KR100956353B1 - 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비 - Google Patents

처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비 Download PDF

Info

Publication number
KR100956353B1
KR100956353B1 KR1020080052728A KR20080052728A KR100956353B1 KR 100956353 B1 KR100956353 B1 KR 100956353B1 KR 1020080052728 A KR1020080052728 A KR 1020080052728A KR 20080052728 A KR20080052728 A KR 20080052728A KR 100956353 B1 KR100956353 B1 KR 100956353B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nozzle
substrate
bracket
processing liquid
unit
Prior art date
Application number
KR1020080052728A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20090126576A (ko
Inventor
김정선
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020080052728A priority Critical patent/KR100956353B1/ko
Publication of KR20090126576A publication Critical patent/KR20090126576A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100956353B1 publication Critical patent/KR100956353B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
    • B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
    • B05B13/04—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work the spray heads being moved during spraying operation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

본 발명은 평판 디스플레이(flat panel display) 제조에 사용되는 기판 처리 설비에 관한 것이다. 본 발명에 따른 평판 디스플레이 제조를 위한 설비는 기판에 대한 처리 공정이 수행되는 챔버; 상기 챔버 내부에서 회전 가능하도록 배치되며, 기판을 지지하는 롤러들을 갖으며 서로 평행하게 배열되는 다수의 회전축들; 기판의 이송 방향과 수직한 방향으로 설치되며, 기판상으로 처리액을 분사하는 노즐; 상기 노즐의 양단에 노즐의 길이방향으로 이동 가능하게 각각 설치되며, 상기 챔버의 프레임에 고정되는 이동 브라켓들을 포함한다.
노즐, 브라켓, 디스플레이

