JP2011072921A

JP2011072921A - マスククリーニング装置

Info

Publication number: JP2011072921A
Application number: JP2009227150A
Authority: JP
Inventors: Kenji Yumiba; 賢治弓場; Nobuhiro Nirasawa; 信広韮沢; Kenji Katagiri; 賢司片桐; Makoto Izaki; 良井崎
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp; Hitachi High Tech Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2009-09-30
Filing date: 2009-09-30
Publication date: 2011-04-14
Anticipated expiration: 2029-09-30
Also published as: JP5248455B2

Abstract

【課題】ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニング処理を行えるようにする。
【解決手段】ロードステージ１０と、レーザ光を用いたドライ洗浄ステージ１１と、洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ１２と、マスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ１３と、マスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５とから構成されるクリーニング装置において、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載する同期式マスク搬送手段２０Ｃと、ステージ１１〜１５間にマスク部材４を搬送・移載する非同期式マスク搬送手段２０Ａとが設けられている。
【選択図】図３

Description

本発明は、有機ＥＬディスプレイを製造する際に使用するマスク板をドライ洗浄とウエット洗浄との組み合わせによるクリーニングを行うためのマスククリーニング装置に関するものである。

有機ＥＬディスプレイは、液晶ディスプレイ等とは異なり、バックライトを必要としない等の利点がある。有機ＥＬディスプレイを製造するに当っては、ガラス基板の表面にＲＧＢの各色の電場発光素子の微小ドットパターンを形成するが、電場発光素子は有機材料からなるものであり、通常はガラス基板にこの有機材料のドットパターンの形成は真空蒸着により行われる。このために、マスク板が用いられるが、このマスク板は金属の薄板に所定のピッチ間隔をもって微小透孔を形成したマスクパターンを有するものから構成される。そして、マスク板は枠体に張力を持たせた状態にして固定されて、マスク部材を構成している。

ガラス基板にマスク部材を装着し、真空チャンバ内の所定の位置に位置決めした状態で真空蒸着が行われるが、この真空蒸着を行う際には、当然、マスク部材にも有機材料が付着することになり、蒸着回数が多くなれば、有機材料のマスク部材への付着量が多くなり、マスクパターンに付着する有機材料によりマスクパターンに目詰まりが生じることから、所定回数蒸着を行う毎にマスク部材をクリーニングして、マスクパターンの精度を維持する必要がある。

レーザ光を照射することによって、マスク部材に付着堆積している有機材料を除去することが、特許文献１に記載されている。この特許文献１によると、パルスレーザをマスク部材に照射して、このマスク部材に誘起された衝撃波により有機材料をマスク板から剥離される。これによって、有機材料が浮遊状態となるが、この浮遊物を集塵機に吸引させるように構成している。また、このレーザ光の照射によるドライ洗浄を行った後になおマスク部材に残留する有機材料を完全に除去するために、水やアルコール、若しくはＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）等を用いてウエット洗浄を行い、最後に乾燥することも特許文献１に開示されている。

特開２００９−１１７２３１号公報

レーザ光をマスク部材に照射してクリーニングするドライ洗浄を行うと、このマスククリーニングにより除去した有機材料を回収して、再使用することができる。電場発光素子を構成する有機材料は高価なものであることから、それを再使用することは、有機ＥＬの製造装置のランニングコストを低減する上で望ましい。ドライ洗浄時には、レーザ光をマスク部材の全面にわたって走査させることから、有機ＥＬディスプレイが大型になると、マスク部材も大型になるために、レーザ光の走査を行うのには長時間が必要となる。一方、マスク部材のウエット洗浄をディッピングを行うようにした場合には、マスク部材のサイズが洗浄時間を格別左右するものではない。また、シャワー洗浄や洗浄後の乾燥を行う際には、レーザ光の照射によるドライ洗浄ほどはマスク部材の寸法が処理時間に依存することはないものの、ディッピングによるウエット洗浄のように、殆どマスク部材のサイズの影響を受けないというわけでもない。

以上のことから、マスク部材の洗浄プロセスとして、レーザ光の照射によるドライ洗浄を行い、次いでウエット洗浄し、最後にマスク部材の乾燥を行うように構成したときには、特にウエット洗浄をディッピングとシャワーというように、複数段で行うようにした場合には、各ステージを単純に並べただけでは、マスク部材の清浄化を迅速かつ効率的に行うことができないという問題点がある。

