JPH10312065A - 液晶カラーフィルタ基板現像装置 - Google Patents

液晶カラーフィルタ基板現像装置

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JPH10312065A
JPH10312065A JP9121979A JP12197997A JPH10312065A JP H10312065 A JPH10312065 A JP H10312065A JP 9121979 A JP9121979 A JP 9121979A JP 12197997 A JP12197997 A JP 12197997A JP H10312065 A JPH10312065 A JP H10312065A
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JP
Japan
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color filter
filter substrate
liquid crystal
crystal color
developing
Prior art date
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Withdrawn
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JP9121979A
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English (en)
Inventor
Takashi Koike
孝誌 小池
Hiroshi Nagate
弘 長手
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NTN Corp
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
NTN Corp
NTN Toyo Bearing Co Ltd
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型化した液晶カラーフィルタ基板の現像装
置を提供する。 【解決手段】 カラーフィルタ基板1を搬送ローラ2の
回転により現像槽3に移動させ、現像槽3内でスプレー
ノズル4から現像液を噴射させ、突き上げピン5により
カラーフィルタ基板1の中心部を押し上げて現像液が澱
むのをなくし、回転ドレイン6を回転して現像槽3を排
水タンク8に接続し、スプレーノズル4および裏面洗浄
ノズル9から純水を噴射してカラーフィルタ基板1と現
像槽3を水洗し、搬送ローラ2を逆に回転してカラーフ
ィルタ基板1が水切り用エアーナイフ10を通過して元
の位置に戻す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は液晶カラーフィル
タ基板現像装置に関し、特に、液晶カラーフィルタ基板
の製造工程で、露光後に現像を行なうような現像装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】液晶カラーフィルタ基板には、R,G,
Bの画素を作る工程で、マスク露光がある場合には、露
光後に余分な着色層を除去するために現像が行なわれ
る。ここで使用する現像装置としては、現像,洗浄,水
切りなどの工程を1工程ずつライン上に配置した現像装
置を使用している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のような現像装置
は、現像の1工程ごとに連続して槽が配置されるために
装置のライン長が長くなってしまう傾向があった。特
に、現像時に数種類の現像液を使用する場合には、さら
にライン長が長くなり、現像装置の設置面積が増大する
という問題点があった。
【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、小
型化を図った液晶カラーフィルタ基板現像装置を提供す
ることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
液晶カラーフィルタ基板を現像するための現像装置にお
いて、液晶カラーフィルタ基板を搬送するための搬送部
と、搬送されてきた液晶カラーフィルタ基板の現像と洗
浄とを共通して行なう現像槽と、現像槽の上方から液晶
カラーフィルタ基板に対して現像液と純水とを切替えて
噴射するためのスプレーノズルと、液晶カラーフィルタ
基板の下方から純水を噴射して裏面を洗浄するための洗
浄ノズルと、液晶カラーフィルタ基板に付着した水分を
吹き飛ばす空気吹付け部と、複数の現像液と純水を切替
えてスプレーノズルに供給するための切替機構とを備え
て構成される。
【0006】請求項2に係る発明では、請求項1の現像
槽は1槽のみ設けられ、1槽の現像槽で複数液による現
像と水洗を行なう。
【0007】請求項3に係る発明では、液晶カラーフィ
ルタ基板を固定した状態で複数液による現像と水洗を行
なう。
【0008】請求項4に係る発明では、移動または回転
