JP2000107713A

JP2000107713A - ディスク用カセットの洗浄装置

Info

Publication number: JP2000107713A
Application number: JP10281790A
Authority: JP
Inventors: Toshiharu Tachibana; 敏晴橘; Kazuo Kuribayashi; 和生栗林; Hiroshi Hiroi; 洋広井; Mamoru Ogawa; 守小川; Yoshinori Saito; 喜則斎藤
Original assignee: Tamagawa Machinery Co Ltd
Current assignee: Tamagawa Machinery Co Ltd
Priority date: 1998-10-02
Filing date: 1998-10-02
Publication date: 2000-04-18
Anticipated expiration: 2018-10-02
Also published as: JP3448602B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ディスク用カセットの自動洗浄を可能し、洗
浄効果に優れたディスク用カセットの洗浄装置を提供す
る。【解決手段】複数のディスク６が収納可能で上下が開
口したカセット１を洗浄する。回転ブラシ31，37，47を
備えたブラシ洗浄槽12と、このブラシ洗浄槽12で処理し
たカセット１を超音波洗浄する超音波洗浄槽14と、この
超音波洗浄槽14で超音波洗浄したカセット１を濯ぐ濯ぎ
槽15と、この濯ぎ槽15で濯いたカセット１を乾燥する乾
燥装置17とを設ける。それらブラシ洗浄槽12，超音波洗
浄槽14，濯ぎ槽15，乾燥装置17に順次カセット１を移送
する搬送装置21とを備える。ブラシ洗浄槽12で回転ブラ
シ31，37，47により洗浄され、超音波洗浄槽14で超音波
洗浄され、濯ぎ槽15で濯がれ、乾燥装置17により乾燥さ
れ、一連の洗浄及び乾燥を自動化できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、ディスクを収納し
て運搬等に使用するディスク用カセットの洗浄装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータのメモリ基板として使用さ
れるアルミニウム製及び硝子製のディスクの運搬には、
合成樹脂製のカセットが使用され、これの一例を図２８
及び図２９に示すと、カセット１は左，右の側板２，２
と前，後の側板３，３とを有し、前後の側板３，３には
略Ｕ字状の切欠開口部４が設けられ、前記左，右の側板
２，２は下部側が幅狭に形成され、それら左右の側板
２，２の内面には、縦方向の溝５が前後に並んで複数形
成され、これら溝５の下部側は内側に向かう円弧状をな
している。そして、前記溝５にディスク６を挿入して係
合支持し、図示しない上蓋によりカセット１の上部開口
７及び切欠開口部４を閉成すると共に、図示しない下蓋
によりカセット１の下部開口８を閉成し、複数のディス
ク６を収納したカセット１を運搬する。

【０００３】そして、上記のようなカセット１は繰り返
し使用されるため、カセット１が汚れると、内部に収納
するディスク６にごみ等が付着し、ディスク６の清浄性
が低下する問題があり、このため、従来では、手作業に
よりカセット１の洗浄が行われていた。しかし、手作業
によるものであるため、能率が劣ると共に、均一な清浄
性が得られないという問題がある。

【０００４】一方、カセット１の洗浄が手作業で行われ
ているのに対して、上記のディスク６等では、それ自体
の洗浄を行うために各種の洗浄装置が開発されている。
例えば、実公平４−２２４１１号公報には、ディスク形
の被洗浄物を洗浄するために、最も供給口側に位置する
洗浄槽は、洗浄液として洗剤を使用し、ヒータで加熱し
た洗剤中に被洗浄物を浸漬揺動させながら超音波洗浄
し、２番目の洗浄槽は、ブラシによって被洗浄物を洗浄
するスクラバ洗浄槽とし、３番目の洗浄槽は、純水を使
用し、これに被洗浄物を浸漬揺動させることによってそ
の洗浄を行い、４番目の洗浄槽は、有機溶剤中に被洗浄
物を浸漬して揺動させながら超音波洗浄し、５番目の洗
浄槽は、有機溶剤を使用して浸漬揺動する洗浄槽であ
り、６番目の洗浄槽は、有機溶剤の蒸気を使用する蒸気
槽（公報第４欄第21〜37行）となっており、前記２番目
の洗浄槽は、ブラシに水を供給するスプレー管を備えて
いる（公報第５欄第23〜24行）。

【０００５】また、同様にディスク６等を洗浄する洗浄
装置として、特開昭６３−８６１７７号公報には、ワー
クをエアチャックにより保持可能なターンテーブルをモ
ータ等の駆動源により駆動回転自在に配置し、該ターン
テーブルの上方に、ワークに洗浄液を噴射する少なくと
も１つの洗浄用ノズルと、乾燥ガスを噴射する乾燥用ノ
ズルとを、ワークの半径方向へ経時的に変位可能に配設
（公報特許請求の範囲）する洗浄装置が提案され、この
洗浄装置では、乾燥用ノズルからの窒素ガスの噴射とタ
ーンテーブルの高速回転に伴なう遠心力とによるスピン
乾燥（公報第３頁右上欄第13〜15行）を行う。

【０００６】これらのようにディスクの洗浄装置は多数
開発され、洗浄の自動化が図られているが、上記のよう
にカセット１は手作業による洗浄が行われているため、
否能率的であった。また、仮に上記のディスクの洗浄装
置をそのままカセットの洗浄に用いようとしても、カセ
ットはディスクとは形状が大きく異なるため、十分な洗
浄効果を得ることができない。

【０００７】また、上記実公平４−２２４１１号公報の
洗浄装置のように、ブラシに水を供給しながら洗浄する
ものでは、汚れを含んだ水が飛散して被洗浄物の残る虞
があると共に、ノズルから供給する水だけでは被洗浄物
の一部が空気に触れるため、静電気等により被洗浄物に
汚れが付着する虞がある。

【０００８】そこで、本発明は、ディスク用カセットの
自動洗浄を可能し、洗浄効果に優れたディスク用カセッ
トの洗浄装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
のディスクが収納可能で上下が開口したカセットを洗浄
する洗浄装置において、前記カセットを洗浄する回転ブ
ラシを備えたブラシ洗浄槽と、このブラシ洗浄槽で処理
したカセットを超音波洗浄する超音波洗浄槽と、この超
音波洗浄槽で超音波洗浄したカセットを濯ぐ濯ぎ槽と、
この濯ぎ槽で濯いたカセットを乾燥する乾燥装置と、前
記ブラシ洗浄槽，超音波洗浄槽，濯ぎ槽，乾燥装置に順
次前記カセットを移送する搬送装置とを備えるものであ
る。

