JP2011072921A - マスククリーニング装置 - Google Patents
マスククリーニング装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011072921A JP2011072921A JP2009227150A JP2009227150A JP2011072921A JP 2011072921 A JP2011072921 A JP 2011072921A JP 2009227150 A JP2009227150 A JP 2009227150A JP 2009227150 A JP2009227150 A JP 2009227150A JP 2011072921 A JP2011072921 A JP 2011072921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- mask
- cleaning
- mask member
- wet cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 158
- 238000005108 dry cleaning Methods 0.000 claims abstract description 53
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 23
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 41
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 10
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】ロードステージ10と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ11と、洗浄液にマスク部材4を浸漬させて行う第1のウエット洗浄ステージ12と、マスク部材4に対してシャワー洗浄を行う第2のウエット洗浄ステージ13と、マスク部材4に熱風を供給して行う乾燥ステージ14と、アンロードステージ15とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ10からドライ洗浄ステージ11にマスク部材4を搬送・移載する同期式マスク搬送手段20Cと、ステージ11〜15間にマスク部材4を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段20Aとが設けられている。
【選択図】図3
Description
3 枠体 4 マスク部材
10 ロードステージ 11 ドライ洗浄ステージ
12 第1のウエット洗浄ステージ 13 第2のウエット洗浄ステージ
14 乾燥ステージ 15 アンロードステージ
20C 同期式マスク搬送手段 20A 非同期式マスク搬送手段
Claims (3)
- 有機ELのパターン形成のために用いたマスク部材に、パターン形成時に付着した有機材料を除去する有機EL用マスク部材のクリーニングを行うマスククリーニング装置であって、
洗浄すべきマスク部材のロードステージと、
前記マスク部材に対してレーザ光を走査させることによって、このマスク部材に付着している有機材料を剥離させて回収するドライ洗浄ステージと、
複数の洗浄ステージからなり、ドライ洗浄ステージで有機材料を除去したマスク部材を液に接触させることにより行われるウエット洗浄ステージと、
前記ウエット洗浄ステージで洗浄されたマスク部材を乾燥させる乾燥ステージと、
前記ロードステージから前記ドライ洗浄ステージに前記マスク部材を搬入するロード専用の同期式マスク搬送手段と、
前記ドライ洗浄ステージから前記マスク部材を、前記ウエット洗浄ステージを構成する任意のウエット洗浄ステージに供給し、また任意のウエット洗浄ステージから任意のウエット洗浄ステージに供給し、さらに最終段のウエット洗浄ステージから前記乾燥ステージに移載する非同期式マスク搬送手段と
から構成したことを特徴とするマスククリーニング装置。 - 前記ウエット洗浄ステージは、ディッピングによる洗浄を行う1または複数の第1のウエット洗浄ステージと、シャワー洗浄を行う1または複数の第2のウエット洗浄ステージとを含むものであることを特徴とする請求項1記載のマスククリーニング装置。
- 前記乾燥ステージの後段には、所定枚数の清浄化されたマスク部材を収納するアンロードステージを設ける構成としたことを特徴とする請求項1または請求項2記載のマスククリーニング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009227150A JP5248455B2 (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | マスククリーニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009227150A JP5248455B2 (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | マスククリーニング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011072921A true JP2011072921A (ja) | 2011-04-14 |
JP5248455B2 JP5248455B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=44017496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009227150A Expired - Fee Related JP5248455B2 (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | マスククリーニング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5248455B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101188362B1 (ko) | 2011-11-23 | 2012-10-08 | (주) 디바이스이엔지 | 스크린마스크 세정용 지그 |
CN105689323A (zh) * | 2016-03-11 | 2016-06-22 | 无锡建凌电器有限公司 | 一种五金零件清洗装置 |
CN106001037A (zh) * | 2016-07-20 | 2016-10-12 | 张小云 | 一种玻璃加工清洗架 |
CN106513375A (zh) * | 2015-09-09 | 2017-03-22 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 清洗装置、清洗待清洗工件的方法以及清洗ic衬底传送滚轮的清洗液及方法 |
KR101932629B1 (ko) * | 2017-04-13 | 2018-12-28 | (주)디바이스이엔지 | 유기 발광 다이오드의 마스크 세정조 내부의 이물질 제거 장치 및 제거 방법 |
US10792709B2 (en) | 2016-12-13 | 2020-10-06 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask cleaning method and mask cleaning apparatus for performing the same |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111151500A (zh) * | 2018-11-08 | 2020-05-15 | 世源科技工程有限公司 | 一种低清洗剂现场容量的掩模板清洗的方法和装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01151887U (ja) * | 1988-03-22 | 1989-10-19 | ||
JPH03256326A (ja) * | 1990-03-06 | 1991-11-15 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