Description

처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비{(TREATING-LIQUID INJECTION UNIT AND EQUIPMENT FOR TREATING SUBSTRATE WITH THE UNIT}
본 발명은 기판 처리를 위한 설비에 관한 것으로, 더 상세하게는 평판 디스플레이(flat panel display) 제조에 사용되는 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비에 관한 것이다.
최근 들어 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 디스플레이 장치로서 현재 주목받고 있는 것은 액정 디스플레이 장치, 유기 EL 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 평판 디스플레이 장치이다.
이와 같은 평판 디스플레이(FPD, Flat Panel Display) 장치를 제조하기 위해서는 기본적으로 평판 GLASS를 기판으로 사용하게 되며, 기판은 일련의 공정라인을 거치면서 처리된다. 즉, 감광제 도포(Photo resist coating: P/R), 노광(Expose), 현상(Develop), 부식(Etching), 박리(Stripping), 세정(Cleaning), 건조(Dry) 등의 과정을 거치게 된다.
이러한 일련의 기판 처리 공정은 통상적으로 기판을 이송시키는 기판 반송 유닛 및 그 기판 이송 경로상에 설치되는 처리액 분사 유닛과 연계되어 진행된다. 최근에는 평판 디스플레이 장치의 대형화(가로/세로의 폭이 1870 ~ 2200 ㎜인 7세대, 2160 ~ 2460 ㎜ 이상인 8, 10세대)로 인해 기판 또한 대형화되는 추세이기 때문에 기판의 상면으로 처리액을 분사하여 처리하는 과정에 있어 각별한 주의가 요구되고 있다.
따라서, 기판의 상면으로 처리액을 분사하는 처리액 분사 유닛에서 스프레이 노즐은 기판의 대형화에 따라 그 길이가 더 길어지게 된다. 스프레이 노즐의 길이가 길어지면, 스프레이 노즐의 자중으로 인해 노즐의 처짐 변형이 발생되어 기판으로 처리액을 동일 높이에서 분사할 수 없어 기판의 공정 불량률이 증가된다.
특히, 처리액 분사 유닛의 스프레이 노즐은 양단이 설비 프레임에 고정형으로 설치된다. 따라서, 기판이 한쪽으로 치우쳐서 반송되거나 또는 스프레이 노즐이 왼쪽으로 치우쳐서 세팅되는 경우, 기판의 오른쪽 가장자리 부분이 처리액 분사 장치의 노즐 분사 영역으로부터 벗어나게 되는 공정 결함이 발생하게 된다.
본 발명의 목적은 노즐의 위치 보정이 가능한 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비를 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 목적은 노즐 고정을 위한 구성들을 단순화하여 설치 공간을 확보할 수 있는 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비를 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 목적은 노즐의 처짐을 개선할 수 있는 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비를 제공하는데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 평판 디스플레이 제조에 사용되는 처리액 분사 유닛을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 본 발명의 처리액 분사 유닛은 기판의 이동 방향과 수직한 방향으로 설치되는 노즐; 상기 노즐의 양단에 노즐의 길이방향으로 이동 가능하게 각각 설치되며, 설비 프레임에 고정되는 이동 브라켓들을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 노즐은 상기 이동 브라켓이 이동 가능하도록 레일부를 갖는다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 레일부는 상기 노즐의 양단 상면에 설치되고, 상기 이동 브라켓이 슬라이드 방식으로 끼워지는 레일 블럭을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 노즐은 볼트에 의해 상기 이동 브라켓에 고정된다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 처리액 분사 유닛은 상기 노즐의 처짐이 방지하기 위한 처짐 방지 부재를 더 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 처짐 방지 부재는 상기 노즐의 중앙부근에 길이방향으로 이동가능하게 설치되는 중앙 브라켓; 상기 노즐의 상부에 길이 방향으로 설비 프레임에 고정되는 수평바; 및 상기 수평바와 상기 중앙 브라켓을 연결하여 지지하는 지지바를 포함한다.
본 발명은 평판 디스플레이 제조에 사용되는 기판 처리 설비를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 설비는 기판에 대한 처리 공정이 수행되는 챔버; 상기 챔버 내부에서 회전 가능하도록 배치되며, 기판을 지지하는 롤러들을 갖으며 서로 평행하게 배열되는 다수의 회전축들; 기판의 이송 방향과 수직한 방향으로 설치되며, 기판상으로 처리액을 분사하는 노즐; 상기 노즐의 양단에 노즐의 길이방향으로 이동 가능하게 각각 설치되며, 상기 챔버의 프레임에 고정되는 이동 브라켓들을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 노즐은 상기 이동 브라켓이 이동 가능하도록 레일부를 갖되; 상기 레일부는 상기 노즐의 양단 상면에 설치되는 그리고 상기 이동 브라켓이 슬라이드 가능하게 끼워지는 레일 블럭을 포함한다.
본 발명에 의하면, 기판의 위치에 맞춰 노즐의 위치를 조절할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면 노즐 형상의 단순화 및 처짐을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면 노즐 장착을 위한 부품을 줄여 챔버 내부의 공간 활용도를 높일 수 있다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 5b를 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발 명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
본 실시예에서 기판은 반도체 소자를 제조하기 위한 웨이퍼 또는 평판 디스플레이(flat panel display, 이하 'FPD') 소자를 제조하기 위한 것으로, FPD는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), FED(FieldEmission Display), ELD(Electro Luminescence Display) 일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비(1)는 유리 기판과 같은 평판형 기판 (10)에 대한 처리 공정, 예를 들면, 식각, 세정, 스트립, 현상, 린스 등과 같은 공정을 수행하기 위하여 바람직하게 사용될 수 있다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 기판(10)에 대한 처리 공정이 수행되는 공정 챔버(100)와, 기판(10)을 컨베이어 방식으로 이송하기 위한 기판 반송 유닛(200), 기판(10)으로 처리액을 공급하는 처리액 분사 유닛(300)을 포함할 수 있다.
기판 처리 공정은 공정 챔버(100) 또는 처리조 내에서 수행될 수 있다. 공정 챔버(100)는 예시적으로 도시된 것이며, 이와 유사한 공정 챔버들이 일렬로 배치될 수 있다. 예를 들면, 기판(10)이 공정 챔버(100)들을 통해 이송되는 동안 식각, 세정, 스트립, 현상 등과 같은 처리 공정과, 처리된 기판에 대한 세정 공정, 린스 공 정, 건조 공정 등이 순차적으로 수행될 수 있다. 공정 챔버(100)는 4개의 측벽(112a-112d)에 의해 이루어지며, 기판 처리가 이루어지는 처리 공간을 제공한다. 공정챔버(100)의 측벽(112a,112c)에는 기판이 들어오고 나가는 출입구(114)가 마련된다.
공정 챔버(100)에 설치되는 컨베이어 방식의 기판 반송 유닛(200)은 다수의 회전축들(202)과, 회전축들(202)에 장착되는 다수의 롤러들(204) 및 회전축들(202)에 회전력을 제공하는 구동부(206)를 포함할 수 있다. 회전축들(202)과 롤러들(204)은 기판(10)의 처리를 위한 챔버(100) 내에 배치되며, 구동부(206)는 챔버(100)의 외측에 배치될 수 있다.
회전축들(202)은 일 방향으로, 예를 들면, 기판(10)의 이송 방향을 따라 서로 평행하게 배열될 수 있으며, 각각의 회전축들(202)에는 다수의 롤러들(204)이 장착된다. 롤러들(204)의 장착 수량은 처리 또는 이송하고자 하는 기판(10)의 크기에 따라 변화될 수 있으며, 회전축(202)의 길이, 수량 및 롤러들(204)의 수량 등에 의해 본 발명의 범위가 한정되지는 않을 것이다.
각각의 회전축들(202)은 챔버(100) 내에 배치되는 제1 지지부재들(212)에 의해 수평 또는 다소의 경사도를 갖도록 배치될 수 있다. 구체적으로 각각의 회전축들(202)은 제1 지지부재들(212)을 관통하여 설치될 수 있으며, 제1 지지부재들(212)은 회전축들(202)의 원활한 회전을 위하여 다양한 형태의 베어링들을 포함할 수 있다. 구동부(206)는 챔버(100)의 측벽(112b)과 인접하여 배치되며, 회전력을 발생시키는 모터(216)와, 모터(216)의 회전력을 전달하기 위한 동력 전달 유 닛(218)과, 회전 속도 및 회전력을 조절하기 위한 감속기(미도시) 등을 포함할 수 있다. 상세히 도시되지는 않았으나, 모터(216)의 회전력은 상기 감속기 및 동력 전달 유닛(218)을 통하여 각각의 회전축들(202)에 전달될 수 있다. 예를 들면, 동력 전달 유닛(218)은 타이밍 벨트(220)와 다수의 풀리 또는 기어들의 조합에 의해 구현될 수 있다. 동력 전달 유닛(218)은 회전축들(202)에 회전력을 전달하기 위한 구동축들(224)을 포함하며, 구동축들(224)의 단부들과 회전축들(202)의 단부들은 챔버(100)의 측벽(112b)을 사이에 두고 서로 마주하여 배치되며, 단부들에는 비접촉 방식으로 회전력을 전달하기 위한 마그네틱(magnetic) 동력 전달 부재들(234)이 장착될 수 있다. 각각의 마그네틱 동력 전달 부재들(234)은 자체 중심에 대하여 방사상으로 배치되는 다수의 영구 자석들을 내장하고 있으며, 영구 자석들은 마그네틱 동력 전달 부재(234)의 원주 방향으로 극성이 변화되도록 배치된다. 상기와 같이 회전력은 모터(216)로부터 타이밍 벨트(220), 풀리 또는 기어들, 구동축들(224) 및 마그네틱 동력 전달 부재들(234)을 통해 회전축(202)으로 전달되며, 회전축(202)의 회전에 의해 롤러들(204) 상에 지지된 기판(10)의 이송이 가능하게 된다.