可能にドレインを設け、このドレインによって複数の現
像液を循環させる。
【0009】請求項5に係る発明では、現像槽内におい
て液晶カラーフィルタ基板の中央部を突き上げて液の流
れを作る。
【0010】請求項6に係る発明では、スプレーノズル
は1本の充角錐ノズルからなる。
【0011】
【発明の実施の形態】図1はこの発明の一実施形態の現
像装置のレイアウトを示す図である。図1において、現
像するカラーフィルタ基板1は装置の搬送ローラ2の上
に手動またはローダにて置かれる。カラーフィルタ基板
1は搬送ローラ2の回転により現像槽3の方に移動す
る。現像槽3の上部にはスプレーノズル4が設けられて
いて、ここから現像液と純水が切替えられてカラーフィ
ルタ基板1の表面に噴射される。現像槽3内の搬送ロー
ラ2の間には突き上げピン5が設けられていて、この突
き上げピン5によってカラーフィルタ基板1の中心部が
少し押し上げられ、現像液と純水が澱むことなく、カラ
ーフィルタ基板1の中心から外側への流れが作られる。
【0012】現像液は現像槽3から回転ドレイン6を経
由して現像液タンク7に戻されて循環する。現像液の噴
射が終了すると、回転ドレイン6を回転して現像槽3を
排水タンク8に接続し、スプレーノズル4およびカラー
フィルタ基板1の裏側に設けられている裏面洗浄ノズル
9から純水が噴射されて、カラーフィルタ基板1および
現像槽3が水洗される。水洗完了後、搬送ローラ2が回
転し、カラーフィルタ基板1が水切り用エアーナイフ1
0を通過して再びカラーフィルタ基板1を置いた位置に
戻る。現像液が数種類ある場合は、現像と水洗を繰返せ
ばよい。この時、現像液ごとに現像液タンクを用意して
回転ドレイン6を介して現像液が循環するようにすれば
よい。
【0013】図2はこの発明の一実施形態の現像装置を
ラインに組込んだ場合のレイアウト配置図である。前述
の図1に示した実施形態では、カラーフィルタ基板1の
投入口と現像終了後の出口を同じ側に設けたが、この実
施形態では、カラーフィルタ基板1の投入口と現像終了
後の出口とを別にしたものである。このために、水切り
用エアーナイフ10はカラーフィルタ基板1の投入口と
は反対側に設けられる。このように構成することによっ
て、現像終了後のカラーフィルタ基板を他の装置に連続
して流せるようになる。
【0014】図3はこの発明の一実施形態における現像
液と純水の経路を示す図である。図3に示した実施形態
では、3種類の現像液A,B,Cを使用する場合を示し
ている。現像液Aは現像液タンク7a,現像液Bは現像
液タンク7b,現像液Cは現像液タンク7cに入ってい
る。現像時間は現像液の温度に左右されるため、各現像
液タンク7a,7b,7cに入っている現像液はヒータ
11a,11b,11cと温度調節器12a,12b,
12cによって温度管理されている。
【0015】現像液Aをスプレーノズル4から噴射させ
る場合、まず回転ドレイン6を現像液タンク7aに合わ
せ、弁13aを開いてポンプ14aを駆動する。現像液
Aは逆止め弁15a,フィルタ16a,弁13a,絞り
弁17a,逆止め弁18aを通ってスプレーノズル4か
ら噴射される。現像液Aは現像槽3から回転ドレイン6
を経由して現像液タンク7aに戻されて再循環する。現
像液Aによる現像が終了した場合、ポンプ14aを停止
後、弁13aを閉じて現像液Aの噴射を停止する。
【0016】噴射停止後、スプレーノズル4内の残り液
をクリーンエアーで吐き出す。弁13dを開いている
間、クリーンエアーは、フィルタ16d,レギュレータ
19d,弁13d,絞り弁17d,逆止め弁18dを通
って逆止め弁18とスプレーノズル4間に流れ、残った
現像液Aがスプレーノズル4から吹き飛ばされる。
【0017】次に、回転ドレイン6を排水タンク8に合
わせてから弁13eを開く。すると、純水がフィルタ1
6e,レギュレータ19e,弁13e,絞り弁17e,
逆止め弁18eを通ってスプレーノズル4から噴射され
る。これでカラーフィルタ基板1と現像槽3に付着した
現像液Aを純水で洗浄する。
【0018】また、これと同時に弁13fを開く。する
と、純水はフィルタ16e,レギュレータ19f,弁1
3f,絞り弁17fを通って裏面洗浄ノズル9から吹き
出し、カラーフィルタ基板1の裏面も洗浄される。洗浄
水は回転ドレイン6から排水タンク8を介して排水とし
て処理される。純水をスプレーノズル4から噴射するこ
とにより、逆止め弁18とスプレーノズル4間に付着し
た現像液Aも除去される。弁13eおよび弁13fを閉
じて純水を止め、弁13dを開いてクリーンエアーを逆
止め弁18とスプレーノズル4間に導き、この中の水分
を吹き飛ばす。この操作で他の現像液を噴射できる状態
になる。
【0019】この後、同様に現像液B,純水,現像液
C,純水を噴射して現像が完了する。現像が終了する
と、搬送ローラ2が逆転してカラーフィルタ基板1は水
切り用エアーナイフ10を介して水分を除去し、元の場
所に戻る。
【0020】上述のごとく、この発明の一実施形態の現
像装置を使用すれば、現像液が混合することなく、最小
の設置場所で現像することが可能となる。また、現像液
を循環して使用するため、洗浄,蒸発などによって減少
した分の現像液を補充するだけでよく、従来のものと比
べて現像液の使用量もあまり変わらない。
【0021】なお、大型カラーフィルタ基板に現像液を
噴射する場合、通常は複数のスプレーノズル(充円錐ノ
ズル等)が使用される。
【0022】図4はスプレーノズルとして複数本の充円
錐ノズルを用いた場合のスプレーパターンを示す図であ
る。1つの充円錐ノズルのスプレーパターンは円形で流
量分布は均等であるが、図4(a)のようにカラーフィ
ルタ1の上面から複数本の充円錐ノズルで噴射すると、
それぞれのスプレーが重なった部分の流量は多くなる。
また、図4(b)に示すように隙間が発生した場合には
現像液が直接当たらない部分が生じる。これらの場合に
は現像むらになりやすいという問題がある。
【0023】図5はスプレーノズルとして1本の充角錐
ノズルを用いた場合のスプレーパターンを示す図であ
る。図5のように1本の充角錐ノズルを用いて大量の現
像液を噴射すると、スプレーパターンが正方形で均等な
流量分布となるため、カラーフィルタ1の上面は均等に
スプレーされる。その結果、現像むらが生じるのを防止
できる。
【0024】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、1つ
の現像槽でカラーフィルタ基板の現像と洗浄とを行なう
ようにしたので、現像装置の小型化が容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態のレイアウト配置図であ
る。
【図2】この発明の一実施形態をラインに組込む場合の
レイアウト配置図である。
【図3】現像液と純水の経路を示す図である。
【図4】スプレーノズルとして複数本の充円錐ノズルを
用いた場合のスプレーパターンを示す。
【図5】スプレーノズルとして1本の充角錐ノズルを用
いた場合のスプレーパターンを示す図である。
【符号の説明】
1 カラーフィルタ基板 2 搬送ローラ 3 現像槽 4 スプレーノズル 5 突き上げピン 6 回転ドレイン 7,7a,7b,7c 現像液タンク 8 排水タンク 9 裏面洗浄ノズル 10 水切り用エアーナイフ 11a〜11c ヒータ 12a〜12c 温度調節器 13a〜13g 弁 14a〜14c ポンプ 15a〜15c 逆止め弁 16a〜16e フィルタ 17a〜17g 絞り弁 18a〜18c 逆止め弁 19d〜19f レギュレータ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶カラーフィルタ基板を現像するため
    の現像装置において、 前記液晶カラーフィルタ基板を搬送するための搬送部
    と、 前記搬送部によって搬送されてきた前記液晶カラーフィ
    ルタ基板の現像と洗浄とを共通に行なう現像槽と、 前記現像槽の上方から前記液晶カラーフィルタ基板に対
    して現像液と純水とを切替えて噴射するためのスプレー
    ノズルと、 前記現像槽での液晶カラーフィルタ基板の下方から純水
    を噴射して該液晶カラーフィルタ基板の裏面を洗浄する
    ための洗浄ノズルと、 前記液晶カラーフィルタ基板に付着した水分を吹き飛ば
    す空気吹付け部と、 複数の現像液と純水とを切替えて前記スプレーノズルに
    供給するための切替機構とを備えたことを特徴とする、
    液晶カラーフィルタ基板現像装置。
  2. 【請求項2】 前記現像槽は、1槽のみ設けられ、該1
    槽の現像槽で複数液による現像と水洗を行なうことを特
    徴とする、請求項1の液晶カラーフィルタ基板現像装
    置。
  3. 【請求項3】 さらに、前記液晶カラーフィルタ基板を
    固定した状態で前記複数液による現像と水洗を行なうこ
    とを特徴とする、請求項2の液晶カラーフィルタ基板現
    像装置。
  4. 【請求項4】 さらに、移動または回転可能に設けら
    れ、前記複数の現像液を循環させるためのドレインを含
    む、請求項1〜3のいずれかの液晶カラーフィルタ基板
    現像装置。
  5. 【請求項5】 前記現像槽内において前記液晶カラーフ
    ィルタ基板の中央部を突き上げて液の流れを作るための
    突き上げ部材を含む、請求項1〜4のいずれかの液晶カ
    ラーフィルタ基板現像装置。
  6. 【請求項6】 前記スプレーノズルは、1本の充角錐ノ
    ズルからなることを特徴とする、請求項1の液晶カラー
    フィルタ基板現像装置。
JP9121979A 1997-05-13 1997-05-13 液晶カラーフィルタ基板現像装置 Withdrawn JPH10312065A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008268284A (ja) * 2007-04-16 2008-11-06 Shibaura Mechatronics Corp 基板の処理装置
CN100451843C (zh) * 2000-01-21 2009-01-14 友达光电股份有限公司 液体喷洒装置

Cited By (3)

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Effective date: 20040803