JPH0714810A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-17 | Canon Inc | ガラス基板洗浄装置 |
JPH07176507A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Hitachi Ltd | ウエット処理装置およびウエット処理方法 |
JPH07297161A (ja) * | 1994-04-22 | 1995-11-10 | Sony Corp | 洗浄方法 |
JP2005161190A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Seiko Epson Corp | 洗浄方法、洗浄装置および電気光学装置 |
JP2009117231A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置の製造方法 |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009227150A patent/JP5248455B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01151887U (ja) * | 1988-03-22 | 1989-10-19 | ||
JPH03256326A (ja) * | 1990-03-06 | 1991-11-15 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
JPH0714810A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-17 | Canon Inc | ガラス基板洗浄装置 |
JPH07176507A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-14 | Hitachi Ltd | ウエット処理装置およびウエット処理方法 |
JPH07297161A (ja) * | 1994-04-22 | 1995-11-10 | Sony Corp | 洗浄方法 |
JP2005161190A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Seiko Epson Corp | 洗浄方法、洗浄装置および電気光学装置 |
JP2009117231A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置の製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101188362B1 (ko) | 2011-11-23 | 2012-10-08 | (주) 디바이스이엔지 | 스크린마스크 세정용 지그 |
CN106513375A (zh) * | 2015-09-09 | 2017-03-22 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 清洗装置、清洗待清洗工件的方法以及清洗ic衬底传送滚轮的清洗液及方法 |
CN105689323A (zh) * | 2016-03-11 | 2016-06-22 | 无锡建凌电器有限公司 | 一种五金零件清洗装置 |
CN106001037A (zh) * | 2016-07-20 | 2016-10-12 | 张小云 | 一种玻璃加工清洗架 |
US10792709B2 (en) | 2016-12-13 | 2020-10-06 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask cleaning method and mask cleaning apparatus for performing the same |
KR101932629B1 (ko) * | 2017-04-13 | 2018-12-28 | (주)디바이스이엔지 | 유기 발광 다이오드의 마스크 세정조 내부의 이물질 제거 장치 및 제거 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5248455B2 (ja) | 2013-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5248455B2 (ja) | マスククリーニング装置 | |
TWI426962B (zh) | A cleaning device for a mask member and a cleaning method, and an organic electroluminescent display | |
KR100793545B1 (ko) | 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전기 광학 장치 | |
US6119367A (en) | System for drying semiconductor wafers using ultrasonic or low frequency vibration | |
TW201829077A (zh) | 基板濕式處理裝置 | |
KR102276773B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
US20090223536A1 (en) | Cleaning apparatus, cleaning tank, cleaning method, and method for manufacturing article | |
TW200842940A (en) | Substrate processing apparatus | |
KR100794919B1 (ko) | 글라스 식각장치 및 식각방법 | |
JP2010147262A (ja) | 洗浄装置、基板処理システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP3959612B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP2008177460A (ja) | 基板の乾燥方法と乾燥装置 | |
JP2001087719A (ja) | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 | |
KR101118885B1 (ko) | 처리 장치 및 처리 방법 | |
JP2006269928A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JP2001108977A (ja) | 液晶表示装置の製造装置およびその方法 | |
JP4043039B2 (ja) | 現像方法及び現像装置 | |
US6613156B2 (en) | Apparatus and method for photoresist stripping | |
JPH0758070A (ja) | 洗浄装置 | |
JP2001007017A (ja) | レジスト剥離装置 | |
JPH11300300A (ja) | 基板処理方法および同装置 | |
JP4052820B2 (ja) | 現像処理装置 | |
JP2001170582A (ja) | 超音波処理装置およびこれを用いた電子部品の製造方法 | |
JP2003190901A (ja) | 基板洗浄装置及び基板洗浄治具 | |
KR20240116089A (ko) | 마스크 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120131 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130313 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130326 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130410 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |