JP6560884B2 - ガラス基板の製造方法、および、ガラス基板の製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、ガラス基板の製造方法、および、ガラス基板の製造装置に関する。

ガラス基板の製造工程は、所定の寸法に切断されたガラス基板を検査する検査工程を含む。検査工程では、例えば、ガラス基板の表面に形成されるキズおよび脈理等の欠陥が光学的手法により検知される。

特許文献１（特開２００９−２３６７７１号公報）には、ガラス基板の検査装置の一例が開示されている。この検査装置は、ガラス基板の上辺を把持する上部把持手段と、ガラス基板の下辺を把持する下部把持手段とを備える。この検査装置は、上部把持手段と下部把持手段とを互いに離してガラス基板に上下方向の張力を付与した状態で、ガラス基板の欠陥を検知する装置に対してガラス基板を相対的に移動させる。

しかし、特許文献１（特開２００９−２３６７７１号公報）に開示される検査装置は、上部把持手段および下部把持手段によってガラス基板に上下方向の張力を付与するため、液晶ディスプレイ装置に使用されるような大型かつ薄いガラス基板を把持する場合、ガラス基板が割れるおそれがある。

また、ガラス基板を移動させながらガラス基板の欠陥を高い精度で検知するためには、ガラス基板の姿勢を安定化させ、ガラス基板の振動を抑制する必要がある。特に、ガラス基板の表面の法線の向きを安定化させること、および、ガラス基板の表面の法線方向の振動を低減することが、ガラス基板の検査精度の向上に重要である。

また、ガラス基板の欠陥を高い精度で検知するためには、検査工程の前に、ガラス基板の表面に付着している異物をできるだけ除去しておくことが好ましい。なぜなら、ガラス基板の表面に付着している異物は、欠陥の誤検出の原因となるおそれがあるからである。

本発明の目的は、ガラス基板の欠陥を高い精度で検知することができるガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置を提供することである。

本発明に係るガラス基板の製造方法は、オーバーフローダウンドロー法によるガラス基板の製造方法であり、成形工程と、徐冷工程と、切断工程と、検査工程とを備える。成形工程は、熔融ガラスからシート状のガラスリボンを成形する。徐冷工程は、成形工程で成形されたガラスリボンを下方に搬送しつつ、温度管理しながら冷却する。切断工程は、徐冷工程で冷却されたガラスリボンを切断してガラス基板を得る。検査工程は、切断工程で得られたガラス基板を検査する。検査工程は、搬送工程と、洗浄工程と、検出工程とを含む。搬送工程は、ガラス基板の主表面に平行な第１方向にガラス基板を搬送する。洗浄工程は、搬送工程においてガラス基板が搬送されている間に、主表面と直交する第２方向におけるガラス基板の動きを抑制しながら、ガラス基板を洗浄する。検出工程は、洗浄工程で洗浄されたガラス基板の内部異物を光学的に検出する。

また、洗浄工程は、主表面に気体を吹き付けることで、主表面に付着している付着物を除去することが好ましい。

また、洗浄工程は、第１気体供給工程と、第１気体吸引工程と、第１流体供給工程とを含むことが好ましい。第１気体供給工程は、ガラス基板の一方の主表面である第１主表面と、第１主表面に対向するように配置される第１ガイド部材との間の第１隙間において、第１気体を第１主表面に沿って流すことにより、第１ガイド部材に向かう力をガラス基板に与えて第２方向におけるガラス基板の動きを抑制しつつ、第１気体によって第１主表面を洗浄する。第１気体吸引工程は、第１気体供給工程において第１隙間を通過した第１気体の少なくとも一部を吸引する。第１流体供給工程は、第１主表面に第１流体を吹き付けることで、第１気体吸引工程により発生する負圧によってガラス基板に作用する力を抑制する。

また、洗浄工程は、第２気体供給工程と、第２気体回収工程と、第２流体供給工程とをさらに含むことが好ましい。第２気体供給工程は、第１主表面の反対側の第２主表面と、第２主表面に対向するように配置される第２ガイド部材との間の第２隙間において、第２気体を第２主表面に沿って流すことにより、第２ガイド部材に向かう力をガラス基板に与えて第２方向におけるガラス基板の動きを抑制しつつ、第２気体によって第２主表面を洗浄する。第２気体回収工程は、第２気体供給工程において第２隙間を通過した第２気体の少なくとも一部を回収する。第２流体供給工程は、第２主表面に第２流体を吹き付けることで、第２気体吸引工程により発生する負圧によってガラス基板に作用する力を抑制する。

また、第１気体供給工程において、第１気体は、第１ガイド部材に向かって噴出されることにより、第１ガイド部材の表面に沿って流れて第１隙間に導かれることが好ましい。この場合、第２気体供給工程において、第２気体は、第２ガイド部材に向かって噴出されることにより、第２ガイド部材の表面に沿って流れて第２隙間に導かれることが好ましい。

また、第１気体供給工程は、第１気体吸引工程において吸引された第１気体の少なくとも一部を、第１隙間において第１主表面に沿って流すことが好ましい。この場合、第２気体供給工程は、第２気体吸引工程において吸引された第２気体の少なくとも一部を、第２隙間において第２主表面に沿って流すことが好ましい。

また、切断工程は、成形工程においてガラスリボンの幅方向の両端部に形成され、ガラスリボンの幅方向の中央領域と比べて厚い端部領域を切断して除去する除去工程を含むことが好ましい。

また、検査工程は、検出工程により得られた検出データから、ガラス基板の内部異物の種類およびサイズを判定し、ガラス基板の選別を行う判定工程を含むことが好ましい。

本発明に係るガラス基板の製造装置は、オーバーフローダウンドロー法を用いるガラス基板の製造装置であって、成形部と、徐冷部と、切断部と、検査部とを備える。成形部は、熔融ガラスからシート状のガラスリボンを成形する。徐冷部は、成形部で成形されたガラスリボンを下方に搬送しつつ、温度管理しながら冷却する。切断部は、徐冷部で冷却されたガラスリボンを切断してガラス基板を得る。検査部は、切断部で得られたガラス基板を検査する。検査部は、搬送機構と、検出機構とを有する。搬送機構は、ガラス基板の主表面に平行な第１方向にガラス基板を搬送し、かつ、ガラス基板が搬送されている間に、主表面と直交する第２方向におけるガラス基板の動きを抑制しながら、ガラス基板を洗浄する。検出機構は、搬送機構によって洗浄されたガラス基板の内部異物を光学的に検出する。

本発明に係るガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置は、ガラス基板の欠陥を高い精度で検知することができる。

ガラス基板の製造工程を表すフローチャートの一例である。 実施形態に係るガラス基板製造装置の斜視図である。 図２の矢印ＩＩＩの方向から見た、ガラス基板製造装置の側面図である。 図２の矢印ＩＶの方向から見た、ガラス基板製造装置の上面図である。 エアナイフから吐出されガイド板によって導かれる空気の流れを説明するための図である。 空気循環機構の構成図である。 エアナイフおよびガイド板の寸法および位置の一例を説明するための図である。 エアナイフおよびガイド板の寸法および位置の一例を説明するための図である。図７の矢印ＶＩＩＩの方向から見た図である。 変形例Ｃに係る空気循環機構の構成図である。

本発明の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。本実施形態に係るガラス基板製造装置１００は、主として、ガラス基板１０を搬送しながら洗浄するための搬送装置１０２、および、搬送装置１０２によって搬送されているガラス基板１０を検査するための検査装置１０４を備えている。

（１）ガラス基板の製造工程の概要
最初に、ガラス基板１０の製造工程について説明する。ガラス基板１０は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイおよび有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造に用いられる。ガラス基板１０は、例えば、０.２ｍｍ〜０.８ｍｍの厚みを有し、かつ、縦６８０ｍｍ〜２２００ｍｍおよび横８８０ｍｍ〜２５００ｍｍのサイズを有する。

ガラス基板１０の一例として、以下の（ａ）〜（ｊ）の組成を有するガラスが挙げられる。

（ａ）ＳｉＯ₂：５０質量％〜７０質量％、
（ｂ）Ａｌ₂Ｏ₃：１０質量％〜２５質量％、
（ｃ）Ｂ₂Ｏ₃：１質量％〜１８質量％、
（ｄ）ＭｇＯ：０質量％〜１０質量％、
（ｅ）ＣａＯ：０質量％〜２０質量％、
（ｆ）ＳｒＯ：０質量％〜２０質量％、
（ｇ）ＢａＯ：０質量％〜１０質量％、
（ｈ）ＲＯ:５質量％〜２０質量％（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａから選択される少なくとも１種である。）、
（ｉ）Ｒ’₂Ｏ:０質量％〜２．０質量％（Ｒ’は、Ｌｉ、ＮａおよびＫから選択される少なくとも１種である。）、
（ｊ）ＳｎＯ₂、Ｆｅ₂Ｏ₃およびＣｅＯ₂から選ばれる少なくとも１種の金属酸化物。

