JP3229952B2 - ウエハキャリア洗浄装置 - Google Patents
ウエハキャリア洗浄装置Info
- Publication number
- JP3229952B2 JP3229952B2 JP32018298A JP32018298A JP3229952B2 JP 3229952 B2 JP3229952 B2 JP 3229952B2 JP 32018298 A JP32018298 A JP 32018298A JP 32018298 A JP32018298 A JP 32018298A JP 3229952 B2 JP3229952 B2 JP 3229952B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- brush
- cleaning
- wafer carrier
- carrier
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハの搬送に
使用されるウエハキャリアの洗浄装置、特にブラシング
を使用する洗浄装置に関する。
使用されるウエハキャリアの洗浄装置、特にブラシング
を使用する洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造においては、半導体ウエハ
の搬送に、ウエハキャリアと呼ばれる収納具が使用され
る。このウエハキャリアは、両側の側壁部に設けた多数
の溝によって、多数枚の半導体ウエハを整列保持させる
ようになっており、使用の繰り返しにより内外面が汚れ
る。汚れたキャリアは、半導体ウエハの汚染の原因にな
るので、その洗浄が行われる。そして、ウエハキャリア
の洗浄は、これまで、高圧ジェットやメガソニック等に
よる自動洗浄、もしくは有機溶剤を併用したハンドブラ
シ洗浄により行われていた。また、機械ブラシによる自
動洗浄も考えられている（特開昭６１−４３４３０号公
報、特開昭６２−７３７２８号公報、特開平３−１５６
９２４号公報、特開平３−１５６９２５号公報）。
の搬送に、ウエハキャリアと呼ばれる収納具が使用され
る。このウエハキャリアは、両側の側壁部に設けた多数
の溝によって、多数枚の半導体ウエハを整列保持させる
ようになっており、使用の繰り返しにより内外面が汚れ
る。汚れたキャリアは、半導体ウエハの汚染の原因にな
るので、その洗浄が行われる。そして、ウエハキャリア
の洗浄は、これまで、高圧ジェットやメガソニック等に
よる自動洗浄、もしくは有機溶剤を併用したハンドブラ
シ洗浄により行われていた。また、機械ブラシによる自
動洗浄も考えられている（特開昭６１−４３４３０号公
報、特開昭６２−７３７２８号公報、特開平３−１５６
９２４号公報、特開平３−１５６９２５号公報）。
【０００３】しかしながら、高圧ジェットやメガソニッ
ク等による自動洗浄では、キャリアに突き刺さったウエ
ハの破片まで除去するのは困難である。その点、ハンド
ブラシ洗浄では、入念な作業さえ行えばウエハの破片も
除去できる。しかし、ハンドブラシによる洗浄では、能
率が低く、洗浄度のバラツキも大きい。更に、使用する
溶剤によっては、人体への悪影響も問題になる。
ク等による自動洗浄では、キャリアに突き刺さったウエ
ハの破片まで除去するのは困難である。その点、ハンド
ブラシ洗浄では、入念な作業さえ行えばウエハの破片も
除去できる。しかし、ハンドブラシによる洗浄では、能
率が低く、洗浄度のバラツキも大きい。更に、使用する
溶剤によっては、人体への悪影響も問題になる。
【０００４】これらに対し、機械ブラシによる自動洗浄
は、ウエハの破片を除去できる上に、能率が高く、洗浄
度のバラツキも小さい。更に、溶剤による人体への悪影
響も回避できる。しかし、特開昭６１−４３４３０号公
報、特開昭６２−７３７２８号公報、特開平３−１５６
９２４号公報、特開平３−１５６９２５号公報に記載さ
れた従来の機械ブラシ洗浄には内面洗浄に関して以下の
ような問題がある。
は、ウエハの破片を除去できる上に、能率が高く、洗浄
度のバラツキも小さい。更に、溶剤による人体への悪影
響も回避できる。しかし、特開昭６１−４３４３０号公
報、特開昭６２−７３７２８号公報、特開平３−１５６
９２４号公報、特開平３−１５６９２５号公報に記載さ
れた従来の機械ブラシ洗浄には内面洗浄に関して以下の
ような問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ウエハキャリアの構造
としては、両側の側壁部に多数の溝を形成するために、
多数の縦スリットを設けたものが多い。ウエハは両側の
多数の縦スリットにより、前後の端板部間に所定の間隔
で整列し保持される。両側の側壁部の間は、ウエハの整
列保持のために、上部で広く、下部で狭い。
としては、両側の側壁部に多数の溝を形成するために、
多数の縦スリットを設けたものが多い。ウエハは両側の
多数の縦スリットにより、前後の端板部間に所定の間隔
で整列し保持される。両側の側壁部の間は、ウエハの整
列保持のために、上部で広く、下部で狭い。
【０００６】特開平３−１５６９２４号公報及び特開平
３−１５６９２５号公報に記載された従来の機械ブラシ
洗浄では、ウエハキャリアの両側の側壁部に平行な水平
軸により支持された回転ブラシにより、両側の側壁部の
各内面が同時にブラッシングされる。即ち、内面用の回
転ブラシは、両側の側壁部の上部間隔より大きいブラシ
径と、各側壁部の全長をブラッシングできるブラシ幅と
をもち、ウエハキャリアの上端開口部から両側の側壁部
間へ挿入されることにより、両側の側壁部の各内面を同
時にブラッシングする。
３−１５６９２５号公報に記載された従来の機械ブラシ
洗浄では、ウエハキャリアの両側の側壁部に平行な水平
軸により支持された回転ブラシにより、両側の側壁部の
各内面が同時にブラッシングされる。即ち、内面用の回
転ブラシは、両側の側壁部の上部間隔より大きいブラシ
径と、各側壁部の全長をブラッシングできるブラシ幅と
をもち、ウエハキャリアの上端開口部から両側の側壁部
間へ挿入されることにより、両側の側壁部の各内面を同
時にブラッシングする。
【０００７】しかし、回転ブラシは上方から支持される
必要があり、その支持部のために、各側壁部の一部にブ
ラシが当たらないという問題がある。特開平３−１５６
９２４号公報に示された機械ブラシでは、回転ブラシの
軸方向中央部が支持され、その支持部でブラシが２分さ
れることによる拭き残しを避けるために、ブラッシング
を２回に別けて行い、１回目のブラッシングと２回目の
ブラッシングの間で回転ブラシを軸方向に移動させるこ
とが行われているが、回転ブラシの軸方向移動は、洗浄
槽上方における駆動機構の大型化、複雑化を招き、洗浄
槽へのワーク挿入等を困難にするだけでなく、上方の駆
動機構の作動時に下方の洗浄槽へパーティクルを落下さ
せる問題もある。更に、回転ブラシは、両側同時ブラッ
シングのために、ブラシ径が両側の側壁部の上部間隔よ
り大きく、両側の側壁部の下部間に挿入されない。仮に
挿入が可能であっても、回転ブラシが洗浄槽の底面に当
たる。このため、側壁部の内面を下端部までブラッシン
グできない。
必要があり、その支持部のために、各側壁部の一部にブ
ラシが当たらないという問題がある。特開平３−１５６
９２４号公報に示された機械ブラシでは、回転ブラシの
軸方向中央部が支持され、その支持部でブラシが２分さ
れることによる拭き残しを避けるために、ブラッシング
を２回に別けて行い、１回目のブラッシングと２回目の
ブラッシングの間で回転ブラシを軸方向に移動させるこ
とが行われているが、回転ブラシの軸方向移動は、洗浄
槽上方における駆動機構の大型化、複雑化を招き、洗浄
槽へのワーク挿入等を困難にするだけでなく、上方の駆
動機構の作動時に下方の洗浄槽へパーティクルを落下さ
せる問題もある。更に、回転ブラシは、両側同時ブラッ
シングのために、ブラシ径が両側の側壁部の上部間隔よ
り大きく、両側の側壁部の下部間に挿入されない。仮に
挿入が可能であっても、回転ブラシが洗浄槽の底面に当
たる。このため、側壁部の内面を下端部までブラッシン
グできない。
【０００８】特開昭６１−４３４３０号公報及び特開昭
６２−７３７２８号公報に記載された従来の機械ブラシ
洗浄では、内面用の回転ブラシは、ウエハキャリアの全
長より小さいブラシ幅（回転軸方向長さ）をもち、上下
方向だけでなく回転軸方向にも移動することにより、両
側の側壁部の各内面を同時にブラッシングする。このブ
ラシッングでは、回転ブラシを回転軸方向に移動させつ
つ繰り返し昇降させる必要があるため、能率が低い。加
えて、ウエハ保持溝に挿入される毛先が、回転軸方向の
移動により側方へ折れ曲がるため、内面の汚れが十分に
除去されないという問題もある。更には、回転ブラシの
軸方向移動に伴ってパーティクルが落下する問題や、端
板部や槽底との干渉のために内面全体がブラッシングさ
れない問題も残る。
６２−７３７２８号公報に記載された従来の機械ブラシ
洗浄では、内面用の回転ブラシは、ウエハキャリアの全
長より小さいブラシ幅（回転軸方向長さ）をもち、上下
方向だけでなく回転軸方向にも移動することにより、両
側の側壁部の各内面を同時にブラッシングする。このブ
ラシッングでは、回転ブラシを回転軸方向に移動させつ
つ繰り返し昇降させる必要があるため、能率が低い。加
えて、ウエハ保持溝に挿入される毛先が、回転軸方向の
移動により側方へ折れ曲がるため、内面の汚れが十分に
除去されないという問題もある。更には、回転ブラシの
軸方向移動に伴ってパーティクルが落下する問題や、端
板部や槽底との干渉のために内面全体がブラッシングさ
れない問題も残る。
【０００９】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
で、ウエハキャリアの両側の側壁部内面を全長にわたっ
て能率よくブラッシングできるウエハキャリア洗浄装置
を提供することことを目的とする。本発明の他の目的
は、ウエハキャリアの両側の側壁部内面を下端部までブ
ラッシングできるウエハキャリア洗浄装置を提供するこ
とにある。
で、ウエハキャリアの両側の側壁部内面を全長にわたっ
て能率よくブラッシングできるウエハキャリア洗浄装置
を提供することことを目的とする。本発明の他の目的
は、ウエハキャリアの両側の側壁部内面を下端部までブ
ラッシングできるウエハキャリア洗浄装置を提供するこ
とにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のウエハキャリア
洗浄装置は、半導体ウエハの搬送に使用されるキャリア
の表面を機械ブラシにより自動洗浄するブラシ洗浄手段
を備えたウエハキャリア洗浄装置において、前記ブラシ
洗浄手段は、洗浄槽内にウエハキャリアを支持する架台
と、洗浄槽内に支持されたウエハキャリアの内面をブラ
シングする回転ブラシとを有しており、前記架台はウエ
ハキャリアを鉛直軸回りに回転させる回転式であり、前
記回転ブラシは昇降式で、前記ウエハキャリアのウエハ
整列方向に延びる片持ち支持式の中心軸と、前記ウエハ
キャリアの内側面をウエハ整列方向全長のほぼ半分にわ
たってブラシングできるブラシ幅とをもつ構成である。
洗浄装置は、半導体ウエハの搬送に使用されるキャリア
の表面を機械ブラシにより自動洗浄するブラシ洗浄手段
を備えたウエハキャリア洗浄装置において、前記ブラシ
洗浄手段は、洗浄槽内にウエハキャリアを支持する架台
と、洗浄槽内に支持されたウエハキャリアの内面をブラ
シングする回転ブラシとを有しており、前記架台はウエ
ハキャリアを鉛直軸回りに回転させる回転式であり、前
記回転ブラシは昇降式で、前記ウエハキャリアのウエハ
整列方向に延びる片持ち支持式の中心軸と、前記ウエハ
キャリアの内側面をウエハ整列方向全長のほぼ半分にわ
たってブラシングできるブラシ幅とをもつ構成である。
【００１１】本発明のウエハキャリア洗浄装置では、ま
ずウエハキャリアの両側の側壁部内面を、回転ブラシに
より全長方向の半分にわたってブラッシングする。次い
で、ウエハキャリアを鉛直軸回りに１８０°回転させて
同じ操作を行うことにより、両側の側壁部内面の残りの
部分をブラッシングする。これにより、回転ブラシを軸
方向に移動させずとも、両側の側壁部内面が全長方向全
域で死角なくブラッシングされる。
ずウエハキャリアの両側の側壁部内面を、回転ブラシに
より全長方向の半分にわたってブラッシングする。次い
で、ウエハキャリアを鉛直軸回りに１８０°回転させて
同じ操作を行うことにより、両側の側壁部内面の残りの
部分をブラッシングする。これにより、回転ブラシを軸
方向に移動させずとも、両側の側壁部内面が全長方向全
域で死角なくブラッシングされる。
【００１２】前記洗浄槽は、洗浄液中でウエハキャリア
のブラシングを行う構成が洗浄度を高める点から好まし
い。
のブラシングを行う構成が洗浄度を高める点から好まし
い。
【００１３】前記架台は、回転ブラシが下がったときに
ウエハキャリアの側壁部下端をブラッシングできるよう
に、ウエハキャリアを洗浄槽の底面から離れた位置に固
定する構成であり、前記回転ブラシはウエハキャリアの
下部開口部を通過可能なブラシ径をもち、且つ鉛直方向
と前記回転軸に直角な水平方向の２方向に駆動される構
成であることが好ましい。この構成によると、回転ブラ
シは両側の側壁部の下部間を通過して架台の両側側板間
に挿入されるので、両側の側壁部内面は下端部までブラ
ッシングされる。また、回転ブラシの２軸駆動により、
両側の側壁部内面は順番にブラッシングされる。
ウエハキャリアの側壁部下端をブラッシングできるよう
に、ウエハキャリアを洗浄槽の底面から離れた位置に固
定する構成であり、前記回転ブラシはウエハキャリアの
下部開口部を通過可能なブラシ径をもち、且つ鉛直方向
と前記回転軸に直角な水平方向の２方向に駆動される構
成であることが好ましい。この構成によると、回転ブラ
シは両側の側壁部の下部間を通過して架台の両側側板間
に挿入されるので、両側の側壁部内面は下端部までブラ
ッシングされる。また、回転ブラシの２軸駆動により、
両側の側壁部内面は順番にブラッシングされる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【００１５】本実施形態は、機械ブラシによる一次洗
浄、二次洗浄としての超音波洗浄、純水による仕上げ洗
浄および乾燥を全て自動で行う。その自動洗浄装置の全
体構成を図１に示し、自動化されたブラシ洗浄装置を図
２および図３に示す。
浄、二次洗浄としての超音波洗浄、純水による仕上げ洗
浄および乾燥を全て自動で行う。その自動洗浄装置の全
体構成を図１に示し、自動化されたブラシ洗浄装置を図
２および図３に示す。
【００１６】自動洗浄装置は、図１に示すように、ロー
ダ１０、ブラシ洗浄装置２０、超音波洗浄槽３０、仕上
げ洗浄槽４０、乾燥装置５０およびアンローダ６０を縦
列配置し、これに２つのロボットＡ，Ｂを組み合わせた
構成になっている。
ダ１０、ブラシ洗浄装置２０、超音波洗浄槽３０、仕上
げ洗浄槽４０、乾燥装置５０およびアンローダ６０を縦
列配置し、これに２つのロボットＡ，Ｂを組み合わせた
構成になっている。
【００１７】図２及び図３に示すように、洗浄すべきウ
エハキャリア７０は、両側の側壁部７１，７１と、側壁
部７１，７１を繋ぐ前後の端板部７２，７２とからな
る。側壁部７１，７１は、各内面に縦溝を形成するため
に、例えば多数の縦スリットを形成した格子構造になっ
ている。ウエハは両側の多数の縦スリットにより端板部
７２，７２間に整列保持される。側壁部７１，７１の間
は、ウエハの整列保持のために、上部で広く、下部で狭
い。以下の説明では、キャリア７０におけるウエハ整列
方向を全長方向と称し、ウエハ整列方向に直角な水平方
向を幅方向と称する。
エハキャリア７０は、両側の側壁部７１，７１と、側壁
部７１，７１を繋ぐ前後の端板部７２，７２とからな
る。側壁部７１，７１は、各内面に縦溝を形成するため
に、例えば多数の縦スリットを形成した格子構造になっ
ている。ウエハは両側の多数の縦スリットにより端板部
７２，７２間に整列保持される。側壁部７１，７１の間
は、ウエハの整列保持のために、上部で広く、下部で狭
い。以下の説明では、キャリア７０におけるウエハ整列
方向を全長方向と称し、ウエハ整列方向に直角な水平方
向を幅方向と称する。
【００１８】洗浄すべきキャリア７０は、ローダ１０に
より洗浄装置に搬入される。搬入されたウエハキャリア
は、ロボットＡによりブラシ洗浄装置２０に運ばれる。
より洗浄装置に搬入される。搬入されたウエハキャリア
は、ロボットＡによりブラシ洗浄装置２０に運ばれる。
【００１９】ブラシ洗浄装置２０は、洗浄槽２１と、こ
れに付設された洗浄ロボット２３，２６とを有する。洗
浄槽２１には、底部から、純水と中性洗剤の混合液等よ
りなる洗浄液が導入される。洗浄槽２１に導入された洗
浄液は、角筒状の堰２１ａをオーバーフローして液面が
一定に保たれる。洗浄槽２１の底部には、回転テーブル
２２が設けられている。回転テーブル２２は、洗浄すべ
きキャリア７０を、開口部を上に向け且つ洗浄液に浸漬
する状態で槽内に支持し、更に、これを鉛直軸の回りに
回転させる。より具体的には、槽内に設けられた架台２
２ａと、洗浄槽２１の下方に設けられて架台２２ａを鉛
直軸の回りに回転させる駆動部２２ｂとからなり、架台
２２ａはキャリア７０の両側の側壁部を下方から支承し
て、キャリア７０を洗浄槽２１の底面から離れた位置に
固定する。
れに付設された洗浄ロボット２３，２６とを有する。洗
浄槽２１には、底部から、純水と中性洗剤の混合液等よ
りなる洗浄液が導入される。洗浄槽２１に導入された洗
浄液は、角筒状の堰２１ａをオーバーフローして液面が
一定に保たれる。洗浄槽２１の底部には、回転テーブル
２２が設けられている。回転テーブル２２は、洗浄すべ
きキャリア７０を、開口部を上に向け且つ洗浄液に浸漬
する状態で槽内に支持し、更に、これを鉛直軸の回りに
回転させる。より具体的には、槽内に設けられた架台２
２ａと、洗浄槽２１の下方に設けられて架台２２ａを鉛
直軸の回りに回転させる駆動部２２ｂとからなり、架台
２２ａはキャリア７０の両側の側壁部を下方から支承し
て、キャリア７０を洗浄槽２１の底面から離れた位置に
固定する。
【００２０】洗浄ロボット２３は、水平軸回りに回転す
る内面用の回転ブラシ２４を有する。回転ブラシ２４の
水平な回転軸は、洗浄槽２１内の回転テーブル２２上に
セットされたキャリア７０の全長方向（ウエハ整列方
向）に平行である。また、回転ブラシ２４のブラシ幅
（回転軸方向の長さ）は、キャリア７０の全長のほぼ半
分であり、回転ブラシ２４のブラシ径は、キャリア７０
の下端開口部の横幅より小さく設定されている。
る内面用の回転ブラシ２４を有する。回転ブラシ２４の
水平な回転軸は、洗浄槽２１内の回転テーブル２２上に
セットされたキャリア７０の全長方向（ウエハ整列方
向）に平行である。また、回転ブラシ２４のブラシ幅
（回転軸方向の長さ）は、キャリア７０の全長のほぼ半
分であり、回転ブラシ２４のブラシ径は、キャリア７０
の下端開口部の横幅より小さく設定されている。
【００２１】この回転ブラシ２４の回転軸は、逆Ｕ形状
のアーム２５により内側端部で片持ち支持されている。
アーム２５は昇降機構２５ａに取り付けられ、昇降機構
２５ａは水平方向の駆動機構２５ｂに取り付けられてい
る。これらの機構により、回転ブラシ２４は、洗浄槽２
１内に保持されたキャリア７０の内部に挿入され、一方
の側壁部７１の全長方向のほぼ半分の領域に圧接された
状態でキャリア７０内を上下する。
のアーム２５により内側端部で片持ち支持されている。
アーム２５は昇降機構２５ａに取り付けられ、昇降機構
２５ａは水平方向の駆動機構２５ｂに取り付けられてい
る。これらの機構により、回転ブラシ２４は、洗浄槽２
１内に保持されたキャリア７０の内部に挿入され、一方
の側壁部７１の全長方向のほぼ半分の領域に圧接された
状態でキャリア７０内を上下する。
【００２２】他の洗浄ロボット２６は、外面洗浄ロボッ
トで、外面用の回転ブラシ２７を逆Ｕ形状のアーム２８
により片持ち支持し、このアーム２８を昇降機構２８ａ
および水平方向の駆動機構２８ｂで駆動することによ
り、キャリア７０の一方の側壁部７１の外面を回転ブラ
シ２７によりブラッシングする。回転ブラシ２７は、前
記回転ブラシ２４と同様に、洗浄槽２１内の回転テーブ
ル２２上にセットされたキャリア７０の全長方向（ウエ
ハ整列方向）に平行な水平回転軸をもつ。回転ブラシ２
７のブラシ幅（回転軸方向の長さ）は、前記回転ブラシ
２４と異なり、キャリア７０の全長より大きい。これに
より、回転ブラシ２７は、キャリア７０の一方の側壁部
７１の外面を全長にわたってブラッシングすることがで
きる。
トで、外面用の回転ブラシ２７を逆Ｕ形状のアーム２８
により片持ち支持し、このアーム２８を昇降機構２８ａ
および水平方向の駆動機構２８ｂで駆動することによ
り、キャリア７０の一方の側壁部７１の外面を回転ブラ
シ２７によりブラッシングする。回転ブラシ２７は、前
記回転ブラシ２４と同様に、洗浄槽２１内の回転テーブ
ル２２上にセットされたキャリア７０の全長方向（ウエ
ハ整列方向）に平行な水平回転軸をもつ。回転ブラシ２
７のブラシ幅（回転軸方向の長さ）は、前記回転ブラシ
２４と異なり、キャリア７０の全長より大きい。これに
より、回転ブラシ２７は、キャリア７０の一方の側壁部
７１の外面を全長にわたってブラッシングすることがで
きる。
【００２３】ロボットＡは、ブラシ洗浄装置２０の洗浄
槽２１内にキャリア７０を運ぶ。洗浄膜２１内に運ばれ
たキャリア７０は、回転テーブル２２に保持され、更
に、一対のクランプ２９，２９により固定される。洗浄
槽２１内にキャリア７０が固定されると、洗浄槽２１内
に洗浄液を供給しながら、キャリア７０の一方の側壁部
７１の外面を洗浄ロボット２６によりブラッシングす
る。同時に、洗浄ロボット２３の内面用の回転ブラシ２
４により、キャリア７０の一方の側壁部７１の内面を全
長方向のほぼ半分の領域でブラッシングした後、他方の
側壁部７１の内面を全長方向のほぼ半分の領域でブラッ
シングする。
槽２１内にキャリア７０を運ぶ。洗浄膜２１内に運ばれ
たキャリア７０は、回転テーブル２２に保持され、更
に、一対のクランプ２９，２９により固定される。洗浄
槽２１内にキャリア７０が固定されると、洗浄槽２１内
に洗浄液を供給しながら、キャリア７０の一方の側壁部
７１の外面を洗浄ロボット２６によりブラッシングす
る。同時に、洗浄ロボット２３の内面用の回転ブラシ２
４により、キャリア７０の一方の側壁部７１の内面を全
長方向のほぼ半分の領域でブラッシングした後、他方の
側壁部７１の内面を全長方向のほぼ半分の領域でブラッ
シングする。
【００２４】いずれのブラッシングでも、回転ブラシ２
４，２７は側壁部７１の形状に沿って側壁部７１に直角
な方向に駆動されつつ下降する。ここでキャリア７０は
架台２２ａにより支承されている。また、内面用の回転
ブラシ２４は、ブラシ径がキャリア７０の下端開口部の
横幅より小さく設定されることにより、その下端開口部
を通過し得る。これらのため、回転ブラシ２４，２７は
キャリア７０の下端より下方まで下降でき、これにより
キャリア７０の側壁部７１は、内外面とも下端部まで確
実にブラッシングされる。回転ブラシ２４，２７は又、
回転軸方向（ブラシ幅方向）の移動がないため、キャリ
ア７０の側壁部７１に縦スリットが設けられている場合
も、側方への毛先の折れ曲がりが殆どなく、スリット内
を含めた内外面を確実にブラッシングできる。
４，２７は側壁部７１の形状に沿って側壁部７１に直角
な方向に駆動されつつ下降する。ここでキャリア７０は
架台２２ａにより支承されている。また、内面用の回転
ブラシ２４は、ブラシ径がキャリア７０の下端開口部の
横幅より小さく設定されることにより、その下端開口部
を通過し得る。これらのため、回転ブラシ２４，２７は
キャリア７０の下端より下方まで下降でき、これにより
キャリア７０の側壁部７１は、内外面とも下端部まで確
実にブラッシングされる。回転ブラシ２４，２７は又、
回転軸方向（ブラシ幅方向）の移動がないため、キャリ
ア７０の側壁部７１に縦スリットが設けられている場合
も、側方への毛先の折れ曲がりが殆どなく、スリット内
を含めた内外面を確実にブラッシングできる。
【００２５】このようにして、キャリア７０の一方の側
壁部７１の外面全体と、キャリア７０の両方の側壁部７
１，７１の各内面の全長方向のほぼ半分の領域がブラッ
シングされると、クランプ２９，２９を一旦解放状態に
し、回転テーブル２２を作動させてキャリア７０を鉛直
軸回りに９０°回転させる。そして同じ操作を繰り返
す。これを４回繰り返すことにより、キャリア７０の他
方の側壁部７１の外面全体と、キャリア７０の両方の側
壁部７１，７１の各内面の残りの領域がブラッシングさ
れる。即ち、両方の側壁部７１，７１の内外面ブラッシ
ングが終わる。後半のブラッシングでも、キャリア７０
の側壁部７１は下端部まで確実にブラッシングされる。
壁部７１の外面全体と、キャリア７０の両方の側壁部７
１，７１の各内面の全長方向のほぼ半分の領域がブラッ
シングされると、クランプ２９，２９を一旦解放状態に
し、回転テーブル２２を作動させてキャリア７０を鉛直
軸回りに９０°回転させる。そして同じ操作を繰り返
す。これを４回繰り返すことにより、キャリア７０の他
方の側壁部７１の外面全体と、キャリア７０の両方の側
壁部７１，７１の各内面の残りの領域がブラッシングさ
れる。即ち、両方の側壁部７１，７１の内外面ブラッシ
ングが終わる。後半のブラッシングでも、キャリア７０
の側壁部７１は下端部まで確実にブラッシングされる。
【００２６】また、前後の端板部７２，７２の内外面ブ
ラッシングも行われる。
ラッシングも行われる。
【００２７】このブラシ洗浄により、キャリア７０の内
外面にこびり付いた異物が除去され、キャリア７０に突
き刺さったウエハの破片も除去される。
外面にこびり付いた異物が除去され、キャリア７０に突
き刺さったウエハの破片も除去される。
【００２８】キャリア７０のブラシ洗浄が終了すると、
そのキャリア７０をロボットＡにて超音波洗浄槽３０に
運ぶ。超音波洗浄槽３０は、４０〜６０℃に加熱された
温純水を収容しており、その温純水中に発振された超音
波によりキャリア７０を洗浄する。超音波洗浄を終えた
キャリア７０は、ロボットＡにて第３の洗浄槽そしての
仕上げ洗浄槽４０に運ばれる。仕上げ洗浄槽４０には純
水が収容されている。この純水は槽底部から層流状態で
常時供給されオーバーフローされている。キャリア７０
はこの純水に浸漬されて仕上げ洗浄される。そして超音
波洗浄および仕上げ洗浄により、キャリア７０の表面に
残存していた微細な異物、汚れが除去される。仕上げ洗
浄を終えたキャリア７０は、ロボットＡにより乾燥装置
５０に運ばれる。乾燥装置５０は、キャリア７０を1,０
００rpm 程度で回転させてスピン乾燥するスピンドライ
ヤである。乾燥を終えたキャリア７０は、別のロボット
Ｂにより乾燥装置５０から取り出され、アンローダ６０
に運ばれて収納される。
そのキャリア７０をロボットＡにて超音波洗浄槽３０に
運ぶ。超音波洗浄槽３０は、４０〜６０℃に加熱された
温純水を収容しており、その温純水中に発振された超音
波によりキャリア７０を洗浄する。超音波洗浄を終えた
キャリア７０は、ロボットＡにて第３の洗浄槽そしての
仕上げ洗浄槽４０に運ばれる。仕上げ洗浄槽４０には純
水が収容されている。この純水は槽底部から層流状態で
常時供給されオーバーフローされている。キャリア７０
はこの純水に浸漬されて仕上げ洗浄される。そして超音
波洗浄および仕上げ洗浄により、キャリア７０の表面に
残存していた微細な異物、汚れが除去される。仕上げ洗
浄を終えたキャリア７０は、ロボットＡにより乾燥装置
５０に運ばれる。乾燥装置５０は、キャリア７０を1,０
００rpm 程度で回転させてスピン乾燥するスピンドライ
ヤである。乾燥を終えたキャリア７０は、別のロボット
Ｂにより乾燥装置５０から取り出され、アンローダ６０
に運ばれて収納される。
【００２９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のウエハキャリア洗浄装置は、ウエハキャリアを鉛直軸
回りに回転させて、両側の側壁部内面をほぼ半分ずつブ
ラッシングすることにより、回転ブラシを軸方向に移動
させずとも、側壁部内面を全長にわたって死角なく、し
かも能率よくブラシ洗浄することができる。また、側壁
部内面を下端部まで確実にブラッシングすることができ
る。これらにより、ウエハキャリアの清浄度を高め、ウ
エハキャリアを介したウエハ汚染を効果的に防止するこ
とができる。更に、洗浄槽上方の機構を簡略化できるの
で、洗浄槽へのパーティクル落下をも効果的に抑制する
ことができる。
のウエハキャリア洗浄装置は、ウエハキャリアを鉛直軸
回りに回転させて、両側の側壁部内面をほぼ半分ずつブ
ラッシングすることにより、回転ブラシを軸方向に移動
させずとも、側壁部内面を全長にわたって死角なく、し
かも能率よくブラシ洗浄することができる。また、側壁
部内面を下端部まで確実にブラッシングすることができ
る。これらにより、ウエハキャリアの清浄度を高め、ウ
エハキャリアを介したウエハ汚染を効果的に防止するこ
とができる。更に、洗浄槽上方の機構を簡略化できるの
で、洗浄槽へのパーティクル落下をも効果的に抑制する
ことができる。
【図１】本発明の実施形態を示すウエハキャリア洗浄装
置の概略構成図である。
置の概略構成図である。
【図２】自動化されたブラシ洗浄装置の平面図である。
【図３】ブラシ洗浄装置の縦断側面図である。
２０ ブラシ洗浄装置 ２４，２７ 回転ブラシ ３０ 超音波洗浄槽 ４０ 仕上げ洗浄槽 ５０ 乾燥装置 ７０ ウエハキャリア
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−156925（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−43430（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−142058（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−156924（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−131376（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−73728（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−32689（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−124848（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 648 H01L 21/304 644 B08B 1/04 B08B 3/04 B08B 7/04
Claims (3)
- 【請求項１】 半導体ウエハの搬送に使用されるキャリ
アの表面を機械ブラシにより自動洗浄するブラシ洗浄手
段を備えたウエハキャリア洗浄装置において、前記ブラ
シ洗浄手段は、洗浄槽内にウエハキャリアを支持する架
台と、洗浄槽内に支持されたウエハキャリアの内面をブ
ラシングする回転ブラシとを有しており、前記架台はウ
エハキャリアを鉛直軸回りに回転させる回転式であり、
前記回転ブラシは昇降式で、且つ前記ウエハキャリアの
ウエハ整列方向に延びる片持ち支持式の中心軸と、前記
ウエハキャリアの内側面をウエハ整列方向全長のほぼ半
分にわたってブラシングできるブラシ幅とをもつ構成で
あることを特徴とするウエハキャリア洗浄装置。 - 【請求項２】 前記洗浄槽は、洗浄液中でウエハキャリ
アのブラシングを行う構成であることを特徴とする請求
項１に記載のウエハキャリア洗浄装置。 - 【請求項３】 前記架台は、前記回転ブラシが下がった
ときにウエハキャリアの側壁部下端をブラッシングでき
るように、ウエハキャリアを洗浄槽の底面から離れた位
置に固定する構成であり、前記回転ブラシはウエハキャ
リアの下部開口部を通過可能なブラシ径をもち、且つ鉛
直方向と前記回転軸に直角な水平方向の２方向に駆動さ
れる構成であることを特徴とする請求項１又は２に記載
のウエハキャリア洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32018298A JP3229952B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | ウエハキャリア洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32018298A JP3229952B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | ウエハキャリア洗浄装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29783892A Division JPH06120186A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | ウエハキャリア洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11274131A JPH11274131A (ja) | 1999-10-08 |
| JP3229952B2 true JP3229952B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=18118622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32018298A Expired - Fee Related JP3229952B2 (ja) | 1998-11-11 | 1998-11-11 | ウエハキャリア洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3229952B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112122182A (zh) * | 2020-08-06 | 2020-12-25 | 湖州吴兴双德输送机械有限公司 | 一种用于输送机床加工机械配件去油装置 |
| CN114093752B (zh) * | 2021-11-10 | 2022-07-26 | 新阳硅密（上海）半导体技术有限公司 | 减小载具对晶圆表面清洗影响的方法 |
-
1998
- 1998-11-11 JP JP32018298A patent/JP3229952B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11274131A (ja) | 1999-10-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100709737B1 (ko) | 웨이퍼를 처리하기 위한 방법 및 장치 | |
| JP4597478B2 (ja) | 浸漬・スクラブ・乾燥システムにおける基板処理 | |
| KR100695980B1 (ko) | 기판세정장치 | |
| JP4172567B2 (ja) | 基板洗浄具及び基板洗浄装置 | |
| JP2001096245A (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
| JPH10223583A (ja) | ブラシ式洗浄装置 | |
| JP3377414B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP2617535B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3229952B2 (ja) | ウエハキャリア洗浄装置 | |
| JP3229951B2 (ja) | ウエハキャリア洗浄装置 | |
| JPH10303170A (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
| JP2003320323A (ja) | 基板洗浄方法 | |
| JP3448630B2 (ja) | ウエハキャリア洗浄装置 | |
| JP3999540B2 (ja) | スクラブ洗浄装置におけるブラシクリーニング方法及び処理システム | |
| JPH09321005A (ja) | スピン洗浄処理ユニット | |
| JP2023144107A (ja) | 基板処理装置、および基板処理方法 | |
| JP2000208466A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| JP2000107713A (ja) | ディスク用カセットの洗浄装置 | |
| JP7152918B2 (ja) | ブラシ洗浄装置、基板処理装置及びブラシ洗浄方法 | |
| JP2002075944A (ja) | 液中基板浸漬装置および液中基板浸漬処理方法 | |
| JP3205752B2 (ja) | キャリア洗浄装置 | |
| JP3065061B1 (ja) | ウェハ洗浄装置 | |
| JP7578063B2 (ja) | 洗浄処理装置 | |
| JPH11307495A (ja) | ブラシ洗浄装置及びワーク洗浄システム | |
| KR102493020B1 (ko) | 버퍼반전유닛을 이용한 반도체 웨이퍼의 세정시스템 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080914 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090914 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090914 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100914 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |