JP2003112134A - 基板洗浄装置およびその基板搬送方法 - Google Patents
基板洗浄装置およびその基板搬送方法Info
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- JP2003112134A JP2003112134A JP2001306362A JP2001306362A JP2003112134A JP 2003112134 A JP2003112134 A JP 2003112134A JP 2001306362 A JP2001306362 A JP 2001306362A JP 2001306362 A JP2001306362 A JP 2001306362A JP 2003112134 A JP2003112134 A JP 2003112134A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の厚みに関係なく、ガラス基板表面に非
接触で、搬送を安定化させる。 【解決手段】 基板１１を枚葉で搬送する搬送系と、搬
送系の上下に設けられた洗浄後の基板１１の液切りをエ
アー噴出により行う液切り装置１３とを備えた枚葉式基
板洗浄装置であって、液切り装置１３の上流側に、噴出
される流体により基板１１を押える基板整列ノズル１４
を設けた。これにより、液切り装置１３からのエアーが
搬送されてくる基板１１に影響し、基板１１にたわみ
と、搬送系からの浮上を発生させることがなく、基板１
１の厚みに関係なく、基板表面に非接触で、搬送を安定
化させることができる。また、基板整列ノズル１４は噴
出角度、位置、噴出圧力調整機能を有するので、基板１
１の厚みが変わる場合は、噴出角度、位置、噴出圧力を
調整することで対応できる。
接触で、搬送を安定化させる。 【解決手段】 基板１１を枚葉で搬送する搬送系と、搬
送系の上下に設けられた洗浄後の基板１１の液切りをエ
アー噴出により行う液切り装置１３とを備えた枚葉式基
板洗浄装置であって、液切り装置１３の上流側に、噴出
される流体により基板１１を押える基板整列ノズル１４
を設けた。これにより、液切り装置１３からのエアーが
搬送されてくる基板１１に影響し、基板１１にたわみ
と、搬送系からの浮上を発生させることがなく、基板１
１の厚みに関係なく、基板表面に非接触で、搬送を安定
化させることができる。また、基板整列ノズル１４は噴
出角度、位置、噴出圧力調整機能を有するので、基板１
１の厚みが変わる場合は、噴出角度、位置、噴出圧力を
調整することで対応できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶パネル生産
用ガラス基板の基板洗浄装置およびその基板搬送方法に
関する。
用ガラス基板の基板洗浄装置およびその基板搬送方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、枚葉式液晶ガラス基板洗浄機は、
ウェット処理後に液切りを行うため、搬送装置上を搬送
される基板上下に液切り装置が設けられている。
ウェット処理後に液切りを行うため、搬送装置上を搬送
される基板上下に液切り装置が設けられている。
【０００３】以下に従来の枚葉式ガラス基板洗浄機につ
いて説明する。
いて説明する。
【０００４】図３はこの従来の枚葉式ガラス基板洗浄機
の液切り部の構造を示すものである。図３において、１
１はガラス基板である。１２は搬送ローラ、１３は液切
り装置、２１は基板押さえローラである。
の液切り部の構造を示すものである。図３において、１
１はガラス基板である。１２は搬送ローラ、１３は液切
り装置、２１は基板押さえローラである。
【０００５】以上のように構成された枚葉式ガラス基板
洗浄装置について、以下にその動作について説明する。
洗浄装置について、以下にその動作について説明する。
【０００６】まず、搬送ローラ１２により、ガラス基板
１１が搬送され、ウェット処理により基板が洗浄され
る。ウェット処理後、洗浄装置の最終処理として、主と
してエアーナイフからのエアー噴出による液切り装置１
３でガラス基板１１の液切りが行われる。
１１が搬送され、ウェット処理により基板が洗浄され
る。ウェット処理後、洗浄装置の最終処理として、主と
してエアーナイフからのエアー噴出による液切り装置１
３でガラス基板１１の液切りが行われる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来例の構成では、薄板の洗浄を行う場合、液切り装置か
らのエアーが、液切り装置の上流側から搬送されてくる
ガラス基板に影響し、ガラス基板にたわみと、搬送コン
ベアからの浮上を発生させ、液切り部の基板搬送が不安
定になるという問題点を有していた。
来例の構成では、薄板の洗浄を行う場合、液切り装置か
らのエアーが、液切り装置の上流側から搬送されてくる
ガラス基板に影響し、ガラス基板にたわみと、搬送コン
ベアからの浮上を発生させ、液切り部の基板搬送が不安
定になるという問題点を有していた。
【０００８】厚板の場合、押さえローラによる基板整列
が可能であるが、薄板では、ローラで挟むことによる基
板割れが発生しやすく、また基板中心付近は、基板表面
を汚損、損傷するため押さえローラの使用が不可能なた
め、薄板、厚板兼用の洗浄を行うことが困難であった。
が可能であるが、薄板では、ローラで挟むことによる基
板割れが発生しやすく、また基板中心付近は、基板表面
を汚損、損傷するため押さえローラの使用が不可能なた
め、薄板、厚板兼用の洗浄を行うことが困難であった。
【０００９】したがって、この発明の目的は、上記従来
の問題点を解決するもので、基板の厚みに関係なく、ガ
ラス基板表面に非接触で、搬送を安定化させた基板洗浄
装置およびその基板搬送方法を提供することである。
の問題点を解決するもので、基板の厚みに関係なく、ガ
ラス基板表面に非接触で、搬送を安定化させた基板洗浄
装置およびその基板搬送方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
にこの発明の請求項１記載の基板洗浄装置は、基板を枚
葉で搬送する搬送系と、前記搬送系の上下に設けられた
洗浄後の基板の液切りをエアー噴出により行う液切り装
置とを備えた枚葉式基板洗浄装置であって、前記液切り
装置の上流側に、噴出される流体により前記基板を押え
る基板整列ノズルを設けた。
にこの発明の請求項１記載の基板洗浄装置は、基板を枚
葉で搬送する搬送系と、前記搬送系の上下に設けられた
洗浄後の基板の液切りをエアー噴出により行う液切り装
置とを備えた枚葉式基板洗浄装置であって、前記液切り
装置の上流側に、噴出される流体により前記基板を押え
る基板整列ノズルを設けた。
【００１１】このように、液切り装置の上流側に、噴出
される流体により基板を押える基板整列ノズルを設けた
ので、液切り装置からのエアーが搬送されてくる基板に
影響し、基板にたわみと、搬送系からの浮上を発生させ
ることがなく、基板の厚みに関係なく、基板表面に非接
触で、搬送を安定化させることができる。
される流体により基板を押える基板整列ノズルを設けた
ので、液切り装置からのエアーが搬送されてくる基板に
影響し、基板にたわみと、搬送系からの浮上を発生させ
ることがなく、基板の厚みに関係なく、基板表面に非接
触で、搬送を安定化させることができる。
【００１２】請求項２記載の基板洗浄装置は、請求項１
記載の基板洗浄装置において、基板整列ノズルは噴出角
度、位置、噴出圧力調整機能を有する。このように、基
板整列ノズルは噴出角度、位置、噴出圧力調整機能を有
するので、基板の厚みが変わる場合は、噴出角度、位
置、噴出圧力を調整することで対応できる。
記載の基板洗浄装置において、基板整列ノズルは噴出角
度、位置、噴出圧力調整機能を有する。このように、基
板整列ノズルは噴出角度、位置、噴出圧力調整機能を有
するので、基板の厚みが変わる場合は、噴出角度、位
置、噴出圧力を調整することで対応できる。
【００１３】請求項３記載の基板洗浄装置の基板搬送方
法は、洗浄後の基板の上下からエアー噴出を行い液切り
を行うとともに、エアー噴出の位置より搬送方向の上流
側の位置から流体を噴出して前記基板を押えながら搬送
する。
法は、洗浄後の基板の上下からエアー噴出を行い液切り
を行うとともに、エアー噴出の位置より搬送方向の上流
側の位置から流体を噴出して前記基板を押えながら搬送
する。
【００１４】このように、洗浄後の基板の上下からエア
ー噴出を行い液切りを行うとともに、エアー噴出の位置
より搬送方向の上流側の位置から流体を噴出して前記基
板を押えながら搬送するので、液切りを行うエアーが搬
送されてくる基板に影響し、基板にたわみと、搬送系か
らの浮上を発生させることがなく、基板の厚みに関係な
く、基板表面に非接触で、搬送を安定化させることがで
きる。
ー噴出を行い液切りを行うとともに、エアー噴出の位置
より搬送方向の上流側の位置から流体を噴出して前記基
板を押えながら搬送するので、液切りを行うエアーが搬
送されてくる基板に影響し、基板にたわみと、搬送系か
らの浮上を発生させることがなく、基板の厚みに関係な
く、基板表面に非接触で、搬送を安定化させることがで
きる。
【００１５】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図１およ
び図２に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の形
態の基板洗浄装置の斜視図である。
び図２に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の形
態の基板洗浄装置の斜視図である。
【００１６】図１において、１１はガラス基板、１２は
搬送ローラ、１３は液切り装置、１４は基板整列ノズ
ル、１５は支持ローラである。
搬送ローラ、１３は液切り装置、１４は基板整列ノズ
ル、１５は支持ローラである。
【００１７】図１に示すように、ガラス基板１１を枚葉
で搬送する搬送系と、搬送系の上下に設けられた洗浄後
のガラス基板１１の液切りをエアー噴出により行う液切
り装置１３とを備え、液切り装置１３の上流側に、噴出
される流体によりガラス基板１１を押える基板整列ノズ
ル１４を設けている。搬送系は、ガラス基板１１の両端
を支持するように対向配置された回転駆動する複数の搬
送ローラ１２と、液切り装置１３の上流側の近傍に配置
した搬送ローラ（支持ローラと呼ぶ）１５とを備えてい
る。支持ローラ１５は搬送ローラ１２の並びに配置さ
れ、ガラス基板１１の搬送方向に対して直交する方向に
沿って当接可能である。液切り装置１３は、ウェット処
