JP2010024042A - 基板の搬送装置及び処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】この発明は傾斜して搬送される基板の傾斜方向下端面を支持するガイドローラによって基板に欠けが生じるのを防止した搬送装置を提供することにある。
【解決手段】第１のアーム３７と第２のアーム３８が設けられたアーム体３５、第１のアームが基板の搬送方向の上流側に位置するようアーム体の基部を揺動可能に支持した支持体３２、第１のアームの先端部に設けられた第１のガイドローラ３９、第２のアームの先端部に設けられた第２のガイドローラ４０を有し、第１、第２のガイドローラによって基板の傾斜方向の下側の端面を支持して基板の搬送ローラによる搬送をガイドするガイド手段３１を具備し、第１のガイドローラが搬送される基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、アーム体は基板の搬送方向上流側に向かって揺動し、その状態で第２のガイドローラが基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、アーム体は基板の搬送方向下流側に揺動する。
【選択図】 図４

Description

この発明は基板を搬送方向と交差する方向に傾斜させて搬送する搬送装置及びこの搬送装置によって搬送される基板を処理液によって処理する処理装置に関する。

液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。

つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去してから、基板のレジストが除去された部分をエッチングし、エッチング後にレジストを除去するなどの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。

このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などによって基板を処理する工程、さらに処理液による処理後に洗浄液としての純水によって洗浄処理する工程があり、洗浄後には基板に付着残留した洗浄液を除去する乾燥工程が必要となる。

基板に対して剥離液や純水などの処理液によって上述した一連の処理を行う場合、従来は軸線を水平にして配置された搬送軸に搬送ローラを設け、この搬送ローラによって上記基板を水平な状態で処理チャンバ、洗浄チャンバ及び乾燥チャンバの順に搬送するようにしている。

ところで、最近では液晶表示装置などに用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなるため、各チャンバでの処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということが生じる。

しかも、基板の上面に多量の処理液が残留した状態で、基板が処理チャンバから搬出されることになるため、処理液を回収して再利用する場合、処理液の消費量が多くなり、ランニングコストの上昇を招く一因になっていた。

そこで、最近では基板を所定の角度で傾斜させて搬送し、基板の板面に供給された処理液を基板の上面から円滑に流れ落ちるようにしている。それによって、基板とともに処理チャンバから持ち出される処理液の量を少なくしたり、基板の板面全体を均一に処理できるようにしている。

基板を搬送方向と交差する方向に対して所定の角度で傾斜させて搬送する場合、搬送される基板は傾斜方向の下方へずれてしまうことになる。そこで、基板の傾斜方向下方の端面を基板の搬送方向に対して所定間隔で設けられたガイドローラで受け、搬送される基板が傾斜方向下方へずれるのを防止するようにしている。特許文献１には基板を傾斜させて搬送すること、及び基板の傾斜方向下方の端面を受けるガイドローラを設けることが示されている。

しかしながら、基板をガイドローラによって傾斜方向の下方へずれないようにガイドしても、基板が搬送ローラによってよって搬送されると、ずれや振動が生じるから、それによって基板の下端面が所定間隔で設けられたガイドローラ間で傾斜方向に対して上下方向に位置ずれすることがある。

基板の搬送方向の先端部の下端面が下方へずれた状態でその先端部が上記ガイドローラに当たると、上記基板の端面、とくに進行方向の先端部の端面に欠けが生じ易いということがある。そこで、特許文献１ではガイドローラを金属に代わって、たとえば超高分子ポリエチレン、ピーク樹脂或いはフッ素系樹脂などの合成樹脂によって形成し、基板の損傷を防止するようにしている。
特開２００５−２８６００１号公報

ガイドローラを上述した合成樹脂で形成すれば、搬送される基板の縁部がガイドローラに当たったとき、合成樹脂のもつ弾力性によって基板の先端部の下端面に欠けが生じるのを軽減することが可能となる。しかしながら、ガイドローラは搬送される基板の下端面を受ける高さに固定して配置されている。

