CN101114573B - 基板的处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板的处理装置，防止以规定的角度倾斜搬运的基板从支持背面的支持辊上浮起。一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运并用处理液处理，具备：腔(3)；支持辊(14)，设在腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，将由支持辊支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运基板；喷嘴体(62)，向基板的倾斜方向上侧的前面喷射处理液；及流体回流防止部件(65)，设置在与被搬运的基板的背面对置的腔的后壁内表面，防止从喷嘴体喷射后冲撞腔的壁内表面而反射的处理液与基板的背面接触。

Description

基板的处理装置 

技术领域

本发明涉及在以规定的角度倾斜的立起状态下搬运基板的同时用处理液或气体等流体进行处理的基板的处理装置。 

背景技术

在用于液晶显示装置的玻璃基板上形成电路图案，采用光刻工艺在基板上形成电路图案。众所周知，光刻工艺是在上述基板上涂敷抗蚀剂，对该抗蚀剂隔着形成有电路图案的掩膜照射光。 

接着，除去抗蚀剂的没照射光的部分或照射了光的部分，对基板的除去了抗蚀剂的部分进行蚀刻。并且，通过重复多次蚀刻后除去抗蚀剂的一连串的工序，在上述基板上形成电路图案。 

在这样的光刻工艺中，上述基板需要如下工序：用显影液、蚀刻液或蚀刻后除去抗蚀剂的剥离液等处理液处理基板的工序；再通过冲洗液清洗的工序；在清洗后用气体除去附着残留在基板上的冲洗液的干燥工序。 

过去，对基板进行上述的一连串处理的情况下，用水平配置轴线的搬运辊，将上述基板以大致水平的状态依次向分别进行各种处理的处理腔搬运，在各处理腔中利用处理液进行处理，或在处理后喷射压缩气体来进行干燥处理。 

但是，最近用于液晶显示装置的玻璃制基板有大型化及薄型化的倾向。因此，当水平搬运基板时，搬运辊之间的基板挠曲增大，因此，发生各处理腔中的处理不能在基板的板面整体上均匀进行的情况。 

而且，若基板大型化，设有搬运该基板的搬运辊的搬运轴变长。并且，通过基板大型化，供给到基板上的处理液增加，与基板上的处理液的量对应地施加在上述搬运轴上的载荷增大，所以由于这些情况而导致搬运轴的挠曲变大。因此，基板还由于搬运轴弯曲而产生挠曲，有时不能进行均匀的处理。 

因此，在用处理液处理基板时，为了防止上述基板因处理液的重量而弯曲，所以进行如下处理，即，以规定的倾斜角度、例如从垂直状态倾斜15度的75度角搬运基板，并向位于倾斜方向的上侧的前面喷射处理液，由此来处理该基板的前面。 

若倾斜搬运基板，并向该基板的前面喷射供给处理液，则处理液不停留在基板的板面上，在板面上从上方朝向下方顺滑地流动，因此，可以防止因处理液的重量导致基板弯曲。 

将基板以规定角度倾斜搬运的同时进行处理的处理装置的情况下，如专利文献1所示，在腔内设有对成为基板的倾斜方向下侧的背面进行支持的支持辊和支持下端的驱动辊。驱动辊安装在驱动轴上，该驱动轴通过驱动源被旋转驱动。 

在上述处理装置中，多个上述支持辊和上述驱动辊在上述基板的搬运方向上以规定间隔配置在腔内。因此，上述基板由上述支持辊支持背面的同时，下端被上述驱动辊驱动，向规定方向搬运。 

专利文献1：(日本)特开2004-210511号公报。 

但是，对于处理液的种类来说，为了提高其效果，从喷嘴体例如以0.7MPa左右的较高的压力向被搬运的基板前面喷射处理液。 

另一方面，在腔内，多个基板在前后方向隔开规定间隔被依次搬运。即，在腔内搬运的位于搬运方向下游侧的基板的后端和位于上游侧的基板的前端之间有间隙，在这样的搬运状态下，从上述喷嘴体连续喷射上述处理液。 