理後の洗浄装置の最終処理として、エアーナイフからの
エアー噴出によりガラス基板１１を洗浄する。基板整列
ノズル１４は気体または液体を噴出し、噴出角度、位
置、噴出圧力調整機能を有する。この場合、基板整列ノ
ズル１４は３個の単独ノズルとし、支持ローラ１５の上
方に配置されている。
で搬送する搬送系と、搬送系の上下に設けられた洗浄後
のガラス基板１１の液切りをエアー噴出により行う液切
り装置１３とを備え、液切り装置１３の上流側に、噴出
される流体によりガラス基板１１を押える基板整列ノズ
ル１４を設けている。搬送系は、ガラス基板１１の両端
を支持するように対向配置された回転駆動する複数の搬
送ローラ１２と、液切り装置１３の上流側の近傍に配置
した搬送ローラ（支持ローラと呼ぶ）１５とを備えてい
る。支持ローラ１５は搬送ローラ１２の並びに配置さ
れ、ガラス基板１１の搬送方向に対して直交する方向に
沿って当接可能である。液切り装置１３は、ウェット処
理後の洗浄装置の最終処理として、エアーナイフからの
エアー噴出によりガラス基板１１を洗浄する。基板整列
ノズル１４は気体または液体を噴出し、噴出角度、位
置、噴出圧力調整機能を有する。この場合、基板整列ノ
ズル１４は３個の単独ノズルとし、支持ローラ１５の上
方に配置されている。
【００１８】上記構成の基板洗浄装置の基板搬送方法に
ついて説明する。図２はこの発明の実施の形態における
基板搬送時の説明図である。図２に示すように、洗浄後
のガラス基板１１の上下から液切り装置１３によりエア
ー噴出を行い液切りを行うとともに、エアー噴出の位置
より搬送方向の上流側の位置から基板整列ノズル１４に
より流体を噴出してガラス基板１１を下へ押えながら搬
送ローラ１２、支持ローラ１５により搬送する。これに
よりガラス基板１１と支持ローラ１５の摩擦を確保する
ことで搬送を確実に行わせることができる。また、基板
１１の厚みが変わる場合は、噴出角度、位置、噴出圧力
を調整することで対応できる。構造が簡単なため既存設
備を改造して安価に実現できる。
ついて説明する。図２はこの発明の実施の形態における
基板搬送時の説明図である。図２に示すように、洗浄後
のガラス基板１１の上下から液切り装置１３によりエア
ー噴出を行い液切りを行うとともに、エアー噴出の位置
より搬送方向の上流側の位置から基板整列ノズル１４に
より流体を噴出してガラス基板１１を下へ押えながら搬
送ローラ１２、支持ローラ１５により搬送する。これに
よりガラス基板１１と支持ローラ１５の摩擦を確保する
ことで搬送を確実に行わせることができる。また、基板
１１の厚みが変わる場合は、噴出角度、位置、噴出圧力
を調整することで対応できる。構造が簡単なため既存設
備を改造して安価に実現できる。
【００１９】以上のように本実施の形態によれば、噴出
角度、位置、噴出圧力調整機能を有する基板整列ノズル
１４を、液切り装置１３の上流側に設けることにより、
基板１１の厚みに関係なく、ガラス基板表面に非接触
で、搬送を安定化させることが出来る。
角度、位置、噴出圧力調整機能を有する基板整列ノズル
１４を、液切り装置１３の上流側に設けることにより、
基板１１の厚みに関係なく、ガラス基板表面に非接触
で、搬送を安定化させることが出来る。
【００２０】なお、本実施の形態において、基板整列ノ
ズル１４を、単独ノズル３個としたが、スリット式のエ
アーナイフ状ノズルとしても良い。
ズル１４を、単独ノズル３個としたが、スリット式のエ
アーナイフ状ノズルとしても良い。
【００２１】
【発明の効果】この発明の請求項１記載の基板洗浄装置
によれば、液切り装置の上流側に、噴出される流体によ
り基板を押える基板整列ノズルを設けたので、液切り装
置からのエアーが搬送されてくる基板に影響し、基板に
たわみと、搬送系からの浮上を発生させることがなく、
基板の厚みに関係なく、基板表面に非接触で、搬送を安
定化させることができる優れた枚葉式基板洗浄装置を、
安価、簡便に実現できる。
によれば、液切り装置の上流側に、噴出される流体によ
り基板を押える基板整列ノズルを設けたので、液切り装
置からのエアーが搬送されてくる基板に影響し、基板に
たわみと、搬送系からの浮上を発生させることがなく、
基板の厚みに関係なく、基板表面に非接触で、搬送を安
定化させることができる優れた枚葉式基板洗浄装置を、
安価、簡便に実現できる。
【００２２】請求項２では、基板整列ノズルは噴出角
度、位置、噴出圧力調整機能を有するので、基板の厚み
が変わる場合は、噴出角度、位置、噴出圧力を調整する
ことで対応できる。
度、位置、噴出圧力調整機能を有するので、基板の厚み
が変わる場合は、噴出角度、位置、噴出圧力を調整する
ことで対応できる。
【００２３】この発明の請求項３記載の基板洗浄装置の
基板搬送方法によれば、洗浄後の基板の上下からエアー
噴出を行い液切りを行うとともに、エアー噴出の位置よ
り搬送方向の上流側の位置から流体を噴出して前記基板
を押えながら搬送するので、液切りを行うエアーが搬送
されてくる基板に影響し、基板にたわみと、搬送系から
の浮上を発生させることがなく、基板の厚みに関係な
く、基板表面に非接触で、搬送を安定化させることがで
きる。
基板搬送方法によれば、洗浄後の基板の上下からエアー
噴出を行い液切りを行うとともに、エアー噴出の位置よ
り搬送方向の上流側の位置から流体を噴出して前記基板
を押えながら搬送するので、液切りを行うエアーが搬送
されてくる基板に影響し、基板にたわみと、搬送系から
の浮上を発生させることがなく、基板の厚みに関係な
く、基板表面に非接触で、搬送を安定化させることがで
きる。
【図１】この発明の実施の形態の基板洗浄装置の斜視図
【図２】この発明の実施の形態の基板搬送時の説明図
【図３】従来例の基板搬送時の説明図
１１ ガラス基板
１２ 搬送ローラ
１３ 液切り装置
１４ 基板整列ノズル
１５ 支持ローラ
２１ 押さえローラ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA21 FA30 HA01 MA20
2H090 JB02 JC19
3B201 AA01 AB14 AB47 BB22 BB92
CC12
4F033 AA04 BA01 BA03 CA01 DA01
EA03
4G059 AA08 AB13 AB19 AC30
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を枚葉で搬送する搬送系と、前記搬
送系の上下に設けられた洗浄後の基板の液切りをエアー
噴出により行う液切り装置とを備えた枚葉式基板洗浄装
置であって、前記液切り装置の上流側に、噴出される流
体により前記基板を押える基板整列ノズルを設けたこと
を特徴とする基板洗浄装置。 - 【請求項２】 基板整列ノズルは噴出角度、位置、噴出
圧力調整機能を有する請求項１記載の基板洗浄装置。 - 【請求項３】 洗浄後の基板の上下からエアー噴出を行
い液切りを行うとともに、エアー噴出の位置より搬送方
向の上流側の位置から流体を噴出して前記基板を押えな
がら搬送することを特徴とする基板洗浄装置の基板搬送
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001306362A JP2003112134A (ja) | 2001-10-02 | 2001-10-02 | 基板洗浄装置およびその基板搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001306362A JP2003112134A (ja) | 2001-10-02 | 2001-10-02 | 基板洗浄装置およびその基板搬送方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003112134A true JP2003112134A (ja) | 2003-04-15 |
Family
ID=19126013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001306362A Pending JP2003112134A (ja) | 2001-10-02 | 2001-10-02 | 基板洗浄装置およびその基板搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003112134A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008029922A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置 |
| US8585826B2 (en) | 2008-11-25 | 2013-11-19 | 3M Innovative Properties Company | Apparatus and method for cleaning flexible webs |
| JP2019519353A (ja) * | 2016-04-06 | 2019-07-11 | サン−ゴバン グラス フランス | ガラス板を運搬及び保持するための装置、特に洗浄設備においてガラス板を運搬及び保持するための装置、並びに関連する方法 |
-
2001
- 2001-10-02 JP JP2001306362A patent/JP2003112134A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008029922A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Shibaura Mechatronics Corp | 基板の処理装置 |
| KR101408757B1 (ko) | 2006-07-26 | 2014-06-17 | 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 | 기판의 처리 장치 |
| US8585826B2 (en) | 2008-11-25 | 2013-11-19 | 3M Innovative Properties Company | Apparatus and method for cleaning flexible webs |
| JP2019519353A (ja) * | 2016-04-06 | 2019-07-11 | サン−ゴバン グラス フランス | ガラス板を運搬及び保持するための装置、特に洗浄設備においてガラス板を運搬及び保持するための装置、並びに関連する方法 |
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