JPS6012736A - 主として洗浄乾燥装置に使用するカ−トリツジ - Google Patents

主として洗浄乾燥装置に使用するカ−トリツジ

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JPS6012736A
JPS6012736A JP10236784A JP10236784A JPS6012736A JP S6012736 A JPS6012736 A JP S6012736A JP 10236784 A JP10236784 A JP 10236784A JP 10236784 A JP10236784 A JP 10236784A JP S6012736 A JPS6012736 A JP S6012736A
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JP
Japan
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plate
cartridge
cleaning
frames
parallel
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JP10236784A
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Yoshiaki Minegishi
義昭 峯岸
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GOSEN SANGYO KK
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GOSEN SANGYO KK
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は半導体製造用フォトマスク、レチクル、ウェハ
ー等の方形のプレートを離間させて平行に収納するカー
トリッジ係り、特に前記プレートの洗浄乾燥装置に使用
するカートリッジに関する。
T従来の技術」 従来より半導体製造用プレートの洗浄乾燥装置に使用す
るカートリッジとして、例えば第4図に示す如く、前後
両側が開口する方形枠体1の内壁面両側に、プレー)1
1挿入方向(矢印で示す)に沿って平行に複数のV字溝
2,3を夫々対称に形成し、そのその終端側2a、3a
を夫々内側に腕曲させて該終端側2a、3aにプレート
を突き当て可能に形成したカートリッジは既に公知(特
開昭48−[14883号参照)である。
かかる構成のカートリッジにおいては、プレート11進
退方向の両側が開口されている為、容易にプレー)11
の収納と抜出が可能のみならず、夫々V字溝2,3の終
端側2a、3aを夫々内側に腕曲させてプレートを突き
当て可能に形成した為、カートリッジ内の所定位置にプ
レート+1をきっちり収納させることが可能となる。
「発明が解決しようとする問題点」 しかしながらかかる構成のカートリッジにおいては、プ
レート11挿入方向のみが開口し、他の四辺が枠体lに
より囲設されている為、上方向よりのシャワー散布によ
る予備洗浄が不可能であり、この結果、洗浄前において
常にプレー)11を濡らして置くことが出来ない為、プ
レー)11の乾燥によりゴミ等がプレート表面に固着し
てしまう場合があり、このような場合はブラッシングに
よる強制洗浄を行なっても完全には取り切れず、洗浄効
果が半減してしまう。
又、前記プレー)11を保持する7字溝2.3は直線状
の連続した凹部である為に洗浄後の汚染物質を含む洗浄
水が溜り易く二次汚染の原因につながりやすい。
特に前記図示のカートリッジを80度角度変位させて、
プレー)11が直立して配置される縦列配置構造にした
場合は、底側に7字溝2.3が位置することとなり、前
記二次汚染が更に拡大する。
更に、前記7字溝2.3はプレート挿入方向に沿って直
線状に連続して形成されている為、方形のプレート11
を収納する場合は線接触支持となり、該線接触している
プレート側縁面に汚染物質が付着しやすい。又円形のプ
レートを収納する場合であ二ても、該プレートを所定位
置に収納する為に7字溝2,3の終端側2a、3aを夫
々内側に腕曲させてプレート突き当て部となした為、そ
の突き当て部においては線接触となり、やはり前記欠点
を解消し得ない。
本発明が解□決しようとする技術的課題は、前記従来技
術の欠点に鑑み、プレートを点接触にて且つ空中支持を
可能なさしめ、二次汚染の原因を解消せしめると共に、
カートリッジ上方よりのシャワー散布による予備洗浄を
可能ならしめ、常にプレートを濡らして置き、洗浄装置
の効果的な洗浄を発揮させることにある。
「問題点を解決しようとする手段」 本発明は上記問題点を解決する技術手段として、半導体
製造用フォトマスク、レチクル、ウェハー等の方形のプ
レートを離間させて平行に配設収納するカートリッジに
おいて、中心部より周縁部に進むに従い徐々に薄肉にな
るよう形成した複数のリング体を直列状に配設した支持
部材と、棒状止め軸と、これらを所定位置に保持する一
対の枠体とを有し、平行に配した枠体の上下両側にプレ
ートが支持可能な所定間隔だけ離間させて前記支持部材
を平行に夫々複数個づつ配設すると共に、プレート挿入
方向終端側に該挿入方向と直交させて前記止め軸を配設
したカートリッジを提案する。
尚、前記支持部材は、例えばそろばん玉状のリング体を
芯体に貫装させて形成してもよく、又樹脂材の成形によ
り前記リング体が一体的に連なる如く形成してもよい。
又止め軸はプレート側端が点接触により接触する構造で
あれば円棒状に形成してもよく、又角棒を用い、その頂
部がプレート側端に当接する如く配置してもよい。
「実施例」 以下図面に基づい本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の実施例に係るカートリッジを ′示
す。
26は平板状の底板で、間欠移動機構28と連結された
基台28上に戴置可能に構成されている。
24.24’は一対の方形枠体で、前記底板26両端側
にプレート11挿入方向(矢印へ方向)とf行に垂直に
立設されている。
23.23’は該枠体24,24’間の上下両側にプレ
ート11挿入方向と直交する如く架設された支持部材で
、該支持部材23.23’はプレート11が当接保持可
能な所定間隔だけ離間させて夫々上下両側に各3木づつ
平行且つ並列状に配設されている。
前記各支持部材23.23°は、前記枠体24,24’
間に架設された芯体22に、中心部より周縁部に進むに
従い徐々に薄肉になるよう形成した断面略菱形状の複数
のリング体21.21’を、中心軸を一致させて直列状
に貫挿させて構成されている。
尚、該支持部材23.23’は、隣接するリング体21
.21°の側壁間でプレート11上下両側端を点接触に
より保持する機能を有するものであるから、前記リング
体21.21’は必ずしも回転可能に心棒に軸支する必
要もなく、又芯体22とリング体21.21’を別体に
構成する必要もないことはその機能からして当然である
25.25°は丸棒状の止め軸で、前記支持部材23,
23°間に挟まれる空間部のプレーH1挿入方向終端側
の枠体24,24°間に、前記挿入方向と直交させて同
一垂直面上に上下に1本づつ架設されている。
かかるカートリッジ12によれば、支持部材23,23
°がプレート11が挿入可能な所定間隔だけ離間させて
上下に平行に配設されている為、該支持部材23 、2
3°の隣接するリング体21.21’間に方形のプレー
トllをガタが生じることなく収納出来ると共に、プレ
ー)11挿入方向終端側には止め軸25.25’が配設
されている為、プレート11挿入時該プレート11が反
挿入方向側に脱落することなく、所定位置に正確に収納
保持される。
又、プレート11反挿入方向側には一対の止め軸25.
25’が所定間隔離間して配置されているのみで開放状
態にある為、その開放部より後記押し出し部材等18を
介してプレート11を簡単に摺動抜出させることが出来
、未洗浄又は洗浄後のカートリッジ12のいずれにも共
通して使用することができる。
又、カートリッジ12上側には支持部材23が配設され
ているが、該支持部材23は断面略菱形状のリング体2
1.21’を直列に連結して形成されている為、当然の
如くカートリッジ12上側は開放されており、該カート
リッジ12上方に配設したシャワー等により洗浄水を散
布することにより簡単に予備洗浄を行なうことが出来る
更にこのようなシャワー散布による予備洗浄を行なって
も、前記プレー)11は支持部材23,23°間で空中
保持、即ち支持部材23°下方と底板26間には空間部
を有するため、シャワー散布により前記プレー)11を
洗浄した洗浄水は直接支持部材23.23“下方にまで
落下し、底板26を伝わって外部に流出することとなり
、プレート11を支持する下側支持部材23.23’に
は全く溜まることがなく二次汚染を完全に防止出来る。
更に又、前記カートリッジ12内に収納されたプレー)
11は、隣接するリング体21,21°間と止め軸25
 、25′とによる保持が点接触である為、これらのリ
ング体21.21’や止め軸25.25’はプレート1
1の側縁面にほとんど接触することがなく、従って洗浄
後の汚染物質を含む洗浄水がプレート11側縁面に付着
することはない。
第2図乃至第3図は前記カートリッジ12を用いた、例
えばフォトマスク等の洗浄乾燥を行なう装置の概略構成
を示し、第2図は正面図、第3図は平面図である。
フォトマスク搬送経路A−A’に沿って直列状に配設さ
れた複数個のベルトコンベア13a・・・の始端側と終
端側には、夫々間欠移動機構28と連結された基台29
が配設され、該基台29上に未洗浄のフォトマスクを収
納するカートリッジ12と、洗浄済のフォトマスクを収
納するカートリッジ12゛が戴置固定されている。
又未洗浄のフォトマスクを収納するカートリッジ12上
方に″は予備洗浄を行なうシャワー散水装置30が、更
にカートロンジ12始端側の搬送経路A−A ’上には
先端V溝状の押し出し機構18が夫々旧設され、前記間
欠移動機構28と連動してカートリッジ12を搬送経路
A−A’と直交方向に位置をずらしながら、押し出し機
構18により予備洗浄されたフォトマスクがベルトコン
ベア13a・・・上に順次押し出すことができる。
そして前記ベルトコンベア13a・・・始端側より、水
を噴出させるガイド部材14aからなる搬送機構15a
 、ブラッシン、グ機構16、前記と搬送機構15aと
同様に構成された他の搬送機構15b 、シャワーノズ
ル機構17、清浄空気を噴出させるガイド部材14c、
14dからなる2連の乾燥兼用の搬送機構15c 。
15dが夫々ベルトコンベア13c、13dの両側に各
一対づつ互いに対向させて配設されている。
又ベルトコンベア13dの終端−側には、支点33を介
して回動される回動部材18が配設され、間欠移動機構
28と連動させて洗浄乾燥後のフォトマスクを順次カー
トリッジ12内に収納されるよう構成する。
次にかかる実施例の作用を簡単に説明すると、先づカー
トリッジ12上方からシャワー散布により未洗怜のフォ
トマスク11の予備洗浄を行なった後、間欠移動機構2
8と連動する押し出し機構18をカートリッジ12背側
の止め軸25,25°間よりカートリッジ12内に挿入
し、前記フォトマスク11をベルトコンベア13a・・
・上に直立したまま順次押し出す。
ベルトコンベア13a・・・上に押し出されたフォトマ
スク11は第2図に示すようにベルトコンベア13a上
部両側に配設されたガイド部材14a、14bより噴出
された水流によって直立が維持されたまま、ブラッシン
グ機構IBとシャワーノズル機構17により洗浄が行な
われ、その後清浄空気を噴出させるガイド部材14c、
14dにより乾燥されながらベルトコンベア13d終端
まで移動する。
そして洗浄乾燥の終了したフォトマスク11’は、間欠
移動機構28と連動する回動部材!8により順次カート
リッジ12内の所定位置に直立したまま平行に離間させ
て収納される。
この際、該カートリッジ12のフォトマスク11゜挿入
方向終端に止め軸25.25’が挿入方向と直交して配
置している為、所定位置にきっちり収納させることがで
き、且つ前記フォトマスク11°は点接触により空中保
持されている為、二次汚染の恐れを完全に解消出来る。
「発明の効果」 以上記載の如く本発明によれば、フォトマスク等のプレ
ートを前記支持部材のリング体間と止め軸とにより、点
接触により所定位置に空中保持させて収納することが出
来、洗、浄後の二次汚染を完全に防止出来る。
又、支持部材が配設された上方は開放状態にある為、洗
浄前においてシャワー散布により予備洗浄を行ない、常
にプレートを濡らして置くことが出来る為、乾燥により
ゴミ等がプレート表面に固着することはない。
更にこのような予備洗浄を行なっても、前記プレートは
支持部材間で空中保持されている為、シャワー散布によ
り前記プレートを洗浄した洗浄水は直接支持部材下方に
まで落下し、前記プレー)11を支持する支持部材上に
溜まることがなく、予備洗浄により除去されたゴミがプ
レート側端部等に再付着する恐れは全くない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係るカートリッジ12を示す
斜視図である。第2図乃至第3図は前記カートリッジ1
2を用いた洗浄乾燥装置の概略構成を示し、第2図は正
面図、第3図は平面図である。 第4図は従来技術に係るカートリッジ12を示す斜視図
である。 llニブレート、12:カートリッジ。 21.21’ :リング体 23,23°:支持部材、
25.25°:止め軸 第4!?1 手続補正書 昭和58年6月20日 特許庁長官 若杉和夫殿 1、事件の表示 昭和59年特許願第702’3C’7号2、発明の名称 主として洗節乾燥装置に使用するカートリッジ3、補正
をする者 事件との関係 特許出願人 住所 神奈川県厚木市愛甲字田谷1212番地1名称(
氏名) 呉船産業株式会社 4、代理人 〒104 廿552−25446、補正の
対象 図面(浄書) 7、補正の内容 別紙の通り(内容に変更なし。)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体製造用フォトマスク、レチクル、ウェハー等の方
    形のプレートを離間させて平行に配設収納するカートリ
    ッジにおいて、中心部より周縁部に進むに従い徐々に薄
    肉になるよう形成した複数のリング体を直列状に配設し
    た支持部材と、棒状の止め軸と、これらを所定位置に保
    持する一対の枠体とを有し、平行に配した枠体の上下両
    側にプレートが支持可能な所定間隔だけ離間させて前記
    支持部材を平行に夫々複数個づつ配設すると共に、プレ
    ート挿入方向終端側に該挿入方向と直交させて前記止め
    軸を配設したことを特徴とするカートリッジ。
JP10236784A 1984-05-21 1984-05-21 主として洗浄乾燥装置に使用するカ−トリツジ Granted JPS6012736A (ja)

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JPS6012736A true JPS6012736A (ja) 1985-01-23
JPS6339484B2 JPS6339484B2 (ja) 1988-08-05

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4723088A (en) * 1985-03-29 1988-02-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Support members for the mask frame of a CRT
US4728853A (en) * 1985-06-27 1988-03-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Color picture tube with support arrangement for a rectangular shadow mask
JPH01155249U (ja) * 1988-04-07 1989-10-25
JP2007100889A (ja) * 2005-10-06 2007-04-19 Bridgestone Corp ストラットマウント
JP2008240884A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Kokoku Intech Co Ltd 防振支持部材及び自動車用部品ユニット支持装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4723088A (en) * 1985-03-29 1988-02-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Support members for the mask frame of a CRT
US4728853A (en) * 1985-06-27 1988-03-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Color picture tube with support arrangement for a rectangular shadow mask
JPH01155249U (ja) * 1988-04-07 1989-10-25
JP2007100889A (ja) * 2005-10-06 2007-04-19 Bridgestone Corp ストラットマウント
JP2008240884A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Kokoku Intech Co Ltd 防振支持部材及び自動車用部品ユニット支持装置

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