도 3은 처리액 분사 유닛의 사시도이고, 도 4는 처리액 분사 유닛의 분해 사시도이다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 처리액 분사 유닛(300)은 약액과, 공기(기체)를 공급하는 공급부(310)와, 공정 챔버(100) 내부에서 회전축들(204)과 평행하게 배치되며 약액과 공기를 혼합하여 얻어지는 혼합유체(처리액)를 기판(10) 상으로 공급하기 위한 이류체 노즐(이하 노즐이라고 함)들(320), 노즐(320)의 양단에 노즐의 길이방향으로 이동 가능하게 각각 설치되는 이동 브라켓(330)들 및 노즐의 처짐이 방지하기 위한 처짐 방지 부재(340)를 포함한다.
도면에 도시되어 있듯이, 노즐(320)은 이동 브라켓(330)에 의해 지지된 상태로 기판(10)이 이송되는 이송 경로상의 상측에 위치하여, 기판의 폭 전체를 한꺼번에 세정할 수 있도록 기판의 폭과 대략 동일한 길이 또는 이 보다 더 큰 길이를 가진다. 노즐(320)은 공급부(310)를 통해 제공받은 약액과 공기를 혼합하여 얻어지는 혼합유체(처리액)를 스프레이방식으로 기판상에 분사하는 다수의 노즐 팁(nozzle tip)(322)들을 포함한다. 또한, 노즐(320)은 이동 브라켓(330)이 길이방향으로 이동 가능하도록 결합되는 레일부(324)를 갖는다. 레일부(324)는 노즐의 양단 상면에 각각 설치되는 레일 블럭(326)을 포함하는데, 이 레일 블럭(326)은 노즐(320) 몸체 보다 폭이 넓다.
이동 브라켓(330)은 노즐(320)의 레일부(324)에 길이 방향으로 이동 가능하게 설치된다. 이동 브라켓(330)은 레일부(324)에 결합되는 슬라이드부분(332)과, 설비의 프레임에 볼트로 체결 고정되는 체결부분(338)으로 이루어지는데, 슬라이드부분(332)은 상판(333)과, 상판(333) 양단으로부터 절곡되어 레일 블럭(326)의 측면에 위치하는 측판(334) 그리고 측판(334)의 양단으로부터 안쪽으로 꺽여지는 절곡편(335)을 포함한다. 이동 브라켓(330)이 노즐(320)의 레일 블럭(326)에 결합된 상태는 도 3에 잘 도시되어 있다.
본 발명의 처리액 분사 유닛(300)은, 기판(10)의 이송 위치 또는 노즐(320)의 장착 위치가 일측으로 잘못 세팅되는 경우라도 노즐(320)이 이동 브라켓(330)상 에서 길이 방향으로 이동 가능하기 때문에, 작업자는 이동 브라켓(330)과 노즐(320)을 고정하고 있는 볼트를 풀고 노즐의 장착 위치를 보정하면 된다.
노즐의 장착 과정을 살펴보면, 우선 이동 브라켓(330)은 노즐(320)의 양단에 설치된 레일 블럭(326)에 결합된다. 이동 브라켓(330)은 노즐(320)의 레일 블럭(326)에 결합된 상태에서 설비 프레임(측벽 112b)에 볼트 체결로 고정된다. 그리고 노즐(320)이 기판 반송 유닛(200)에 의해 이송되는 기판상으로 처리액을 정확하게 분사할 수 있도록 노즐(320)의 위치를 조정한 다음, 볼트를 이용하여 이동 브라켓(330)에 노즐의 레일 블럭(326)을 고정시킨다.
도 5a 및 도 5b는 노즐의 위치 보정전과 보정후를 보여주는 도면이다.
도 5a에서와 같이, 공정을 수행하는 과정에서 기판(10)이 예정했던 경로로 이송되지 않고 한쪽으로 치우쳐서 이동되거나 또는 노즐(320)의 위치가 잘못 세팅된 경우에는 처리액의 기판에 균일하게 분사되지 않는다. 하지만, 이러한 문제가 발생되더라도 본 발명의 처리액 분사 유닛(300)은 노즐(320)의 위치를 조정할 수 있기 때문에, 이동 브라켓(330)과 레일 블럭(326)을 고정하고 있는 볼트를 풀고, 도 5b에서와 같이 노즐(320)의 위치를 다시 재조정하면 된다.
한편, 처리액 분사 유닛(300)의 처짐 방지 부재(340)는 노즐(320)의 처짐 변형을 예방하기 위한 것이다. 기판(10)의 상면으로 처리액을 분사하는 처리액 분사 유닛에서 노즐(320)은 기판(10)의 대형화에 따라 그 길이가 더 길어지게 된다. 노즐(320)의 길이가 길어지면, 노즐(320)의 자중으로 인해 노즐의 처짐 변형이 발생될 수 있고 기판으로 처리액을 동일 높이에서 분사할 수 없어 기판의 공정 불량률 이 증가하게 된다. 이러한 문제를 방지하기 위해 본 발명에서는 처짐 방지 부재(340)를 구현하였다.
처짐 방지 부재(340)는 노즐(320)의 중앙부근에 길이방향으로 이동가능하게 설치되는 중앙 브라켓(342)과, 노즐(320)의 상부에 길이 방향으로 설비 프레임(챔버에 해당)에 고정되는 수평바(344) 및 수평바(344)와 중앙 브라켓(342)을 연결하여 지지하는 지지바(346)를 포함한다. 중앙 브라켓(342)은 이동 브라켓(330)과 마찬가지로 노즐(320)의 중앙부근에 설치되는 새로운 레일 블럭(326)에 길이방향으로 이동 가능하게 설치된다. 물론, 그 이동 간격은 레일 블럭(326)의 길이에 한정될 수 있다. 이처럼, 본 발명의 처리액 분사 유닛(300)은 노즐(320)의 길이가 길어지더라도 노즐의 처짐 변형을 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비의 평면 구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비의 측단면도이다.
도 3은 처리액 분사 유닛의 사시도이다.
도 4는 처리액 분사 유닛의 분해 사시도이다.
도 5a 및도 5b는 노즐의 위치 보정전과 보정후를 보여주는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 공정 챔버
200 : 기판 반송 유닛
300 : 처리액 분사 유닛