【００１０】この請求項１の構成によれば、移送手段に
よりカセットがブラシ洗浄槽，超音波洗浄槽，濯ぎ槽，
乾燥装置に順次移送され、カセットは、ブラシ洗浄槽で
ブラシにより洗浄され、超音波洗浄槽で超音波洗浄さ
れ、濯ぎ槽で濯がれ、乾燥装置により乾燥され、一連の
洗浄及び乾燥を自動化できる。

【００１１】また、請求項２の発明は、前記回転ブラシ
を洗浄液中に配置したものである。この請求項２の構成
によれば、カセットを洗浄液中で洗浄するから、回転ブ
ラシによる洗浄中にカセットが空気に触れることがな
く、汚れた洗浄液が飛散して部分的にカセットに付着し
たり、静電気により空気中のごみが付着することがな
い。

【００１２】さらに、請求項３の発明は、ブラシ洗浄槽
は、前記カセットの側面を洗浄する回転ブラシと、前記
カセットの開口部の縁を洗浄する回転ブラシと、前記カ
セットの内部を洗浄する回転ブラシを備えるものであ
る。

【００１３】この請求項３の構成によれば、各回転ブラ
シにより、カセットの開口部の縁と内面等を効果的に洗
浄する。

【００１４】また、請求項４の発明は、前記乾燥装置
が、前記カセットを回転して乾燥するスピン乾燥機であ
る。

【００１５】この請求項４の構成によれば、カセットを
回転し、その遠心力でカセットの乾燥を行なうことがで
きる。

【００１６】

【発明の実施形態】以下、本発明の実施例を添付図面を
参照して説明する。図１ないし図２６は本発明の第１実
施例を示し、上記従来例で説明した部位には同一符号を
付して説明すると、図１及び図２等に示すように、洗浄
装置の後側である搬入側には搬入装置11が設けられ、こ
の搬入装置11から前側である搬出側に向かって、ブラシ
洗浄槽12と、第１仮置き台13と、超音波洗浄槽14と、濯
ぎ槽15と、第２仮置き台16と、乾燥装置17と、搬出装置
18とが並んで設けられている。また、カセット１の搬送
装置21は、前記搬入装置11から送られてきたカセット１
を前記ブラシ洗浄槽12を経て第１仮置き台13に搬送する
第１搬送機22と、カセット１を第１仮置き台13から超音
波洗浄槽14と濯ぎ槽15とを経て第２仮置き台16に搬送す
る第２搬送機23と、カセット１を第２仮置き台16から乾
燥装置17を経て搬出装置18に搬送する第３搬送機24とを
備える。尚、前記各搬送機22，23，24は、いずれも上下
を反転した前記カセット１を２個ずつ搬送するものであ
る。

【００１７】図３乃至図５に示すように、前記ブラシ洗
浄槽12は、搬入側に左右一対の側面用回転ブラシ31，3
1，31，31が左右にそれぞれ配置され、これら対をなす
側面用回転ブラシ31，31はカセット１の搬送方向に沿っ
て設けられると共に、前記側面用回転ブラシ31は前記カ
セット１の前後長さより長く形成され、その回転中心軸
31Ａを軸受32によりブラシ洗浄槽12の後壁12Ｕに軸支
し、該回転中心軸31Ａの端部に従動ベルト車33を設け、
一対の従動ベルト車33，33に掛装した伝達ベルト34を、
回転駆動手段たるモータ35の駆動ベルト車36に掛装し、
前記モータ35の回転により対をなす前記側面用回転ブラ
シ31，31を回転するようになっている。また、前記側面
回転ブラシ31の前部下方には、左右方向の上縁用回転ブ
ラシ37，37が左右に設けられ、これら上縁用回転ブラシ
37，37の回転中心軸37Ａ，37Ａは、ブラシ洗浄槽12の左
右の軸受38，38により軸支され、回転駆動手段たるモー
タ38の回転により回転駆動する。また、左右の上縁用回
転ブラシ37，37の内端は、連結部材39により連結されて
いる。

【００１８】前記ブラシ洗浄槽12の前後方向中央側に
は、平板状のスポンジからなる摺動洗浄体41が左右に配
置されており、前記ブラシ洗浄槽12の底壁12Ｔに前後一
対の支持杆42，42を立設し、これら支持杆42，42の上部
にベース板43を設け、このベース板43と押え板44との間
に前記摺動洗浄体41を挟着し、この摺動洗浄体41は、前
記ベース板43及び押え板44より前後左右に幅広に形成さ
れ、かつ前記カセット１の下部開口８より大きく形成さ
れ、さらに、前記ベース板43及び押え板44は前記カセッ
ト１の下部開口８を通過可能な大きさに形成されてい
る。また、前記ブラシ洗浄槽12内には、洗浄液45を加熱
する加熱手段たるヒータ46が配設され、このヒータ46に
よりブラシ洗浄槽12の洗浄液45が所定の温度に加熱され
るようになっている。尚、洗浄液45としてはこの例で
は、純水を供給している。

【００１９】前記ブラシ洗浄槽12の前部には、左右に内
部用回転ブラシ47が前後方向に配置され、この内部用回
転ブラシ47は、カセット１より前後方向に長く形成され
ており、内部用回転ブラシ47の回転中心軸47Ａがブラシ
洗浄槽12の前に設けた軸受48により軸支され、回転駆動
手段たるモータ49により回転する。尚、図４及び図５に
示すように、前記ブラシ洗浄槽12において、回転ブラシ
31，37，47は洗浄液45中に没し、前記摺動洗浄体41の上
面は洗浄液45の液面45Ａとほぼ同一高さとなり、洗浄液
45に没している。また、前記仮置き台13，16には、該仮
置き台13，16を昇降する昇降手段50，50がそれぞれ設け
られている。

【００２０】前記第１搬送機22は、図６に示すように、
Ｌ形の移動体51を有し、この移動体51は前記ブラシ洗浄
槽12の側面に沿って移動可能に立設された縦杆52と、こ
の縦杆52に沿って昇降可能に設けられた左右方向の横杆
53とを有し、この横杆53に前記カセット１の下部を左右
から挟むエアーチャック54，54を前後に設け、このエア
ーチャック54は開閉手段たるエアーシリンダ54Ａにより
開閉する。すなわち横杆53の左右にはぞれぞれ前後に２
つのエアーチャック54，54が設けられ、前後２つのエア
ーチャック54，54により、カセット１の前後を挟持して
搬送する。また、前記縦杆52は図示しない移動手段によ
り前後に移動すると共に、横杆53は図示しない昇降手段
により昇降する。前記横杆52の後部には、スポンジ等か
らなる洗浄摺動体55が設けられ、この摺動洗浄体55は前
記カセット１の下部開口８側に摺動する。