因此，从上述喷嘴体喷射的处理液不仅喷射在基板的前面，还通过前后方向一对的基板的前端和后端之间的间隙，与腔的后壁的内表面冲撞。 

与腔的后壁的内表面冲突的处理液，由其内表面反射而与被搬运的基板的背面接触。因此，由支持辊支持背面来搬运的基板，由于与其背面接触的处理液的作用而从支持辊上浮起。 

若基板从支持辊上浮起，则基板的搬运状态变得不稳定，在浮起较大的情况下，与形成在腔的端部壁的使基板通过的缝隙相撞或损伤基板，有怕不能搬运的顾虑。 

用处理液处理的基板进行如下处理，即，用冲洗液进行清洗，接着从去液刀(液切りナイフ)喷射气体将附着在基板的板面的处理液除去。在去液处理时，从去液刀喷射的气体与腔的后壁的内表面冲撞，由该内表面反射而与搬运的基板接触。因此，背面被支持辊支持并被搬运的基板，由于去液用的气体的作用有时也从支持辊上浮起。 

发明内容

本发明提供一种基板的处理装置，即使向基板喷射的处理液或气体等流体与腔的后壁内表面冲撞而反射，也难以与搬运该流体的基板的背面接触。 

本发明的基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运的同时用流体进行处理，其特征在于，具备：腔；支持辊，设在该腔内，并支持上述基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊，将被上述支持辊支持了背面的上述基板的下端，用该驱动辊的外周面进行支持，并且，该驱动辊被旋转驱动而将上述基板在规定方向上搬运；流体供给机构，向上述基板的倾斜方向上侧的前面喷射上述流体；及流体回流防止部件，设置在与被搬运的上述基板的背面对置的上述腔的后壁内表面，防止从上述流体供给机构喷射后冲撞上述腔的上述后壁内表面而反射的流体与上述基板的背面接触，上述流体回流防止部件包括：垂直壁部，前端朝向上述基 板的背面方向而设置在上述腔的后壁内表面；倾斜壁部，以规定角度倾斜设置在该垂直壁部的前端；及回流防止壁部，朝向上述后壁内表面而弯曲设置在该倾斜壁部的前端，阻止由该后壁内表面反射的流体朝向上述基板的背面飞散。 

根据该本发明，从喷嘴体喷射而与腔的后壁内表面冲撞的流体，通过流体回流防止部件阻止与基板的背面接触，因此，防止在腔内搬运的基板从支持辊上浮起。 

附图说明

图1是本发明的第一实施方式的处理装置的概略结构的斜视图。 

图2是设有上述处理装置的腔的纵截面图。 

图3是表示供液管与液体回流防止部件的配置关系的一个腔的纵截面图。 

图4是表示本发明的第二实施方式的供液管和液体回流防止部件的配置关系的、省略腔的局部的纵截面图。 

具体实施方式

以下，参照附图说明该发明的实施方式。 

图1至图4表示该发明的第一实施方式。图1是表示本发明的处理装置的概略结构的斜视图，该处理装置具有装置主体1。该装置主体1将被分割的多个处理单元、在该实施方式中为第一至第五处理单元1A～1E可分解地连结成一列而成。 

各处理单元1A～1E具有架台2。在该架台2的前面，箱状的腔3以规定的角度被倾斜保持。在上述架台2和腔3的上面设有上部搬运部4。在上述架台2的下端的宽度方向两端可分解地设有板状的一对脚体5(仅图示一方)。通过该脚体5，在上述架台2的下面侧形成空间部6。 

在上述空间部6中，收容将控制装置等设备7放置在框架8上的设备部9，上述控制装置用于控制在上述腔3中供给在如后述那样进行的基板W的处理中使用的药液或冲洗液等处理液的储液槽、泵、或者处理液的供 给。即，各处理单元1A～1E中，用脚体5支持架台2，在腔3的下方形成空间部6，从而分为位于上下方向的腔3、上部搬运部4及设备部9这三个部分。 

