JP4976188B2 - 基板の処理装置 - Google Patents
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Description
上記基板を水平方向に対して直線的に往復搬送する搬送手段と、
未処理の基板を供給するローダ部と、
このローダ部から供給されて上記搬送手段によって搬送された未処理の基板を処理液によって洗浄処理する洗浄処理部と、
未処理の基板が上記搬送手段によって上記洗浄処理部に供給される前にその基板を処理液によって湿潤させるとともに、上記洗浄処理部から搬出される上記基板に対しては上記処理液を供給しない湿潤処理部と、
上記洗浄処理部で処理された上記基板を上記搬送手段によって搬出するときにその基板に気体を噴射して乾燥処理する乾燥処理部と
この乾燥処理部で処理された基板を格納するアンローダ部と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置にある。
図1はこの発明の一実施の形態を示す処理装置の概略的構成図であって、この処理装置は受け渡し部1を有する。この受け渡し部1の一側の一端部にはローダ部2、他端部にはアンローダ部3が対向して配置されている。ローダ部2には未処理の基板Wが収容されたストッカS1が設けられ、アンローダ部3には後述するごとく処理された基板Wを格納するストッカS2が設けられている。
なお、アクアナイフ21は上記洗浄処理部11に搬入される基板Wに対して処理液を噴霧し、洗浄処理部11から搬出される基板Wに対して処理液を噴霧することはない。
Claims (4)
- 基板を処理液によって処理する処理装置であって、
上記基板を水平方向に対して直線的に往復搬送する搬送手段と、
未処理の基板を供給するローダ部と、
このローダ部から供給されて上記搬送手段によって搬送された未処理の基板を処理液によって洗浄処理する洗浄処理部と、
未処理の基板が上記搬送手段によって上記洗浄処理部に供給される前にその基板を処理液によって湿潤させるとともに、上記洗浄処理部から搬出される上記基板に対しては上記処理液を供給しない湿潤処理部と、
上記洗浄処理部で処理された上記基板を上記搬送手段によって搬出するときにその基板に気体を噴射して乾燥処理する乾燥処理部と
この乾燥処理部で処理された基板を格納するアンローダ部と
を具備したことを特徴とする基板の処理装置。 - 上記ローダ部の未処理の基板を上記搬送手段に受け渡すとともに、上記洗浄処理部で洗浄処理されて上記搬送手段によって搬送されてきた基板を上記アンローダ部に格納する受け渡し部を有することを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
- 上記洗浄処理部で処理された基板をドライ雰囲気下で処理するドライ処理部を有し、上記受け渡し部は上記洗浄処理部で処理された基板を上記アンローダ部に格納する前に、上記ドライ処理部に供給することを特徴とする請求項2記載の基板の処理装置。
- 上記搬送手段はローラコンベアであって、上記洗浄処理部は上記ローラコンベアによって搬送されてきた基板を保持して回転駆動される支持体を有することを特徴とする請求項1記載の基板の処理装置。
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