CN101114576A - 基板的处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板的处理装置，对以规定的角度倾斜搬运的基板进行干燥处理时，防止基板从支持背面的支持辊浮起，该处理装置具备：腔；支持辊，设置在该腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊，将背面由支持辊支持的基板的下端，用该驱动辊的外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运上述基板；气刀(61)，与基板的倾斜方向上侧的前面和下侧的背面之间的高度方向的大致全长相对置地配置，并向基板的搬运方向上游侧喷射气体；及前面整流板(64)，在基板的前面的比喷气机构更靠基板的搬运方向上游侧，与上述基板的前面对置设置，并引导从喷气机构喷射的气体沿着基板的前面流动。

Description

基板的处理装置

技术领域

本发明涉及在以规定的角度倾斜的立起状态下搬运基板的同时用处理液处理之后喷射气体来进行干燥处理的基板的处理装置。

背景技术

在用于液晶显示装置的玻璃制的基板上形成电路图案。采用光刻工艺在基板上形成电路图案。众所周知，光刻工艺是在上述基板上涂敷抗蚀剂，并对该抗蚀剂隔着形成有电路图案的掩膜照射光。

接着，除去抗蚀剂的没照射光的部分或照射了光的部分，对基板的除去了抗蚀剂的部分进行蚀刻。并且，通过重复多次蚀刻后除去抗蚀剂的一连串工序，在上述基板上形成电路图案。

在这样的光刻工艺中，上述基板需要如下工序：用显影液、蚀刻液或蚀刻后除去抗蚀剂的剥离液等处理液处理基板的工序；再通过清洗液清洗基板的工序；在清洗后除去附着残留在基板上的清洗液的干燥工序。

过去，对基板进行上述的一连串处理的情况下，用水平配置轴线的搬运辊，将上述基板以大致水平的状态依次向多个处理腔搬运，在各处理腔中进行利用处理液的处理、利用清洗液的清洗、在清洗后喷射气体的干燥。

但是，最近用于液晶显示装置的玻璃制基板有大型化及薄型化的倾向。因此，当水平搬运基板时，搬运辊之间的基板挠曲增大，因此，发生各处理腔中的处理不能在基板的板面整体上均匀进行的情况。

而且，若基板大型化，设有搬运该基板的搬运辊的搬运轴变长。并且，由于基板大型化，供给到基板上的处理液增加，与基板上的处理液的量对应地施加在上述搬运轴上的载荷增大，所以由于这些情况而导致搬运轴的挠曲变大。因此，基板还由于搬运轴弯曲而产生挠曲，有时不能进行均匀的处理。

因此，在处理基板时，为了防止上述基板因处理液或清洗液的重量弯曲，进行如下处理，即，以规定的倾斜角度、例如从垂直状态倾斜15度的75度角搬运基板，并向位于倾斜方向的上侧的前面喷射处理液来处理前面，接着在前面及背面喷射清洗液。

若倾斜搬运基板，并向该基板的前面喷射供给处理液或清洗液，则处理液或清洗液不停留在基板的板面上，在板面上从上方朝向下方顺滑地流动，因此，可以防止因处理液或清洗液的重量导致的基板弯曲。

将基板以规定角度倾斜搬运并进行处理的情况下，如专利文献1所示，在腔内设有支持成为基板的倾斜方向下侧的背面的支持辊和支持下端的驱动辊。驱动辊安装在驱动轴上，该驱动轴通过驱动源旋转驱动。

在上述处理装置中，多个上述支持辊和上述驱动辊在上述基板的搬运方向上按规定间隔配置在腔内。因此，上述基板由上述支持辊支持背面的同时，下端由上述驱动辊驱动，向规定方向搬运。

专利文献1：(日本)特开2004-210511号公报

但是，用处理液处理的基板的前面和背面，用清洗液清洗之后，如上所述地通过气刀向其前面和背面喷射气体来进行干燥处理。气刀在前端开口形成有缝隙。并且，气刀相对于被搬运的基板的前面及背面，朝向搬运方向上游侧倾斜配置，做成对沿规定方向搬运的基板的前面及背面从上述缝隙朝向基板的搬运方向上游侧倾斜喷射被加压的气体。

当向基板的前面和背面朝向上游侧倾斜喷射气体时，附着在基板的前面和背面的清洗被推向基板的搬运方向上游侧。由此，基板的前面和背面被干燥处理。

另一方面，从气刀向基板的前面和背面喷射的气体中，喷向前面的气体与基板的前面冲撞后，直接向离开其前面的方向流动。向离开基板的前面的方向流动的气体在基板的前面产生浮力。

若在基板的前面产生浮力，则通过该浮力，基板的背面从支持辊浮起，所以基板的搬运状态变得不稳定，在浮起较大的情况下，基板与形成在腔的端部壁的用于使基板通过的缝隙相撞，造成损伤，有不能搬运的顾虑。

发明内容

本发明提供一种基板的处理装置，在向基板喷射气体进行干燥处理时，防止基板从支持辊浮起。

本发明的基板的处理装置，对以规定的角度倾斜搬运并由处理液处理了的基板喷射气体来进行干燥处理，其特征在于，具备：

腔；

支持辊，设置在该腔内，并支持上述基板的倾斜方向下侧的背面；

驱动辊，将背面由上述支持辊支持的上述基板的下端，用该驱动辊的外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运上述基板；

喷气机构，与上述基板的倾斜方向上侧的前面和下侧的背面之间的高度方向的大致全长相对置地配置，并向上述基板的搬运方向上游侧喷射气体；及

前面整流板，在上述基板的前面的比上述喷气机构更靠基板的搬运方向上游侧，与上述前面对置设置，并引导从上述喷气机构喷射的气体沿着上述基板的前面流动。

根据该本发明，从喷气机构喷射出的气体，通过前面整流板引导为沿着基板的前面流动，因此，可以抑制因该气体的流动而在基板的前面产生浮力，能够以稳定的状态搬运基板。

附图说明

图1是本发明的第一实施方式的处理装置的概略结构的斜视图。

图2是设有上述处理装置的气刀的腔的纵截面图。

图3是表示与基板的前面对置配置的气刀和前面整流板的正面图。

图4是使基板的搬运方向与图3相同的、表示一对气刀、前面整流板及背面整流板的平面图。

图5是使基板的搬运方向与图3相同的、表示与基板的背面对置配置的气刀和背面整流板的背面图。

具体实施方式

以下，参照附图说明该发明的一实施方式。

图1是处理装置的概略结构的斜视图，该处理装置具有装置主体1。该装置主体1将被分割的多个处理单元、在该实施方式中为第一至第五处理单元1A～1E可分解地连结成一列。

各处理单元1A～1E具有架台2。在该架台2的前面，以规定的角度倾斜保持箱形的腔3。在上述架台2和腔3的上面设有上部搬运部4。在上述架台2的下端的宽度方向两端可分解地设有板状的一对脚体5(仅图示一方)。通过该脚体5在上述架台2的下面侧形成空间部6。

在上述空间部6中收容将控制装置等设备7放置在框架8上的设备部9，上述控制装置用于控制在上述腔3中供给如后述那样进行的基板W的处理中使用的药液或冲洗液等处理液的储液槽、泵、或者控制处理液的供给。即，各处理单元1A～1E中，用脚体5支持架台2，在腔3的下方形成空间部6，从而分为位于上下方向的腔3、上部搬运部4及设备部9这三个部分。

上述腔3以规定的角度、例如从垂直的状态倾斜15度的、相对于水平面为75度的角度倾斜保持在上述架台2上，在宽度方向的两侧面形成有通过以75度的角度倾斜搬运的基板W的缝隙13(图1中仅示出1个部位)。

在上述腔3的内部，如图2所示，在腔3的宽度方向上以规定间隔设有构成倾斜搬运机构的多个搬运轴15(仅图示1个)。在该搬运轴15上沿轴向以规定间隔可旋转地设有多个支持辊14。上述搬运轴15的上端及下端分别由托架15a支持，以使上述搬运轴15轴线与上述缝隙13以相同的角度倾斜。

在上述腔3内，基板W从上述缝隙13通过图1的点划线所示的第一姿势变换部16从水平状态变换为75度的角度搬入。即，未处理的基板W通过上述上部搬运部4从第五处理单元1E侧向第一处理单元1A侧搬运，在上述第一姿势变换部16从水平状态倾斜75度的角度后搬入上述第一处理单元1A。

搬入第一处理单元1A的腔3内的基板W由设在上述搬运轴15上的支持辊14支持非器件面即背面。该基板W的下端由驱动辊17(示于图2)的外周面支持。

上述驱动辊17设在驱动单元18的旋转轴19上。并且，通过该旋转轴19被旋转驱动，下端被驱动辊17支持、背面被上述支持辊14支持的上述基板W，在上述驱动辊17的旋转方向上被搬运。

基板W在搬运方向上游侧的第一至第三处理单元1A～1C中用作为处理液的剥离液进行抗蚀剂的去除后，在第四处理单元1D中利用清洗液进行清洗处理。并且，在第五处理单元1E中利用热风等被加压的气体如后述那样进行干燥处理。

依次通过各处理单元1A～1E而被处理的基板W，在以75度的角度倾斜的状态下从上述第五处理单元1E搬出。从第五处理单元1E搬出的基板W，通过图1的点划线所示的第二姿势变换部23，姿势从倾斜状态变换为水平状态后移交到下一工序。

如图2所示，上述驱动机构18具有沿着腔3的宽度方向(基板W的搬运方向)长的板状的下部底座部件24。在该下部底座部件24的上面，长度与下部底座部件24相同的腔状的上部底座部分25设置成固定两侧下端。

在上述上部底座部件25上，大小与上述下部底座部件24大致相同的平板状的安装部件26的宽度方向的一端部和另一端部被连结设置成相对于上部底座部件25可调节倾斜度。即，上述安装部件26可以在腔3的前后方向调节倾斜角度。

在上述安装部件26的宽度方向的一端和另一端，在上述安装部件26的长度方向上，多个托架31以规定间隔分别设置在对应于宽度方向的位置。在宽度方向，对应的一对托架31上，由未图示的轴承可旋转地支持着上述旋转轴19的轴方向的中途部。在该旋转轴19的前端，安装有上述驱动辊17，在后端安装第一齿轮33。

并且，若将腔3设置在上述架台2上，则在该架台2上设置的支持部41的上面，通过螺钉42安装固定杆状的4根基准部件35的下端面。在上述驱动单元18，下部底座部件24的四角部下面通过螺钉42安装固定在上述基准部件35的上端面。4根基准部件35的上端面位于同一平面上。因此，驱动单元18在其下部底座部件24的宽度方向及长度方向上不产生歪斜而被安装固定。

在将基准部件35的上端面作为基准向腔3内组装上述驱动单元18时，被驱动单元18支持的多个旋转轴19的后端部从开设在腔3的前壁12b上的导出孔44向驱动室45突出。并且，将驱动单元18组装在腔3内之后，上述第一齿轮33嵌合在上述旋转轴19的后端上。

在上述驱动室45设有驱动源51。在该驱动源15的输出轴上嵌合有驱动滑轮53。在该驱动滑轮53和从动滑轮54上拉紧设有带55。上述驱动滑轮54沿同轴设有未图示的第二齿轮。该第二齿轮与上述第一齿轮33啮合。由此，若驱动源51动作，上述旋转轴19被旋转驱动，因此设置在该旋转轴19的前端的上述驱动辊17也被旋转驱动。

若驱动辊17被旋转驱动，则由这些驱动辊17支持下端的基板W被向上述驱动辊17的旋转方向搬运。

图2是表示第五处理单元1E的腔3内的截面图，在该腔3内搬运的基板W的前面和背面，对置配置有与基板W的上下方向全长相对的长度的喷气机构即一对气刀61。

一对气刀61在前端面在开口形成有缝隙62，从该缝隙62向基板W的前面和背面喷射被加压成规定的压力的气体。如图4所示，一对气刀61倾斜配置成：开口形成有缝隙62的前端侧朝向基板W的搬运方向X的上游侧降低。由此，从气刀61的缝隙62喷射出的气体与基板W的前面及背面冲撞后朝向搬运方向X的上游侧即与基板W的搬运方向X相反方向流动。

并且，相对于基板W的前面及背面的气刀61的倾斜角度优选设定在30～60度的范围。

在比上述气刀61靠基板W的搬运方向X上游侧，如图3和图4所示，多个前面整流板64如后所述与基板W的前面相对置配置，如图4和图5所示，具有与基板W的高度尺寸大致相同的长度的多个背面整流板65，在该实施方式中为2个背面整流板65，如后所述地与背面对置并平行地配置。

即，如图3所示，上述前面整流板64在基板W的高度方向上分为3个，如图4所示，各前面整流板64被倾斜配置成：与基板W的前面之间的对置间隔，从基板W的搬运方向X的上游侧朝向下游侧逐渐变窄。

并且，若具体说明，则如图4所示，若将位于前面整流板64的气刀61侧的宽度方向的一端和基板W的前面的间隔设为A，将宽度方向另一端和基板W的前面的间隔设为B，则A＞B，例如A设定为20mm，B设定为10。

上述前面整流板64的沿着上述基板W的高度方向的长度尺寸被设定为基板W的高度尺寸的大致五分之一。由此，在上下方向上相邻的前面整流板64的端部之间，以与前面整流板64的长度尺寸大致相同的间隔形成开放部S。

如图5所示，上述背面整流板65具有与基板W的高度尺寸大致相同的长度尺寸，并且，如图4所示，位于基板W的搬运方向X的上游侧的宽度方向的一端C比另一端D更向离开基板W的背面的方向倾斜。相对于基板W的背面的上述背面整流板65的倾斜角度优选30～60度。并且，2个背面整流板65以规定间隔平行地隔开设置在基板W的搬运方向X上。

根据这样构成的基板W的处理装置，若在第一至第三处理单元1A～1C用处理液处理之后，在第四处理单元1D，用清洗液清洗处理的基板W被搬入第五处理单元1E中，则从一对气刀61向该基板W的前面和背面喷射被加压的气体。