【００２１】前記ブラシ洗浄槽12における処理工程は、
コンピュータ等の制御手段56にあらかじめ組み込まれた
プログラムにより行なわれ、まず、後述するように搬入
装置11により２個のカセット１，１が受渡し台57に送ら
れ、この受渡し台57上のカセット１，１に向かって移動
体51が水平移動し、横杆53がカセット１，１の上方位置
で停止し、エアーチャック54がカセット１の下部を挟持
する。この場合、横杆53の後部に設けた洗浄摺動体55が
カセット１の下部開口８の汚れを除去する。図５に示す
ように、移動体51の移動により、横杆53が側面用回転ブ
ラシ31の上部まで移動し、さらに、第１の深さＤ１まで
降下する。この第１の深さＤ１は、カセット１の上部開
口７が側面用回転ブラシ31の軸中心高さより低く、前記
上縁用回転ブラシ37に接触しない位置であり、第１の深
さＤ１で所定時間停止し、回転駆動する側面用回転ブラ
シ31，31により、カセット１の上部開口７の側面側が洗
浄される。この場合、前記所定時間の間に回転ブラシ3
1，31を正逆回転することができる。この後、移動体51
が降下してカセット１が第２の深さＤ２まで降下し、こ
の第２の深さＤ２は、カセット１の上部開口７が上縁用
回転ブラシ37に当たる位置である。尚、図５は、カセッ
ト１の上部開口７の移動を示している。第２の深さＤ２
まで降下した後、横杆53が前方に平行移動し、この間
に、回転する上縁用回転ブラシ37によりカセット１の上
縁側の洗浄が行なわれる。また、側面用回転ブラシ31は
回転を継続しているから、移動体51の前方移動の間に側
板２，２の洗浄が行なわれる。カセット１の後側の側板
３が上縁回転ブラシ37まで移動したら、移動体51が上昇
し、カセット１が洗浄液45の液面45Ａより上に上昇す
る。この上昇後、移動体51によりただちにカセット１が
前方に移送され摺動洗浄体41の上方で停止し、次いで洗
浄液45中に降下し、下部開口８が摺動洗浄体41位置まで
降下した後、カセット１が液面45Ａ上に上昇し、この降
下と上昇の際、摺動洗浄体41がカセット１の内面に摺動
し、特に下部開口８側の内面が効果的に洗浄される。移
動体51の上昇により、カセット１が液面45Ａ上に上昇し
た後、前方に移送され、内部用回転ブラシ47の上方まで
来て停止し、回転する内部用回転ブラシ47位置までカセ
ット１が降下して、回転する内部用回転ブラシ47により
内部の洗浄が行われ、カセット１はこの位置で所定時間
停止し、この所定時間の略２分の１が経過した後、回転
ブラシ47の回転が逆転して洗浄が行われ、移動体51によ
りカセット１が液面45Ａ上に上昇、前方に平行移動して
第１仮置き台13上まで移動して停止する。この時、図５
の実線に示すように、第１仮置き台13は降下位置にあ
り、昇降手段50により第１仮置き台13はカセット１を載
置する位置まで上昇し、前記エアーチャック54が開き、
この後、移動体51が次のカセット１を受け取るために、
受渡し台57の位置まで平行に後退し、上述した工程を制
御手段56による制御により繰り返す。

【００２２】前記第１仮置き台13の前方には、図８及び
図９に示すように、前記超音波洗浄槽14と濯ぎ槽15とが
並んで設けられている。前記超音洗浄槽14内の下部に
は、超音波振動発生手段61が設けられ、また、前記濯ぎ
槽15の内部には、加熱手段たるヒータ62が設けられ、こ
のヒータ62により濯ぎ槽15の洗浄液45の温度を４０〜６
０°Ｃ、好ましくは５０°Ｃ程度に加熱するようになっ
ている。

【００２３】前記第２搬送機23は、前記第１搬送機22と
ほぼ同一構成であり、Ｌ形の移動体51Ａを有し、この移
動体51Ａは超音波洗浄槽14と濯ぎ槽15の側面に沿って移
動可能に立設された縦杆52Ａと、この縦杆52Ａに昇降可
能に設けられた左右方向の横杆53Ａとを有し、横杆53Ａ
の左右に１つずつ前記エアーチャック54を設けており、
１つのカセット１を１つのエアーチャック54により挟持
して搬送する。

【００２４】前記超音波洗浄槽14と濯ぎ槽15における処
理工程も、前記制御手段56の制御により行われ、前記第
１仮置き台13上に搬送されたカセット１を、前記チャッ
ク54が挟持した後、第１仮置き台13が昇降手段50により
降下し、移動体51Ａが前方に水平移動して超音波洗浄槽
14の上部で停止して降下し、超音波洗浄槽14内の洗浄液
45中にカセット１を漬け、この位置で所定時間停止し、
超音波振動による洗浄が行われる。次に、移動体51Ａが
上昇し、カセット１を液面45Ａの上方まで移送した後、
前方の濯ぎ槽15まで平行移動し、降下し、カセット１を
濯ぎ槽15の洗浄液45に漬ける。カセット１を数秒間濯ぎ
槽15の洗浄液45に漬けた後、移動体51Ａが上昇、平行移
動し、第２仮置き台16上まで移動して停止し、この時、
第２仮置き台16は降下位置にあり、昇降手段50により第
２仮置き台16はカセット１を載置する位置まで上昇し、
この後、前記エアーチャック54が開き、移動体51Ａは次
のカセット１を受け取るために第１仮置き台13の位置ま
で平行に後退し、上述した工程を制御手段56による制御
により繰り返す。

【００２５】尚、第１搬送機22が受渡し台57からカセッ
ト１を受け取るタイミングと、第２搬送機23が第１仮置
き台13からカセット１を受け取るタイミングとはほぼ同
一であり、また、第１搬送機22が第１仮置き台13にカセ
ット１を置くタイミングと、第２搬送機23が第２仮置き
台16にカセット１を置くタイミングとはほぼ同一であ
る。

【００２６】図９等に示すように、前記濯ぎ槽15の前側
には、洗浄水45を供給する流入管71が接続され、また、
濯ぎ槽15の側壁上部に流出口72を形成し、この流出口72
から流出する洗浄液45を受ける受枡72Ａを設け、この受
枡72Ａの底部にオーバーフロー管73の一端を接続し、こ
の一端より低い位置で該オーバーフロー管73の他端を前
記超音波洗浄槽14に接続し、この超音波洗浄槽14の側壁
上部に流出口74を形成し、この流出口74から流出する洗
浄液45を受ける受枡74Ａを設け、この受枡74Ａの底部に
オーバーフロー管75の一端を接続し、この一端より低い
位置で該オーバーフロー管75の他端を前記ブラシ洗浄槽
12に接続し、このブラシ洗浄槽12の後側の側壁上部に流
出口76を形成し、この流出口76から流出する洗浄液45を
受ける受枡76Ａを設け、この受枡76Ａの底部にオーバー
フロー管77の一端を接続している。

【００２７】そして、濯ぎ槽15の液面45Ａが超音波洗浄
槽14の液面45Ａより高くなるように、流出口72は流出口
74より高い位置にあり、超音波洗浄槽14の液面45Ａがブ
ラシ洗浄槽12の液面45Ａより高くなるように、流出口74
は流出口76より高い位置にある。

【００２８】したがって、流入管71から純水などの洗浄
液45を濯ぎ槽15に供給すると、洗浄液45はオーバーフロ
ー管73を通って超音波洗浄槽14に送られ、この超音波洗
浄槽14からオーバーフロー管75を通ってブラシ洗浄槽12
に送られ、このブラシ洗浄槽12のオーバーフロー管77に
送られ、洗浄液45が排水される。

【００２９】前記第２仮置き台16の前方には、図９乃至
図１５に示すように、前記乾燥装置17が設けられてい
る。この乾燥装置17は、箱型のケース本体81を有し、こ
のケース本体81の左右に前後方向のスピン回転軸82，82
を配置し、このスピン回転軸82はケース本体81の前後に
設けた前，後軸受83，84により回転可能に軸支されてい
る。前記スピン回転軸82の前後に円板85，85Ａを固着
し、これら円板85，85Ａの間隔は、前記カセット１の前
後幅より広く、前記カセット１を挿入可能な幅に設定さ
れており、それら円板85，85Ａ間にはカセット回転軸86
が回転可能に設けられ、このカセット回転軸86に、前記
カセット１を載置するコ字型のブラケット87を設け、こ
のブラケット87の左右に、カセット１の左右の側板２，
２を挟む腕部87Ａ，87Ａを立設し、前記カセット回転軸
86を回転することにより、ブラケット87により保持した
カセット１の下部開口８を前記スピン回転軸82の外側に
向ける。前記円板85，85Ａには、外側に向けたカセット
１の下部開口８が押さえる押え部88，88が前後に設けら
れ、これら押え部88，88はカセット１の前後の側板３，
３の下縁側に係止する。尚、前記カセット回転軸86は、
前記押え部88，88と前記スピン回転軸82との間に配置さ
れている。また、図１１に示すブラケット87の位置が，
カセット受取位置であり、このカセット受取位置の上方
においてケース本体81に後述する開口部が形成されてい
る。

【００３０】前記カセット回転軸86の前端は、前記円板
85より前方に突出し、この突出したカセット回転軸86の
前端に、回転アーム89を固着し、この回転アーム89の外
端側にローラ90を設け、このローラ90に係合して前記回
転アーム89を揺動するレバー91を備え、このレバー91
は、前記ケース本体81に軸支された前後方向のカセット
回転駆動軸92に固着されている。前記ケース本体81の前
壁内面には、カセット回転駆動手段たるエアーシリンダ
93の上端が回転可能に軸着され、このエアーシリンダ93
の伸縮杆93Ａの先端が、連結部材94に設けた連結軸94Ａ
に連結され、その連結部材94は前記カセット回転駆動軸
92に固着されている。そして、前記エアーシリンダ93が
収縮した状態では、図１３に示すように、前記レバー91
の先端は上向きをなし、前記エアーシリンダー93が伸長
すると、レバー91の先端が前記ローラ90に係合して該ロ
ーラ90を下方に押し下げ、カセット回転軸86を回転して
前記ブラケット87を略９０度外向きに回動し、図１４に
示すように、レバー91は、ローラ90から離れ、該ローラ
90の下方位置まで回転する。エアーシリンダ93が最大に
伸長した状態では、前記レバー91の先端は下向きにな
る。この状態からエアーシリンダ93が収縮すると、レバ
ー91の先端がローラ90の下部に係合してローラ90を上方
に押し上げ、カセット回転軸86を回転して前記ブラケッ
ト87が水平状態に復帰する。

【００３１】また、前記ブラケット87を水平状態と９０
度外向き状態とに位置固定する位置固定手段101が設け
られ、この位置固定手段手段101は、ガススプリング102
の一端を前記回転アーム89の内端側に回動可能に連結す
ると共に、該ガススプリング102の他端を回転円板85Ａ
の外側に回動可能に連結してなり、前記ガススプリング
102は、図１５（Ａ）に示す前記ブラケット87の水平状
態と、図１５（Ｂ）に示す９０度外向き状態とのほぼ中
間で、最大に収縮するように設定されており、また、ガ
ススプリング102は前記ブラケット87の水平状態と９０
度外向き状態とでさらに伸長する付勢力を有する。尚、
必要に応じて、前記ブラケット87に係合して該ブラケッ
ト87の回動範囲を規制するストッパー（図示せず）を、
前記円板85，85Ａ等に設けることができる。前記スピン
回転軸82の外端には従動輪95が設けられ、回転駆動手段
たるモータ96に駆動輪97を設け、前記駆動輪95と従動輪
97とに伝達索条98が掛装されている。尚、前記スピン回
転軸82前記円板85，85Ａ、カセット回転軸86、このカセ
ット回転軸86に設けられた前記ブラケット87及び円板8
5，85Ａに一体に設けられた前記押え部88により、回転
体99を構成している。また、前記ブラケット87及び押え
部88により、カセット１をスピン回転軸82に回転中心の
周囲に保持する保持手段100を構成している。

【００３２】また、前記スピン回転軸82には、前記ブラ
ケット87の他方に複数のウエート103が設けられてい
る。さらに、前記ケース本体81の上面には、前記カセッ
ト受取位置に対応して、左右に開口部104，104が設けら
れ、これら開口部104，104を開閉するスライド開閉板10
5，105を設け、これらスライド開閉板105は図示しない
開閉手段により左右方向外側にスライドして前記開口部
104，104を開閉するものである。

【００３３】前記乾燥装置17における処理工程も、前記
制御手段56の制御により行われ、濯ぎ処理後のカセット
１を第３搬送機24が乾燥装置17に移送し、カセット１を
水平状態のブラケット87の上に載置すると、エアーシリ
ンダ93が伸長し、レバー91とローラ90との係合によりカ
セット回転軸86が回転し、ブラケット87に支持されたカ
セット１がケース本体81の中央側に倒れるようにして略
９０度回転し、カセット１の下部開口８側が前後の押え
部88，88に係合する。この状態で、ガススプリング102
の付勢によりカセット１の向きが保たれる。すなわち、
ブラケット87がガススプリング102の弾発力により保持
されている。そして、スライド板105が閉まった後に、
モータ96が回転し、カセット１が高速回転することによ
り、付着していた洗浄液45が遠心力により吹き飛ばされ
る。また、モータ96の回転切替により、スピン回転軸82
は一側方向に回転した後、他側方向に回転し、洗浄液45
をむらなく吹き飛ばすことができる。特に、このカセッ
ト１は上部開口７より下部開口８が狭く形成され、上部
から下部に絞られた形状であり、スピン回転軸82の外側
にその狭い方である下部開口８を向けて回転することに
より、溝５の有るカセット１の内部の洗浄液45を効果的
に吹き飛ばすことができる。このように一側方向と他側
方向の回転を終了した後、スピン回転軸82は、ブラケッ
ト87がカセット受取位置になる位置で停止する。停止
後、エアーシリンダ93が収縮し、ブラケット87が水平状
態となり、カセット１が元の向きに復帰する。この状態
で、ガススプリング102の付勢によりカセット１の姿勢
が保たれる。そして、スピン回転軸82の回転が停止した
後、スライド板105が開き、第３搬出機23がブラケット8
7上のカセット１をケース本体81の外部に移送する。

【００３４】前記第３搬送機23は、移動体51Ｂを有し、
この移動体51Ｂは前記乾燥装置17の側面に沿って前後方
向移動可能に設けられた本体51Ｂと、この本体51Ｂにそ
れぞれ昇降可能に設けられた略Ｌ型の後側，前側昇降体
111，112とを有し、これら昇降体111，112の横杆111
Ａ，112Ａの左右に、前記エアーチャック54を１つずつ
設けており、１つのカセット１を１つのエアーチャック
54により挟持して搬送する。

【００３５】前記乾燥装置17の前方には前記搬出装置18
が設けられ、この搬出装置18は、図１及び図１６に示す
ように、受渡し装置121と搬出側コロコンベヤ122と有
し、前記受渡し装置121は、前記乾燥装置17により乾燥
したカセット１を前記前側昇降体112から受取り、前記
搬出側コロコンベヤ122に受け渡す。前記受渡し装置121
は、図２に示すように、前後左右にカセット載置部12
3，123，123，123を一体に有し、これら載置部123，12
3，123，123を昇降及び前後に移動する移動手段124を備
える。また、前記受渡し装置121から、カセット１を受
け取る載置枠125，125が乾燥装置17を搬出側コロコンベ
ヤ122との間に設けられており、この載置枠125，125の
上に前記カセット１，１が載置される。

【００３６】前記第３搬送機24及び搬出装置18の動作
も、前記制御手段56の制御により行われる。乾燥装置17
によりカセット１の乾燥が終了してケース本体81内にカ
セット１がある状態での動作を説明すると、第１搬送機
22及び第２搬送機23が受渡し台57及び第１仮置き台13に
後退する動作とほぼ同時に、第３搬送機24の移動体51Ｂ
が後方に移動し、後側昇降体112が第２仮置き台16の上
方で停止する。この位置で前側昇降体111は乾燥装置17
の真上となる。前側昇降体111が降下を開始する前に、
スライド板105が開き、ブラケット87上のカセット１
は、下部開口８を下にした元の向きになっており、前側
昇降体111が降下し、そのエアーチャック54によりカセ
ット１を挟持し、ほぼ同時に後側昇降体112のエアーチ
ャック54も閉まって、第２仮置き台16上のカセット１を
挟持し、この挟持後、第２仮置き台16が降下する。前側
昇降体111が上方位置まで復帰すると同時に、移動体51
Ｂが前方に移動し、後側昇降体112が乾燥装置17の上方
まで移動した位置で停止し、後側昇降体112が降下し、
カセット１は開口部104を通ってブラケット87上に載置
され、エアーチャック54を開いた後、後側昇降体112が
上昇し、乾燥装置17において上述した動作によりカセッ
ト１の乾燥が行われ、また、乾燥装置17位置における後
側昇降体112の降下動作とほぼ同時に、図１６（Ａ）に
示すように、受渡し装置121が前側昇降体111に向って上
昇し、これにより図１６（Ｂ）に示すように、後側の左
右の載置部123，123にカセット１，１が載置されると共
に、前側の左右の載置部123，123に固定載置枠125の左
右のカセット１，１が載置され、この後、エアーチャッ
ク54が開く。前側昇降体111及び載置枠125からカセット
１を受け取った後、受渡し装置121は前方移動し、この
前方移動の間に後側のカセット１が後述する帯電除去装
置153の真下を通過し、帯電除去処理され、後側の載置
部123が載置枠125位置に達したら、図１６（Ｃ）に示す
ように、前方移動を停止し、載置枠125及び搬出側コロ
コンベヤ122の下方まで降下し、載置枠125及び搬出側コ
ロコンベヤ122の上にカセット１を受渡し、後方移動
し、上昇前の位置に復帰する。

【００３７】図１，図２，図１７乃至図２６に示すよう
に、前記搬入装置11は左右に並んだ６列のコロコンベヤ
131を備え、このコロコンベヤ131は、図２及び図２２乃
至図２６等に示すように、左側３列と右側３列との間に
は所定の間隔が設けられており、前記コロコンベヤ131
は前側を低くして斜設され、その前端には、伸縮杆であ
るエアーシリンダ132により出没するストッパ133が設け
られ、このストッパ133の前側には６列の受渡し用コロ
コンベヤ134が設けられ、この受渡し用コロコンベヤ134
は前側が枢着され、後部側に傾動手段たる伸縮杆135が
設けられ、このストッパ出没手段たる伸縮杆135の伸縮
駆動により水平状態から斜設状態に角度変更可能に設け
られ、斜設状態では前記コロコンベヤ131と連続した同
一傾斜となる。尚、前記受渡し用コロコンベヤ134は前
記カセット１とほぼ同一長さである。また、前記コロコ
ンベヤ131，134はそれぞれ複数のコロたるローラ131
Ａ，134Ａを有する。前記受渡し用コロコンベヤ134に
は、左右方向の溝136，136が前後に設けられ、この溝13
6，136に沿って左右に移動すると共に昇降する載置移動
体137，137が左右にそれぞれ設けられており、右側の載
置移動体137は右側３列を左右方向に移動可能、左側の
載置移動体137は左側３列を左右方向に移動可能となっ
ており、その移動体137の移動及び昇降はエアーシリン
ダなどを備えた移動手段137Ａの駆動により行われる。
また、移動体137は前記受渡し用コロコンベヤ134の左右
２列分の幅を有し、その上部に２個のカセット１を載置
して移動可能となっている。