Claims (8)

  1. 평판 디스플레이 제조를 위한 처리액 분사 유닛에 있어서:
    기판의 이동 방향과 수직한 방향으로 설치되는 노즐;
    상기 노즐의 양단에 노즐의 길이방향으로 이동 가능하게 각각 설치되며, 설비 프레임에 고정되는 이동 브라켓들을 포함하되;
    상기 노즐은
    양단 상면에 설치되고, 상기 이동 브라켓이 슬라이드 방식으로 끼워지는 레일 블럭을 포함하는 레일부를 갖는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 제조를 위한 처리액 분사 유닛.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 노즐은 볼트에 의해 상기 이동 브라켓에 고정되는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 제조를 위한 처리액 분사 유닛.
  5. 제1항 또는 제4항에 있어서,
    상기 평판 디스플레이 제조를 위한 처리액 분사 유닛은
    상기 노즐의 처짐을 방지하기 위한 처짐 방지 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 제조를 위한 처리액 분사 유닛.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 처짐 방지 부재는
    상기 노즐의 중앙부근에 길이방향으로 이동가능하게 설치되는 중앙 브라켓;
    상기 노즐의 상부에 길이 방향으로 설비 프레임에 고정되는 수평바; 및
    상기 수평바와 상기 중앙 브라켓을 연결하여 지지하는 지지바를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 제조를 위한 처리액 분사 유닛.
  7. 기판 처리 설비에 있어서:
    기판에 대한 처리 공정이 수행되는 챔버;
    상기 챔버 내부에서 회전 가능하도록 배치되며, 기판을 지지하는 롤러들을 갖으며 서로 평행하게 배열되는 다수의 회전축들;
    기판의 이송 방향과 수직한 방향으로 설치되며, 기판상으로 처리액을 분사하는 노즐;
    상기 노즐의 양단에 노즐의 길이방향으로 이동 가능하게 각각 설치되며, 상기 챔버의 프레임에 고정되는 이동 브라켓들을 포함하되;
    상기 노즐은 상기 이동 브라켓이 이동 가능하도록 레일부를 갖되;
    상기 레일부는 상기 노즐의 양단 상면에 설치되는 그리고 상기 이동 브라켓이 슬라이드 가능하게 끼워지는 레일 블럭을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  8. 삭제
KR1020080052728A 2008-06-04 2008-06-04 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비 KR100956353B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080052728A KR100956353B1 (ko) 2008-06-04 2008-06-04 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080052728A KR100956353B1 (ko) 2008-06-04 2008-06-04 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090126576A KR20090126576A (ko) 2009-12-09
KR100956353B1 true KR100956353B1 (ko) 2010-05-07

Family

ID=41687673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080052728A KR100956353B1 (ko) 2008-06-04 2008-06-04 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100956353B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070087716A (ko) * 2005-07-07 2007-08-29 세메스 주식회사 유체 분사 노즐 어셈블리

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070087716A (ko) * 2005-07-07 2007-08-29 세메스 주식회사 유체 분사 노즐 어셈블리

Also Published As

Publication number Publication date
KR20090126576A (ko) 2009-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI421973B (zh) 基板處理裝置
JP4829710B2 (ja) 基板の処理装置
KR101084672B1 (ko) 와이어 연결형 롤러를 이용한 이송유닛
KR20100055786A (ko) 기판 세정 모듈 및 이를 갖는 기판 처리 장치
TWI453848B (zh) 基板處理裝置
KR20060113430A (ko) 기판 반송 장치
KR100978852B1 (ko) 기판 반송 장치 및 그 방법 그리고 그 장치를 갖는 기판제조 설비
KR100956353B1 (ko) 처리액 분사 유닛 및 그 유닛을 갖는 기판 처리 설비
KR20060051344A (ko) 기판의 처리 장치
KR100525927B1 (ko) 액정 디스플레이 장치용 기판 처리 장치
JP4696165B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
KR100795904B1 (ko) 기판 이송 장치
KR101071268B1 (ko) 기판 이송 장치
KR20080079929A (ko) 에어 나이프 및 이를 구비하는 기판 건조 장치
KR101043712B1 (ko) 기판 이송 유닛 및 이를 구비한 기판 처리 장치
KR101097932B1 (ko) 약액 분사 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치
KR102201882B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR102278073B1 (ko) 기판 처리 장치
KR102624822B1 (ko) 석출물 제거를 위한 분사 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
KR102056857B1 (ko) 셔틀 및 이를 가지는 기판처리장치
KR20150090492A (ko) 반송유닛 및 이를 가지는 기판처리장치
KR20060070118A (ko) 디스플레이장치용 기판 세정 장치
KR20080079893A (ko) 기판 처리 장치
KR20110062536A (ko) 기판 반송 컨베이어 장치 및 기판 처리 장치
KR20100059431A (ko) 기판이송장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130419

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee