する。各洗浄部５，６，
７，８は、任意に基板を受け取り、他の洗浄部と並行し
て処理ができるように不図示の制御部によって制御され
るようになっている。また、各部における基板Ｐの姿勢
が、収納・取出し部４および異物検査部９では水平とな
るように、洗浄部５，６，７，８では垂直となるように
構成されている。
【０００９】アーム部１は、図３に示すように、先端に
基板保持用爪部材１１を有するスライド可能に支持され
た複数のシャフト１２と、これらのシャフト間をリンク
してそれらの駆動を制御するリンク機構１３と、シャフ
ト１２を駆動するスライド駆動部１４とを有する。ま
た、アーム支持部２は、アーム部１を回転可能に支持す
るベアリング１５と、アーム部１を回転駆動する回転駆
動部１６とで構成されている。
基板保持用爪部材１１を有するスライド可能に支持され
た複数のシャフト１２と、これらのシャフト間をリンク
してそれらの駆動を制御するリンク機構１３と、シャフ
ト１２を駆動するスライド駆動部１４とを有する。ま
た、アーム支持部２は、アーム部１を回転可能に支持す
るベアリング１５と、アーム部１を回転駆動する回転駆
動部１６とで構成されている。
【００１０】この構成において、洗浄される基板Ｐが、
収納・取出し部４内において、所定位置１０へ取り出さ
れると、搬送部３によってアーム支持部２が前記所定位
置１０へ移動されるとともに、アーム部１が水平基板を
保持可能なように回転された後、基板Ｐの端部を両側か
ら保持する。すなわち、保持部材１１の方向が基板Ｐの
姿勢に合致するように、回転駆動部１６がアーム部１を
回転し、スライド駆動部１４がシャフト１２を保持部材
１１間の間隔が狭くなる方向にスライドさせることによ
り基板Ｐの端部を保持部材１１によって保持する。
収納・取出し部４内において、所定位置１０へ取り出さ
れると、搬送部３によってアーム支持部２が前記所定位
置１０へ移動されるとともに、アーム部１が水平基板を
保持可能なように回転された後、基板Ｐの端部を両側か
ら保持する。すなわち、保持部材１１の方向が基板Ｐの
姿勢に合致するように、回転駆動部１６がアーム部１を
回転し、スライド駆動部１４がシャフト１２を保持部材
１１間の間隔が狭くなる方向にスライドさせることによ
り基板Ｐの端部を保持部材１１によって保持する。
【００１１】次に、保持された基板Ｐは、予め定められ
た順序に従って、洗浄部５，６，７，８および異物検査
部９へ搬送される。このとき、各部における基板Ｐの受
渡し姿勢が異なる場合には、自動的に回転駆動部１６に
より、アーム部１の姿勢が受渡し姿勢と合致するように
制御される。
た順序に従って、洗浄部５，６，７，８および異物検査
部９へ搬送される。このとき、各部における基板Ｐの受
渡し姿勢が異なる場合には、自動的に回転駆動部１６に
より、アーム部１の姿勢が受渡し姿勢と合致するように
制御される。
【００１２】基板Ｐを受け渡す場合は、保持の場合とは
逆に、保持部材１１の間隔が広くなる方向に、シャフト
１２をスライドさせる。
逆に、保持部材１１の間隔が広くなる方向に、シャフト
１２をスライドさせる。
【００１３】このようにして、基板Ｐの姿勢の異なる各
部間を搬送されながら処理された基板Ｐは、異物検査部
９により表面の清浄度を検査された後、元の位置へ収納
されて処理を完了する。
部間を搬送されながら処理された基板Ｐは、異物検査部
９により表面の清浄度を検査された後、元の位置へ収納
されて処理を完了する。
【００１４】ここで、洗浄部５，６，７，８における処
理方法としては、目的に応じた各種手法を選択すること
ができるが、本実施例においては、洗浄部５では紫外線
・オゾンによる乾式洗浄、洗浄部６では回転ブラシによ
るスクラブ洗浄、洗浄部７では高周波による超音波洗
浄、洗浄部８では蒸気洗浄・乾燥が行われる。洗浄部５
→６→７→８の順に処理を行なう場合、洗浄部５の乾式
洗浄を終えた基板を洗浄部６のスクラブ洗浄へ受け渡し
た後、次の基板を洗浄部５の乾式洗浄へ渡し、並列に処
理が行われるように制御する。このようにして、順次基
板を洗浄部５，６，７，８へ渡して制御することによ
り、洗浄部の数と同じ枚数の基板を並列に処理すること
が可能である。
理方法としては、目的に応じた各種手法を選択すること
ができるが、本実施例においては、洗浄部５では紫外線
・オゾンによる乾式洗浄、洗浄部６では回転ブラシによ
るスクラブ洗浄、洗浄部７では高周波による超音波洗
浄、洗浄部８では蒸気洗浄・乾燥が行われる。洗浄部５
→６→７→８の順に処理を行なう場合、洗浄部５の乾式
洗浄を終えた基板を洗浄部６のスクラブ洗浄へ受け渡し
た後、次の基板を洗浄部５の乾式洗浄へ渡し、並列に処
理が行われるように制御する。このようにして、順次基
板を洗浄部５，６，７，８へ渡して制御することによ
り、洗浄部の数と同じ枚数の基板を並列に処理すること
が可能である。
【００１５】その他、洗浄の対象となる汚染が限定され
ているような場合には、同一の洗浄部を複数設けること
も可能であり、洗浄時の基板姿勢が異なるような洗浄手
段との組合せも可能であることはいうまでもない。
ているような場合には、同一の洗浄部を複数設けること
も可能であり、洗浄時の基板姿勢が異なるような洗浄手
段との組合せも可能であることはいうまでもない。
【００１６】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、ガラ
ス基板搬送手段は、ガラス基板をガラス基板の端部にお
いて保持するとともに、そのように保持したままガラス
基板の姿勢をほぼ水平からほぼ垂直まで自在に制御可能
であるため、ガラス基板を、基板姿勢の異なる表面検査
手段と洗浄手段との間で、持ち替えることなくかつ汚染
することなく直接搬送することができる。また、複数の
洗浄部を、ガラス基板を並列処理するように制御するこ
とにより、各洗浄部は１枚ずつ処理する装置でありなが
ら、複数のガラス基板を同時に処理できるので、極めて
効率的に多くの基板を洗浄することができる。また、装
置構成を簡略化できるとともに、基板汚染の極めて少な
い洗浄装置を得ることができる。
ス基板搬送手段は、ガラス基板をガラス基板の端部にお
いて保持するとともに、そのように保持したままガラス
基板の姿勢をほぼ水平からほぼ垂直まで自在に制御可能
であるため、ガラス基板を、基板姿勢の異なる表面検査
手段と洗浄手段との間で、持ち替えることなくかつ汚染
することなく直接搬送することができる。また、複数の
洗浄部を、ガラス基板を並列処理するように制御するこ
とにより、各洗浄部は１枚ずつ処理する装置でありなが
ら、複数のガラス基板を同時に処理できるので、極めて
効率的に多くの基板を洗浄することができる。また、装
置構成を簡略化できるとともに、基板汚染の極めて少な
い洗浄装置を得ることができる。
【図１】 本発明の一実施例に係るガラス基板洗浄装置
の概略正面図である。
の概略正面図である。
【図２】 図１の概略上面図である。
【図３】 図２の装置のアーム部１およびアーム支持部
２のＡ−Ａ断面概略図である。
２のＡ−Ａ断面概略図である。
【図４】 従来例に係るガラス基板洗浄装置の概略正面
図である。
図である。
【図５】 図１の装置の概略斜視図である。
１：アーム部、２：アーム支持部、３：搬送部、４：基
板収納・取出し部、５：紫外線・オゾン洗浄部、６：ブ
ラシスクラブ洗浄部、７：超音波洗浄部、８：蒸気洗浄
・乾燥部、９：異物検査部、１０：基板所定位置、１
１：基板保持部材、１２：スライドシャフト、１３：リ
ンク機構、１４：スライド駆動部、１５：ベアリング、
１６：回転駆動部、１７，１８，１９，２０：各洗浄部
５，６，７，８の基板保持部、２１：洗浄部、２２：水
平状態搬送部、２３：垂直状態搬送部、２４：姿勢転換
部、２５：垂直基板保持部、Ｐ：基板。
板収納・取出し部、５：紫外線・オゾン洗浄部、６：ブ
ラシスクラブ洗浄部、７：超音波洗浄部、８：蒸気洗浄
・乾燥部、９：異物検査部、１０：基板所定位置、１
１：基板保持部材、１２：スライドシャフト、１３：リ
ンク機構、１４：スライド駆動部、１５：ベアリング、
１６：回転駆動部、１７，１８，１９，２０：各洗浄部
５，６，７，８の基板保持部、２１：洗浄部、２２：水
平状態搬送部、２３：垂直状態搬送部、２４：姿勢転換
部、２５：垂直基板保持部、Ｐ：基板。
Claims (1)
- 【請求項１】 水平な状態で受け渡されるガラス基板の
表面を検査する表面検査手段、垂直な状態で受け渡され
るガラス基板を洗浄する洗浄手段、および少なくとも前
記表面検査手段と洗浄手段との間でガラス基板を搬送し
て受渡しを行う搬送手段を備えるガラス基板洗浄装置に
おいて、洗浄手段は、垂直な状態で受け渡されるガラス
基板を垂直に保持する保持部をそれぞれ有するとともに
ガラス基板の並列処理が可能なように制御され得る複数
の洗浄部を有するものであり、ガラス基板搬送手段は、
ガラス基板をガラス基板の端部において保持するととも
に、そのように保持したままガラス基板の姿勢をほぼ水
平からほぼ垂直まで自在に制御可能なものであることを
特徴とするガラス基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17856693A JPH0714810A (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | ガラス基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17856693A JPH0714810A (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | ガラス基板洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0714810A true JPH0714810A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=16050725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17856693A Pending JPH0714810A (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | ガラス基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714810A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11202473A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Dainippon Printing Co Ltd | マスク準備装置 |
| JP2011072921A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Hitachi High-Technologies Corp | マスククリーニング装置 |
| US8165761B2 (en) | 2007-05-11 | 2012-04-24 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Apparatus to control airbag for side collision |
| JP2012523018A (ja) * | 2009-03-31 | 2012-09-27 | ソラダイム， インコーポレイテッド | 欠陥の少ないエレクトロクロミック素子の製造 |
| CN104785470A (zh) * | 2014-01-16 | 2015-07-22 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | 一种玻璃清洁方法及清洁装置 |
| US9454053B2 (en) | 2011-12-12 | 2016-09-27 | View, Inc. | Thin-film devices and fabrication |
| CN106824874A (zh) * | 2017-01-25 | 2017-06-13 | 广东光耀玻璃有限公司 | 一种玻璃垂直清洗装置 |
| CN108928899A (zh) * | 2016-06-06 | 2018-12-04 | 丽水市伊凡家模具科技有限公司 | 一种家用环保机 |
| CN111655643A (zh) * | 2017-10-06 | 2020-09-11 | 康宁公司 | 用于处理玻璃板的设备和方法 |
-
1993
- 1993-06-28 JP JP17856693A patent/JPH0714810A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US11947232B2 (en) | 2009-03-31 | 2024-04-02 | View, Inc. | Fabrication of low defectivity electrochromic devices |
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| CN106824874A (zh) * | 2017-01-25 | 2017-06-13 | 广东光耀玻璃有限公司 | 一种玻璃垂直清洗装置 |
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| CN111655643B (zh) * | 2017-10-06 | 2022-08-19 | 康宁公司 | 用于处理玻璃板的设备和方法 |
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