なお、上記の組成を有するガラスは、０．１質量％未満の範囲で、その他の微量成分の存在が許容される。

図１は、ガラス基板１０の製造工程を表すフローチャートの一例である。ガラス基板１０の製造工程は、主として、成形工程（ステップＳ１）と、徐冷工程（ステップＳ２）と、切断工程（ステップＳ３）と、第１検査工程（ステップＳ４）と、粗面化工程（ステップＳ５）と、端面加工工程（ステップＳ６）と、最終洗浄工程（ステップＳ７）と、第２検査工程（ステップＳ８）と、梱包工程（ステップＳ９）とから構成される。

成形工程Ｓ１では、ガラス原料を加熱して得られた熔融ガラスから、オーバーフローダウンドロー法によって、シート状のガラスリボンが連続的に成形される。

徐冷工程Ｓ２では、成形工程Ｓ１で成形されたガラスリボンが、歪みおよび反りが発生しないように温度管理されながら、ガラス徐冷点以下まで徐冷される。徐冷工程Ｓ２では、ガラスリボンは、下方に搬送されながら冷却される。

切断工程Ｓ３では、徐冷工程Ｓ２で徐冷されたガラスリボンが切断されて、製品サイズのガラス基板１０が得られる。切断工程Ｓ３では、例えば、レーザやカッターホイールによりガラスリボンの表面にスクライブ線が形成され、スクライブ線に沿った折り割りによりガラスリボンが切断される。また、切断工程Ｓ３では、ガラスリボンの端部領域が切断されて除去される。端部領域は、ガラスリボンの幅方向の両端部に形成され、ガラスリボンの幅方向の中央領域と比べて厚い領域である。

第１検査工程Ｓ４では、切断工程Ｓ３で得られたガラス基板１０が、ガラス基板製造装置１００によって検査される。第１検査工程Ｓ４では、主として、ガラス基板１０の内部に存在する異物である内部異物が光学的に検出される。内部異物は、例えば、微小な泡である。また、第１検査工程Ｓ４では、ガラス基板１０の表面の凹凸および脈理が検出されてもよい。第１検査工程Ｓ４では、検出された内部異物の種類およびサイズを判定し、ガラス基板１０の選別を行う。第１検査工程Ｓ４における検査に合格したガラス基板１０のみが、次の粗面化工程Ｓ５に送られる。

粗面化工程Ｓ５では、第１検査工程Ｓ４で検査されたガラス基板１０の主表面の表面粗さを増加させる粗面化処理が行われる。ガラス基板１０の粗面化処理は、例えば、フッ化水素を含むエッチャントを用いるウエットエッチングである。

端面加工工程Ｓ６では、粗面化工程Ｓ５で粗面化処理が行われたガラス基板１０の端面の面取り加工が行われる。面取り加工された端面の一部は、Ｒ形状を有する。

最終洗浄工程Ｓ７では、端面加工工程Ｓ６で端面の面取り加工が行われたガラス基板１０が洗浄されて、ガラス基板１０に付着している異物が除去される。異物は、切断工程Ｓ３でのガラスリボンの切断、および、端面加工工程Ｓ６でのガラス基板１０の端面加工によって生じた微小なガラス片や、雰囲気中に存在する有機物等である。

第２検査工程Ｓ８では、最終洗浄工程Ｓ７で洗浄されたガラス基板１０が検査される。具体的には、ガラス基板１０の主表面が光学的に測定されて、ガラス基板１０の欠陥が検知される。ガラス基板１０の欠陥は、例えば、ガラス基板１０の主表面に形成される脈理、ガラス基板１０の主表面に存在するキズおよびクラック、ガラス基板１０の主表面に付着している異物、および、ガラス基板１０の内部に存在している微小な泡等である。

梱包工程Ｓ９では、第２検査工程Ｓ８における検査に合格したガラス基板１０が、ガラス基板１０を保護するための合紙と交互にパレット上に積層されて、梱包される。梱包されたガラス基板１０は、ＦＰＤの製造業者等に出荷される。

（２）ガラス基板製造装置の構成
ガラス基板製造装置１００は、主として、搬送装置１０２と、検査装置１０４とを備える。第１検査工程Ｓ４において、ガラス基板製造装置１００は、搬送装置１０２によってガラス基板１０を搬送しながら洗浄し、検査装置１０４によってガラス基板１０の欠陥を光学的に検査する。欠陥は、主として、ガラス基板１０の内部に存在する、微小な泡等の異物である。図２は、ガラス基板製造装置１００の斜視図である。図３は、図２に示される矢印ＩＩＩの方向から見た、ガラス基板製造装置１００の側面図である。図４は、図２に示される矢印ＩＶの方向から見た、ガラス基板製造装置１００の上面図である。ガラス基板製造装置１００は、圧力が一定になるように制御されている空間に設置されている。

（２−１）搬送装置の構成
搬送装置１０２は、吊り下げられて直立した状態のガラス基板１０を水平方向に搬送する。搬送装置１０２によって搬送されるガラス基板１０の主表面の法線は、水平方向に平行である。図２〜図４には、三次元空間の直交座標系を構成するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸が示されている。Ｘ軸は、ガラス基板１０の搬送方向に平行である。Ｙ軸は、ガラス基板１０の主表面と直交する。Ｚ軸は、鉛直方向に平行であり、かつ、ガラス基板１０の主表面に平行である。

Ｘ軸の向きは、ガラス基板１０が搬送される方向である。以下、Ｘ軸の負方向を上流側と呼び、Ｘ軸の正方向を下流側と呼ぶ。ガラス基板１０は、上流側から下流側に向かって搬送される。図４に示されるように、上流側から下流側に向かって見た場合に、ガラス基板１０の右側をＹ軸の負方向とし、ガラス基板１０の左側をＹ軸の正方向とする。Ｚ軸の向きは、鉛直方向上向きである。

搬送装置１０２は、主として、上部ガイド機構１１０と、クランプ機構１１２と、下部ガイド機構１１４と、複数のエアナイフ１１６ａ，・・・と、複数のエアバー１１７ａ，・・・と、複数のガイド板１１８ａ，・・・と、空気循環機構１３０とを備える。以下、ガラス基板１０の左側の主表面を左主表面１０ａと呼び、ガラス基板１０の右側の主表面を右主表面１０ｂと呼ぶ。

（２−１−１）上部ガイド機構
上部ガイド機構１１０は、搬送されるガラス基板１０の上方において、Ｘ軸方向に沿って延びるガイドレールである。上部ガイド機構１１０は、クランプ機構１１２が取り付けられている。上部ガイド機構１１０は、クランプ機構１１２をＸ軸方向に移動させるための駆動機構（図示せず）を備える。

（２−１−２）クランプ機構
クランプ機構１１２は、ガラス基板１０のＺ軸正方向の端部である上端部を把持する。クランプ機構１１２は、主として、基部１１２ａと、複数の把持部１１２ｂとを備える。基部１１２ａは、Ｘ軸方向に沿って延びる部材である。基部１１２ａは、上部ガイド機構１１０と摺動可能なように、上部ガイド機構１１０に取り付けられている。基部１１２ａは、上部ガイド機構１１０と摺動することにより、Ｘ軸方向に移動することができる。基部１１２ａの下側には、Ｘ軸方向に沿って複数の把持部１１２ｂが等間隔に取り付けられている。把持部１１２ｂは、ガラス基板１０の上端部を把持して、ガラス基板１０をクランプ機構１１２に固定する。なお、把持部１１２ｂの数、および、基部１１２ａに対する把持部１１２ｂの取り付け位置は、ガラス基板１０の寸法、および、ガラス基板１０の搬送速度等に応じて適宜に設定されてもよい。

クランプ機構１１２は、上部ガイド機構１１０によってＸ軸方向に搬送される。これにより、搬送装置１０２は、クランプ機構１１２に把持されたガラス基板１０をＸ軸方向に搬送することができる。

（２−１−３）下部ガイド機構
下部ガイド機構１１４は、Ｘ軸方向に沿って延びる部材である。下部ガイド機構１１４のＺ軸正方向の端面には、Ｘ軸方向に沿ってスリット１１４ａが形成されている。スリット１１４ａは、搬送されるガラス基板１０のＺ軸負方向の端部である下端部が収容される空間である。ガラス基板１０の下端は、スリット１１４ａの底部と接触しない。下部ガイド機構１１４は、上部ガイド機構１１０によって搬送されるガラス基板１０の下端部がＹ軸方向に移動することを抑制する。

なお、下部ガイド機構１１４は、スリット１１４ａの代わりに、Ｘ軸方向に沿って配置される複数のガイドローラーを有してもよい。ガイドローラーは、Ｘ軸方向に沿って搬送されるガラス基板１０の下端部をＹ軸方向の両側から挟むローラーである。ガイドローラーは、上部ガイド機構１１０によって搬送されるガラス基板１０の下端部がＹ軸方向に移動することを抑制する。

（２−１−４）エアナイフ
エアナイフ１１６ａ，・・・は、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに向かって空気の噴流を吹き付けるための装置である。エアナイフ１１６ａ，・・・は、ガラス基板１０の左右両側に配置される。

