KR101408757B1

KR101408757B1 - 기판의 처리 장치

Info

Publication number: KR101408757B1
Application number: KR1020070074068A
Authority: KR
Inventors: 하루미치 히로세
Original assignee: 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤
Priority date: 2006-07-26
Filing date: 2007-07-24
Publication date: 2014-06-17
Also published as: CN101114576B; KR20080010307A; JP2008029922A; CN101114576A; TWI419251B; JP4829710B2; TW200814222A

Abstract

본 발명은 소정 각도로 경사지게 하여 반송되는 기판을 건조 처리할 때, 기판이 배면을 지지하는 지지 롤러로부터 떠오르는 것을 방지한 기판의 처리 장치를 제공한다.

본 발명은, 챔버와, 챔버 내에 설치되어 기판의 경사 방향 아래쪽의 배면을 지지하는 지지 롤러와, 배면이 지지 롤러에 의해 지지된 기판의 하단을 외주면에 의해 지지하고 회전 구동되어 상기 기판을 소정 방향으로 반송하는 구동 롤러와, 기판의 경사 방향 위쪽의 전면과 아래쪽의 배면의 높이 방향의 대략 전체 길이에 걸쳐서 대향하여 배치되고 기판의 반송 방향 상류측을 향해 기체를 분사하는 에어 나이프(61)와, 기판의 전면의 에어 나이프보다 기판의 반송 방향 상류측에 전면과 대향하여 설치되어 에어 나이프로부터 분사되는 기체가 기판의 전면을 따라 흐르도록 안내하는 전면 정류판(64)을 구비한다.

기판, 처리, 반송, 챔버, 노즐, 구동 롤러, 처리액, 정류판, 에어 나이프

Description

기판의 처리 장치{APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATES}

본 발명은 기판을 소정 각도로 경사지게 한 기립 상태에서 반송하면서 처리액에 의해 처리한 후 기체를 분사하여 건조 처리하는 기판의 처리 장치에 관한 것이다.

액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판에는 회로 패턴이 형성된다. 기판에 회로 패턴을 형성하기 위해서 리소그래피(lithography) 프로세스가 채용된다. 리소그래피 프로세스는 주지하는 바와 같이 상기 기판에 레지스트를 도포하고, 상기 레지스트에 회로 패턴이 형성된 마스크를 통하여 광(光)을 조사(照射)한다.

다음에, 레지스트의 광이 조사되지 않는 부분 또는 광이 조사된 부분을 제거하고, 기판의 레지스트가 제거된 부분을 에칭한다. 그리고, 에칭 후에 레지스트를 제거하는 일련의 공정을 복수회 반복함으로써, 상기 기판에 회로 패턴을 형성한다.

이와 같은 리소그래피 프로세스에 있어서는, 상기 기판에 현상액, 에칭액 또는 에칭 후에 레지스트를 제거하는 박리액 등의 처리액에 의해 기판을 처리하는 공정, 또한 세정액에 의해 세정하는 공정, 및 세정 후에 기판에 부착 잔류한 세정액을 제거하는 건조 공정이 필요하다.

종래에는, 기판에 대해서 전술한 일련의 처리를 행하는 경우, 상기 기판은 축선을 수평으로 하여 배치된 반송 롤러에 의해 대략 수평인 상태에서, 복수개의 처리 챔버에 차례로 반송되고, 각 처리 챔버에서 처리액에 의한 처리, 세정액에 의한 세정, 세정 후에 기체를 분사하는 건조를 행하도록 하고 있다.

그런데, 최근에는 액정 표시 장치에 사용되는 유리제의 기판이 대형화 및 박형화하는 경향에 있다. 그러므로, 기판을 수평 반송하면, 반송 롤러 사이에서 기판이 휘어지기 쉬우므로, 각 처리 챔버에서의 처리가 기판의 판면 전체에 걸쳐서 균일하게 행해지지 않는 경우가 발생된다.

또한, 기판이 대형화되면, 상기 기판을 반송하는 반송 롤러가 설치된 반송축의 길이가 길게 된다. 또한, 기판이 대형화됨으로써, 기판 상에 공급되는 처리액이 증대되고, 기판상의 처리액의 양에 따라 상기 반송 축에 가하는 하중이 커지므로, 그에 따라서 반송축의 휨이 증대된다. 그러므로, 기판은 반송축과 함께 휨이 생기고, 균일한 처리가 행해지지 않는 경우가 있다.

따라서, 기판을 처리할 때, 상기 기판이 처리액이나 세정액의 중량에 의해 휘어지는 것을 방지하기 위해서, 기판을 소정의 경사 각도, 예를 들어 수직 상태로부터 15° 경사지게 한 75° 각도로 반송하고, 경사 방향의 위쪽에 위치하는 전면에 처리액을 분사해 전면을 처리하고, 그 다음에 전면 및 배면에 세정액을 분사하는 것이 행해지고 있다.

기판을 경사지게 하여 반송하고, 상기 기판의 전면에 처리액이나 세정액을 분사 공급하면, 처리액이나 세정액은 기판의 판면에 잔류되지 않고, 판면의 윗쪽으 로부터 아래쪽을 향해 원활하게 흐르기 때문에, 처리액이나 세정액의 중량에 의해 기판이 휘어지는 것을 방지할 수 있다.

기판을 소정 각도로 경사지게 하여 반송하면서 처리하는 처리 장치의 경우에는, 일본국 특개 2004-210511호 공보에 나타낸 바와 같이, 챔버 내에 기판의 경사 방향 아래쪽으로 되는 배면을 지지하는 지지 롤러와, 하단을 지지하는 구동 롤러가 설치된다. 구동 롤러는 구동축에 장착되고, 상기 구동축은 구동원에 의해 회전 구동된다.

상기 처리 장치에는, 챔버 내에 복수개의 상기 지지 롤러와 상기 구동 롤러가 상기 기판의 반송 방향에 대하여 소정 간격으로 배치된다. 그에 따라, 상기 기판은 상기 지지 롤러에 의해 배면이 지지되면서, 하단이 상기 구동 롤러에 의해 구동되고, 소정 방향으로 반송되게 된다.

그런데, 처리액에 의해 처리된 기판은, 전면과 배면이 세정액에 의해 세정 된 후, 전술한 바와 같이 그 전면과 배면에 에어 나이프(air knife)에 의해 기체가 분사되어 건조 처리가 행해진다. 에어 나이프는 선단에 슬릿(slit)이 개구 형성되어 있다. 그리고, 에어 나이프는 반송되는 기판의 전면 및 배면에 대해, 반송 방향 상류측을 향해 경사져 배치되어 있어, 소정 방향으로 반송되는 기판의 전면 및 배면에 가압된 기체를 상기 슬릿으로부터 기판의 반송 방향 상류측을 향해 경사져 분사하도록 되어 있다.

기판의 전면과 배면에 기체를 상류측으로 향해 경사지게 하여 분사하면, 기판의 전면과 배면에 부착된 세정액은 기판의 반송 방향 상류측을 향해 흐르게 된다. 그에 따라, 기판의 전면과 배면이 건조 처리되게 된다.

한편, 에어 나이프로부터 기판의 전면과 배면에 분사된 기체 중, 전면에 분사된 기체는, 기판의 전면에 충돌된 후, 즉시 그 전면으로부터 멀어지는 방향으로 흐른다. 기판의 전면으로부터 멀어지는 방향으로 흐르는 기체는, 기판의 전면에 부력을 발생시킨다.

기판의 전면에 부력이 생기면, 상기 부력에 의해 기판은 배면이 지지 롤러로부터 떠오르기 때문에, 기판의 반송 상태가 불안정하게 되거나, 부상(浮上)이 큰 경우에는 기판은 챔버의 단부 벽에 형성된 기판을 통과시키기 위한 슬릿에 부딪쳐, 손상되거나, 반송 불가능하게 될 우려가 있었다.

본 발명은 기판에 기체를 분사해 건조 처리하는 경우에, 기판이 지지 롤러로부터 떠오르는 것을 방지한 기판의 처리 장치를 제공한다.

본 발명은, 소정 각도로 경사지게 하여 반송하면서 처리액에 의해 처리된 기판에 기체를 분사해 건조 처리하는 기판의 처리 장치로서,

챔버와,

상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판의 경사 방향 아래쪽의 배면을 지지하는 지지 롤러와,

배면이 상기 지지 롤러에 의해 지지된 상기 기판의 하단을 외주면에 의해 지지하고 회전 구동되어 상기 기판을 소정 방향으로 반송하는 구동 롤러와,

상기 기판의 경사 방향 위쪽의 전면과 아래쪽의 배면의 높이 방향의 대략 전체 길이에 걸쳐서 대향하여 배치되고 상기 기판의 반송 방향 상류측을 향해 기체를 분사하는 기체 분사 수단과,

상기 기판의 전면의 상기 기체 분사 수단보다 기판의 반송 방향 상류측에 상기 전면과 대향하여 설치되어 상기 기체 분사 수단으로부터 분사되는 기체가 상기 기판의 전면을 따라 흐르도록 안내하는 전면 정류판을 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치이다.

본 발명에 의하면, 기체 분사 수단으로부터 분사된 기체는 전면 정류판에 의해 기판의 전면을 따라 흐르도록 안내되므로, 상기 기체의 흐름에 의해 기판의 전 면에 부력이 생기는 것을 억제하고, 기판을 안정된 상태에서 반송할 수 있다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 일 실시예를 설명한다.

도 1은 처리 장치의 개략적 구성을 나타낸 사시도로서, 상기 처리 장치는 장치 본체(1)를 구비하고 있다. 상기 장치 본체(1)는 분할된 복수개의 처리 유닛, 이 실시예에서는 제1 내지 제5 처리 유닛(1A~1E)을 분해 가능하게 일렬로 연결하고 있다.

각 처리 유닛(1A~1E)은 발판(2)을 구비하고 있다. 상기 발판(2)의 전면에는 상자형의 챔버(3)가 소정 각도로 경사져 지지되어 있다. 상기 발판(2)과 챔버(3)의 상면에는 상부 반송부(4)가 설치되어 있다. 상기 발판(2)의 하단의 폭 방향 양단에는 판형의 한쌍의 다리부(5)(한쪽만 도시함)가 분해 가능하게 설치된다. 상기 다리부(5)에 의해 상기 발판(2)의 하면측에 공간부(6)가 형성된다.

상기 공간부(6)에는, 상기 챔버(3)에서 후술하는 바와 같이 행해지는 기판(W)의 처리에 사용되는 약액이나 린스액 등의 처리액을 공급하는 탱크나 펌프 또는 처리액의 공급을 제어하기 위한 제어 장치 등의 기기(7)를 프레임(8)에 장착한 기기부(9)가 수납되도록 되어 있다. 즉, 각 처리 유닛(1A~1E)은 발판(2)을 다리부(5)로 지지하여 챔버(3)의 하방에 공간부(6)를 형성함으로써, 상하 방향으로 위치하는 챔버(3), 상부 반송부(4) 및 기기부(9)의 3개의 부분으로 분할되어 있다.

상기 챔버(3)는 상기 발판(2)에 소정의 각도로 경사져 있고, 예를 들어 수직인 상태로부터 15° 경사지게 한, 수평면에 대해서 75° 각도로 경사져 지지되어 있어, 폭 방향의 양쪽면에는 75° 각도로 경사져 반송되는 기판(W)이 통과되는 슬릿(13)(도 1에 한개만 도시함)이 형성되어 있다.

상기 챔버(3)의 내부에는, 도 2에 나타낸 바와 같이 경사 반송 수단을 구성하는 복수개의 반송축(15)(1개만 도시함)이 챔버(3)의 폭방향으로 소정 간격으로 형성되어 있다. 상기 반송축(15)에는 복수개의 지지 롤러(14)가 축방향으로 소정 간격으로 회전 가능하게 설치되어 있다. 상기 반송축(15)은, 축선이 상기 슬릿(13)과 동일한 각도로 경사지도록, 상단 및 하단이 각각 브래킷(15a)에 의해 지지되어 있다.

상기 챔버(3) 내에는, 상기 슬릿(13)으로부터 기판(W)이 도 1에 쇄선으로 나타낸 제1 자세 변환부(16)에 의해 수평 상태로부터 75° 각도로 변환되어 반입 된다. 즉, 미처리의 기판(W)은 상기 상부 반송부(4)에 의해 제5 처리 유닛(1E) 측으로부터 제1 처리 유닛(1A) 측으로 반송되어 상기 제1 자세 변환부(16)에서 수평 상태로부터 75° 각도로 경사지게 되어 상기 제1 처리 유닛(1A)에 반입된다.

제1 처리 유닛(1A)의 챔버(3) 내에 반입된 기판(W)은 상기 반송축(15)에 설치된 지지 롤러(14)에 의해 비디바이스면인 배면이 지지된다. 상기 기판(W)의 하단은 구동 롤러(17)(도 2에 도시함)의 외주면에 의해 지지된다.

상기 구동 롤러(17)는 구동 유닛(18)의 회전축(19)에 설치되어 있다. 그리고, 상기 회전축(19)이 회전 구동됨으로써, 구동 롤러(17)에 하단이 지지된 배면과 상기 지지 롤러(14)에 지지된 상기 기판(W)이 상기 구동 롤러(17)의 회전 방향으로 반송되도록 되어 있다.

기판(W)은 반송 방향 상류측의 제1 내지 제3 처리 유닛(1A~1C)에서 처리액으로서의 박리액으로 레지스트의 제거가 행해진 후, 제4 처리 유닛(1D)에서 세정 처리가 행해진다. 그리고, 제5 처리 유닛(1E)에서 열풍 등의 가압된 기체에 의해 후술하는 바와 같이 건조 처리가 행해진다.

각 처리 유닛(1A~1E)을 차례로 통과하여 처리된 기판(W)은 75° 각도로 경사진 상태에서 상기 제5 처리 유닛(1E)으로부터 반출된다. 제5 처리 유닛(1E)으로부터 반출된 기판(W)은, 도 1에 쇄선으로 나타낸 제2 자세 변환부(23)에서 경사상태로부터 수평 상태로 자세가 변환되어 다음 공정으로 전달된다.

도 2에 나타낸 바와 같이, 상기 구동 유닛(18)은 챔버(3)의 폭 방향(기판(W)의 반송 방향)을 따라 긴 판형의 하부 베이스부재(24)를 가진다. 상기 하부 베이스부재(24)의 상면에는 하부 베이스부재(24)와 동일한 길이의 채널형의 상부 베이스부재(25)가 양쪽 하단을 고착해 설치되어 있다.

상기 상부 베이스부재(25)에는, 상기 하부 베이스부재(24)와 대략 동일한 크기의 평판형 장착 부재(26)의 폭 방향의 일단부와 타단부가 상부 베이스부재(25)에 대해서 경사를 조정할 수 있게 연결하여 설치되어 있다. 즉, 상기 장착부재(26)는 챔버(3)의 전후방향으로 경사 각도를 조정할 수 있도록 되어 있다.

상기 장착 부재(26)의 폭 방향의 일단과 타단에는, 각각 복수개의 브래킷(31)이 상기 장착 부재(26)의 길이 방향에 대하여 소정 간격으로, 또한 폭방향에 대응하는 위치에 설치되어 있다. 폭방향에서 대응하는 한쌍의 브래킷(31)에는 도시하지 않은 베어링을 통하여 상기 회전축(19)의 축 방향의 중간부가 회전 가능하 게 지지되어 있다. 상기 회전축(19)의 선단에는 상기 구동 롤러(17)가 장착되고, 후단에는 제1 기어(33)가 결합된다.

그리고, 상기 발판(2)에 챔버(3)를 설치하면, 상기 발판(2)에 설치된 지지부(41)의 상면에 로드형의 4개의 기준 부재(35)의 하단면이 나사(42)에 의해 장착 고정된다. 상기 구동 유닛(18)은, 하부 베이스부재(24)의 네 모퉁이부 하면이 상기 기준 부재(35)의 상단면에 나사(42)에 의해 장착 고정된다. 4개의 기준 부재(35)의 상단면은 동일한 평면에 위치되어 있다. 그러므로, 구동 유닛(18)은 그 하부 베이스부재(24)의 폭 방향 및 길이 방향으로 불균일이 생기지 않게 장착 고정된다.

상기 구동 유닛(18)을 기준 부재(35)의 상단면을 기준으로 해 챔버(3) 내에 조립했을 때, 구동 유닛(18)에 지지된 복수개의 회전축(19)의 후단부는 챔버(3)의 앞벽(12b)에 개구된 안내구멍(44)으로부터 구동실(45)로 돌출한다. 그리고, 구동 유닛(18)을 챔버(3) 내에 내장한 다음에, 상기 회전축(19)의 후단에 상기 제1 기어(33)가 결합된다.

상기 구동실(45)에는 구동원(51)이 설치되어 있다. 상기 구동원(51)의 출력축에는 구동 풀리(53)가 결합되어 있다. 상기 구동 풀리(53)와 종동 풀리(54)에는 벨트(55)가 설치되어 있다. 상기 종동 풀리(54)는 도시하지 않은 제2 기어가 동축에 설치되어 있다. 상기 제2 기어는 상기 제1 기어(33)에 맞물려 있다. 그에 따라, 구동원(51)이 작동되면, 상기 회전축(19)이 회전 구동되므로, 상기 회전축(19)의 선단에 설치된 상기 구동 롤러(17)도 회전 구동된다.

구동 롤러(17)가 회전 구동되면, 이들 구동 롤러(17)에 의해 하단이 지지된 기판(W)은 상기 구동 롤러(17)의 회전 방향으로 반송되게 된다.

도 2는 제5 처리 유닛(1E)의 챔버(3) 내부를 나타낸 단면도로서, 상기 챔버(3) 내부에 반송되는 기판(W)의 전면과 배면에는, 기판(W)의 상하 방향 전체 길이에 대향하는 길이의 기체 분사 수단으로서의 한쌍의 에어 나이프(61)가 대향하여 설치되어 있다.

한쌍의 에어 나이프(61)는 선단면에 슬릿(62)이 개구 형성되어 있어, 상기 슬릿(62)으로부터 기판(W)의 전면과 배면에 소정의 압력으로 가압된 기체가 분사된다. 한쌍의 에어 나이프(61)는, 도 4에 나타낸 바와 같이 슬릿(62)이 개구 형성된 선단측이 기판(W)의 반송 방향(X)의 상류측을 향해 낮게 경사져 설치되어 있다. 그에 따라, 에어 나이프(61)의 슬릿(62)으로부터 분사된 기체는, 기판(W)의 전면 및 배면에 충돌한 후, 반송 방향(X)의 상류측, 즉 기판(W)의 반송 방향(X)과 역방향을 향해 흐른다.

그리고, 기판(W)의 전면 및 배면에 대한 에어 나이프(61)의 경사 각도는 30°~60°의 범위로 설정되는 것이 바람직하다.

상기 에어 나이프(61)보다도 기판(W)의 반송 방향(X)의 상류측에는, 도 3 및 도 4에 나타낸 바와 같이 기판(W)의 전면에 대향하여 복수개의 전면 정류판(64)이 후술하는 바와 같이 배치되고, 배면에 대향하여 도 4 및 도 5에 나타낸 바와 같이 기판(W)의 높이 치수와 대략 동일한 길이를 가지는 복수개의 배면 정류판(65), 이 실시예에서는 2개의 배면 정류판(65)이 후술하는 바와 같이 평행하게 배치되어 있 다.

즉, 상기 전면 정류판(64)은, 도 3에 나타낸 바와 같이 기판(W)의 높이 방향에 대하여 3개로 분할되어 있어, 각 전면 정류판(64)은 도 4에 나타낸 바와 같이 기판(W)의 반송 방향(X)의 상류측으로부터 하류측을 향해 기판(W)의 전면에 대한 대향 간격이 차례로 좁게되도록 경사져 설치되어 있다.

또한 구체적으로 설명하면, 도 4에 나타낸 바와 같이 전면 정류판(64)의 에어 나이프(61) 측에 위치하는 폭 방향의 일단과 기판(W)의 전면의 간격을 A, 폭 방향 타단과 기판(W)의 전면의 간격을 B로 하면, A>B로서, 예를 들어 A는 20mm, B는 10mm로 설정된다.

상기 전면 정류판(64)의 상기 기판(W)의 높이 방향에 따른 길이 치수는, 기판(W)의 높이 치수의 약 5분의 1로 설정되어 있다. 그에 따라, 상하 방향에서 인접하는 전면 정류판(64)의 단부 사이에는 전면 정류판(64)의 길이 치수와 동일한 간격으로 개방부(S)가 형성된다.

상기 배면 정류판(65)은, 도 5에 나타낸 바와 같이 기판(W)의 높이 치수와 동일한 길이 치수를 가지는 동시에, 도 4에 나타낸 바와 같이 기판(W)의 반송 방향(X)의 상류측에 위치하는 폭 방향의 일단(C)이 타단(D)보다 기판(W)의 배면으로부터 멀어지는 방향으로 경사져 있다. 기판(W)의 배면에 대한 상기 배면 정류판(65)의 경사 각도는 30°~60°가 바람직하다. 그리고, 2개의 배면 정류판(65)은 기판(W)의 반송 방향(X)에 대해서 소정 간격으로 평행하게 이격되어 설치되어 있다.

이와 같이 구성된 기판(W)의 처리 장치에 의하면, 제1 내지 제3 처리 유닛(1A~1C)에서 처리액에 의해 처리된 후, 제4 처리 유닛(1D)에서 세정액에 의해 세정 처리된 기판(W)이 제5 처리 유닛(1E)으로 반입되면, 상기 기판(W)의 전면과 배면에는 한쌍의 에어 나이프(61)로부터 가압된 기체가 분사된다.

기판(W)의 전면에 분사된 기체는 기판(W)의 전면에 충돌해 반사되고, 상기 기판(W)의 전면으로부터 멀어지는 방향으로 흐르게 된다. 그러나, 에어 나이프(61)보다도 기판(W)의 반송 방향 상류측의 전면에는 3개의 전면 정류판(64)이 설치되어 있다.

그러므로, 이들 전면 정류판(64)에 대응하는 부분에 분사된 기체는, 도 4에 화살표 F로 나타낸 바와 같이 기판(W)의 전면에서 충돌되면, 전면 정류판(64)에 안내되어 기판(W)의 전면을 따라 흐른다.

따라서, 기판(W)의 전면에 분사된 기체는 기판(W)의 전면에 충돌된 후, 즉시 상기 기판(W)의 전면으로부터 멀어지는 방향으로 흐르는 것이 상기 전면 정류판(64)에 의해 저지되므로, 기판(W)에 분사된 기체에 의해 상기 기판(W)의 전면에 부력이 생기는 것이 억제된다. 그에 따라, 기판(W)을 지지 롤러(14)로부터 떠오르게 하지 않고, 안정된 상태로 반송할 수 있다.

기판(W)의 전면에 전면 정류판(64)이 설치되어 있지 않은 부분에 분사된 기체는, 기판(W)의 전면에 충돌된 후, 즉시 그 전면으로부터 멀어지는 방향으로 흐르므로, 기판(W)의 전면에 부력이 생기게 된다.

그러나, 상기 기체에 의해 기판(W)의 전면에 부력이 생겨도, 기판(W)의 전면 과 전면 정류판(64) 사이에 흐르는 기체가 기판(W)의 전면에 상기 기판(W)을 지지 롤러(14)에 가압하는 방향의 힘으로서 작용하기 때문에, 기판(W)이 지지 롤러(14)로부터 떠오르는 것이 저지된다.

따라서, 기판(W)의 전면에 복수개로 분할된 전면 정류판(64)을 설치해도, 에어 나이프(61)로부터 기판(W)의 전면에 분사되는 기체에 의해 기판(W)이 떠오르는 것을 방지할 수 있다.

또한, 전면 정류판(64)은 기판(W)의 전면과의 간격이 기판(W)의 반송 방향 하류측으로부터 상류측을 향해 좁아지도록 경사져 설치되어 있다. 그러므로, 에어 나이프(61)로부터 분사되어 기판(W)의 전면에 충돌한 기체는 기판(W)의 전면과 전면 정류판(64) 사이에 유입되기 쉽기 때문에, 그에 따라서도 기판(W)의 전면에 부력이 생기기 어려워진다.

한편, 전면 정류판(64)을 기판(W)의 높이 방향에 대하여 3개로 분할했기 때문에, 전면 정류판(64)을 기판(W)의 높이 방향의 전체 길이에 걸쳐서 설치한 경우에 비해, 에어 나이프(61)로부터 분사된 후 전면 정류판(64)으로 안내되어 기판(W)의 전면을 따라 흐르는 기체의 양이 적어진다.

이로써, 기판(W)의 전면에 발생하는, 기판(W)을 지지 롤러(14)로 가압하는 힘이 지나치게 커지는 것이 억제되므로, 기판(W)의 전면이 에어 나이프(61)로부터 분사되는 기체에 의해 지나치게 가압되어 기판(W)의 반송이 원활하게 행해지는 것을 방지할 수 있다.

기판(W)의 배면에는 기판(W)의 반송 방향(X)의 하류측으로부터 상류측을 향 해 기판(W)의 배면으로부터 멀어지는 방향으로 경사진 2개의 배면 정류판(65)을 평행하게 설치하도록 했다. 그러므로, 에어 나이프(61)로부터 기판(W)의 배면에 분사된 기체는 기판(W)의 배면에 충돌된 후, 도 4에 화살표 R로 나타낸 바와 같이 상기 배면 정류판(65)으로 안내되어 기판(W)의 배면으로부터 멀어지는 방향으로 흐른다.

그러므로, 기판(W)의 배면에 분사된 기체가, 기판(W)의 배면을 지지 롤러(14)로부터 떠오르는 방향의 힘으로써 작용하지 않기 때문에, 그에 따라서도 기판(W)을 지지 롤러(14)에 의해 안정된 상태로 반송할 수 있다.

즉, 세정액에 의해 세정 처리된 기판(W)을 제5 처리 유닛(1E)에서 건조 처리할 때, 소정 각도로 경사진 기판(W)의 전면과 배면에 한쌍의 에어 나이프(61)로부터 기체를 분사해도, 상기 기판(W)의 배면이 기체의 압력에 의해 지지 롤러(14)로부터 떠오르는 것을 방지할 수 있으므로, 기판(W)을 안정된 상태로 확실하게 반송할 수 있다.

또한, 상기 일 실시예에서는 기판의 배면측에 배면 정류판을 설치하였으나, 배면 정류판을 설치하지 않고, 전면 정류판만을 설치해도, 기판을 안정된 상태로 반송할 수 있다. 배면 정류판을 설치하는 경우, 그 매수는 2매로 한정되지 않고, 1매 또는 3매 이상이라도 된다.

전면 정류판을 복수개로 분할했지만, 분할하지 않고 기판의 높이 방향의 전체 길이에 걸쳐서 설치해도 되고, 그 경우, 기판의 전면과 전면 정류판 사이를 흐르는 기체의 압력이 지나치게 높아지지 않게, 에어 나이프로부터 분사되는 기체의 압력을 조정하면, 기판의 원활한 반송이 손상되는 것을 방지할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제l 실시예의 처리 장치의 개략적 구성을 나타낸 사시도이다.

도 2는 본 발명의 제1 실시예의 처리 장치의 에어 나이프가 설치된 챔버의 종단면도이다.

도 3은 기판의 전면에 대향하여 배치된 에어 나이프와 전면 정류판을 나타낸 정면도이다.

도 4는 기판의 반송 방향을 도 3과 마찬가지로 하여 한 쌍의 에어 나이프, 전면 정류판 및, 배면 정류판을 나타낸 평면도이다.

도 5는 기판의 반송 방향을 도 3과 마찬가지로 하여 기판의 배면에 대향하여 배치되는 에어 나이프와 배면 정류판을 나타낸 배면도이다.

* 도면의 부호의 설명

3: 챔버 14: 지지 롤러

17: 구동 롤러 19: 회전축

61: 에어 나이프 62: 슬릿

64: 전면 정류판 65: 배면 정류판

Claims

소정 각도로 경사지게 하여 반송하면서 처리액에 의해 처리된 기판에 기체를 분사해 건조 처리하는 기판의 처리 장치로서,

챔버,

상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판의 경사 방향 아래쪽의 상기 기판의 배면을 지지하는 지지 롤러,

상기 기판의 배면이 상기 지지 롤러에 의해 지지된 상기 기판의 하단을 외주면에 의해 지지하고 회전 구동되어 상기 기판을 소정 방향으로 반송하는 구동 롤러,

상기 기판의 경사 방향 위쪽의 상기 기판의 전면과 아래쪽의 상기 기판의 배면의 높이 방향의 전체 길이에 걸쳐서 대향하여 배치되고 상기 기판의 반송 방향 상류측을 향해 기체를 분사하는 기체 분사 수단, 및

상기 기판의 전면의 상기 기체 분사 수단보다 기판의 반송 방향 상류측에 상기 기판의 전면과 대향하여 설치되어 상기 기체 분사 수단으로부터 분사되는 기체가 상기 기판의 전면을 따라 흐르도록 안내하는 전면 정류판

을 포함하고,

상기 전면 정류판은 상기 기판의 높이 방향에 대하여 복수개로 분할되어 있는

것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
제1항에 있어서,

상기 전면 정류판은 기판의 반송 방향 하류측으로부터 상류측을 향해 상기 기판의 전면에 대한 대향 간격이 차례로 작아지도록 경사지게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서,

상기 기판의 배면의 상기 기체 분사 수단보다 기판의 반송 방향 상류측에, 상기 기체 분사 수단으로부터 분사되는 기체가 상기 기판의 배면으로부터 멀어지는 방향으로 흐르도록 안내하는 배면 정류판이 상기 기판의 배면과 대향하여 설치되는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
제3항에 있어서,

복수개의 상기 배면 정류판이 기판의 반송 방향을 따라 소정 간격으로 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 처리 장치.
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