上述腔3以规定的角度即例如从垂直的状态倾斜15度的、即相对于水平面为75度的角度倾斜并保持在上述架台2上，在宽度方向的两侧面形成有缝隙13(图1中仅示出1个部位)，该缝隙13用于通过以75度的角度倾斜搬运的基板W。 

在上述腔3的内部，如图2和3所示，在腔3的宽度方向上以规定间隔设有构成倾斜搬运机构的多个搬运轴15。在该搬运轴15上沿轴向以规定间隔可旋转地设有多个支持辊14。上述搬运轴15的上端及下端分别由托架15a支持，以使上述搬运轴15的轴线与上述缝隙13以相同的角度倾斜。 

在上述腔3内，基板W从上述缝隙13通过图1的点划线所示的第一姿势变换部16从水平状态变换为75度的角度而搬入。即，未处理的基板W通过上述上部搬运部4从第五处理单元1E侧向第一处理单元1A侧搬运，由上述第一姿势变换部16从水平状态倾斜75度的角度，搬入上述第一处理单元1A。 

搬入第一处理单元1A的腔3内的基板W由设置在上述搬运轴15上的支持辊14支持非器件面即背面。该基板W的下端由驱动辊17(示于图2)的外周面支持。 

上述驱动辊17设置在驱动单元18的旋转轴19上。并且，通过该旋转轴19被旋转驱动，下端被驱动辊17支持、背面被上述支持辊14支持的上述基板W，在上述驱动辊17的旋转方向上被搬运。 

在搬运方向上游侧的第一至第三处理单元1A～1C，用作为处理液的剥离液去除基板W上的抗蚀剂后，在第四处理单元1D，利用作为处理液的冲洗液对基板W进行清洗处理。并且，在第五处理单元1E，利用热风等流体进行干燥处理。 

依次通过各处理单元1A～1E来处理的基板W，在以75度的角度倾斜的状态下从上述第五处理单元1E搬出。从第五处理单元1E搬出的基板W， 在图1的点划线所示的第二姿势变换部23，其姿势从倾斜状态变换为水平状态后移交到下一工序。 

如图2所示，上述驱动机构18具有沿着腔3的宽度方向(基板W的搬运方向)长的板状的下部底座部件24。在该下部底座部件24的上面，长度与下部底座部件24相同的腔状的上部底座部分25设置成固定两侧下端。 

在上述上部底座部件25上，大小与上述下部底座部件24大致相同的平板状的安装部件26的宽度方向的一端部和另一端部被连结设置成相对于上部底座部件25可调节倾斜度。即，上述安装部件26可以在腔3的前后方向调节倾斜角度。 

在上述安装部件26的宽度方向的一端和另一端，在上述安装部件26的长度方向，多个托架31以规定间隔分别设置在对应于宽度方向的位置。在宽度方向对应的一对托架31上，由未图示的轴承可旋转地支持着上述旋转轴19的轴方向的中途部。在该旋转轴19的前端安装有上述驱动辊17，在后端安装有第一齿轮33。 

并且，若将腔3设置在上述架台2上，则在该架台2上设置的支持部41的上面，通过螺钉42安装固定杆状的4根基准部件35的下端面。在上述驱动单元18中，下部底座部件24的四角部下面通过螺钉42安装固定在上述基准部件35的上端面。4根基准部件35的上端面位于同一平面上。因此，驱动单元18在其下部底座部件24的宽度方向及长度方向上不产生歪斜而被安装固定。 

在将基准部件35的上端部作为基准向腔3内组装上述驱动单元18时，被驱动单元18支持的多个旋转轴19的后端部，从开设在腔3的前壁12b上的导出孔44向驱动室45突出。并且，将驱动单元18组装在腔3内之后，上述第一齿轮33嵌合在上述旋转轴19的后端上。 