エアナイフ１１６ａ，・・・は、空気の噴流が吐出される吐出孔（図示せず）を有する。吐出孔は、エアナイフ１１６ａ，・・・の先端部に形成され、Ｚ軸方向に延びる細長い孔である。エアナイフ１１６ａ，・・・は、吐出孔から吐出される空気の量を制御するためのレギュレータ（図示せず）を有する。レギュレータは、例えば、圧力調整弁である。エアナイフ１１６ａ，・・・は、吐出孔から吐出される空気のＸＹ平面における向きを制御するための風向調整機構（図示せず）を有する。風向調整機構は、例えば、エアナイフ１１６ａ，・・・の姿勢を制御する機構である。エアナイフ１１６ａ，・・・は、後述するように、搬送されるガラス基板１０のＹ軸方向の移動を抑制してガラス基板１０の姿勢を安定化させる効果と、搬送されるガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに付着している異物を空気で吹き飛ばして除去する効果とを有する。主表面１０ａ，１０ｂに付着している異物は、成形工程Ｓ１および徐冷工程Ｓ２で生じるダストおよびガラスパーティクル、切断工程Ｓ３でのガラスリボンの切断、および、端面加工工程Ｓ６でのガラス基板１０の端面加工によって生じた微小なガラス片や、雰囲気中に存在する有機物等である。

図４に示されるように、ガラス基板製造装置１００は、４種類のエアナイフ１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃ，１１６ｄを備える。以下、必要に応じて、４種類のエアナイフ１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃ，１１６ｄを、それぞれ、第１左エアナイフ１１６ａ、第１右エアナイフ１１６ｂ、第２左エアナイフ１１６ｃおよび第２右エアナイフ１１６ｄと呼ぶ。ガラス基板製造装置１００は、３個の第１左エアナイフ１１６ａ、３個の第１右エアナイフ１１６ｂ、３個の第２左エアナイフ１１６ｃおよび３個の第２右エアナイフ１１６ｄを備える。

第１左エアナイフ１１６ａおよび第２左エアナイフ１１６ｃは、ガラス基板１０の左側に配置されている。第１右エアナイフ１１６ｂおよび第２右エアナイフ１１６ｄは、ガラス基板１０の右側に配置されている。第１左エアナイフ１１６ａおよび第１右エアナイフ１１６ｂは、それぞれ、第２左エアナイフ１１６ｃおよび第２右エアナイフ１１６ｄの上流側に配置されている。Ｘ軸方向およびＺ軸方向において、第１左エアナイフ１１６ａは、第１右エアナイフ１１６ｂと同じ位置に配置され、第２左エアナイフ１１６ｃは、第２右エアナイフ１１６ｄと同じ位置に配置されている。第１左エアナイフ１１６ａと左主表面１０ａとの間の距離は、第１右エアナイフ１１６ｂと右主表面１０ｂとの間の距離と同じである。第２左エアナイフ１１６ｃと左主表面１０ａとの間の距離は、第２右エアナイフ１１６ｄと右主表面１０ｂとの間の距離と同じである。

第１左エアナイフ１１６ａおよび第２左エアナイフ１１６ｃは、左主表面１０ａに向かって空気を吹き付ける。第１右エアナイフ１１６ｂおよび第２右エアナイフ１１６ｄは、右主表面１０ｂに向かって空気を吹き付ける。

（２−１−５）エアバー
エアバー１１７ａ，・・・は、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに向かって空気の噴流を吹き付けるための装置である。エアバー１１７ａ，・・・は、ガラス基板１０の左右両側に配置される。

エアバー１１７ａ，・・・は、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂと対向し、多数の空気噴出孔（図示せず）が形成された表面を有する。エアバー１１７ａ，・・・の空気噴出孔から噴出された空気は、主表面１０ａ，１０ｂと衝突して、空気の噴出方向にガラス基板１０を押す力をガラス基板１０に付与する。エアバー１１７ａ，・・・は、空気噴出孔から噴出される空気の量を制御するためのレギュレータ（図示せず）を有する。レギュレータは、例えば、圧力調整弁である。エアバー１１７ａ，・・・は、後述するように、搬送されるガラス基板１０のＹ軸方向の移動を抑制してガラス基板１０の姿勢を安定化させる効果を有する。

図４に示されるように、ガラス基板製造装置１００は、４種類のエアバー１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃ，１１７ｄを備える。以下、必要に応じて、４種類のエアバー１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃ，１１７ｄを、それぞれ、第１左エアバー１１７ａ、第１右エアバー１１７ｂ、第２左エアバー１１７ｃおよび第２右エアバー１１７ｄと呼ぶ。ガラス基板製造装置１００は、３個の第１左エアバー１１７ａ、３個の第１右エアバー１１７ｂ、３個の第２左エアバー１１７ｃおよび３個の第２右エアバー１１７ｄを備える。

第１左エアバー１１７ａおよび第２左エアバー１１７ｃは、ガラス基板１０の左側に配置されている。第１右エアバー１１７ｂおよび第２右エアバー１１７ｄは、ガラス基板１０の右側に配置されている。第１左エアバー１１７ａおよび第１右エアバー１１７ｂは、それぞれ、第２左エアバー１１７ｃおよび第２右エアバー１１７ｄの上流側に配置されている。Ｘ軸方向およびＺ軸方向において、第１左エアバー１１７ａは、第１右エアバー１１７ｂと同じ位置に配置され、第２左エアバー１１７ｃは、第２右エアバー１１７ｄと同じ位置に配置されている。第１左エアバー１１７ａと左主表面１０ａとの間の距離は、第１右エアバー１１７ｂと右主表面１０ｂとの間の距離と同じである。第２左エアバー１１７ｃと左主表面１０ａとの間の距離は、第２右エアバー１１７ｄと右主表面１０ｂとの間の距離と同じである。図４に示されるように、第２右エアバー１１７ｄと右主表面１０ｂとの間の距離は、第１右エアバー１１７ｂと右主表面１０ｂとの間の距離より短い。同様に、第２左エアバー１１７ｃと左主表面１０ａとの間の距離は、第１左エアバー１１７ａと左主表面１０ａとの間の距離より短い。

また、第２左エアバー１１７ｃおよび第２右エアバー１１７ｄは、Ｘ軸方向において検査装置１０４に最も近いエアバーである。第２左エアバー１１７ｃおよび第２右エアバー１１７ｄの下流側の端部は、検査装置１０４の近傍まで延びている。

また、図２〜４に示されるように、後述する第２右ガイド板１１８ｄの下流側には、第３右エアバー１１７ｆが配置されている。第３右エアバー１１７ｆは、Ｚ軸方向において第２右エアバー１１７ｄと隣り合っている。同様に、後述する第２左ガイド板１１８ｃの下流側には、第３左エアバー１１７ｅが配置されている。第３左エアバー１１７ｅは、Ｚ軸方向において第２左エアバー１１７ｃと隣り合っている。

第１左エアバー１１７ａおよび第２左エアバー１１７ｃは、左主表面１０ａに向かって空気を吹き付ける。第１右エアバー１１７ｂおよび第２右エアバー１１７ｄは、右主表面１０ｂに向かって空気を吹き付ける。

（２−１−６）ガイド板
ガイド板１１８ａ，・・・は、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに対向して配置される部材である。ガイド板１１８ａ，・・・は、ガラス基板１０の左右両側に配置される。ガイド板１１８ａ，・・・の数は、エアナイフ１１６ａ，・・・の数と同じである。

ガイド板１１８ａ，・・・は、Ｙ軸方向の位置を調整するための位置調整機構（図示せず）、および、ＸＹ平面における向きを制御するための角度調整機構（図示せず）を有する。ガイド板１１８ａ，・・・は、後述するように、エアナイフ１１６ａ，・・・から吐出された空気を、ガイド板１１８ａ，・・・とガラス基板１０との間の空間に導くための部材である。

図４に示されるように、ガラス基板製造装置１００は、４種類のガイド板１１８ａ，１１８ｂ，１１８ｃ，１１８ｄを備える。以下、必要に応じて、４種類のガイド板１１８ａ，１１８ｂ，１１８ｃ，１１８ｄを、それぞれ、第１左ガイド板１１８ａ、第１右ガイド板１１８ｂ、第２左ガイド板１１８ｃおよび第２右ガイド板１１８ｄと呼ぶ。ガラス基板製造装置１００は、３個の第１左ガイド板１１８ａ、３個の第１右ガイド板１１８ｂ、３個の第２左ガイド板１１８ｃおよび３個の第２右ガイド板１１８ｄを備える。

第１左ガイド板１１８ａおよび第２左ガイド板１１８ｃは、ガラス基板１０の左側に配置されている。第１右ガイド板１１８ｂおよび第２右ガイド板１１８ｄは、ガラス基板１０の右側に配置されている。第１左ガイド板１１８ａおよび第１右ガイド板１１８ｂは、それぞれ、第２左ガイド板１１８ｃおよび第２右ガイド板１１８ｄの上流側に配置されている。Ｘ軸方向およびＺ軸方向において、第１左ガイド板１１８ａは、第１右ガイド板１１８ｂと同じ位置に配置され、第２左ガイド板１１８ｃは、第２右ガイド板１１８ｄと同じ位置に配置されている。

また、エアバー１１７ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・は、Ｚ軸方向において交互に配置されている。例えば、図２および図３に示されるように、第１右エアバー１１７ｂおよび第１右ガイド板１１８ｂは、Ｚ軸方向において交互に配置されている。

また、エアバー１１７ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・は、Ｘ軸方向において交互に配置されている。例えば、図２および図３に示されるように、第１右エアバー１１７ｂの下流側には、第２右ガイド板１１８ｄがＺ軸方向において同じ位置に配置され、第１右ガイド板１１８ｂの下流側には、第２右エアバー１１７ｄがＺ軸方向において同じ位置に配置されている。

また、エアバー１１７ａ，・・・は、Ｚ軸方向において隣り合うガイド板１１８ａ，・・・よりも下流側に配置されている。例えば、図２および図３に示されるように、第１右エアバー１１７ｂの上流側の端部は、第１右ガイド板１１８ｂの上流側の端部より下流側に配置され、かつ、第１右エアバー１１７ｂの下流側の端部は、第１右ガイド板１１８ｂの下流側の端部より下流側に配置されている。

次に、第１左ガイド板１１８ａの構成について、図面を参照しながら説明する。以下の説明は、他のガイド板１１８ｂ，１１８ｃ，１１８ｄにも適用可能である。図５は、第１左エアナイフ１１６ａから吐出され、第１左ガイド板１１８ａによって導かれる空気の流れを説明する図である。図５は、図４と同様の上面図である。図５には、空気の流れが白抜きの矢印Ｆ１〜Ｆ４で示されている。

第１左ガイド板１１８ａは、図５に示されるように、１個のインレット部材１２８ａと、２個のアウトレット部材１３８ａとから構成される。インレット部材１２８ａおよびアウトレット部材１３８ａは、Ｚ軸方向において同じ高さ位置に配置される板状部材である。インレット部材１２８ａは、左主表面１０ａと対向する第１左ガイド表面１１９ａを有する。アウトレット部材１３８ａは、インレット部材１２８ａの下流側において、インレット部材１２８ａと離して配置されている。アウトレット部材１３８ａの数が２以上である場合、個々のアウトレット部材１３８ａは、互いに離して配置されている。以下において、インレット部材１２８ａとアウトレット部材１３８ａとの間の空間、および、２個のアウトレット部材１３８ａの間の空間を、アウトレット流路１４８ａと呼ぶ。また、第１左ガイド板１１８ａのインレット部材１２８ａの第１左ガイド表面１１９ａを、必要に応じて、第１左ガイド板１１８ａの第１左ガイド表面１１９ａと呼ぶ。なお、第１左エアバー１１７ａの上流側の端部は、第１左ガイド板１１８ａのインレット部材１２８ａの上流側の端部とＸ軸方向において同じ位置にあることが好ましい。

第１左ガイド板１１８ａと同様に、第１右ガイド板１１８ｂのインレット部材は、右主表面１０ｂと対向する第１右ガイド表面１１９ｂを有する。第２左ガイド板１１８ｃのインレット部材は、左主表面１０ａと対向する第２左ガイド表面１１９ｃを有する。第２右ガイド板１１８ｄのインレット部材は、右主表面１０ｂと対向する第２右ガイド表面１１９ｄを有する。Ｘ軸方向において、第１左ガイド表面１１９ａと左主表面１０ａとの間の距離は、第１右ガイド表面１１９ｂと右主表面１０ｂとの間の距離と同じである。Ｘ軸方向において、第２左ガイド表面１１９ｃと左主表面１０ａとの間の距離は、第２右ガイド表面１１９ｄと右主表面１０ｂとの間の距離と同じである。

次に、第１左ガイド板１１８ａの作用効果について、図面を参照しながら説明する。以下の説明は、他のガイド板１１８ｂ，１１８ｃ，１１８ｄにも適用可能である。

第１左ガイド板１１８ａは、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気を第１左ガイド表面１１９ａに沿って流すことで、第１左ガイド表面１１９ａと左主表面１０ａとの間の空間に空気を導く。図５に示されるように、第１左ガイド板１１８ａのインレット部材１２８ａの第１左ガイド表面１１９ａは、上流ガイド湾曲面１１９ａ１と、ガイド平面１１９ａ２と、下流ガイド湾曲面１１９ａ３とを有する。上流ガイド湾曲面１１９ａ１は、上流側から下流側に向かって左主表面１０ａに徐々に近付く面である。ガイド平面１１９ａ２は、上流ガイド湾曲面１１９ａ１の下流側に位置し、左主表面１０ａに平行な面である。下流ガイド湾曲面１１９ａ３は、ガイド平面１１９ａ２の下流側に位置し、上流側から下流側に向かって左主表面１０ａから徐々に遠ざかる面である。上流ガイド湾曲面１１９ａ１および下流ガイド湾曲面１１９ａ３は、ガイド平面１１９ａ２と滑らかに接続されている。すなわち、上流側から下流側に向かって、第１左ガイド表面１１９ａは、左主表面１０ａに徐々に近付き、その後、左主表面１０ａに平行となり、その後、左主表面１０ａから徐々に遠ざかる。ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の距離は、第１左ガイド表面１１９ａと左主表面１０ａとの間の距離の最小値である。

第１左ガイド板１１８ａの２つのアウトレット部材１３８ａは、一対の湾曲面を有する板状部材である。図５に示されるように、アウトレット部材１３８ａは、左主表面１０ａと対向する第１湾曲面１３８ａ１と、その反対側の第２湾曲面１３８ａ２とを有する。図５において、２つのアウトレット部材１３８ａのうち、Ｘ軸方向においてインレット部材１２８ａに近い方のアウトレット部材１３８ａを、上流側のアウトレット部材１３８ａと呼び、他方のアウトレット部材１３８ａを、下流側のアウトレット部材１３８ａと呼ぶ。アウトレット流路１４８ａは、インレット部材１２８ａの下流ガイド湾曲面１１９ａ３と、上流側のアウトレット部材１３８ａの第２湾曲面１３８ａ２との間の空間、および、上流側のアウトレット部材１３８ａの第１湾曲面１３８ａ１と、下流側のアウトレット部材１３８ａの第２湾曲面１３８ａ２との間の空間に相当する。

図５を参照しながら、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気の流れについて説明する。最初に、空気の噴流は、第１左エアナイフ１１６ａの吐出孔から、第１左ガイド板１１８ａの上流ガイド湾曲面１１９ａ１に向かって吐出される（矢印Ｆ１）。このとき、コアンダ効果によって、吐出された空気の噴流は、第１左ガイド板１１８ａに引き寄せられる。その結果、空気は、上流ガイド湾曲面１１９ａ１に沿って流れる（矢印Ｆ２）。この時、噴流が周りの流体を引き込む性質によって、上流ガイド湾曲面１１９ａ１に沿って流れる空気は、周囲の空気を引き込む（矢印Ｆ３）。そして、周囲の空気を引き込んだ空気は、ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間においてＸ軸方向に沿って流れる（矢印Ｆ４）。

次に、ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間を通過した空気の一部は、コアンダ効果によって、下流ガイド湾曲面１１９ａ３に沿って流れる（矢印Ｆ５）。この時、下流ガイド湾曲面１１９ａ３に沿って流れる空気は、周囲の空気を引き込む（矢印Ｆ６）。下流ガイド湾曲面１１９ａ３に沿って流れる空気、および、それに引き込まれた空気は、アウトレット流路１４８ａを、左主表面１０ａから遠ざかる方向に流れる（矢印Ｆ７）。

このように、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気は、第１左ガイド板１１８ａによって、第１左ガイド表面１１９ａのガイド平面１１９ａ２とガラス基板１０の左主表面１０ａとの間の空間をＸ軸方向に沿って流れ、その後、アウトレット流路１４８ａを流れる。後述するように、アウトレット流路１４８ａを通過した空気は回収される。

（２−１−７）空気循環機構
空気循環機構１３０は、エアナイフ１１６ａ，・・・から噴出されガイド板１１８ａ，・・・によって導かれた空気を回収して再利用する機能を有する。図６は、空気循環機構１３０の構成図である。図６には、第１左エアナイフ１１６ａ、第１左ガイド板１１８ａおよびガラス基板１０と、第１左エアナイフ１１６ａから噴出された空気の流れ（図５の矢印Ｆ１〜Ｆ７）とが示されている。

次に、第１左エアナイフ１１６ａから噴出され第１左ガイド板１１８ａによって導かれる空気を回収して再利用する空気循環機構１３０について説明する。しかし、以下の説明は、他のエアナイフ１１６ｂ，１１６ｃ，１１６ｄから噴出され他のガイド板１１８ｂ，１１８ｃ，１１８ｄによって導かれる空気を回収して再利用する空気循環機構１３０にも適用可能である。

空気循環機構１３０は、主として、補充空気ブロワー１３１と、補充フィルター１３２と、回収空気ブロワー１３３と、回収フィルター１３４と、を備える。空気循環機構１３０の各構成要素は、配管によって接続されている。図６において、配管は矢印によって示され、矢印の向きは配管内の空気の流れ方向である。

補充空気ブロワー１３１は、補充空気吸引口１３１ａと補充空気吐出口１３１ｂとを有する。補充空気ブロワー１３１は、補充空気吸引口１３１ａから取り入れた空気を圧縮して、補充空気吐出口１３１ｂから吐出する。補充空気吸引口１３１ａは、ガラス基板製造装置１００が設置されている空間、または、圧縮空気が貯留されている空間等に接続されている。補充空気吐出口１３１ｂは、配管を介して第１左エアナイフ１１６ａに接続されている。補充空気吐出口１３１ｂから吐出された空気は、配管を流れて第１左エアナイフ１１６ａに供給され、第１左エアナイフ１１６ａから噴出される。

補充フィルター１３２は、第１左エアナイフ１１６ａに供給される空気が流れる配管内に取り付けられる。補充フィルター１３２は、補充空気ブロワー１３１および回収空気ブロワー１３３から吐出された空気に含まれる異物を捕らえて取り除く。

回収空気ブロワー１３３は、回収空気吸引口１３３ａと回収空気吐出口１３３ｂとを有する。回収空気ブロワー１３３は、回収空気吸引口１３３ａから取り入れた空気を圧縮して、回収空気吐出口１３３ｂから吐出する。回収空気吸引口１３３ａは、配管を介して、アウトレット流路１４８ａの出口近傍の空間に接続している。回収空気吐出口１３３ｂは、配管を介して第１左エアナイフ１１６ａに接続されている。補充空気ブロワー１３１から吐出された空気と、回収空気ブロワー１３３から吐出された空気とは、図６に示されるように補充フィルター１３２を通過する前に合流する。回収空気ブロワー１３３は、アウトレット流路１４８ａを通過した空気の少なくとも一部を吸引して回収し、第１左エアナイフ１１６ａから噴出するための空気として再利用する。

回収フィルター１３４は、回収空気ブロワー１３３によって吸引された空気が流れる配管内に取り付けられる。回収フィルター１３４は、回収空気ブロワー１３３によってアウトレット流路１４８ａから吸引された空気に含まれる異物を捕らえて取り除く。

空気循環機構１３０において、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気の一部は、アウトレット流路１４８ａを通過して回収空気ブロワー１３３に吸引される。しかし、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気の一部は、回収空気ブロワー１３３に吸引されずに、周囲の空間に流れ込む。すなわち、回収空気ブロワー１３３は、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気を全て回収することができない。補充空気ブロワー１３１は、回収空気ブロワー１３３が回収できなかった空気による圧力損失分を補填するために、第１左エアナイフ１１６ａに新しい空気を供給するために用いられる。

（２−２）検査装置の構成
検査装置１０４は、ガラス基板１０の内部に存在する異物を光学的手法により検知する。検査装置１０４は、エアナイフ１１６ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・の下流側に設置されている。

検査装置１０４は、主として、光源１２０と、ラインセンサー１２２とから構成される。光源１２０は、ガラス基板１０の左側に設置されている。ラインセンサー１２２は、光源１２０と対向するように、ガラス基板１０の右側に設置されている。光源１２０は、Ｚ軸方向に延びるライン光を、Ｙ軸の負方向に向かって照射する。ラインセンサー１２２は、Ｚ軸方向に配置された複数のカメラ１２２ａを有している。ラインセンサー１２２は、光源１２０から照射されてガラス基板１０を通過したライン光をカメラ１２２ａで受光する。ラインセンサー１２２は、受光したライン光の強さの変化に基づいて、ガラス基板１０の歪みを検出して、ガラス基板１０の内部に存在する異物を検知する。ラインセンサー１２２のカメラ１２２ａのフォーカスエリアは、±５ｍｍ以下である。

（３）ガラス基板製造装置の具体例
ガラス基板製造装置１００の構成の一例について説明する。図７および図８は、第１左エアナイフ１１６ａおよび第１左ガイド板１１８ａの寸法および位置を説明するための図である。図７は、図３と同様の側面図である。図８は、図４と同様の上面図の一部であり、図７に示される矢印ＶＩＩＩの方向から見た図である。図７には、ガラス基板１０、第１左エアナイフ１１６ａ、第２左エアナイフ１１６ｃ、第１左エアバー１１７ａ、第２左エアバー１１７ｃ、第１左ガイド板１１８ａおよび第２左ガイド板１１８ｃのみが示されている。図８には、ガラス基板１０、第１左エアバー１１７ａ、第２左エアナイフ１１６ｃおよび第２左ガイド板１１８ｃのみが示されている。以下の説明は、全てのエアナイフ１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃ，１１６ｄ、全てのエアバー１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃ，１１７ｄ、および、全てのガイド板１１８ａ，１１８ｂ，１１８ｃ，１１８ｄに適用可能である。

ガラス基板１０のＸ軸方向の寸法Ｌ１は、２４００ｍｍである。ガラス基板１０のＺ軸方向の寸法Ｌ２は、１５５０ｍｍである。搬送装置１０２によってＸ軸方向に搬送されるガラス基板１０の搬送速度は、１２００ｍｍ／ｓである。

図７において、第１左エアナイフ１１６ａのＺ軸方向の寸法Ｌ３は、２０９ｍｍである。第１左ガイド板１１８ａのＺ軸方向の寸法Ｌ４は、２２０ｍｍである。第１左エアナイフ１１６ａのＺ軸方向の中心位置は、第１左ガイド板１１８ａのＺ軸方向の中心位置と同じである。ガラス基板１０の上端と、最も上方に位置する第１左エアバー１１７ａの上端との間の距離Ｌ５は、１３０ｍｍである。ガラス基板１０の下端と、最も下方に位置する第１左ガイド板１１８ａの下端との間の距離Ｌ６は、１００ｍｍである。第１左エアバー１１７ａのＺ軸方向の寸法Ｌ７は、２２０ｍｍである。

図８において、第１左エアバー１１７ａのＸ軸方向の寸法Ｌ８は、８４５ｍｍである。第１左エアバー１１７ａと左主表面１０ａとの間の距離Ｌ９は、２０ｍｍである。第２左ガイド板１１８ｃ全体のＸ軸方向の寸法Ｌ１０は、８４５ｍｍである。第２左ガイド板１１８ｃのインレット部材１２８ｃのＸ軸方向の寸法Ｌ１１は、５５０ｍｍである。インレット部材１２８ｃのガイド平面１１９ｃ２のＸ軸方向の寸法Ｌ１２は、２００ｍｍである。インレット部材１２８ｃの上流ガイド湾曲面１１９ｃ１は、ＸＹ平面においてＲ形状を有し、その径Ｌ１３は、３００ｍｍである。ガイド平面１１９ｃ２と左主表面１０ａとの間の距離Ｌ１４は、１０ｍｍである。第２左エアナイフ１１６ｃは、上流側から下流側に向かって左主表面１０ａに近付くように配置される。第２左エアナイフ１１６ｃと左主表面１０ａとの間の距離の最小値Ｌ１５は、３２０ｍｍである。第２左エアナイフ１１６ｃと左主表面１０ａとの間の角度θは、３０度である。角度θは、ＸＹ平面において、第２左エアナイフ１１６ｃから噴出される空気の流れ方向と、Ｘ軸方向との間の角度である。第２左ガイド板１１８ｃのガイド平面１１９ｃ２と左主表面１０ａとの間の空間を流れる空気の速さの最大値は、１．０ｍ／ｓ〜２．０ｍ／ｓである。ガイド平面１１９ｃ２と左主表面１０ａとの間の空間を流れる空気の速さは、ガラス基板１０の搬送速度に応じて調整され、ガラス基板１０の搬送速度よりも大きいことが好ましい。

なお、上記の数値Ｌ３〜Ｌ１５およびθは一例であり、ガラス基板１０の寸法Ｌ１，Ｌ２、および、ガラス基板１０の搬送速度等に応じて適宜に設定される。

（４）特徴
ガラス基板製造装置１００は、第１検査工程Ｓ４において、搬送装置１０２によってガラス基板１０をＸ軸方向に搬送しながら、検査装置１０４によって、ガラス基板１０の内部に存在する異物を光学的手法により検知する。

搬送装置１０２によって搬送されるガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂには、エアナイフ１１６ａ，・・・から吐出される空気が吹き付けられる。空気は、ガイド板１１８ａ，・・・によって導かれて、ガイド板１１８ａ，・・・とガラス基板１０との間の空間をＸ軸方向に沿って流れる。