喷射到基板W的前面的气体与基板W的前面冲撞而反射，向离开其前面的方向流动。但是，在比气刀61更靠基板W的搬运方向上游侧的前面设置有3片前面整流板64。

因此，被喷射到与这些前面整流板64的对应的部分的气体，如图4中箭头F所示，当在基板W的前面冲撞时，被前面整流板64引导而沿着基板W的前面流动。

因此，喷射到基板W的前面的气体与基板W的前面冲突后，直接向离开其前面的方向流动，但是，被上述前面整流板64阻止，因此可以抑制因喷射到基板W的前面的气体而在该基板W的前面产生浮力。因此，不使基板W从支持辊14上浮起，能够以稳定的状态搬运。

向基板W的前面的未设置前面整流板64的部分喷射的气体，与基板W的前面冲撞后，直接向离开其前面的方向流动，因此不在基板W的前面产生浮力。

但是，即使由于该气体而在基板W的前面产生浮力，在基板W的前面和前面整流板64之间流动的气体作为将该基板W向支持辊14推压的方向的力而起作用，从而阻止基板W从支持辊14浮起。

因此，即使在基板W的前面设置分为多个的前面整流板64，也能够防止由从气刀61向基板W的前面喷射的气体导致基板W浮起。

而且，前面整流板64倾斜设置成：与基板W的前面的间隔，从基板W的搬运方向下游侧朝向上游侧变窄。因此，从气刀61喷射而与基板W的前面冲突的气体容易流入基板W的前面和前面整流板64之间，由此，也难以在基板W的前面产生浮力。

另一方面，前面整流板64在基板W的高度方向被分为3个，与在基板W的高度方向的整个全长上设置前面整流板64的情况相比，从气刀61喷射后被前面整流板64引导并沿着基板W的前面流动的气体的量减少。

由此，可以抑制在基板W的前面产生的、向支持辊14推压基板W的力变得过大，所以可以防止用从气刀61喷射的气体对基板W的前面过度加压而不能顺利进行基板W的搬运的问题。

在基板W的背面，在从基板W的搬运方向X的下游侧朝向上游侧平行设置了向离开基板W的背面倾斜的2个背面整流板65。因此，从气刀61向基板W的背面喷射的气体与基板W的背面冲撞后，如图4的箭头R所示，被上述背面整流板65引导而向离开基板W的背面的方向流动。

因此，喷射到基板W的背面的气体，作为使基板W的背面从支持辊14浮起的方向的力而起作用，由此，也可以通过支持辊14以稳定的状态搬运基板W。

即，将由清洗液进行清洗处理的基板W通过第五处理单元1E进行干燥处理时，即使从一对气刀61向以规定角度倾斜的基板W的前面和背面喷射气体，也可以防止该基板W的背面因气体的压力而从支持辊14上浮起，从而能够以稳定的状态可靠地搬运基板W。

并且，在上述一个实施方式中，在基板的背面侧设置了背面整流板，但是，即使不设置背面整流板而仅设置前面整流板，也能够以稳定的状态搬运基板。在设置背面整流板的情况下，其个数不限于2个，可以是1个或3个以上。

将前面整流板分为了多个，但是也可以不分割而设置在基板的高度方向的整个全长上，该情况下，在基板的前面和前面整流板之间流动的气体的压力变得过高，若调节从气刀喷射的气体的压力，则可以防止损害基板的顺利搬运的问题。

Claims (5)

1.一种基板的处理装置，对以规定的角度倾斜搬运并由处理液处理了的基板喷射气体来进行干燥处理，其特征在于，具备：

腔；

支持辊，设置在该腔内，并支持上述基板的倾斜方向下侧的背面；

驱动辊，将背面由上述支持辊支持的上述基板的下端，用该驱动辊的外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运上述基板；

喷气机构，与上述基板的倾斜方向上侧的前面和下侧的背面之间的高度方向的大致全长相对置地配置，并向上述基板的搬运方向上游侧喷射气体；及

前面整流板，在上述基板的前面的比上述喷气机构更靠基板的搬运方向上游侧，与上述前面对置设置，并引导从上述喷气机构喷射的气体沿着上述基板的前面流动。

2.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，上述前面整流板在上述基板的高度方向上分为多个。

3.如权利要求2所述的基板的处理装置，其特征在于，上述前面整流板从基板的搬运方向下游侧朝向上游侧倾斜配置成与上述基板的前面的对置间距逐渐减小。

4.如权利要求1至3中的任一项所述的基板的处理装置，其特征在于，在上述基板的背面的比上述喷气机构更靠基板的搬运方向上游侧，背面整流板与上述背面相对置设置，该背面整流板引导从上述喷气机构喷射的气体向离开上述基板的背面的方向流动。

5.如权利要求4所述的基板的处理装置，其特征在于，多个背面整流板沿着基板的搬运方向以规定间隔设置。

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