在上述驱动室45中设有驱动源51。在该驱动源15的输出轴上嵌合有驱动滑轮53。在该驱动滑轮53和从动滑轮54上拉紧设有带55。上述驱动滑轮54沿同轴设有未图示的第二齿轮。该第二齿轮与上述第一齿轮33啮 合。由此，若驱动源51动作，上述旋转轴19被旋转驱动，因此设在该旋转轴19的前端的上述驱动辊17也被旋转驱动。 

若驱动辊17被旋转驱动，由这些驱动辊17支持下端的基板W被向上述驱动辊17的旋转方向搬运。 

在向上述基板W的前面喷射剥离液进行抗蚀剂的去除的第一至第三处理单元1A～1C，在基板W的搬运方向上，以规定间隔设有作为供给管的多个供液管61，该多个供液管61与倾斜搬运的基板W的倾斜方向的上侧的面、即形成有电路图形的前面平行地隔开对置。 

在各供液管61中，在与上述基板W的搬运方向交差的轴线方向上以规定间隔设有多个喷嘴体62。上述供液管61和喷嘴体62形成该发明的处理液供给机构。 

在上述供液管61上以0.7MPa左右的较高的压力供给剥离液，由此，从设在供液管61上的喷嘴体62向上述基板W的前面以高压喷射上述处理液。 

基板W在上述各处理单元1A～1C的腔3内以规定间隔搬运，即，在位于搬运方向下游侧的基板W的后端和位于上游侧的基板W的前端之间，存在图3所示的间隙。因此，从上述喷嘴体62朝向基板W的前面喷射的处理液的一部分通过上述间隙G与腔3的后壁12c的内表面冲撞而反射。 

通过液体回流防止部件65，防止由腔3的后壁12c的内表面反射的处理液与在腔3内搬运的基板W的背面接触。上述液体回流防止部件65设置在上述腔3的后壁12c的内表面的、与位于上述基板W的搬运方向上的上游侧和下游侧的端部的各供液管61相对置的位置，即一方的液体回流防止部件65设置在比位于最上游侧的供液管61稍靠上游侧，另一方的液体回流防止部件65设置在比位于最下游侧的供液管61稍靠下游侧。 

如图2所示，上述液体回流防止部件65具有与基板W的高度尺寸大致相同的长度尺寸，如图3所示，截面形状由垂直壁部65a、倾斜壁部65b、回流防止壁部65c，形成为钩形状，其中垂直壁部65a将基端固定在上述后壁12c上来设置成大致垂直，倾斜壁部65b在该垂直壁部65a的前端以规 定的倾斜角度例如45度的角度倾斜设置，回流防止壁部65c在该倾斜壁部的前端朝向上述后壁12c的内表面，与上述垂直壁部65a平行地设置。 

并且，一对液体回流防止部件65使相互的回流防止壁部65c相对置，配置在上述腔3内的沿上述基板W的搬运方向的两端部，即如图3所示配置在腔3的宽度方向两端的端壁12a的附近。 

在比上述腔3的上部和下部的设有支持辊14的搬运轴15靠后壁12c侧的上下端部，设置未图示的配管或驱动系统的部件等。因此，上述液体回流防止部件65为了防止与配管或驱动系统的部件等相干扰，如图2所示，长度尺寸设定得比腔3的高度尺寸短。 

因此，在液体回流防止部件65的上端和腔3的顶壁内表面之间、以及下端和底壁内表面之间分别形成上部空间部66和下部空间部67。 

在位于上述腔3的宽度方向两端部的上述液体回流防止部件65的上端部和下端部，分别设有通过阻止部件68。图2表示在液体回流防止部件65的下端侧的下部空间部67所设置的通过阻止部件68，该通过阻止部件68的截面形状为大致L字形，其基端68a固定在上述腔3的端壁12a的内表面，中途部68b与上述腔3的后壁12c平行，与上述液体回流防止部件65的下端面卡合。并且，前端部68c向上述液体回流防止部件65的回流防止壁部65c侧突出，朝向上述后壁12c侧大致弯曲成直角。 