【００３８】また、前記受渡し台57側には、左右に移動
受体138，138を間隔をおいて配置し、これら左右の移動
受体138，138は前後方向の伸縮杆139により前記受渡し
台57の後部から前記ストッパ133の近傍まで移動する。
そして、前記伸縮杆139が移動受体を前後に移動する移
動手段である。また、それら左右の移動受体138，138
は、それぞれ左右方向中央側に向かって進退する進退ア
ーム138Ａを有し、この進退アーム138Ａは図示しない伸
縮杆等の進退駆動手段により進退駆動する。尚、左右の
移動受体138，138の進退アーム138Ａ，138Ａを中央側に
前進すると、６個の前記カセット１を支持することがで
き、進退アーム138Ａ，138Ａを後退すると、左右の移動
受体138，138の間を中央側２個の前記カセット１が通過
可能となる。さらに、左右の移動受体138，138の間に
は、平面略Ｔ型をなす引込み体140が配置され、この引
込み体140は移動手段141の駆動により後方に向かって水
平に進退し、該引込み体140の後端左右には、カセット
１の後部に係止する係止腕140Ａ，140Ａが設けられてい
る。また、前記受渡し台57上には、後方から送られてき
た左右のカセット１，１を位置決めする案内部材57Ａが
設けられており、この案内部材57Ａはカセット１を左右
から挟む突条のものである。

【００３９】前記搬入装置11の動作につき説明すると、
搬入装置11は前記制御手段56の制御により後述する動作
を行う。まず、図２などに示すように、コロコンベヤ13
1には、複数のカセット１を６列に並べて収納してお
く。図１７及び図２１に示すように、コロコンベヤ131
からカセット１を受け取る前の状態では、ストッパ133
は上昇位置にあり、カセット１の前方移動を防止してお
り、また、図１８に示すように、受渡し用コロコンベヤ
134を水平状態とし、図２１に示すように、引込み体140
の係止腕140Ａが受渡し用コロコンベヤ134の後端まで移
動して待機している。この後、左右の移動受体138が進
退アーム138Ａを伸長しながら後方に移動し、この移動
の間に伸縮杆135が伸長して受渡し用コロコンベヤ134の
後が上昇して傾斜し、この受渡し用コロコンベヤ134の
下部に係止腕140Ａが隠れる。次にストッパ133が降下
し、図２２に示すように、６個のカセット１が左右の移
動受体138，138に支持され、この状態で移動受体138，1
38が前進し、カセット１が受渡し用コロコンベヤ134上
に移動し、このように最前列のカセット１が受渡し用コ
ンベヤ134上に移動すると、ストッパ133が上昇し、２列
目のカセット１の前方移動を防止する。伸縮杆135が収
縮すると、受渡し用コロコンベヤ134が水平となり、図
２３に示すように、引込み体140の係止腕140Ａがカセッ
ト１に係止可能となり、引込み体140が前進すると、中
央左右２つのカセット１，１が案内部材57Ａに沿って受
渡し台57上に移送され、この受渡し台57上のカセット
１，１を前記第１搬送機22のエアーチャック54が挟持し
た後、図２４に示すように、引込み体140はコロコンベ
ヤ131の前側まで後退する。引込み体140が後退した後、
左右の載置移動体137，137が上昇し、受渡し用コンベヤ
134上のカセット１，１，１，１を載置した状態で、図
２５に示すように、中央側に１列分移動後、降下し、左
右の位置にそれぞれ復帰する。これにより、左右２個ず
つのカセット１，１，１，１がそれぞれ１列分だけ中央
側に移送される。そして、前記第１搬送機13により受渡
し台57上のカセット１，１が前方に搬送されたら、引込
み体140が前進し、カセット１，１を受渡し台57上に移
送し、この受渡し台57上のカセット１，１を前記第１搬
送機22のエアーチャック54が挟持した後、再び引込み体
140は後退する。この後、図２６に示すように、左右の
載置移動体137，137が上昇し、受渡し用コンベヤ134上
のカセット１，１を載置した状態で、中央側に１列分移
動し、降下し、左右の位置にそれぞれ復帰する。これに
より、左右１個ずつのカセット１，１がそれぞれ中央側
に移送される。そして、前記第１搬送機13により受渡し
台57上のカセット１，１が前方に搬送されたら、引込み
体140が前進し、カセット１，１を受渡し台57上に移送
し、再び引込み体140は後退し、上述した動作と同様に
して左右の移動受体138が進退アーム138Ａを伸長しなが
ら後方に移動し、この移動の間に伸縮杆135が伸長して
受渡し用コロコンベヤ134が傾斜し、次にストッパ133が
降下し、前後で２列目の６個のカセット１が左右の移動
受体138，138に支持され、この状態で移動受体138，138
が前進し、カセット１が受渡し用コロコンベヤ134上に
移動し、このように２列目のカセット１が受渡し用コン
ベヤ134上に移動され、同様な動作が前記制御手段56の
制御により順次繰り返される。また、前記乾燥装置17の
ケース本体81の後方にイオナイザー151を設け、このイ
オナオザー151に対応して、前記ケース本体81の後壁に
開口152を設け、前記イオナイザー151により、ケース本
体81内において、カセット１の静電気の発生を防止して
いる。そして、前記イオナイザー151は、コロナ放電等
により正イオン・負イオンを発生させカセット１表面の
静電気を中和するものである。さらに、前記載置枠125
の上方に、帯電除去装置153を配置し、この帯電除去装
置153によりカセット１の帯電除去を行っている。

【００４０】このように本発明の洗浄装置では、搬入装
置11のコロコンベヤ131上のストックしたカセット１が
２個ずつ受渡し台57に送られ、ブラシ洗浄槽12において
は、第１搬送機22により搬送される間に、カセット１の
側面と縁７Ａと内面とがブラシ洗浄され、また、同時
に、超音波洗浄槽14と濯ぎ槽15においては、第２搬送機
23により搬送される間に、カセット１の超音波洗浄と濯
ぎ洗いとがなされ、また、同時に、乾燥装置17において
は、第３搬送機24により搬送される間に、カセット１の
乾燥が行われると共に、第３搬送機24により乾燥後のカ
セット１の搬出とが行われ、搬入から搬出までの工程を
全て自動化し、かつ均一な清浄性を得ることができる。