本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、ドライ洗浄とウエット洗浄とを組み合わせてマスク部材をクリーニングする際に、その洗浄プロセスを円滑に運転させることができ、マスク部材を効率的にクリーニングできるようにすることにある。

前述した目的を達成するために、本発明は、有機ＥＬのパターン形成のために用いたマスク部材のパターン形成時に付着した有機材料を除去する有機ＥＬ用マスク部材のクリーニングを行うマスククリーニング装置であって、洗浄すべきマスク部材のロードステージと、前記マスク部材に対してレーザ光を走査させることによって、このマスク部材に付着している有機材料を剥離させて回収するドライ洗浄ステージと、複数の洗浄ステージからなり、ドライ洗浄ステージで有機材料を除去したマスク部材を液に接触させることにより行われるウエット洗浄ステージと、前記ウエット洗浄ステージで洗浄されたマスク部材を乾燥させる乾燥ステージと、前記ロードステージから前記ドライ洗浄ステージに前記マスク部材を搬入するロード専用の同期式マスク搬送手段と、前記ドライ洗浄ステージから前記マスク部材を、前記ウエット洗浄ステージを構成する任意のウエット洗浄ステージに供給し、また任意のウエット洗浄ステージから任意のウエット洗浄ステージに供給し、さらに最終段のウエット洗浄ステージから前記乾燥ステージに移載する非同期式マスク搬送手段とから構成したことをその特徴とするものである。

レーザ光を照射して行うドライ洗浄によって、マスク部材から大半の有機材料を除去することができる。具体的には、ドライ洗浄によって、マスク部材から有機材料を剥離させるようになし、このようにして剥離した有機材料を吸引することにより回収することができる。このようにして回収した有機材料は再精製して再使用することができる。マスク部材に付着している有機材料の回収効率を高くすることによって、有機材料の回収量が多くなり、しかも後続のウエット洗浄時における負荷も低減させることができる。ここで、ドライ洗浄の場合には、マスク部材のサイズと、レーザ光照射装置とによって洗浄時間は概略特定される。

マスク板は金属製のものであり、一般的には熱膨張係数の小さいニッケル合金が用いられる。従って、ウエット洗浄を行うに当っては、このニッケル合金に対するダメージが最小限の洗浄用流体を用いる。また、異なる洗浄液を使用し、ディッピングをするか、シャワー洗浄とするか、超音波加振するか等によって、複合的な洗浄方式によりウエット洗浄が行われる。さらに、ウエット洗浄の後にはマスク部材を乾燥するが、この乾燥時にどの程度加熱するか等により１つのステージから他のステージへのマスク部材の移載タイミングは様々な要素により流動的なものとなる。そして、マスク部材のサイズが大きい場合には、レーザ光の照射によるドライ洗浄が最も長時間必要とし、ウエット洗浄及び乾燥はそれより短時間でプロセス処理を行うことができる。

以上のことから、マスク部材の搬送手段を２種類設けている。一方の搬送手段は一定のタイミング毎にマスク部材を移載する同期式マスク搬送手段と、他方の搬送手段は任意のタイミングで作動する非同期式マスク搬送手段である。同期式マスク搬送手段は、ロードステージからドライ洗浄ステージにマスク部材を搬入するための専用のものとして用いられる。一方、非同期式マスク搬送手段は、任意のステージからマスク部材を取り出して、任意のステージに搬送するためのものである。

ここで、ウエット洗浄は、ディッピングによる洗浄か、シャワー洗浄かが代表的なものであるが、これら以外のウエット洗浄であっても良い。洗浄液としては、純水やＬＣ２１等の洗浄液、ＩＰＡ（イソプロピールアルコール）等のアルコール系洗浄液、ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）等のフッ素系洗浄液を用いることができる。また、洗浄液を超音波加振することもできる。ディッピング洗浄やシャワー洗浄は１乃至複数段で行うこともできる。通常、シャワー洗浄は前段の洗浄液を洗い流すリンス工程とする。従って、洗浄液が異なる毎、洗浄方式が異なる毎に洗浄ステージを設け、非同期式マスク搬送手段によるマスク部材の搬送方向に向けて並べるようにする。そして、洗浄が終わった段階で、そのステージからマスク部材を取り出して、後続の洗浄ステージに、そして最終段の洗浄ステージから乾燥ステージに送り込まれることになる。マスク部材に洗浄液が長時間にわたって付着していたり、高熱が作用したりすると、マスク板にダメージを与えることになる。従って、マスク部材の各ステージでの処理が完了した後の取り出しタイミングの遅滞はできるだけ避けなければならない。非同期式マスク搬送手段を設けることによって、処理の終わったマスク部材は、円滑な動作で、迅速かつ確実に次の処理工程に移載することができる。

マスク部材の洗浄プロセスを円滑に運転させることによって、マスク板のダメージを最小限に抑制して、マスク部材を迅速かつ効率的に清浄化できる等の効果を奏する。

マスク部材の正面図である。マスク部材に対するドライ洗浄を行う機構の構成説明図である。マスククリーニング装置の全体構成を示す構成説明図である。

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について説明する。まず、図１にマスク部材を示す。図中において、１はマスク板であって、マスク板１は薄い金属板に多数の微小透孔２を穿設したものから構成されている。マスク板１は枠体３に所定の張力を持った状態にして取り付けられて、マスク部材４が構成される。有機ＥＬディスプレイを製造するに当っては、それぞれ微小透孔２の位置をずらせた３枚のものから構成され、単一のガラス基板に順次マスク部材４を位置決めした状態で対面させて、真空蒸着が行われる。

真空蒸着を繰り返すと、マスク部材４に蒸着を行った有機材料が付着することになる。有機材料の付着は主に蒸着源と対面する側に臨む面であることから、マスク部材４に堆積した有機材料を除去するマスククリーニングが行われる。ここで、裏面側にも有機材料が回り込むこともあるのでマスククリーニングは好ましくは両面に対して行われる。

マスククリーニング方式として、本発明では、図２に示すように、レーザ光を照射して行うレーザドライ洗浄が行われる。この方式は、有機材料が付着したマスク部材４を鉛直状態に保持して、レーザ発振器５からパルスレーザを照射し、このパルスレーザを対物レンズ６及びガルバノミラー７を順次介してマスク部材４に当てるようになし、このレーザ光を対物レンズ６によりマスク部材４におけるマスク板１の表面に照射することによって、マスク板１から有機材料を剥離する。そして、ガルバノミラー７によりレーザスポットを走査させることによって、マスク板１の全面にわたって有機材料を剥離する。

マスク部材４の上部位置には送風部８が設けられており、またマスク部材４の下方位置に吸引部９が設けられている。レーザ光の照射によりマスク板１から剥離された有機材料は、送風部８及び吸引部９からなるダウンフロー空気流に搬送されて、吸引部９で回収される。これによって、剥離した有機材料がマスク板１に再付着するのを防止すると共に、回収した有機材料を再使用できるようにする。

レーザ光を用いたマスククリーニングは以上のようにして行われるが、これだけではマスク部材４の全体が清浄化されるわけではない。そこで、レーザ光によるドライ洗浄の後に洗浄液を使用したウエット洗浄を行い、次いで乾燥することによって、マスク部材４の全体を清浄化する。このためのマスククリーニング装置は、図３に示した構成とする。

図中において、１０はロードステージ、１１はレーザ光を用いたドライ洗浄ステージ、１２は洗浄液にマスク部材４を浸漬させて行う第１のウエット洗浄ステージ、１３はマスク部材４に対してシャワー洗浄を行う第２のウエット洗浄ステージ、１４はマスク部材４に熱風を供給して行う乾燥ステージ、１５はアンロードステージである。

ロードステージ１０には、洗浄すべきマスク部材４が所定の枚数だけストックされており、このロードステージ１０からマスク部材４が１枚ずつ取り出されて、ドライ洗浄ステージ１１に搬入されることになる。ドライ洗浄ステージ１１では、図２に示したレーザ光の照射手段が設けられている。

第１のウエット洗浄ステージ１２では、ドライ洗浄されて、殆ど有機材料が除去されたマスク部材４が洗浄液に浸漬されて、ディッピングによる洗浄によって、枠体３及びマスク板１と枠体３との間の有機材料を溶出させる。この第１のウエット洗浄ステージ１２で使用される洗浄液は、純水やＬＣ２１等の洗浄液、ＩＰＡ等のアルコール系洗浄液、ＨＦＥ等のフッ素系洗浄液等が用いられる。従って、複数の洗浄液を組み合わせて使用する場合には、この第１のウエット洗浄ステージ１２による洗浄は２段乃至それ以上の段階を経て行うようにすることもできる。この場合には、それぞれ異なる洗浄液を充填した複数のディッピング槽で構成したサブステージを設けることになる。

また、第２のウエット洗浄ステージ１３はシャワー洗浄を行うものであり、このシャワー洗浄は純水を使用し、必要に応じて純水を超音波加振した状態で、マスク部材４に向けて噴射するように構成する。ここで、第２のウエット洗浄ステージ１３は洗浄液を使用して行われた第１のウエット洗浄ステージ１２での洗浄後の洗浄液を洗い流すリンス工程として機能する。

さらに、前述のようにしてウエット洗浄されたマスク部材４は、乾燥ステージ１４に搬入されて、熱風を吹き付けることによって、マスク部材４に付着している液滴を除去する。そして、このようにして乾燥させたマスク部材４は、アンロードステージ１５に送り込まれて、このアンロードステージ１５で所定数のマスク部材４がストックされると、系外に搬送される。

ここで、ドライ洗浄ステージ１１，第１のウエット洗浄ステージ１２，第２のウエット洗浄ステージ１３及び乾燥ステージ１４はマスク部材４を処理する処理ステージである。マスク部材４を出し入れするための搬入・搬出口１１ａ〜１４ａを上部位置に設けたチャンバ１１Ｃ〜１４Ｃを有するものであって、各チャンバ１１Ｃ〜１４Ｃはそれぞれ各ステージに固定的に保持されている。これに対して、ロードステージ１０及びアンロードステージ１５については、上部に搬入・搬出口１０ａ，１５ａを設けた収納ボックス１０Ｂ，１５Ｂを台車１０Ｔ，１５Ｔから構成されて、台車１０Ｔ，１５Ｔは自走または手動操作により搬送されて、収納ボックス１０Ｂ，１５Ｂがこれらロードステージ１０，１５に導入・排出される。

そして、ロードステージ１０からは、マスク部材４が１枚ずつ取り出されて、ドライ洗浄ステージ１１，第１のウエット洗浄ステージ１２，第２のウエット洗浄ステージ１３及び乾燥ステージ１４に順次供給されて、それぞれの処理ステージで所定の処理が行われるものであり、このマスク部材４の各ステージ１０〜１５間に搬送・移載するために、マスク搬送手段２０Ｃ，２０Ａが設けられている。マスク搬送手段２０Ｃは、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を搬送・移載するためのものであり、またマスク搬送手段２０Ａは、ドライ洗浄ステージ１１からアンロードステージ１５までの各ステージ間にマスク部材４を搬送するものである。

マスク搬送手段２０Ｃも、またマスク搬送手段２０Ａも同一の構成となっている。即ち、図３から明らかなように、２１は水平ガイド部材であって、この水平ガイド部材２１にはＸ軸ガイド２１Ｘを備えており、このＸ軸ガイド２１ＸにはＸ軸移動体２２が係合しており、これによってＸ軸移動体２２は図示しない駆動手段によってＸ軸方向、つまりステージ１０〜１５の並び方向に移動可能となっている。Ｘ軸移動体２２は上下方向に長手となり、この上下方向へのＺ軸ガイド２２Ｚが形成されている。そして、このＺ軸ガイド２２ＺにはＺ軸移動体２３が装着されており、このＺ軸移動体２３は図示しない駆動手段によりＺ軸方向、つまり上下方向に移動可能となっている。さらに、Ｚ軸移動体２３にはアーム２４が取り付けられており、このアーム２４は各ステージ１０〜１５側に向けて突出している。さらに、アーム２４には、２本のハンド２５，２５が設けられており、これらのハンド２５は所定の長さを有するものであって、それらの下端部にマスク部材４の枠体３をクランプするクランプ部材が設けられている。

マスク搬送手段２０Ｃは、ドライ洗浄ステージ１１での洗浄処理が終了する毎に、新たに洗浄すべきマスク部材４をロードステージ１０から取り出して、ドライ洗浄ステージ１１の搬入・搬出口１１ａからチャンバ１１Ｃに搬入するためのものであり、同期式マスク搬送手段である。

一方、マスク搬送手段２０Ａは、処理ステージであるドライ洗浄ステージ１１，第１のウエット洗浄ステージ１２，第２のウエット洗浄ステージ１３及び乾燥ステージ１４と、アンロードステージ１５との間でマスク部材４を受け渡しするためのものであり、任意のステージ間でマスク部材４の搬送・移載が行われるものであって、非同期式マスク搬送手段である。

本発明のマスククリーニング装置は以上のように構成されるものである。まず、ロードステージ１０には、所定枚数のマスク部材４がストックされており、このようにしてストックしたマスク部材４をマスク搬送手段２０Ｃにより１枚取り出して、ドライ洗浄ステージ１１に搬入する。即ち、マスク搬送手段２０Ｃの水平ガイド部材２１のＸ軸ガイド２１Ｘに沿ってＸ軸移動体２２をロードステージ１０の収納ボックス１０Ｂに形成した搬入・搬出口１０ａに対面する位置まで移動させて、Ｘ軸移動体２２に設けたＺ軸ガイド２２Ｚに沿ってＺ軸移動体２３を下降させる。その結果、アーム２４に設けたハンド２５が下降して、収納ボックス１０Ｂ内に挿入される。そこで、ハンド２５に設けたクランプ部材により１枚のマスク部材４を取り出すようにする。

その後に、Ｚ軸移動体２３を上昇させて、Ｘ軸移動体２２をドライ洗浄ステージ１１の上部位置に移動させ、その後に再びＺ軸移動体２３を下降させることによって、搬入・搬出口１１ａからチャンバ１１Ｃに供給して、チャンバ１１Ｃ内にマスク部材４を保持させるようにして、Ｚ軸移動体２３を上昇させる。これによって、マスク部材４におけるマスク板１に向けてレーザ発振器５からレーザ光を照射するようになし、ガルバノミラー７によりマスク板１に沿ってレーザ光を走査させることによって、マスク板１から有機材料を剥離させ、送風部８から吸引部９に向けてのダウンフロー空気流により剥離した有機材料を吸引部９に回収する。

ドライ洗浄ステージ１１での洗浄が終了すると、マスク搬送手段２０Ｃではなく、マスク搬送手段２０Ａを駆動して、ドライ洗浄が終了したマスク部材４を取り出して、第１のウエット洗浄ステージ１２に送り込む。そして、マスク部材４がドライ洗浄ステージ１１から取り出されると、マスク搬送手段２０Ｃにより新たなマスク部材４がロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１に供給される。この第１のウエット洗浄ステージ１２に移行したマスク部材４は、第１のウエット洗浄ステージ１２において、チャンバ１２Ｃを構成するディッピング槽で洗浄液により洗浄が行われる。その結果、マスク板１のドライ洗浄後に僅かに残存する有機材料と、枠体３及びマスク板１と枠体３との境界部の有機材料が除去される。

次いで、マスク部材４は、第１のウエット洗浄ステージ１２から第２のウエット洗浄ステージ１３に搬送・移載されて、この第２のウエット洗浄ステージ１３で、シャワー洗浄及びリンスが行われる。このときのマスク部材４の搬送も、マスク搬送手段２０Ａにより行われる。さらに、第２のウエット洗浄ステージ１３での処理が終了すると、マスク部材４は乾燥ステージ１４に供給されて、この乾燥ステージ１４で熱風乾燥される。そして、乾燥処理が行われたマスク部材４はアンロードステージ１５に移載される。これら第２のウエット洗浄ステージ１３から乾燥ステージ１４へのマスク部材４の移載も、乾燥ステージ１４からアンロードステージ１５へのマスク部材４の移載も、同様に、マスク搬送手段２０Ａにより行われる。

ここで、マスク部材４に付着している有機材料は、その大半がドライ洗浄ステージ１１において除去されているので、第１のウエット洗浄ステージ１２における洗浄時の負荷が軽減されて、チャンバ１２Ｃ内の洗浄液の汚損が抑制される。従って、この第１のウエット洗浄ステージ１２における処理時間が、また後続の第２のウエット洗浄ステージ１３における処理時間も短縮することができ、マスク部材４に対するダメージは最小限に抑制できる。しかも、ステージ１１〜１５間で自在に移動できるマスク搬送手段２０Ａにより、ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１にマスク部材４を移載するマスク搬送手段２０Ｃとは独立に駆動されるので、的確なタイミングでマスク搬送手段２０Ａを駆動することができる。

ところで、ドライ洗浄ステージ１１，第１のウエット洗浄ステージ１２，第２のウエット洗浄ステージ１３及び乾燥ステージ１４からなる処理ステージにおいて、ドライ洗浄ステージ１１はマスク板１の全面にわたってレーザ光の照射走査を行わなければならないことから、長い時間を必要とする。特に、大型のマスク板１の場合には、それだけレーザ光の照射走査の面積が広くなるので、より長い時間が必要となる。これに対して、ドライ洗浄ステージ１１で大半の有機材料がマスク部材４から除去されているので、第１のウエット洗浄ステージ１２以後の処理はドライ洗浄ステージ１１のように長い処理時間を必要としない。特に、マスク板１のサイズが大きい場合であっても、小型のマスク板と処理時間が大きくは変わらない。

ロードステージ１０からドライ洗浄ステージ１１へのマスク部材４の移載は一定時間毎に行われる。この移載は同期式のマスク搬送手段２０Ｃで行うものであり、マスク搬送手段２０Ｃは所定時間毎に定期的にマスク部材４を移載するものである。そして、マスク搬送手段２０Ａは、マスク部材４をドライ洗浄ステージ１１，第１のウエット洗浄ステージ１２，第２のウエット洗浄ステージ１３，乾燥ステージ１４，アンロードステージ１５の順に移行させるためのものであって、それぞれ移載のタイミングが異なっている。これら５つのステージ１１〜１５間でのマスク部材４の搬送・移載はマスク搬送手段２０Ａにより行う。従って、マスク搬送手段２０Ａは非同期式搬送手段となる。

ここで、第１のウエット洗浄ステージ１２では、洗浄液の濃度や温度等により処理時間が変化する。また、第２のウエット洗浄ステージ１２では、シャワー洗浄の供給量及び供給圧、さらに温度等により処理時間が変化する。さらに、乾燥ステージ１４では、温度や風量により処理時間が変化する。そこで、これらのプロセス要素を適宜設定することによって、マスク部材４に与えるダメージを最小のものとなし、しかもできるだけ処理時間を短くなるように設定するのが望ましい。

いずれにしろ、これらの処理ステージでは、それぞれ異なる処理時間を必要とするものであり、これらの処理ステージではマスク搬送手段２０Ａにより搬送・移載されるようになっている。このように２個のマスク搬送手段２０Ｃ，２０Ａを設けることによって、マスク部材４の各ステージ１０〜１５への搬送・移載が迅速かつ容易に行うことができる。即ち、マスク部材４を最初に搬送・移載するものであり、しかも一定のタイミングでマスク部材４を搬送・移載するものについては、マスク搬送手段２０Ｃで行うようになし、また２番目以後の移載であって、しかも移載のタイミングが異なるステージ間では、もうひとつのマスク搬送手段２０Ａを用いて搬送・移載することによって、マスク部材４を円滑に移載できるようになる。

以上によって、ドライ洗浄とウエット洗浄という異なる洗浄方式を組み合わせて行うマスククリーニングと、しかもウエット洗浄後のマスク部材４の乾燥とを迅速かつ効率的に行うことができ、マスク部材４を遅滞なく、円滑に各ステージに搬送することができるようになる。

１マスク板２微小透孔
３枠体４マスク部材
１０ロードステージ１１ドライ洗浄ステージ
１２第１のウエット洗浄ステージ１３第２のウエット洗浄ステージ
１４乾燥ステージ１５アンロードステージ
２０Ｃ同期式マスク搬送手段２０Ａ非同期式マスク搬送手段

Claims

有機ＥＬのパターン形成のために用いたマスク部材に、パターン形成時に付着した有機材料を除去する有機ＥＬ用マスク部材のクリーニングを行うマスククリーニング装置であって、
洗浄すべきマスク部材のロードステージと、
前記マスク部材に対してレーザ光を走査させることによって、このマスク部材に付着している有機材料を剥離させて回収するドライ洗浄ステージと、
複数の洗浄ステージからなり、ドライ洗浄ステージで有機材料を除去したマスク部材を液に接触させることにより行われるウエット洗浄ステージと、
前記ウエット洗浄ステージで洗浄されたマスク部材を乾燥させる乾燥ステージと、
前記ロードステージから前記ドライ洗浄ステージに前記マスク部材を搬入するロード専用の同期式マスク搬送手段と、
前記ドライ洗浄ステージから前記マスク部材を、前記ウエット洗浄ステージを構成する任意のウエット洗浄ステージに供給し、また任意のウエット洗浄ステージから任意のウエット洗浄ステージに供給し、さらに最終段のウエット洗浄ステージから前記乾燥ステージに移載する非同期式マスク搬送手段と
から構成したことを特徴とするマスククリーニング装置。
前記ウエット洗浄ステージは、ディッピングによる洗浄を行う１または複数の第１のウエット洗浄ステージと、シャワー洗浄を行う１または複数の第２のウエット洗浄ステージとを含むものであることを特徴とする請求項１記載のマスククリーニング装置。
前記乾燥ステージの後段には、所定枚数の清浄化されたマスク部材を収納するアンロードステージを設ける構成としたことを特徴とする請求項１または請求項２記載のマスククリーニング装置。