在上述液体回流防止部件65的上端侧的上部空间部66上，与下部空间部67同样地设有通过阻止部件68。 

设置在液体回流防止部件65的上端侧的通过阻止部件68、和设置在下端侧的通过阻止部件68分别设置在上述上部空间部66和上述下部空间部67的整个高度方向全长上。即，无间隙地设置在各空间部66、67的高度方向上。 

因此，通过了以规定间隔搬运的基板W的前后端之间的上述间隙G的处理液的一部分与腔3的后壁12c的内表面冲撞而反射后，即使通过形成在上述液体回流防止部件65的上下端的上部空间部66和下部空间部67， 通过了各空间部66、67的处理液与上下一对的通过阻止部件68的内表面冲撞，因此可以阻止朝向基板W的背面飞散。 

在这样构成的处理装置中，向第一至第三处理单元1A～1C的腔3内，以规定间隔依次搬入多个基板W。从设在供液管61的喷嘴体62，向搬入腔3内基板W的前面喷射处理液。因此，由处理液处理基板W的前面。 

从上述喷嘴体62喷射的处理液的一部分有可能通过以规定间隔搬运的基板W的前端和后端之间的间隙G(如图3所示)，与腔3的后壁12c的内表面冲撞，并由该内表面反射而与在腔3内搬运的基板W的背面接触。该情况下，基板W的背面从支持辊14上浮起，有搬运状态变得不稳定，或不能通过形成在腔3的宽度方向的两侧壁的缝隙13等的情况。 

但是，在腔3的后壁12c的内表面设有液体回流防止部件65。液体回流防止部件65由垂直壁部65a、倾斜壁部65b及回流防止壁部65c形成为钩形状。 

因此，从喷嘴体62喷射而与腔3的后壁12c内表面冲撞并由该内表面反射的处理液的一部分，如图3中箭头A、B所示，沿着由上述垂直壁部65a、倾斜壁部65b及回流防止壁部65c形成的钩形部分的内表面回绕流动，不会与在腔3内搬运的基板W的背面冲撞，因此，基板W的搬运状态不会变得不稳定。 

由一对液体回流防止部件65捕获而被阻止回流到基板W的背面的处理液是由腔3的后壁12c的内表面反射的处理液的一部分，残留的处理液有可能与基板W的背面冲撞。 

但是，即使由一对液体回流防止部件65捕获的处理液是一部分，由腔3的后壁12c的内表面反射而作用于基板W的处理液的力量被削弱，由此，可以防止破坏基板W的顺滑的搬运状态。 

上述液体回流防止部件65是具有以规定角度倾斜的倾斜壁部65b的钩形状。因此，从喷嘴体62喷射后通过了被搬运的基板W的前后端之间的间隙G的处理液即使与上述倾斜壁部65b的外表面冲撞，如图3中箭头C所示，也向与其倾斜角度对应的方向反射。因此，由上述倾斜壁部65b的 外表面反射的处理液几乎不回到基板W的内面，由此也难以破坏基板W的搬运状态。 

在上述液体回流防止部件65的上下端与腔3的顶壁内表面及底壁内表面之间，分别形成有上部空间部66和下部空间部67。因此，通过以规定间隔搬运的基板W的前后端之间的间隙G后，在腔3的后壁12c的内表面反射的处理液的一部分，有可能通过上述上部空间部66和下部空间部67，在腔3的端壁12a的内面反射后与基板W的背面接触。 

但是，在上述液体回流防止部件65的上下端分别设有通过阻止部件68，该通过阻止部件68阻止由腔3的后壁12c反射的处理液通过上部空间部66和下部空间部67。 

因此，如图3中箭头F所示，即使通过上述间隙G由腔3的后壁12c反射的处理液通过形成在上述液体回流防止部件65的上下端的上部空间部66和下部空间部67，也与设在各空间部66、67的通过阻止部件68的中间部68b的内表面冲撞，并朝向腔3的后壁12c侧反射。 

朝向腔3的后壁12侧反射的处理液在腔3的端壁12a的内面朝向后壁12c侧反射后，与后壁12c冲撞而衰减。 

因此，即使处理液通过形成在液体回流防止部件65的上下端的上部空间部66和下部空间部67，也利用通过阻止部件68阻止朝向基板W的背面反射，因此能够可靠地防止通过了各空间部66、67的处理液与基板W的背面冲撞。 

图4表示该发明的第二实施方式。该实施方式中，对应于一个供液管61，将2个液体回流防止部件65配置在与上述供液管61的两侧对应的位置，即配置在比供液管61稍靠上游侧和下游侧的位置。 

若这样配置液体回流防止部件65，则从一个供液管61的喷嘴体62喷射而在腔3的后壁12c的内面反射的处理液的大部分，如箭头D所示，由一对液体回流防止部件65捕获，被阻止由腔3的后壁12c的内表面反射而回到基板W的背面，因此，可以使基板W的搬运状态更加稳定。 

并且，虽未图示，但可以在图4所示的液体回流防止部件65的上下端，设置如第一实施方式所示的通过阻止部件68。 

本发明不仅可以适用于用剥离液处理基板的情况，还可以适用于用纯水等其它处理液进行处理的情况，并且，还可以适用于从喷嘴体喷射混合了气体和液体的混合流体的情况。并且，取代液体，在为了去除附着在基板上的液体而通过例如气刀等喷射去液用的气体的情况下，也可以适用本发明。重点在于，只要是液体或气体等的流体以高压向基板喷射的情况就可以适用。 

液体回流防止部件的上端和腔的顶壁内表面之间可以不设置配管等而空着。在这样的情况下，能够使液体回流防止部件的上端与腔的顶壁内表面接触，因此可以仅在液体回流防止部件的下端侧设置通过阻止部件。 

另外，在位于腔的宽度方向两端的端壁附近的液体回流防止部件的上下端设置通过阻止部件，但是，在腔的端壁附近以外的部位设置液体回流防止部件的情况下，可以在该液体回流防止部件的上下端或至少在下端设置通过阻止部件。 

Claims (5)

1.一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运的同时用流体进行处理，其特征在于，具备：

腔；

支持辊，设在该腔内，并支持上述基板的倾斜方向下侧的背面；

驱动辊，将被上述支持辊支持了背面的上述基板的下端，利用该驱动辊的外周面进行支持，并且，该驱动辊被旋转驱动而将上述基板在规定方向上搬运；

流体供给机构，向上述基板的倾斜方向上侧的前面喷射上述流体；及

流体回流防止部件，设置在与被搬运的上述基板的背面对置的上述腔的后壁内表面，防止从上述流体供给机构喷射后冲撞上述腔的上述后壁内表面而反射的流体与上述基板的背面接触，

上述流体回流防止部件包括：垂直壁部，前端朝向上述基板的背面方向而设置在上述腔的后壁内表面；倾斜壁部，以规定角度倾斜设置在该垂直壁部的前端；及回流防止壁部，朝向上述后壁内表面而弯曲设置在该倾斜壁部的前端，阻止由该后壁内表面反射的流体朝向上述基板的背面飞散。

2.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，上述流体回流防止部件的长度尺寸被设定成比上述腔的上下方向的尺寸短，在上述流体回流防止部件的上下端部中的至少下端部设置有通过阻止部件，该通过阻止部件防止与上述腔的上述后壁内表面冲撞而反射的流体通过上述流体回流防止部件的下端后与上述基板的背面接触。

3.如权利要求2所述的基板的处理装置，其特征在于，上述通过阻止部件设置在沿着上述基板的搬运方向的上述腔的端部。

4.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，上述流体供给机构沿着上述基板的搬运方向以规定间隔配置，由供给上述流体的多个供给管及设置在各供给管上的多个喷嘴体构成；

上述流体回流防止部件配置在与位于上述基板的搬运方向上游侧的端部和下游侧的端部的各供给管对应的位置。

5.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，上述流体供给机构由供给上述流体的供给管及设置在该供给管上的多个喷嘴体构成；

上述流体回流防止部件配置在与沿着上述基板的搬运方向的上述供给管的两侧对应的位置。

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