そのため、ガイドローラを合成樹脂製としても、基板の下端面が下方に位置ずれした状態で搬送されてくると、その先端部の端面がガイドローラの外周面に強く当たる、つまり基板の先端部の端面が受ける衝撃が大きくなるから、そのときの衝撃によって基板の端面に欠けが生じ易いということがある。

しかも、固定的に配置されたガイドローラの外周面に基板の端面が強く当たると、基板の端面によってガイドローラの外周面が強く擦れられるから、ガイドローラが合成樹脂製の場合には早期に磨耗してしまうということがある。

この発明は、基板の下端面が傾斜方向下方に位置ずれしてガイドローラに当たったとき、ガイドローラが基板に与える衝撃を緩和して基板の端面に欠けが生じるのを防止することができるようにした基板の搬送装置及びその搬送装置を用いた処理装置を提供することにある。

この発明は、基板を搬送方向と交差する方向に傾斜させて搬送する搬送装置であって、
軸線を上記基板の搬送方向と交差する方向に傾斜させこの基板の搬送方向に対して所定間隔で配置された複数の搬送軸と、
各搬送軸の軸方向に所定間隔で設けられ上記基板を搬送方向と交差する方向に傾斜させて支持する複数の搬送ローラと、
上記搬送軸を回転駆動して上記基板を上記搬送ローラによって搬送させる駆動手段と、
第１のアームと第２のアームがＶ字状に設けられたアーム体、上記第１のアームが上記基板の搬送方向の上流側に位置するよう上記アーム体の基部を揺動可能に支持した支持体、上記第１のアームの先端部に設けられた第１のガイドローラ、上記第２のアームの先端部に設けられた第２のガイドローラを有し、上記第１、第２のガイドローラによって上記基板の傾斜方向の下側の端面を支持してこの基板の上記搬送ローラによる搬送をガイドするガイド手段を具備し、
上記ガイド手段は、上記第１のガイドローラが上記搬送ローラによって搬送される上記基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、その荷重によって上記アーム体は上記基板の搬送方向上流側に向かって揺動し、その状態で上記第２のガイドローラが上記基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、上記アーム体は上記第２のガイドローラを介して上記第２のアームに加わる荷重によって上記基板の搬送方向下流側に揺動することを特徴とする基板の搬送装置にある。

上記支持体に揺動可能に支持された上記アーム体は、上記第１のガイドローラと第２のガイドローラが基板の荷重を受けたときに、弾性部材を復元力に抗して弾性変形性させながら揺動することが好ましい。

上記第２のアームは上記第１のアームに比べて長尺に設定されていることが好ましい。

上記第１のガイドローラと第２のガイドローラは樹脂製であることが好ましい。

上記第１、第２のガイドローラは、ラジアル軸受及びこのラジアル軸受の外輪に樹脂製の接触輪が緩衝材を介して径方向に弾性的に変位可能に設けられていることが好ましい。

この発明は、基板を処理液によって処理する処理装置であって、
チャンバと、
上記基板を搬送方向と交差する方向に傾斜させて上記チャンバ内を搬送する搬送装置と、
この搬送装置によって上記チャンバ内を搬送される上記基板に向けて処理液を供給する処理液供給手段を具備し、
上記搬送装置は請求項１に記載された構成であることを特徴とする基板の処理装置にある。

この発明よれば、搬送される基板の先端部の端面が搬送方向上流側に位置する第１のガイドローラに当たると、アーム体が基板の搬送方向上流側に揺動して第１のガイドローラが下方へ変位することで、衝突時の衝撃を吸収し、ついで第２のガイドローラに当たると、アーム体は第２のガイドローラに加わる荷重によって基板の搬送方向下流側に向かって揺動して第２のガイドローラが下方へ変位することで、基板との衝突による衝撃を吸収する。

したがって、基板が位置ずれした状態で搬送されても、第１、第２のガイドローラによって基板の搬送方向先端部の傾斜方向下方の端面に欠けが生じるのを防止することができる。

以下、この発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。

図１乃至図７はこの発明の第１の実施の形態を示し、図１は基板Ｗの処理装置の概略的構成を示す縦断面図であって、この処理装置は箱型状の本体１を備えている。この本体１内は仕切板２によって処理チャンバ３、洗浄チャンバ４及び乾燥チャンバ５に区画されている。

各チャンバ３〜５内には、基板Ｗを搬送方向と交差する方向に対し、水平状態よりも所定の角度で傾斜させて搬送する搬送装置６が設けられている。上記本体１の一端面と他端面及び仕切り板２には同じ高さ位置に上記搬送装置６によって搬送される基板Ｗが通過する通口７が形成されている。なお、各チャンバ３〜５に設けられる搬送装置６は同じ構成であるので、以下、洗浄チャンバ４の搬送装置６についてだけ説明する。

すなわち、図２は洗浄チャンバ４の縦断面図であって、この洗浄チャンバ４の幅方向両端部には受け部材８が設けられている。これらの受け部材８には上記搬送装置６を構成するフレーム１１が支持されている。

上記フレーム１１の幅方向一端部は上記受け部材８に直接支持され、幅方向他端部は角度調整部材１０を介して支持されている。それによって、上記フレーム１１は上記幅方向に対して所定の角度、たとえば５〜１５度の範囲内の角度で傾斜している。なお、フレーム１１の傾斜角度は５〜１５度の範囲内に限定されず、それ以下であっても、それ以上であっても差し支えない。

上記フレーム１１には、フレーム１１の幅方向に軸線を沿わせた複数の搬送軸１２が幅方向と交差する基板Ｗの搬送方向に沿って所定間隔で配設されている。搬送軸１２には基板Ｗの下面を支持する複数の搬送ローラ１３が所定間隔で設けられている。各搬送軸１２の両端部は支持板１２１に設けられた軸受１２２（一端部だけを図３に示す）によって回転可能に支持されている。したがって、搬送ローラ１３に下面が支持される基板Ｗはフレーム１１と同じ角度で傾斜して搬送される。

図２に示すように、上記フレーム１１の傾斜方向の上端側に位置する幅方向一側の外面には、伝達軸１４が軸線を基板Ｗの搬送方向に沿わせて回転可能に架設されている。この伝達軸１４の中途部には従動歯車１５が設けられている。この従動歯車１５には駆動歯車１６が噛合している。この駆動歯車１６は洗浄チャンバ４の外部に設けられた駆動源１７の出力軸１８に嵌着されている。

詳細は図示しないが、上記搬送軸１２の上記伝達軸１４側に位置する一端部には第１のかさ歯車が設けられている。第１のかさ歯車には上記搬送軸１２に設けられた第２のかさ歯車が噛合している。したがって、上記駆動源１７が作動して上記駆動歯車１６及び従動歯車１５を介して上記伝達軸１４が回転されれば、上記第１、第２のかさ歯車を介して上記搬送軸１２が回転駆動される。それによって、搬送ローラ１３に支持された基板Ｗが搬送されるようになっている。

図１に示すように、処理チャンバ３内を搬送される基板Ｗの上方には、その基板Ｗの上面に現像液、エッチング液或いは剥離液などの処理液を噴射する複数の処理用ノズル２０が処理チャンバ３の幅方向及び幅方向と交差する方向に沿って規則的に配置されている。

処理チャンバ３で処理液によって所定の処理が行なわれた基板Ｗは搬送装置６によって洗浄チャンバ４に搬入される。洗浄チャンバ４内には、図２に示すように処理チャンバ４内を搬送される基板Ｗの上方に、基板Ｗの幅方向に沿う複数のノズルパイプ２１が基板Ｗの搬送方向に対して所定間隔で、しかも軸線を搬送装置６によって搬送される基板Ｗの上面と平行にして配置されている。この実施の形態では、図１に示すように４本のノズルパイプ２１が基板Ｗの搬送方向に対して所定間隔で配置されている。

各ノズルパイプ２１には複数の洗浄ノズル２２が所定間隔で設けられている。図１に示すように、洗浄チャンバ４内には洗浄ノズル２２が４列で設けられている。

上記ノズルパイプ２１はヘッダパイプ２３に連通管２４を介して接続されている。このヘッダパイプ２３は純水などの洗浄液の供給源（図示しない）に連通している。それによって、洗浄チャンバ４内を搬送される基板Ｗの上面には上記各列の複数の洗浄ノズル２２から洗浄液が噴射されるようになっている。

上記乾燥チャンバ５内には基板Ｗの上面と下面とに向かって加圧気体を噴射する一対のエアーナイフ２６が先端の噴射口を基板Ｗの搬送方向上流側に向けて配置されている。それによって、基板Ｗは乾燥チャンバ５内を搬送されることで、その上下面に付着した洗浄液が除去される、乾燥処理が行なわれる。

上記搬送装置６のフレーム１１内には、図３に示すように搬送軸１２の傾斜方向下端部に対応する位置に基板Ｗの傾斜方向下端面、つまり搬送方向と交差する幅方向の一端を支持して基板Ｗが搬送方向と交差する方向に対して位置ずれするのを防止する複数のガイド手段３１が基板Ｗの搬送方向に沿って所定間隔で設けられている。

上記ガイド手段３１は、図４に示すように支持体３２を有する。この支持体３２は帯板状のばね材によって中間辺部３３及びこの中間辺部３３の両端をほぼ直角に折曲して形成された弾性部材としての一対のトーションばね部３４を有する。そして、支持体３２は、その中間辺部３３の長手方向を上記基板Ｗの搬送方向に沿わせて上記フレーム１１に一体的に取付けられている。

なお、中間辺部３３とトーションばね部３４を一枚のばね材によって一体に形成したが、中間辺部３３とトーションばね部３４を別体にし、その中間辺部３３の両端にトーションばね部３４の下端を固着するようにしてもよい。

上記トーションばね部３４の上端はＬ字状に折曲されていて、一対のトーションばね部３４の上端にはアーム体３５の基部３５ａが取付け固定されている。この基部３５ａは、上記中間辺部３３の中途部から立設された支軸３６に支持され、この支軸３６を支点として上記トーションばね部３４を復元力に抗して弾性変形させながら左右方向に揺動可能となっている。

上記アーム体３５の基部３５ａからは、基部３５ａと一体に形成された第１のアーム３７と第２のアーム３８がＶ字状に延出されている。

第１のアーム３７は基板Ｗの搬送方向（図３に矢印Ｘで示す）の上流側に位置し、第２のアーム３８は下流側に位置している。上記第１のアーム３７の先端には第１のガイドローラ３９が設けられ、第２のアーム３８の先端には第２のガイドローラ４０が設けられている。

第１、第２のガイドローラ３９，４０は図４と図５に示すように内輪４１に外輪４２が球体４３によって回転可能に保持されていて、上記内輪４１が各アーム３７、３８の先端に立設された支軸４４に嵌合固定されている。

そして、上記搬送軸１２に設けられた搬送ローラ１３によって搬送される基板Ｗの傾斜方向下方の端面が上記各ガイドローラ３９，４０の外輪４２にガイドされるようになっている。

図５に示すように、上記第１のアーム３７の揺動の支点となる位置から第１のガイドローラ３９の中心までの長さ（距離）はａであって、第２のアーム３８の揺動の支点となる位置から第２のガイドローラ４０の中心までの長さ（距離）は第１のアーム３７の長さａに比べて長いｂに設定されている。

上記第１、第２のガイドローラ３９，４０の内輪４１と外輪４２は、金属製或いは樹脂製のいずれであってもよく、耐蝕性が要求される条件下で使用される場合などには、超高分子量ポリエチレン、ピーク樹脂或いはフッ素樹脂などの合成樹脂で形成されものを用いる方がよい。

このような構成において、基板Ｗが搬送装置６の搬送ローラ１３によって搬送方向と交差する方向に傾斜した状態で、それぞれのチャンバ３〜５内を搬送されるとき、基板Ｗの傾斜方向下方の端面は上記ガイド手段３１の第１、第２のガイドローラ３９，４０の外輪４２に当たってガイドされる。それによって、基板Ｗは傾斜方向下方にずれることなく位置決めされて搬送される。

搬送ローラ１３によって搬送される基板Ｗは、搬送方向と交差する上下方向に対して位置がずれることがある。たとえば、図６に鎖線で示すように下端面が正規の搬送高さＨ１に対してＨ２で示すように下方へ位置がずれることがある。図６では、高さＨ１の基板をＷ１で示し、高さＨ２の基板をＷ２で示す。

基板Ｗ２が傾斜方向下方に位置ずれが生じた状態で搬送されると、基板Ｗ２の搬送方向先端部の下方の端面が上記ガイド手段３１の第１のガイドローラ３９や第２のガイドローラ４０に当たる。それによって、基板Ｗ２の先端部の端面が衝撃を受けてその端面に欠けが生じる虞がある。

しかしながら、搬送ローラ１３によって搬送される基板Ｗ２の先端部の端面が上記ガイド手段３１の搬送方向上流側に位置する第１のアーム３７に設けられた第１のガイドローラ３９の外周面に当たって、この第１のガイドローラ３９に基板Ｗ２の重量が加わると、図６に矢印Ｒで示すように、アーム体３５は支軸３６を支点としてその基部３５ａに連結された一対のトーションばね部３４を捩じりながら基板Ｗ２の搬送方向上流側に向かって揺動する。つまり、基板Ｗ２の搬送方向先端部の下端面が第１のガイドローラ３９に当たると同時に、アーム体３５が揺動して第１のガイドローラ３９が下方へ変位する。

それによって、基板Ｗ２の下端面の先端部が第１のガイドローラ３９と衝突したときに受ける衝撃が緩和されると同時に、基板Ｗ２の下端面が第１のガイドローラ３９の外周面に乗り上げるから、基板Ｗ２の下端面の搬送方向の先端部が第１のガイドローラ３９との衝突によって欠けるのを防止することができる。

基板Ｗ２の下端縁の先端が第１のガイドローラ３９に当たってアーム体３５が図６に矢印Ｒで示す基板Ｗの搬送方向上流側に向かって揺動した後、基板Ｗ２がさらにＨ２の高さで搬送されると、その先端側の下端面は第２のアーム３８に設けられた第２のガイドローラ４０の外周面に当たる。このときの基板を図６にＷ３で示す。

基板Ｗ３の端面の先端部が第２のガイドローラ４０の外周面に当たると、基板Ｗの重量が第２のガイドローラ４０に加わる。それによって、アーム体３５は支軸３６を支点として図７に矢印Ｌで示す、先程とは逆方向である、基板Ｗ３の搬送方向下流側に向かって揺動して第２のガイドローラ４０を下方へ変位させる。

それによって、基板Ｗ３の下端面の先端部が第２のガイドローラ４０と衝突したときに受ける衝撃が緩和されると同時に、基板Ｗ３の下端面が第２のガイドローラ４０の外周面に乗り上げるから、基板Ｗ３の下端面の搬送方向の先端部が第２のガイドローラ４０との衝突によって欠けるのを防止することができる。このとき、基板Ｗ３の下端面は正規の高さＨ１となる。

上記第２のガイドローラ４０が設けられた第２のアーム３８の長さｂは、第１のガイドローラ３９が設けられた第１のアーム３７の長さａよりも長く設定されている。そのため、第１のガイドローラ３９と第２のガイドローラ４０に基板Ｗ３の荷重が同じ重量で加わるとすると、これらアーム３７、３８の長さの差によって第２のアーム３８に第１のアーム３７よりも大きな回転モーメントが発生することになる。

しかも、基板Ｗ２がアーム体３５を矢印Ｒ方向に揺動させたとき、アーム体３５が取付けられた一対のトーションばね部３４は復元力に抗して捩じられているから、アーム体３５が矢印Ｌ方向に揺動するとき、その揺動方向に一対のトーションばね部３４の復元力が作用する。

それによって、アーム体３５は上記回転モーメントと、トーションばね部３４の復元力との作用によって矢印Ｌ方向へ確実に揺動して、第２のガイドローラ４０を下方へ変位させ、第１のガイドローラ３９を上方へ変位させるから、基板Ｗ３は下端面がＨ２の高さからＨ１の高さ、つまり正規の搬送高さに補正されて搬送されることになる。

すなわち、基板Ｗを搬送方向と交差する方向に傾斜させて搬送するとき、基板Ｗの傾斜方向下側の端面を第１、第２のガイドローラ３９，４０によってガイドするようにしても、第１、第２のガイドローラ３９，４０を揺動可能なアーム体３５の第１のアーム３７と第２のアーム３８に設けるようにした。

そのため、基板Ｗの傾斜方向下方の端面の先端部が第１、第２のガイドローラ３９，４０に順次当たったとき、上記アーム体３５が揺動して衝突時の衝撃を吸収するから、基板Ｗの搬送方向先端部の端面に欠けが生じるようなことなく、基板Ｗを第１、第２のガイドローラ３９，４０によって位置ずれが生じないようガイドして搬送することができる。

しかも、基板Ｗの下端面の先端部が第１のガイドローラ３９及び第２のガイドローラ４０に当たったとき、これらガイドローラ３９，４０がアーム体３５とともに揺動するため、ガイドローラ３９，４０の外周面に基板Ｗの下端面が強く接触するのが防止される。そのため、ガイドローラ３９，４０を合成樹脂によって形成した場合、基板Ｗとの接触抵抗によって早期に磨耗するのを防止することができる。

図８と図９はこの発明の第２の実施の形態を示す。この実施の形態は第１、第２のガイドローラ３９、４０の外輪４２に、樹脂製或いは金属製の接触輪４６を弾性的に変形する緩衝材４７を介して上記外輪４２と一体的に設けるようにした。

上記緩衝材４７としては比較的軟質のゴムや樹脂、あるいは貼り合わされた樹脂製シート間に気体を介在させた、いわゆるエアクッション材などが用いられる。上記接触輪４６は図８に示すように断面形状がＬ字状となっていて、その内径寸法が外輪４２の外形寸法よりも大きくなっている。それによって、緩衝材４７が弾性変形したときに、径方向に確実に変位できるようになっている。

このような構成によれば、接触輪４６が緩衝材４７を介して上記外輪４２に一体的に設けられていることによって、第１のガイドローラ３９及び第２のガイドローラ４０に設けられた上記接触輪４６に基板Ｗの下端縁の先端が当たったとき、上記緩衝材４７が弾性変形して接触輪４６を径方向に変位させるため、この接触輪４６が緩衝作用を呈する。

それによって、基板Ｗの下端縁の先端が接触輪４６に当たったとき、その先端が接触輪４６から受ける衝撃が大幅に緩和されるから、基板Ｗの下端縁の先端に欠けが発生するのをさらに確実に防止することができる。

接触輪４６が設けられた第１、第２のガイドローラ３９，４０は第１の実施の形態に示されたアーム体３５の第１、第２のアーム３７、３８の先端部に取付けて基板Ｗの傾斜方向の下端面を受けるように設けてもよいが、アーム体３５に取付けずに基板Ｗの傾斜方向の下端面を受けるように設けてもよい。

上記第１の実施の形態において、支持体を帯板状のばね材で形成して弾性部材としての一対のトーションばね部を設け、このトーションばね部にアーム体を取付けることで、最初に揺動するとき、復元力に抗して揺動させるようにしたが、上記ばね体を支持する支軸に捩じりコイルばねを設け、この捩じりコイルばねの復元力に抗して上記アーム体を揺動させるようにしてもよく、弾性部材はアーム体が揺動するときに復元力に抗して変形させられるものであればよい。