【００４１】このように本実施例では、請求項１に対応
して、複数のディスク６が収納可能で上下が開口したカ
セット１を洗浄する洗浄装置において、カセット１を洗
浄する回転ブラシ31，37，47を備えたブラシ洗浄槽12
と、このブラシ洗浄槽12で処理したカセット１を超音波
洗浄する超音波洗浄槽14と、この超音波洗浄槽14で超音
波洗浄したカセット１を濯ぐ濯ぎ槽15と、この濯ぎ槽15
で濯いたカセット１を乾燥する乾燥装置17と、ブラシ洗
浄槽12，超音波洗浄槽14，濯ぎ槽15，乾燥装置17に順次
カセット１を移送する搬送装置21とを備えるものであ
り、搬送装置21によりカセット１がブラシ洗浄槽12，超
音波洗浄槽14，濯ぎ槽15，乾燥装置17に順次移送され、
カセット１は、ブラシ洗浄槽12で回転ブラシ31，37，47
により洗浄され、超音波洗浄槽14で超音波洗浄され、濯
ぎ槽15で濯がれ、乾燥装置17により乾燥され、一連の洗
浄及び乾燥を自動化できる。

【００４２】また、このように本実施例では、請求項２
に対応して、回転ブラシ31，37，47を洗浄液45中に配置
したものであり、カセット１を洗浄液45中で洗浄するか
ら、回転ブラシ31，37，47による洗浄中にカセット１が
空気に触れることがなく、洗浄液45が飛散して部分的に
カセット１に付着したり、静電気により空気中のごみが
付着したりすることがない。

【００４３】さらに、このように本実施例では、請求項
３に対応して、ブラシ洗浄槽12は、カセット１の側面を
洗浄する側面用回転ブラシ31と、カセット１の開口部で
ある上部開口７の縁７Ａを洗浄する上縁用回転ブラシ37
と、カセット１の内部を洗浄する内部用回転ブラシ47を
備えるものであり、各回転ブラシにより、カセット31，
37，47の開口部の縁と内面とを洗浄することができる。

【００４４】また、このように本実施例では、請求項４
に対応して、乾燥装置17が、カセット１を回転して乾燥
するスピン乾燥機であり、カセット１を回転し、その遠
心力でカセット１の乾燥を短時間で行なうことができ
る。

【００４５】また、実施例上の効果として、カセット１
を２個ずつ処理するから、多数のカセット１を効率よく
洗浄することができる。さらに、カセット１は運搬時な
どにおいて、上部側が汚れ易いが、この汚れを上縁用回
転ブラシ37により洗浄することができる。また、制御手
段56により、カセット１の上部開口７が側面用回転ブラ
シ31の軸中心高さより低く、前記上縁用回転ブラシ37に
接触しない位置でカセット１を保持し、この位置で側面
用回転ブラシ31によりカセット１の上部側側面の洗浄を
効果的に行うことができる。さらに、内部用回転ブラシ
47の届き難いカセット１の下部側を、摺動洗浄体41によ
り洗浄できる。また、仮置き台13，16は自身が昇降する
から、カセット１の受け渡しをスムーズに行うことがで
きる。さらに、オーバーフロー管73，75，77により、洗
浄液45が濯ぎ槽15，超音波洗浄槽14、ブラシ洗浄槽12に
順に循環させ、その方向に洗浄液45の流れを発生させ、
洗浄効果を高めることができる。また、乾燥装置17にお
いて、スピン回転軸82を前後方向に横設し、このスピン
回転軸82と平行に、ブラケット87を取り付けたカセット
回転軸86を配置したから、搬送装置21により搬送中のカ
セット１の向きを変えることなくそのままブラケット87
に受け渡すことができる。また、前記乾燥装置17のケー
ス本体81内に搬入されたカセット１表面の静電気を中和
するイオナイザー151を設けたから、静電気による空気
中のごみの付着を防止でき、さらに、乾燥後のカセット
１へのごみの付着を帯電除去装置153により防止するこ
とができる。また、搬入装置11は複数列で多数のカセッ
ト１を自動的に受渡し台57に移送するから、連続処理を
効率よく行うことができる。

【００４６】図２7は本発明の第２実施例を示し、上記
第１実施例と同一部分に同一符号を付し、その詳細な説
明を省略して詳述すると、この例では、前記乾燥装置17
の変形例であり、前記スピン回転軸82の軸中心に孔161
を穿設し、この孔161はスピン回転軸82の後端に開口
し、この孔161の後端に図示しないソケットによりブロ
アーなどの空気圧送手段162を接続する。また、前記ス
ピン回転軸82の長さ方向中央側には、前記孔161に連通
する連通孔163を形成し、この連通孔163にブロアー管16
4を接続し、このブロアー管164の先端にノズル165を設
けている。前記ブロアー管164は、前記ノズル165の向き
を変更可能して形状保持可能な自在管が用いられてい
る。

【００４７】そして、カセット１の回転中に前記空気圧
送手段162を駆動し、ノズル165からカセット１の内面に
圧縮空気を噴射することにより、内面に角部等を有する
カセット１の乾燥を行う際、遠心力だけでは吹き飛ばし
難い部分の洗浄液45をも良好に吹き飛ばして乾燥を行う
ことができ、回転時の遠心力を受けているカセット１の
圧縮空気を噴射するから、一層効果的である。

【００４８】尚、本発明は上記各実施例に限定されるも
のではなく、本発明の容易の範囲内において、種々の変
形実施が可能である。例えば、回転ブラシの配置は適宜
選定可能である。また、ブラシ，超音波洗浄槽，濯ぎ
槽，乾燥装置の間に他の処理装置を設けてもよい。

【００４９】

【発明の効果】請求項１の発明は、複数のディスクが収
納可能で上下が開口したカセットを洗浄する洗浄装置に
おいて、前記カセットを洗浄する回転ブラシを備えたブ
ラシ洗浄槽と、このブラシ洗浄槽で処理したカセットを
超音波洗浄する超音波洗浄槽と、この超音波洗浄槽で超
音波洗浄したカセットを濯ぐ濯ぎ槽と、この濯ぎ槽で濯
いたカセットを乾燥する乾燥装置と、前記ブラシ洗浄
槽，超音波洗浄槽，濯ぎ槽，乾燥装置に順次前記カセッ
トを移送する搬送装置とを備えるものであり、ディスク
用カセットの自動洗浄を可能し、洗浄効果に優れたディ
スク用カセットの洗浄装置を提供することができる。

【００５０】また、請求項２の発明は、前記回転ブラシ
を洗浄液中に配置したものであり、ディスク用カセット
の自動洗浄を可能し、洗浄効果に優れたディスク用カセ
ットの洗浄装置を提供することができる。

【００５１】さらに、請求項３の発明は、ブラシ洗浄槽
は、前記カセットの側面を洗浄する回転ブラシと、前記
カセットの開口部の縁を洗浄する回転ブラシと、前記カ
セットの内部を洗浄する回転ブラシを備えるものであ
り、ディスク用カセットの自動洗浄を可能し、洗浄効果
に優れたディスク用カセットの洗浄装置を提供すること
ができる。

【００５２】また、請求項４の発明は、前記乾燥装置
が、前記カセットを回転して乾燥するスピン乾燥機であ
り、ディスク用カセットの自動洗浄を可能し、洗浄効果
に優れたディスク用カセットの洗浄装置を提供すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例を示す全体側面図である。

【図２】本発明の第１実施例を示す全体平面図である。

【図３】本発明の第１実施例を示すブラシ洗浄槽の断面
図である。

【図４】本発明の第１実施例を示すブラシ洗浄槽の平面
図である。

【図５】本発明の第１実施例を示すブラシ洗浄槽の断面
説明図である。

【図６】本発明の第１実施例を示す第１搬送機の正面図
である。

【図７】本発明の第１実施例を示す超音波洗浄槽及び濯
ぎ槽の断面図である。

【図８】本発明の第１実施例を示す超音波洗浄槽及び濯
ぎ槽の平面図である。

【図９】本発明の第１実施例を示すブラシ洗浄槽，超音
波洗浄槽及び濯ぎ槽の側面図である。

【図１０】本発明の第１実施例を示す乾燥装置の断面図
である。

【図１１】本発明の第１実施例を示す図１０の断面図で
ある。

【図１２】本発明の第１実施例を示す乾燥装置の要部の
平断面図である。

【図１３】本発明の第１実施例を示す乾燥装置の要部の
斜視図であり、ブラケットは水平状態である。

【図１４】本発明の第１実施例を示す乾燥装置の要部の
斜視図であり、カセットが９０度外向き状態である。

【図１５】本発明の第１実施例を示すブラケット回りの
正面図であり、図１５（Ａ）はブラケットが水平状態で
あり、図１５（Ｂ）はカセットが外向き状態である。

【図１６】本発明の第１実施例を示す搬出装置の側面図
であり、図１６（Ａ）は前側昇降体が停止し、載置枠に
カセットを載置した状態、図１６（Ｂ）は受渡し装置の
載置部が上昇し、前後左右の載置部にカセットを載置し
た状態、図１６（Ｃ）は載置部が前方に移動した状態を
それぞれ示している。

【図１７】本発明の第１実施例を示す搬入装置の側面図
である。

【図１８】本発明の第１実施例を示す水平状態の受渡し
用コンベヤの側面図である。

【図１９】本発明の第１実施例を示す載置移動体の正面
図である。

【図２０】本発明の第１実施例を示す引込み体の正面図
である。

【図２１】本発明の第１実施例を示す搬入装置の平面図
であり、引込み体が後退した状態を示す。

【図２２】本発明の第１実施例を示す搬入装置の平面図
であり、進退アームを伸長した移動受体がカセットを支
持した状態を示す。

【図２３】本発明の第１実施例を示す搬入装置の平面図
であり、移動受体が前進してカセットが受渡し用コンベ
ヤに移動した状態を示し、鎖線は引込み体が前進し、２
個のカセットを受渡し台に移送する状態を示す。

【図２４】本発明の第１実施例を示す搬入装置の平面図
であり、中央側の２個のカセットを受渡し台に移送した
後、引込み体が後退した状態を示す。

【図２５】本発明の第１実施例を示す搬入装置の平面図
であり、載置移動体により左右２個ずつのカセットが中
央側に移送された状態を示し、鎖線は引込み体が前進
し、２個のカセットを受渡し台に移送する状態を示す。

【図２６】本発明の第１実施例を示す搬入装置の平面図
であり、引込み体が後退した状態を示す。

【図２７】本発明の第２実施例を示す乾燥装置の要部の
平断面図である。

【図２８】カセットの斜視図である。

【図２９】カセットの断面図である。

【符号の説明】

１カセット６ディスク７上部開口（開口部） 12 ブラシ洗浄槽 14 超音波洗浄槽 15 濯ぎ槽 17 乾燥装置 21 搬送装置 31 側面用回転ブラシ 37 上縁用回転ブラシ 47 内部用回転ブラシ 45 洗浄液

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者広井洋新潟県長岡市城岡２−４−１玉川マシナリー株式会社長岡工場内 (72)発明者小川守新潟県長岡市城岡２−４−１玉川マシナリー株式会社長岡工場内 (72)発明者斎藤喜則静岡県裾野市今里520 株式会社エムエーディスク内Ｆターム(参考） 3B116 AA26 AB23 AB47 BA14 BA15 BA33 BB03 BB82 BB83 BB87 CC01 CC03 3B201 AA26 AB24 AB47 BA14 BA15 BA33 BB04 BB82 BB83 BB87 BB93 CB22 CC01 CC12 CC13

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数のディスクが収納可能で上下が開口
したカセットを洗浄する洗浄装置において、前記カセッ
トを洗浄する回転ブラシを備えたブラシ洗浄槽と、この
ブラシ洗浄槽で処理したカセットを超音波洗浄する超音
波洗浄槽と、この超音波洗浄槽で超音波洗浄したカセッ
トを濯ぐ濯ぎ槽と、この濯ぎ槽で濯いたカセットを乾燥
する乾燥装置と、前記ブラシ洗浄槽，超音波洗浄槽，濯
ぎ槽，乾燥装置に順次前記カセットを移送する搬送装置
とを備えることを特徴とするディスク用カセットの洗浄
装置。
【請求項２】前記回転ブラシを洗浄液中に配置したこ
とを特徴とする請求項１記載のディスク用カセットの洗
浄装置。
【請求項３】ブラシ洗浄槽は、前記カセットの側面を
洗浄する回転ブラシと、前記カセットの開口部の縁を洗
浄する回転ブラシと、前記カセットの内部を洗浄する回
転ブラシを備えることを特徴とする請求項２記載のディ
スク用カセットの洗浄装置。
【請求項４】前記乾燥装置が、前記カセットを回転し
て乾燥するスピン乾燥機であることを特徴とする請求項
１記載のディスク用カセットの洗浄装置。