第１左エアナイフ１１６ａから吐出され第１左ガイド板１１８ａによって導かれる空気の作用について、図５を参照しながら説明する。図５に示されるように、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気は、周囲の空気を引き込みながらガイド湾曲面１１９ａ１に沿って流れ、ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間を流れる。第１左ガイド板１１８ａとガラス基板１０との間の空間は、第１左エアナイフ１１６ａから吐出された空気の流路であり、上流側から下流側に向かって徐々に狭くなる。そのため、第１左ガイド板１１８ａとガラス基板１０との間の空間において、空気の流速は、上流側から下流側に向かって徐々に大きくなる。特に、ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間において、空気の流速は最大となる。ベルヌーイの定理により、空気の流速が増加するほど空気の圧力は低下するので、ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間は、周囲の空間に対して負圧となる。その結果、ガラス基板１０は、第１左ガイド板１１８ａに向かうＹ軸方向の力を受ける。同様に、第１右エアナイフ１１６ｂから吐出され第１右ガイド板１１８ｂによって導かれる空気によって、ガラス基板１０は、第１右ガイド板１１８ｂに向かうＹ軸方向の力を受ける。同様に、ガラス基板１０は、第２左ガイド板１１８ｃに向かうＹ軸方向の力、および、第２右ガイド板１１８ｄに向かうＹ軸方向の力を受ける。このように、ガラス基板１０は、Ｙ軸の正方向の力、および、Ｙ軸の負方向の力を受けながら、Ｘ軸方向に搬送される。

ガラス基板１０のＺ軸方向における中央領域は、ガラス基板１０を把持するクランプ機構１１２、および、ガラス基板１０のＹ軸方向の移動を抑制する下部ガイド機構１１４から、Ｚ軸方向において最も離れたポイントを含む。そのため、搬送されているガラス基板１０のＺ軸方向における中央領域は、Ｙ軸方向に何ら力が付与されていない場合には、ガラス基板１０の周囲の圧力の微小な変化によってＹ軸方向に振動しやすい。

しかし、本実施形態において、搬送装置１０２によって搬送されるガラス基板１０のＺ軸方向における中央領域は、Ｙ軸の正方向および負方向の力が付与される。Ｙ軸の正方向の力の大きさが、Ｙ軸の負方向の力の大きさと同じである場合、ガラス基板１０に作用するＹ軸方向の力は釣り合っている。これにより、搬送されているガラス基板１０は、Ｚ軸方向における中央領域においてＹ軸方向の力の変化を受けにくくなる。従って、ガラス基板１０のＹ軸方向の振動が低減される。

また、搬送されているガラス基板１０に付与されるＹ軸方向の力は、エアナイフ１１６ａ，・・・から吐出される空気の流量および向き、もしくは、ガイド板１１８ａ，・・・の位置および角度を調整することにより、高い精度で制御することができる。そのため、ガラス基板製造装置１００は、搬送されているガラス基板１０のＹ軸方向の振動を容易に低減することができる。

また、搬送装置１０２によって搬送されているガラス基板１０がＹ軸方向に振動すると、検査装置１０４のラインセンサー１２２のカメラ１２２ａの焦点位置がずれるので、ガラス基板１０の内部に存在する異物の検出精度が低下する。また、ラインセンサー１２２のカメラ１２２ａのフォーカスエリアが±３ｍｍ以下と短い場合、カメラ１２２ａの焦点位置に高い精度が要求されるので、ガラス基板１０の内部に存在する異物の検出精度が低下する。従って、ガラス基板製造装置１００は、搬送されているガラス基板１０の振動を低減し、ガラス基板１０のＹ軸方向の振動の振幅を１ｍｍ以下に抑えることができるので、ガラス基板１０の内部に存在する異物の検出精度の低下を抑制することができる。

さらに、ガラス基板製造装置１００の搬送装置１０２は、搬送されるガラス基板１０を洗浄する機能を有する。例えば、図５に示されるように、第１左エアナイフ１１６ａから吐出され第１左ガイド板１１８ａによって導かれる空気は、第１左ガイド板１１８ａのガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間を流れる。ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間では、空気はＸ軸方向に沿って流れ、空気の層流が形成される。左主表面１０ａに沿って空気の層流が流れている場合、左主表面１０ａに付着している異物が層流によって吹き飛ばされやすい。同様に、第１右エアナイフ１１６ｂから吐出され第１右ガイド板１１８ｂによって導かれる空気により、右主表面１０ｂに沿って空気の層流が流れる。また、第２左エアナイフ１１６ｃから吐出され第２左ガイド板１１８ｃによって導かれる空気により、左主表面１０ａに沿って空気の層流が流れる。また、第２右エアナイフ１１６ｄから吐出され第２右ガイド板１１８ｄによって導かれる空気により、右主表面１０ｂに沿って空気の層流が流れる。このように、エアナイフ１１６ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・によって主表面１０ａ，１０ｂに沿って空気の層流が形成され、主表面１０ａ，１０ｂに付着している異物が層流によって吹き飛ばされることにより、主表面１０ａ，１０ｂに付着している異物が除去される。従って、搬送装置１０２は、搬送されるガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに付着している異物を除去して、ガラス基板１０を洗浄することができる。

なお、図３に示されるように、エアバー１１７ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・は、Ｘ軸方向およびＺ軸方向において交互に配置されている。そのため、Ｚ軸方向においてガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂのほとんどの領域は、ガラス基板１０の搬送中に、ガイド板１１８ａ，・・・と対向する。言い換えると、主表面１０ａ，１０ｂのほとんどの領域に沿って、空気の層流が形成される。従って、搬送装置１０２は、主表面１０ａ，１０ｂのほとんどの領域を洗浄することができる。

また、主表面１０ａ，１０ｂに付着している異物が層流によって吹き飛ばされると、主表面１０ａ，１０ｂから異物が除去されるが、ガイド板１１８ａ，・・・と主表面１０ａ，１０ｂとの間を流れる空気に、除去された異物が混入する。ガラス基板製造装置１００では、異物が混入した空気を吸引して、異物を取り除き、再利用することができる。例えば、上述したように、第１左エアナイフ１１６ａから吐出され第１左ガイド板１１８ａによって導かれる空気は、ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間を層流となって流れ、左主表面１０ａに付着している異物を吹き飛ばす。ガイド平面１１９ａ２と左主表面１０ａとの間の空間を通過した空気は、上述したように、アウトレット流路１４８ａを通過した後、空気循環機構１３０の回収空気ブロワー１３３によって吸引される。吸引された空気に混入している異物は、回収フィルター１３４によって取り除かれる。その後、異物が除去された空気は、補充空気ブロワー１３１によって供給された空気と合流して、補充フィルター１３２によって異物が取り除かれ、第１左エアナイフ１１６ａに送られる。このように、ガラス基板製造装置１００は、ガイド板１１８ａ，・・・と主表面１０ａ，１０ｂとの間を流れる空気の少なくとも一部を回収し、回収した空気から異物を除去した後に、異物が除去された空気の少なくとも一部をエアナイフ１１６ａ，・・・に送る。ガラス基板製造装置１００は、主表面１０ａ，１０ｂに付着していた異物が混入された空気を回収するので、主表面１０ａ，１０ｂから除去された異物が再び主表面１０ａ，１０ｂに付着することが抑制される。また、ガイド板１１８ａ，・・・の下流側にある検査装置１０４の検査精度が、主表面１０ａ，１０ｂに沿って流れる空気、および、主表面１０ａ，１０ｂから除去された異物によって低下することが抑制される。従って、ガラス基板製造装置１００は、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂを効果的に洗浄できると共に、ガラス基板１０の内部に存在する異物の検出精度の低下を抑制することができる。

また、ガラス基板製造装置１００は、エアバー１１７ａ，・・・を備える。エアバー１１７ａ，・・・は、主表面１０ａ，１０ｂに向かって空気を噴出して、Ｙ軸方向に沿ってガラス基板１０を両側から押す力をガラス基板１０に付与する。これにより、以下に説明するように、搬送されているガラス基板１０のＹ軸方向の振動が低減される。

上述したように、ガイド板１１８ａ，・・・と主表面１０ａ，１０ｂとの間を通過した空気は、アウトレット流路１４８ａを通過して、空気循環機構１３０によって回収される。そのため、アウトレット流路１４８ａの入口近傍の空間は、周囲の空間から空気を吸引して圧力が一定になりにくいので、不安定な負圧の状態になりやすい。エアバー１１７ａ，・・・は、不安定な負圧の状態になりやすい空間に空気を供給することで、負圧を抑制する。仮に、アウトレット流路１４８ａの入口近傍の空間が不安定な負圧の状態になると、主表面１０ａ，１０ｂは負圧の空間に引き寄せられ、主表面１０ａ，１０ｂには、主にＹ軸方向の不安定な力が作用する。この力によりガラス基板１０が振動すると、ガラス基板１０がガイド板１１８ａ，・・・等に接触して破損するおそれがある。また、エアバー１１７ａ，・・・によって、ガラス基板１０の両方の主表面１０ａ，１０ｂにＹ軸方向の力が作用するので、ガラス基板１０のＹ軸方向の移動が抑制されて、ガラス基板１０の姿勢が安定化する。

また、搬送されるガラス基板１０の姿勢を安定化する力、すなわち、搬送されるガラス基板１０に付与されるＹ軸方向の力は、エアバー１１７ａ，・・・の空気噴出孔から噴出される空気の流量、および、エアバー１１７ａ，・・・の位置および角度を調整することにより、高い精度で制御することができる。そのため、ガラス基板製造装置１００は、搬送されるガラス基板１０のＹ軸方向の振動を容易に低減することができる。

また、図２〜４に示されるように、第２右ガイド板１１８ｄの下流側には、第３右エアバー１１７ｆが配置されている。第３右エアバー１１７ｆは、Ｘ軸方向において、検査装置１０４の上流側近傍に配置されている。第３右エアバー１１７ｆは、Ｚ軸方向において第２右エアバー１１７ｄと隣り合っているので、検査装置１０４の上流側近傍では、２種類のエアバー１１７ｄ，１１７ｆが、Ｚ軸方向に沿って配置されている。そのため、第２右エアバー１１７ｄおよび第３右エアバー１１７ｆによって、検査装置１０４によって検査される直前のガラス基板１０のＹ軸方向の振動が効果的に低減される。

また、第３右エアバー１１７ｆは、その上流側に位置する第２右ガイド板１１８ｄによって導かれる気流が検査装置１０４まで到達することを防止する。検査装置１０４の光源１２０とラインセンサー１２２との間に気流が生じると、ガラス基板１０の振動等によって、検査装置１０４の検査精度が低下するおそれがある。そのため、第２右ガイド板１１８ｄの下流側に第３右エアバー１１７ｆを配置することで、検査装置１０４の検査精度の低下が抑制される。第３右エアバー１１７ｆの作用効果に関する上記の説明は、第３左エアバー１１７ｅにも適用可能である。

（５）変形例
以上、本発明に係るガラス基板製造装置の実施形態について説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良および変更が施されてもよい。

（５−１）変形例Ａ
実施形態のガラス基板製造装置１００は、４種類のエアナイフ１１６ａ，１１６ｂ，１１６ｃ，１１６ｄ、４種類のエアバー１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃ，１１７ｄ、および、４種類のガイド板１１８ａ，１１８ｂ，１１８ｃ，１１８ｄを備えている。しかし、ガラス基板製造装置１００が備えるエアナイフ１１６ａ，・・・の種類および数、エアバー１１７ａ，・・・の種類および数、および、ガイド板１１８ａ，・・・の種類および数は、ガラス基板１０の寸法Ｌ１，Ｌ２、および、ガラス基板１０の搬送速度に応じて適宜に設定されてもよい。ここで、エアナイフ１１６ａ，・・・の種類とは、Ｚ軸方向の位置のみが異なる複数のエアナイフから構成されるグループを意味する。エアバー１１７ａ，・・・の種類、および、ガイド板１１８ａ，・・・の種類に関しても同様である。

また、ガラス基板製造装置１００に備えられるエアナイフ１１６ａ，・・・、エアバー１１７ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・の数が大きいほど、ガラス基板１０の主表面１０，１０ｂに作用するＹ軸方向の力の発生源が増えるため、搬送されるガラス基板１０のＹ軸方向の振動がより抑えられる。そのため、ガラス基板製造装置１００が設置される空間においてＹ軸方向の気流が発生しても、ガラス基板１０のＹ軸方向の振動が十分に抑えられ、ガラス基板１０の内部に存在する異物の検出精度の低下が抑制される。

（５−２）変形例Ｂ
実施形態のガラス基板製造装置１００では、エアナイフ１１６ａ，・・・、エアバー１１７ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・は、検査装置１０４の上流側に配置されている。しかし、エアナイフ１１６ａ，・・・、エアバー１１７ａ，・・・およびガイド板１１８ａ，・・・は、検査装置の下流側にも配置されてもよい。

検査装置１０４によるガラス基板１０の内部に存在する異物の検出精度の低下を抑制するためには、検査装置１０４の上流側においてガラス基板１０の振動を低減することが重要である。しかし、検査装置１０４の上流側だけではなく検査装置１０４の下流側においてもガラス基板１０の振動を低減することにより、検査装置１０４の上流側におけるガラス基板１０の振動がさらに低減される。そのため、本変形例は、検査装置１０４によるガラス基板１０の内部に存在する異物の検出精度の低下をより効果的に抑制することができる。

（５−３）変形例Ｃ
実施形態のガラス基板製造装置１００は、エアナイフ１１６ａ，・・・から吐出されガイド板１１８ａ，・・・によって導かれる空気によって形成される、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに沿って形成される空気の層流によって、主表面１０ａ，１０ｂに付着している異物を除去することができる。しかし、ガラスの微小なパーティクル等、１００μｍ未満の微小異物は、主表面１０ａ，１０ｂに沿って形成される空気の層流によって十分に除去されないことがある。そこで、空気の層流による主表面１０ａ，１０ｂの洗浄工程の後に、主表面１０ａ，１０ｂに向かって圧縮空気を吹き付けて、主表面１０ａ，１０ｂに残存している微小異物を除去する予備洗浄工程がさらに行われてもよい。

図９は、予備洗浄工程について説明するための図である。図９は、図６と同様の空気循環機構１３０の構成図である。図９と図６との相違点は、ガラス基板１０の主表面１０ａに対する空気の噴出機構のみであるので、空気循環機構１３０の構成に関する説明は省略する。図９では、空気の流れが白抜きの矢印で示されている。本変形例では、図９に示されるように、２個のエアノズル２１６ａおよび１個のバキュームノズル２１７ａが、左主表面１０ａと対向するように配置されている。なお、図９には図示されていないが、右主表面１０ｂの側においても、２個のエアノズル２１６ａおよび１個のバキュームノズル２１７ａは、右主表面１０ｂと対向するように配置されている。

エアノズル２１６ａは、左主表面１０ａに向かって高圧の圧縮空気を噴出する。バキュームノズル２１７ａは、Ｘ軸方向において２個のエアノズル２１６ａの間に配置される。バキュームノズル２１７ａは、回収空気ブロワー１３３の回収空気吸引口１３３ａに接続されている。エアノズル２１６ａから噴出された圧縮空気は、左主表面１０ａに衝突し、バキュームノズル２１７ａに吸引される。バキュームノズル２１７ａに吸引された空気は、回収空気ブロワー１３３に回収される。補充空気ブロワー１３１および回収空気ブロワー１３３は、補充フィルター１３２および回収フィルター１３４を通過して微小異物が除去された空気をエアノズル２１６ａに送る。

本変形例では、エアノズル２１６ａは、左主表面１０ａに向かって圧縮空気を集中的に噴出するので、主表面１０ａ，１０ｂに残存している微小異物が効果的に除去される。また、エアノズル２１６ａから噴出されて左主表面１０ａに衝突した圧縮空気は、すぐにバキュームノズル２１７ａに吸引される。そのため、主表面１０ａ，１０ｂから除去された微小異物が、主表面１０ａ，１０ｂに再び付着することが抑制される。

（５−４）変形例Ｄ
実施形態のガラス基板製造装置１００は、第１検査工程Ｓ４において、切断工程Ｓ３で得られたガラス基板１０の欠陥を検知する。しかし、ガラス基板製造装置１００は、第２検査工程Ｓ８において、最終洗浄工程Ｓ７で洗浄されたガラス基板１０の欠陥を検知してもよい。この場合、ガラス基板製造装置１００は、ガラス基板１０の内部に存在する異物を検知する代わりに、ガラス基板１０の主表面に形成される脈理、ガラス基板１０の主表面に存在するキズおよびクラック、および、ガラス基板１０の主表面に付着している異物等を検知してもよい。また、ガラス基板製造装置１００は、ガラス基板１０の内部に存在する異物を検知すると共に、ガラス基板１０の主表面に形成される脈理、ガラス基板１０の主表面に存在するキズおよびクラック、および、ガラス基板１０の主表面に付着している異物等をさらに検知してもよい。

（５−５）変形例Ｅ
実施形態のガラス基板製造装置１００では、第１左ガイド板１１８ａは、図５に示されるように、１個のインレット部材１２８ａと、２個のアウトレット部材１３８ａとから構成される。しかし、第１左ガイド板１１８ａのアウトレット部材１３８ａの数は、図５に示される空気の流れＦ１〜Ｆ７を実現できるのであれば、任意であってもよい。なお、他のガイド板１１８ｂ，・・・のアウトレット部材の数も、同様に任意であってもよい。

（５−６）変形例Ｆ
実施形態のガラス基板製造装置１００は、ガラス基板１０の左右両側に配置されるエアバー１１７ａ，・・・を備えている。エアバー１１７ａ，・・・は、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに向かって空気の噴流を吹き付ける。しかし、ガラス基板製造装置１００は、エアバー１１７ａ，・・・の代わりに、エアベアリングを備えてもよい。

エアベアリングは、搬送されるガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂと対向し、多数の空気噴出孔および多数の空気吸引孔が形成された表面を有する。空気噴出孔は、Ｙ軸方向に空気を噴出する。空気吸引孔は、その開口部の近傍の空間から空気を吸引する。エアベアリングの空気噴出孔から噴出された空気は、主表面１０ａ，１０ｂと衝突して、空気の噴出方向（Ｙ軸方向）にガラス基板１０を押す力をガラス基板１０に付与する。エアベアリングの空気吸引孔は、エアベアリングと主表面１０ａ，１０ｂとの間の空間から空気を吸引する。これにより、空気吸引孔は、空気噴出孔が空気を噴出する方向の反対方向（Ｙ軸方向）にガラス基板１０を引く力をガラス基板１０に付与する。エアベアリングは、Ｙ軸方向の位置、空気噴出孔から吐出される空気の流量、および、空気吸引孔に吸引される空気の流量等を調整することで、エアベアリングとガラス基板１０との間の距離を高い精度で制御することができる。

なお、ガラス基板製造装置１００は、下流側のエアバー１１７ａ，・・・のみをエアベアリングで置き換えた構成を有してもよい。具体的には、ガラス基板製造装置１００の第２左エアバー１１７ｃおよび第２右エアバー１１７ｄのみが、エアベアリングに置き換えられてもよい。

（５−７）変形例Ｇ
実施形態のガラス基板製造装置１００は、ガラス基板１０を把持するクランプ機構１１２を備えている。クランプ機構１１２は、ガラス基板１０に超音波振動を与えるための超音波振動子を有してもよい。超音波振動子によりガラス基板１０が超音波で振動することで、ガラス基板１０に付着している異物が除去されやすくなる。また、ガラス基板１０に与えられる超音波振動の周波数を適切に設定することで、ガラス基板１０からカレットが除去されやすくなり、ガラス基板１０に異物が固着または融着することが抑制される。

（５−８）変形例Ｈ
実施形態のガラス基板製造装置１００では、エアナイフ１１６ａ，・・・から吐出されガイド板１１８ａ，・・・によって導かれる空気によって、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに沿って空気の層流が形成される。しかし、ガラス基板１０の主表面１０ａ，１０ｂに沿って空気が流れると、静電気が発生して主表面１０ａ，１０ｂが帯電するおそれがある。主表面１０ａ，１０ｂの帯電は、雰囲気中の異物が主表面１０ａ，１０ｂに付着する原因となる。

そこで、主表面１０ａ，１０ｂの帯電による異物の付着を抑制するために、ガラス基板製造装置１００は、イオナイザー等の除電機構をさらに備えてもよい。除電機構は、静電気の発生を防止して、主表面１０ａ，１０ｂの帯電を抑制することができる。

１０ ガラス基板
１０ａ 左主表面（第１主表面）
１０ｂ 右主表面（第２主表面）
１００ ガラス基板製造装置
１０２ 搬送装置（搬送機構）
１０４ 検査装置（検査機構）
１１６ａ 第１左エアナイフ
１１６ｂ 第１右エアナイフ
１１６ｃ 第２左エアナイフ
１１６ｄ 第２右エアナイフ
１１７ａ 第１左エアバー
１１７ｂ 第１右エアバー
１１７ｃ 第２左エアバー
１１７ｄ 第２右エアバー
１１８ａ 第１左ガイド板（第１ガイド部材）
１１８ｂ 第１右ガイド板（第２ガイド部材）
１１８ｃ 第２左ガイド板（第１ガイド部材）
１１８ｄ 第２右ガイド板（第２ガイド部材）
１１９ａ 第１左ガイド表面
１１９ｂ 第１右ガイド表面
１１９ｃ 第２左ガイド表面
１１９ｄ 第２右ガイド表面

特開２００９−２３６７７１号公報

Claims (9)

1. オーバーフローダウンドロー法によるガラス基板の製造方法であって、
   熔融ガラスからシート状のガラスリボンを成形する成形工程と、
   前記成形工程で成形された前記ガラスリボンを下方に搬送しつつ、温度管理しながら冷却する徐冷工程と、
   前記徐冷工程で冷却された前記ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断工程と、
   前記切断工程で得られた前記ガラス基板を検査する検査工程と、
   を備え、
   前記検査工程は、
   前記ガラス基板の主表面に平行な第１方向に前記ガラス基板を搬送する搬送工程と、
   前記搬送工程において前記ガラス基板が搬送されている間に、前記主表面と直交する第２方向における前記ガラス基板の動きを抑制しながら、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程と、
   前記洗浄工程で洗浄された前記ガラス基板の内部異物を光学的に検出する検出工程と、
   を含み、
   前記洗浄工程は、
   前記ガラス基板の一方の前記主表面である第１主表面と、前記第１主表面に対向するように配置される第１ガイド部材との間の第１隙間において、第１気体を前記第１主表面に沿って流す第１気体供給工程と、
   前記第１主表面の反対側の前記主表面である第２主表面と、前記第２主表面に対向するように配置される第２ガイド部材との間の第２隙間において、第２気体を前記第２主表面に沿って流す第２気体供給工程と、
   を含み、
   前記洗浄工程は、
   前記第１気体の流れる方向に向かって前記第１隙間が徐々に狭くなっていることにより、周囲の空間に対して前記第１隙間が負圧となる前記第１気体供給工程において、前記第１ガイド部材に向かう前記第２方向の力を前記ガラス基板に与え、
   前記第２気体の流れる方向に向かって前記第２隙間が徐々に狭くなっていることにより、周囲の空間に対して前記第２隙間が負圧となる前記第２気体供給工程において、前記第２ガイド部材に向かう前記第２方向の力を前記ガラス基板に与える、
   ガラス基板の製造方法。
2. 前記洗浄工程は、前記主表面に気体を吹き付けることで、前記主表面に付着している付着物を除去する、
   請求項１に記載のガラス基板の製造方法。
3. 前記洗浄工程は、
   前記第１気体によって前記第１主表面を洗浄する前記第１気体供給工程と、
   前記第１気体供給工程において前記第１隙間を通過した前記第１気体の少なくとも一部を吸引する第１気体吸引工程と、
   前記第１主表面に第１流体を吹き付ける第１流体供給工程と、
   を含む、
   請求項２に記載のガラス基板の製造方法。
4. 前記洗浄工程は、
   前記第２気体によって前記第２主表面を洗浄する前記第２気体供給工程と、
   前記第２気体供給工程において前記第２隙間を通過した前記第２気体の少なくとも一部を吸引する第２気体吸引工程と、
   前記第２主表面に第２流体を吹き付ける第２流体供給工程と、
   をさらに含む、
   請求項３に記載のガラス基板の製造方法。
5. 前記第１気体供給工程において、前記第１気体は、前記第１ガイド部材に向かって噴出されることにより、前記第１ガイド部材の表面に沿って流れて前記第１隙間に導かれ、
   前記第２気体供給工程において、前記第２気体は、前記第２ガイド部材に向かって噴出されることにより、前記第２ガイド部材の表面に沿って流れて前記第２隙間に導かれる、
   請求項４に記載のガラス基板の製造方法。
6. 前記第１気体供給工程は、前記第１気体吸引工程において吸引された前記第１気体の少なくとも一部を、前記第１隙間において前記第１主表面に沿って流し、
   前記第２気体供給工程は、前記第２気体吸引工程において吸引された前記第２気体の少なくとも一部を、前記第２隙間において前記第２主表面に沿って流す、
   請求項４または５に記載のガラス基板の製造方法。
7. 前記切断工程は、前記成形工程において前記ガラスリボンの幅方向の両端部に形成され、前記ガラスリボンの幅方向の中央領域と比べて厚い端部領域を切断して除去する除去工程を含む、
   請求項１から６のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。
8. 前記検査工程は、前記検出工程により得られた検出データから、前記ガラス基板の前記内部異物の種類およびサイズを判定し、前記ガラス基板の選別を行う判定工程を含む、
   請求項１から７のいずれか１項に記載のガラス基板の製造方法。
9. オーバーフローダウンドロー法を用いるガラス基板の製造装置であって、
   熔融ガラスからシート状のガラスリボンを成形する成形部と、
   前記成形部で成形された前記ガラスリボンを下方に搬送しつつ、温度管理しながら冷却する徐冷部と、
   前記徐冷部で冷却された前記ガラスリボンを切断してガラス基板を得る切断部と、
   前記切断部で得られた前記ガラス基板を検査する検査部と、
   を備え、
   前記検査部は、
   前記ガラス基板の主表面に平行な第１方向に前記ガラス基板を搬送し、かつ、前記ガラス基板が搬送されている間に、前記主表面と直交する第２方向における前記ガラス基板の動きを抑制しながら、前記ガラス基板を洗浄する搬送機構と、
   前記搬送機構によって洗浄された前記ガラス基板の内部異物を光学的に検出する検出機構と、
   を有し、
   前記搬送機構は、
   前記ガラス基板の一方の前記主表面である第１主表面と、前記第１主表面に対向するように配置される第１ガイド部材との間の第１隙間において、第１気体を前記第１主表面に沿って流し、
   前記第１主表面の反対側の前記主表面である第２主表面と、前記第２主表面に対向するように配置される第２ガイド部材との間の第２隙間において、第２気体を前記第２主表面に沿って流し、
   前記搬送機構は、
   前記第１気体の流れる方向に向かって前記第１隙間が徐々に狭くなっていることにより、周囲の空間に対して前記第１隙間を負圧とすることで、前記第１ガイド部材に向かう前記第２方向の力を前記ガラス基板に与え、
   前記第２気体の流れる方向に向かって前記第２隙間が徐々に狭くなっていることにより、周囲の空間に対して前記第２隙間を負圧とすることで、前記第２ガイド部材に向かう前記第２方向の力を前記ガラス基板に与える、
   ガラス基板の製造装置。

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