この発明の第１の実施の形態を示す処理装置の縦断面図。 洗浄チャンバの縦断面図。 ガイド手段が配置された搬送軸の軸方向一端部を示す平面図。 ガイド手段の斜視図。 ガイド手段を構成するアーム体の平面図。 基板がガイド手段の第１のガイドローラに当たってから、第２のガイドローラに当たるときの説明図。 基板がガイド手段の第１のガイドローラと第２のガイドローラに乗り上げたときの説明図。 この発明の第２の実施の形態のガイドローラを示す平面図。 図８に示すガイドローラの縦段面図。

符号の説明

６…搬送装置、１２…搬送軸、１３…搬送ローラ、１７…駆動源（駆動手段）、３１…ガイド手段、３２…支持体、３４…トーションばね部、３５…アーム体、３６…支軸、３７…第１のアーム、３８…第２のアーム、３９…第１のガイドローラ、４０…第２のガイドローラ、４１…内輪、４２…外輪、４３…球体、４６…接触輪。

Claims (6)

1. 基板を搬送方向と交差する方向に傾斜させて搬送する搬送装置であって、
   軸線を上記基板の搬送方向と交差する方向に傾斜させこの基板の搬送方向に対して所定間隔で配置された複数の搬送軸と、
   各搬送軸の軸方向に所定間隔で設けられ上記基板を搬送方向と交差する方向に傾斜させて支持する複数の搬送ローラと、
   上記搬送軸を回転駆動して上記基板を上記搬送ローラによって搬送させる駆動手段と、
   第１のアームと第２のアームがＶ字状に設けられたアーム体、上記第１のアームが上記基板の搬送方向の上流側に位置するよう上記アーム体の基部を揺動可能に支持した支持体、上記第１のアームの先端部に設けられた第１のガイドローラ、上記第２のアームの先端部に設けられた第２のガイドローラを有し、上記第１、第２のガイドローラによって上記基板の傾斜方向の下側の端面を支持してこの基板の上記搬送ローラによる搬送をガイドするガイド手段を具備し、
   上記ガイド手段は、上記第１のガイドローラが上記搬送ローラによって搬送される上記基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、その荷重によって上記アーム体は上記基板の搬送方向上流側に向かって揺動し、その状態で上記第２のガイドローラが上記基板の搬送方向先端部の傾斜方向の下側の端面を受けたとき、上記アーム体は上記第２のガイドローラを介して上記第２のアームに加わる荷重によって上記基板の搬送方向下流側に揺動することを特徴とする基板の搬送装置。
2. 上記支持体に揺動可能に支持された上記アーム体は、上記第１のガイドローラと第２のガイドローラが基板の荷重を受けたときに、弾性部材を復元力に抗して弾性変形性させながら揺動することを特徴とする請求項１記載の基板の搬送装置。
3. 上記第２のアームは上記第１のアームに比べて長尺に設定されていることを特徴とする請求項１記載の基板の搬送装置。
4. 上記第１のガイドローラと第２のガイドローラは樹脂製であることを特徴とする請求項１記載の基板の搬送装置。
5. 上記第１、第２のガイドローラは、ラジアル軸受及びこのラジアル軸受の外輪に樹脂製の接触輪が緩衝材を介して径方向に弾性的に変位可能に設けられていることを特徴とする請求項１記載の基板の搬送装置。
6. 基板を処理液によって処理する処理装置であって、
   チャンバと、
   上記基板を搬送方向と交差する方向に傾斜させて上記チャンバ内を搬送する搬送装置と、
   この搬送装置によって上記チャンバ内を搬送される上記基板に向けて処理液を供給する処理液供給手段を具備し、
   上記搬送装置は請求項１に記載された構成であることを特徴とする基板の処理装置。

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