JP2802783B2 - ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 - Google Patents
ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置Info
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- Cleaning In General (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、電子装置等に使用されるハードディスクの
基板を洗浄し乾燥させる装置に関する。
基板を洗浄し乾燥させる装置に関する。
［従来の技術］ コンピュータ等の電子装置の補助記憶装置としてハー
ドディスクを使用する傾向は近年特に強まり、ハードデ
ィスクを早く且つ安価に製造することが益々要求されて
いる。周知の如く、ハードディスク基板上に磁性体を設
ける前にハードデイスク基板（以下単に基板という場合
がある）を研削して研磨し、研磨後の基板を洗浄・乾燥
させる必要がある。
ドディスクを使用する傾向は近年特に強まり、ハードデ
ィスクを早く且つ安価に製造することが益々要求されて
いる。周知の如く、ハードディスク基板上に磁性体を設
ける前にハードデイスク基板（以下単に基板という場合
がある）を研削して研磨し、研磨後の基板を洗浄・乾燥
させる必要がある。
従来の基板洗浄・乾燥装置では、基板を１枚づつ装置
に搬入し、搬入した１枚の基板を洗浄・乾燥させた後に
基板を取り出し、次の１枚を装置に搬入して上記の動作
を繰り返している。即ち、基板を１枚づつ装置に搬入し
て洗浄・乾燥して搬出していたため、処理時間が長いと
いう欠点があった。
に搬入し、搬入した１枚の基板を洗浄・乾燥させた後に
基板を取り出し、次の１枚を装置に搬入して上記の動作
を繰り返している。即ち、基板を１枚づつ装置に搬入し
て洗浄・乾燥して搬出していたため、処理時間が長いと
いう欠点があった。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、複数のハードディスク基板を一枚づつ装置
に搬入し、搬入された複数の基板を順次洗浄工程及び乾
燥工程に搬送し、いわばベルトコンベア式に複数の基板
を次々に洗浄して乾燥させることにより上述の従来の欠
点を克服している。
に搬入し、搬入された複数の基板を順次洗浄工程及び乾
燥工程に搬送し、いわばベルトコンベア式に複数の基板
を次々に洗浄して乾燥させることにより上述の従来の欠
点を克服している。
［課題を解決するための手段及び作用］ 本発明の一態様は、基板洗浄部と；基板乾燥部と；上
記基板洗浄部に設けた少なくとも第１、第２及び第３の
基板保持手段と；上記基板乾燥部に設けた少なくとも第
１、第２及び第３の基板保持手段と；上記基板洗浄部と
上記基板乾燥部の間に設けた基板搬送手段と；上記基板
洗浄部に設けた上記第１、第２及び第３の基板保持手段
は、順次、基板を受け取る基板受取位置、基板を洗浄す
る基板洗浄位置、洗浄後の基板を取り外す基板取外位置
に移動し；上記基板乾燥部に設けた上記第１、第２及び
第３の基板保持手段は、順次、基板を受け取る基板受取
位置、基板を乾燥させる基板乾燥位置、乾燥後の基板を
取り外す基板取外位置に移動し；外部から上記基板洗浄
部に供給された基板を洗浄した後、洗浄後の基板を上記
基板搬送手段により上記基板乾燥部に供給し、乾燥後の
基板を外部に取り出すことを特徴とするハードディスク
基板の洗浄・乾燥装置である。
記基板洗浄部に設けた少なくとも第１、第２及び第３の
基板保持手段と；上記基板乾燥部に設けた少なくとも第
１、第２及び第３の基板保持手段と；上記基板洗浄部と
上記基板乾燥部の間に設けた基板搬送手段と；上記基板
洗浄部に設けた上記第１、第２及び第３の基板保持手段
は、順次、基板を受け取る基板受取位置、基板を洗浄す
る基板洗浄位置、洗浄後の基板を取り外す基板取外位置
に移動し；上記基板乾燥部に設けた上記第１、第２及び
第３の基板保持手段は、順次、基板を受け取る基板受取
位置、基板を乾燥させる基板乾燥位置、乾燥後の基板を
取り外す基板取外位置に移動し；外部から上記基板洗浄
部に供給された基板を洗浄した後、洗浄後の基板を上記
基板搬送手段により上記基板乾燥部に供給し、乾燥後の
基板を外部に取り出すことを特徴とするハードディスク
基板の洗浄・乾燥装置である。
［実施例］ 以下、添付の図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。
る。
第１図は本発明に係るハードデイスク基板の洗浄・乾
燥装置を正面からみた概略図、第２図は第１図の基板洗
浄部及び基板乾燥部の主要部を示す図である。
燥装置を正面からみた概略図、第２図は第１図の基板洗
浄部及び基板乾燥部の主要部を示す図である。
先ず第１図を参照して本発明の実施例を説明する。
第１図において、参照番号10及び12は夫々装置の基板
洗浄部及び基板乾燥部を示す。参照番号14は洗浄・乾燥
前の基板を複数枚収納するマガジンであり、複数個のマ
ガジンが紙面に対して垂直方向に動くマガジン搬送手段
16上に置かれる。参照番号18は、基板取り出し位置にあ
るマガジン14から基板を１枚づつ取り出して基板洗浄部
10に搬送する搬送手段であり、基板を掴み或いは離すア
ーム20（矢印22で示す垂直方向に移動可能）、アーム20
を矢印23で示す水平方向に移動させるレール24等を有す
る。参照番号26,28は夫々基板洗浄部10及び基板乾燥部1
2の操作パネルである。
洗浄部及び基板乾燥部を示す。参照番号14は洗浄・乾燥
前の基板を複数枚収納するマガジンであり、複数個のマ
ガジンが紙面に対して垂直方向に動くマガジン搬送手段
16上に置かれる。参照番号18は、基板取り出し位置にあ
るマガジン14から基板を１枚づつ取り出して基板洗浄部
10に搬送する搬送手段であり、基板を掴み或いは離すア
ーム20（矢印22で示す垂直方向に移動可能）、アーム20
を矢印23で示す水平方向に移動させるレール24等を有す
る。参照番号26,28は夫々基板洗浄部10及び基板乾燥部1
2の操作パネルである。
基板洗浄部10は、矢印29の方向に回転可能なインデッ
クステーブル30、このインデックステーブル30上に設け
た４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく述べる）、
第１及び第２の基板洗浄器32,34等を有する。基板洗浄
器32,34は後述するように夫々基板洗浄用のパッド及び
ローラを有し、洗浄動作時には矢印32a及び34aの向きに
移動して図示の位置で基板の洗浄を行なう。基板洗浄部
10で洗浄が終了した基板は、基板搬送手段40により基板
乾燥部12に搬送される。基板乾燥部12は、矢印41の方向
に回転可能のインデックステーブル42、このテーブル42
上に設けた４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく述
べる）等を有する。基板乾燥部12で乾燥した基板は、基
板搬送手段50により搬出されてマガジン60に収納され
る。基板搬送手段50は、上述した基板搬送手段18と同様
に、基板を掴み或いは離すアーム52（矢印53で示す垂直
方向に移動可能）、このアームを水平方向（矢印55）に
移動させるレール54等を有する。マガジン搬送手段62は
紙面に垂直の方向に移動可能であり、複数のマガジンを
移動させて洗浄・乾燥済みの基板を順次カセットに収納
する。
クステーブル30、このインデックステーブル30上に設け
た４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく述べる）、
第１及び第２の基板洗浄器32,34等を有する。基板洗浄
器32,34は後述するように夫々基板洗浄用のパッド及び
ローラを有し、洗浄動作時には矢印32a及び34aの向きに
移動して図示の位置で基板の洗浄を行なう。基板洗浄部
10で洗浄が終了した基板は、基板搬送手段40により基板
乾燥部12に搬送される。基板乾燥部12は、矢印41の方向
に回転可能のインデックステーブル42、このテーブル42
上に設けた４つの基板保持搬送手段（第２図で詳しく述
べる）等を有する。基板乾燥部12で乾燥した基板は、基
板搬送手段50により搬出されてマガジン60に収納され
る。基板搬送手段50は、上述した基板搬送手段18と同様
に、基板を掴み或いは離すアーム52（矢印53で示す垂直
方向に移動可能）、このアームを水平方向（矢印55）に
移動させるレール54等を有する。マガジン搬送手段62は
紙面に垂直の方向に移動可能であり、複数のマガジンを
移動させて洗浄・乾燥済みの基板を順次カセットに収納
する。
次に、第２図（Ａ）及び（Ｂ）を参照して更に詳細に
本発明を説明する。
本発明を説明する。
第２図（Ａ）及び（Ｂ）は夫々第１図の基板洗浄部10
及び基板乾燥部12の主要部を示す図である。
及び基板乾燥部12の主要部を示す図である。
第２図（Ａ）の基板洗浄部10は上述したようにインデ
ックステーブル30を有し、このインデックステーブル30
は軸31を中心として矢印29の方向に回転可能であり、図
示の実施例では、第１乃至第４の基板保持搬送手段70,7
2,74及び76を有する。基板保持搬送手段70は基板保持具
70a,70b及び70cにより基板の外周を回転可能に保持す
る。同様に、他の基板保持搬送手段72,74及び76も夫々
３個づつ基板保持具（72a,72b,72c,74a,74b,74c,76a,76
b,76c）を有する。第２図では、基板保持搬送手段70,7
2,74,76は、夫々、基板受取位置M1、第１基板洗浄位置M
2、第２基板洗浄位置M3、基板取出位置M4にあり、基板
を回転可能に保持している状態を示している。
ックステーブル30を有し、このインデックステーブル30
は軸31を中心として矢印29の方向に回転可能であり、図
示の実施例では、第１乃至第４の基板保持搬送手段70,7
2,74及び76を有する。基板保持搬送手段70は基板保持具
70a,70b及び70cにより基板の外周を回転可能に保持す
る。同様に、他の基板保持搬送手段72,74及び76も夫々
３個づつ基板保持具（72a,72b,72c,74a,74b,74c,76a,76
b,76c）を有する。第２図では、基板保持搬送手段70,7
2,74,76は、夫々、基板受取位置M1、第１基板洗浄位置M
2、第２基板洗浄位置M3、基板取出位置M4にあり、基板
を回転可能に保持している状態を示している。
第２図（Ａ）では、第１図に示した基板洗浄器32,34
の全体の図示を省略し、洗浄器32の主要部である洗浄具
80a,80b,80c、及び洗浄器34の主要部である洗浄具82a,8
2b,82cを示している。洗浄具80aは基板の片面を洗浄す
るパッド状の洗浄具（例えばスポンジパッド）であり、
他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板の背後にあるため
図示していない。つまり、２個のパッド状の洗浄具で基
板を挟んでその表面を洗浄する。一方、洗浄具80b,80c
は例えばローラ状の洗浄具であり、基板の外周及び内周
を洗浄するためのものである。洗浄具82a,82b及び82cは
夫々上記の洗浄具80a,80b,80cに対応し同様の動作をす
るので、詳細な説明は省略する。上述の如く２個のパッ
ド状の洗浄具で基板を挟んで基板の表面を洗浄するの
で、基板保持搬送手段70,72,74,76は夫々基板を例えば1
0cm乃至15cm程度インデックステーブル30から離して保
持する。
の全体の図示を省略し、洗浄器32の主要部である洗浄具
80a,80b,80c、及び洗浄器34の主要部である洗浄具82a,8
2b,82cを示している。洗浄具80aは基板の片面を洗浄す
るパッド状の洗浄具（例えばスポンジパッド）であり、
他の面を洗浄する同様の洗浄具は基板の背後にあるため
図示していない。つまり、２個のパッド状の洗浄具で基
板を挟んでその表面を洗浄する。一方、洗浄具80b,80c
は例えばローラ状の洗浄具であり、基板の外周及び内周
を洗浄するためのものである。洗浄具82a,82b及び82cは
夫々上記の洗浄具80a,80b,80cに対応し同様の動作をす
るので、詳細な説明は省略する。上述の如く２個のパッ
ド状の洗浄具で基板を挟んで基板の表面を洗浄するの
で、基板保持搬送手段70,72,74,76は夫々基板を例えば1
0cm乃至15cm程度インデックステーブル30から離して保
持する。
次に、第２図（Ａ）を参照して基板の洗浄動作につい
て更に詳細に説明する。先ず、基板保持搬送手段70,72,
74,76は夫々基板を保持していない状態と仮定する。第
１図に示した基板搬送手段18が、マガジン14から１枚の
基板（第１の基板）を取り出し、基板受取位置M1にある
基板保持搬送手段70まで基板を搬送する。基板保持搬送
手段70は例えば３個の基板保持具70a,70b,70cを夫々外
側にずらして基板を受け取り、基板を回転可能に保持す
る。その後、インデックステーブル30が矢印29の方向に
90度回転し、基板保持搬送手段70,76は夫々第１基板洗
浄位置M2及び基板受取位置M1となる。基板受取位置M1に
ある基板保持搬送手段への第２枚目の基板（第２の基
板）の取付は上述の通りなので説明を省略する。基板保
持搬送手段70が第１基板洗浄位置M1になると、基板洗浄
器32が第１図に示す位置に移動し、基板の両面、内周、
外周の夫々を洗浄具80a,80b,80cを用いて中性洗剤によ
りスクラブ洗浄する。基板は回転自由に保持されている
ので、スポンジパッド80aの回転により“ならい”回転
をする。基板受取位置M1において基板の受取が完了し且
つ第１基板洗浄位置M2で基板の洗浄が終了すると、基板
洗浄器32はインデックステーブル30の回転に支障がない
位置に待避し、インデックステーブル30が矢印29の方向
に90度回転する。この回転により、基板保持搬送手段7
0,76,74は夫々第２基板洗浄位置M3、第１基板洗浄位置M
2、基板受取位置M1となる。第１の基板洗浄器32と同様
の構成の第２の基板洗浄器34は、市水或いは純水により
基板を更に洗浄する。この間に、基板洗浄器32は第２の
基板を中性洗剤により洗浄し、基板受取位置M1にある基
板保持搬送手段74は第３枚目の基板（第３の基板）を受
け取っている。基板の受け取り、第１及び第２の基板洗
浄が完了すると、インデックステーブル30は更に90度回
転し、基板保持搬送手段70,76,74,72は夫々基板取出位
置M4、第２基板洗浄位置M3、第１基板洗浄位置M2、基板
受取位置M1となる。基板取出位置M4にきた第１の基板は
例えば純水のシャワーリンスを受けた後、第１図に示す
基板搬送手段40により取り外され、第２図（Ｂ）に示す
基板乾燥部12に運ばれる。このようにして、基板洗浄部
10は複数の基板を順次洗浄して次段の基板乾燥部12に送
り出す。
て更に詳細に説明する。先ず、基板保持搬送手段70,72,
74,76は夫々基板を保持していない状態と仮定する。第
１図に示した基板搬送手段18が、マガジン14から１枚の
基板（第１の基板）を取り出し、基板受取位置M1にある
基板保持搬送手段70まで基板を搬送する。基板保持搬送
手段70は例えば３個の基板保持具70a,70b,70cを夫々外
側にずらして基板を受け取り、基板を回転可能に保持す
る。その後、インデックステーブル30が矢印29の方向に
90度回転し、基板保持搬送手段70,76は夫々第１基板洗
浄位置M2及び基板受取位置M1となる。基板受取位置M1に
ある基板保持搬送手段への第２枚目の基板（第２の基
板）の取付は上述の通りなので説明を省略する。基板保
持搬送手段70が第１基板洗浄位置M1になると、基板洗浄
器32が第１図に示す位置に移動し、基板の両面、内周、
外周の夫々を洗浄具80a,80b,80cを用いて中性洗剤によ
りスクラブ洗浄する。基板は回転自由に保持されている
ので、スポンジパッド80aの回転により“ならい”回転
をする。基板受取位置M1において基板の受取が完了し且
つ第１基板洗浄位置M2で基板の洗浄が終了すると、基板
洗浄器32はインデックステーブル30の回転に支障がない
位置に待避し、インデックステーブル30が矢印29の方向
に90度回転する。この回転により、基板保持搬送手段7
0,76,74は夫々第２基板洗浄位置M3、第１基板洗浄位置M
2、基板受取位置M1となる。第１の基板洗浄器32と同様
の構成の第２の基板洗浄器34は、市水或いは純水により
基板を更に洗浄する。この間に、基板洗浄器32は第２の
基板を中性洗剤により洗浄し、基板受取位置M1にある基
板保持搬送手段74は第３枚目の基板（第３の基板）を受
け取っている。基板の受け取り、第１及び第２の基板洗
浄が完了すると、インデックステーブル30は更に90度回
転し、基板保持搬送手段70,76,74,72は夫々基板取出位
置M4、第２基板洗浄位置M3、第１基板洗浄位置M2、基板
受取位置M1となる。基板取出位置M4にきた第１の基板は
例えば純水のシャワーリンスを受けた後、第１図に示す
基板搬送手段40により取り外され、第２図（Ｂ）に示す
基板乾燥部12に運ばれる。このようにして、基板洗浄部
10は複数の基板を順次洗浄して次段の基板乾燥部12に送
り出す。
第２図（Ｂ）の基板乾燥部12は第１図にも示したよう
にインデックステーブル42を有し、軸43を中心にして矢
印41の方向に回転可能である。インデックステーブル42
には、第１乃至第４の基板保持搬送手段100,102,104,10
6が設けられ、夫々、基板受取位置N1、第１乾燥位置N
2、第２乾燥位置N3、基板取出位置N4にある（図示の状
態）。基板乾燥部12の基板保持搬送手段100,102,104,10
6は夫々基板の内周壁の３点で基板を固定して保持す
る。参照番号110,112,114,116は基板を遠心力で乾燥さ
せる際の水滴飛散防止用の壁である。
にインデックステーブル42を有し、軸43を中心にして矢
印41の方向に回転可能である。インデックステーブル42
には、第１乃至第４の基板保持搬送手段100,102,104,10
6が設けられ、夫々、基板受取位置N1、第１乾燥位置N
2、第２乾燥位置N3、基板取出位置N4にある（図示の状
態）。基板乾燥部12の基板保持搬送手段100,102,104,10
6は夫々基板の内周壁の３点で基板を固定して保持す
る。参照番号110,112,114,116は基板を遠心力で乾燥さ
せる際の水滴飛散防止用の壁である。
次に、第２図（Ｂ）の基板乾燥部12の動作を説明す
る。先ず、基板保持搬送手段100,102,104,106は夫々基
板を保持していないとする。第１枚目の基板（第１の基
板）が第２図（Ａ）から基板受取位置N1にある基板保持
搬送手段100に取り付けられると、インデックステーブ
ル42は矢印41の方向に90度回転し、基板保持搬送手段10
0,102,104,106は夫々N2,N3,N4,N1で示す基板処理位置に
なる。第１基板乾燥位置N2に移動した第１の基板に付着
した水分は高速回転により除去される（スピン乾燥）。
第１基板乾燥位置N2でのスピン乾燥が終了し且つ第２枚
目の基板（第２の基板）が基板保持搬送手段106に取り
付けられると、インデックステーブル42は更に90度回転
し、基板保持搬送手段100,102,104,106は夫々N3,N2,N1,
N4で示す基板処理位置になる。第１の基板は第２乾燥位
置N3において更にスピン乾燥を受けるが、実施例の４個
の基板保持搬送手段は夫々スピン乾燥用のモータを備え
ているので、第１の基板が第１乾燥位置N1から第２乾燥
位置N2に移行する途中においてもスピン乾燥を行なうよ
うにすれば効率がよい。一方、第３枚目の基板（第３の
基板）が基板保持搬送手段104に取り付けられ、第２の
基板は最初のスピン乾燥処理を受ける。次に、インデッ
クステーブル42が更に90度回転し、基板保持搬送手段10
0,102,104,106は夫々N4,N3,N2,N1で示す基板処理位置に
なり、第１の基板は搬送手段50により搬出される。一
方、第４枚目の基板（第４の基板）が基板保持搬送手段
106に取り付けられると共に、第２及び第３の基板は夫
々第１及び第２のスピン乾燥処理を受ける。このように
して、基板洗浄部10から送られてくる複数の洗浄済み基
板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
る。先ず、基板保持搬送手段100,102,104,106は夫々基
板を保持していないとする。第１枚目の基板（第１の基
板）が第２図（Ａ）から基板受取位置N1にある基板保持
搬送手段100に取り付けられると、インデックステーブ
ル42は矢印41の方向に90度回転し、基板保持搬送手段10
0,102,104,106は夫々N2,N3,N4,N1で示す基板処理位置に
なる。第１基板乾燥位置N2に移動した第１の基板に付着
した水分は高速回転により除去される（スピン乾燥）。
第１基板乾燥位置N2でのスピン乾燥が終了し且つ第２枚
目の基板（第２の基板）が基板保持搬送手段106に取り
付けられると、インデックステーブル42は更に90度回転
し、基板保持搬送手段100,102,104,106は夫々N3,N2,N1,
N4で示す基板処理位置になる。第１の基板は第２乾燥位
置N3において更にスピン乾燥を受けるが、実施例の４個
の基板保持搬送手段は夫々スピン乾燥用のモータを備え
ているので、第１の基板が第１乾燥位置N1から第２乾燥
位置N2に移行する途中においてもスピン乾燥を行なうよ
うにすれば効率がよい。一方、第３枚目の基板（第３の
基板）が基板保持搬送手段104に取り付けられ、第２の
基板は最初のスピン乾燥処理を受ける。次に、インデッ
クステーブル42が更に90度回転し、基板保持搬送手段10
0,102,104,106は夫々N4,N3,N2,N1で示す基板処理位置に
なり、第１の基板は搬送手段50により搬出される。一
方、第４枚目の基板（第４の基板）が基板保持搬送手段
106に取り付けられると共に、第２及び第３の基板は夫
々第１及び第２のスピン乾燥処理を受ける。このように
して、基板洗浄部10から送られてくる複数の洗浄済み基
板を順次受け取って乾燥処理を行なう。
第１図及び第２図を参照した上述の説明では、２段階
の基板洗浄及び２段階の基板乾燥を行なっている。しか
しながら、本発明はこの２段階の洗浄・乾燥に限定され
るものではなく、場合によっては、１段階の洗浄及び１
段階の乾燥であってもよい。この場合、各インデックス
テーブルに設ける基板保持搬送手段の数を３個にしても
よい。更に、インデックステーブル30,42は夫々４個の
基板保持搬送手段を有するが、５個以上の基板搬送保持
手段を設けるようにしてもよい。
の基板洗浄及び２段階の基板乾燥を行なっている。しか
しながら、本発明はこの２段階の洗浄・乾燥に限定され
るものではなく、場合によっては、１段階の洗浄及び１
段階の乾燥であってもよい。この場合、各インデックス
テーブルに設ける基板保持搬送手段の数を３個にしても
よい。更に、インデックステーブル30,42は夫々４個の
基板保持搬送手段を有するが、５個以上の基板搬送保持
手段を設けるようにしてもよい。
［発明の効果］ 以上の説明で明らかなように、本発明に係る装置によ
れば、大量の基板を連続して洗浄・乾燥することが可能
であり、従来の装置と比較し、処理時間を大幅に短縮で
きるという顕著な効果を有する。
れば、大量の基板を連続して洗浄・乾燥することが可能
であり、従来の装置と比較し、処理時間を大幅に短縮で
きるという顕著な効果を有する。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の一実施例を説明する概略図、第２図は
第１図の主要部を詳しく説明するための図である。 図中、10は基板洗浄部、12は基板乾燥部、30,42は夫々
インデックステーブル、32,34は夫々基板乾燥器、18,4
0,50は夫々基板搬送手段、70,72,74,76,100,102,104,10
6は夫々基板保持搬送手段を示す。
第１図の主要部を詳しく説明するための図である。 図中、10は基板洗浄部、12は基板乾燥部、30,42は夫々
インデックステーブル、32,34は夫々基板乾燥器、18,4
0,50は夫々基板搬送手段、70,72,74,76,100,102,104,10
6は夫々基板保持搬送手段を示す。
Claims (2)
- 【請求項１】基板洗浄部と、 基板乾燥部と、 上記基板洗浄部に設けた少なくとも第１、第２及び第３
の基板保持手段と、 上記基板乾燥部に設けた少なくとも第１、第２及び第３
の基板保持手段と、 上記基板洗浄部と上記基板乾燥部の間に設けた基板搬送
手段と、 上記基板洗浄部に設けた上記第１、第２及び第３の基板
保持手段は、順次、基板を受け取る基板受取位置、基板
を洗浄する基板洗浄位置、洗浄後の基板を取り外す基板
取外位置に移動し、 上記基板乾燥部に設けた上記第１、第２及び第３の基板
保持手段は、順次、基板を受け取る基板受取位置、基板
を乾燥させる基板乾燥位置、乾燥後の基板を取り外す基
板取外位置に移動し、 外部から上記基板洗浄部に供給された基板を洗浄した
後、洗浄後の基板を上記基板搬送手段により上記基板乾
燥部に供給し、乾燥後の基板を外部に取り出すことを特
徴とするハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。 - 【請求項２】上記基板洗浄部に設けた上記第１、第２及
び第３の基板保持手段は、第１のインデックステーブル
に設置され、該第１のインデックステーブルの所定角度
の回転により上記基板受取位置、上記基板洗浄位置、及
び上記基板取外位置に順次移動し、 上記基板乾燥部に設けた上記第１、第２及び第３の基板
保持手段は、第２のインデックステーブルに設置され、
該第２のインデックステーブルの所定角度の回転により
上記基板受取位置、上記基板乾燥位置、及び上記基板取
外位置に順次移動する、 請求項１記載のハードディスク基板の洗浄・乾燥装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1228993A JP2802783B2 (ja) | 1989-09-04 | 1989-09-04 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| US08/061,107 US5357645A (en) | 1989-04-09 | 1993-05-14 | Apparatus for cleaning and drying hard disk substrates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1228993A JP2802783B2 (ja) | 1989-09-04 | 1989-09-04 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0393040A JPH0393040A (ja) | 1991-04-18 |
| JP2802783B2 true JP2802783B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=16885085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1228993A Expired - Lifetime JP2802783B2 (ja) | 1989-04-09 | 1989-09-04 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2802783B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005074313A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Shibuya Machinery Co Ltd | 洗浄装置 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1011749A (ja) * | 1996-06-27 | 1998-01-16 | Speedfam Co Ltd | ディスクの洗浄及び乾燥装置 |
| JP2000024601A (ja) * | 1998-07-09 | 2000-01-25 | Speedfam Clean System Kk | ディスク形ワークの洗浄装置 |
| JP2007280451A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置及びその基板搬送方法 |
| JP4556245B2 (ja) * | 2006-04-03 | 2010-10-06 | 株式会社太陽 | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP2008021342A (ja) * | 2006-07-10 | 2008-01-31 | Taiyo:Kk | ハードディスク基板の洗浄・乾燥装置 |
| JP5022714B2 (ja) * | 2007-01-22 | 2012-09-12 | 中村留精密工業株式会社 | 乾燥機 |
| JP4843523B2 (ja) * | 2007-02-27 | 2011-12-21 | 本田技研工業株式会社 | 車体の溶接装置および車体の生産方法 |
| JP4858334B2 (ja) * | 2007-07-06 | 2012-01-18 | 中西金属工業株式会社 | 昇降機能付き吊下げ搬送車 |
-
1989
- 1989-09-04 JP JP1228993A patent/JP2802783B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005074313A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Shibuya Machinery Co Ltd | 洗浄装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0393040A (ja) | 1991-04-18 |
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