KR101151777B1 - 습식 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 세정 단계에서 프리 웨팅을 실시하여 세정 불량을 미연에 방지하여, PR과 같은 패턴이 형성된 기판에 물얼룩이 발생하지 않는 습식 세정 장치에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은, 기판 표면에 액체를 분사하여 프리 웨팅을 실시하는아쿠아 나이프와, 상기 프리 웨팅된 기판에 세정액을 분사하여 기판의 표면을 세정하는 세정유닛을 구비한 습식 세정 장치를 제공한다.
롤 브러쉬, 버블 제트, 프리 웨팅

Description

습식 세정 장치{WET STATION}
도 1은 일반적인 포토 전 세정 공정을 나타낸 도면이다.
도 2는 일반적인 습식 세정 장치를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 습식 세정 장치를 나타낸 도면이다.
<도면의 주요 부호에 대한 설명>
210, 310: 기판 220, 320: 측벽
230, 330: 상부 커버 240, 341, 342: 배기 포트
251, 252, 253, 254, 255, 256: 노즐(nozzle)
325: 격벽 335: 프리 웨팅 커버
351, 352, 353, 354, 355, 356: 노즐(nozzle)
257, 258, 357, 358: 롤 브러쉬(Roll Brush)
360: 에어 커튼(Air curtain) 370: 아쿠아 나이프(Aqua knife)
본 발명은 습식 세정 장치에 관한 것으로, 세정 단계에서 프리 웨팅을 실시하여 세정 불량을 미연에 방지하여, 패턴이 형성된 기판에 물얼룩이 발생하지 않는 습식 세정 장치에 관한 것이다.
LCD(Liquid Crystal Display) 등의 FPD(Flat Panel Display) 제조 공정에서 패턴을 형성할 때에는 PR 코팅(Photo Resist Coating)을 행하는데, PR 코팅을 하기전에 기판 표면에 존재하는 유기물 및 무기물 등의 파티클을 제거하는 기판 세정을 행한다.
이러한 세정 과정을 포토 전 세정 공정이라고 하고, 포토 전 세정 공정에 사용되는 세정 설비를 포토 전 세정기(PPCL) 또는 OO(포토 공정) 세정기 라고 한다.
도 1은 일반적인 포토 전 세정 공정을 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 포토 전 세정기(100)의 구성을 살펴보면, 인 컨베어(10), 엑시머 UV(20), 롤 브러쉬(Roll brush)(30), 버블 제트(Bubble jet)(40), 파이널 린스(Final rinse)(50), 에어 나이프(Air knife)(60), 아웃 컨베어(70)로 구성되어 있다.
여기서, 포토 전 세정기(100)의 각 구성요소에 따른 포토 전 세정 공정을 살펴보면 다음과 같다.
먼저, 인 컨베어(10)는 기판(1)을 세정 공정으로 이송시켜 주기 위하여 기판(1)이 안착되는 영역이며, 인 라인(in-line) 공정을 따라 포토 전 세정이 이루어지게 한다.
이후, 기판(1)의 표면에 존재하는 유기물을 제거하기 위해 엑시머(Excimer) UV(Ultra Violet) 공정(20)이 행해진다.
여기서는, 엑시머 UV 램프를 이용하여 소정 nm의 자외선광을 기판(1)의 표면 에 조사하여 공기중의 산소 및 오존의 여기 산소를 분리시킴으로써, 이 여기 산소가 기판상의 유기물과 화학 결합을 하여 대기중으로 휘발되므로, 기판(1) 표면상에 존재하는 유기물을 제거한다.
이후, 기판(1) 표면에 묻어 있는 파티클을 브러쉬(brush)를 이용하여 물리적 힘을 가해 제거하는 롤 브러쉬(30) 공정이 행해진다.
또한, 롤 브러쉬(30) 공정은 비교적 크기가 큰 파티클 및 유기물 제거에 효과가 있다.
또한, 대형 기판(1)의 휨을 고려하여 롤 브러쉬는 상하 서로 마주보게 설치되어 있다.
또한, 롤 브러쉬 공정이 항상 사용되는 것은 아니고 공정에 따라 사용 유무가 결정된다.
예를 들면, 평탄화 패턴이 이루어진 곳에서는 롤 브러쉬 공정을 통한 세정이 이루어지나, 패턴 형태가 이루어지는 곳에서는 패턴에 손상을 줄 수 있으므로 롤 브러쉬 공정이 사용되지 않는다.
이후, 고압 펌프에 의한 압력을 가진 액체와 기체를 노즐내에서 혼합함으로써 물방울을 발생시키고, 그 물방울을 고속의 기체 흐름에 의해 가속 분사시켜, 기판(1) 상의 유체의 탄력으로 표면의 이물을 제거하는 버블 제트(40) 공정이 행해진다.
이후, 기판(1) 상에 마지막으로 노즐 샤워(nozzle shower)를 행하여 린스를 실시하고, 같은 영역 안에서 아쿠아 샤워(Aqua shower)를 실시하여, 기판(1) 전면 에 고르게 분사하여, 마지막으로 이물을 제거하는 파이널 린스(50) 공정이 행해진다.
여기서, 파이널 린스(50) 공정은 세정 공정의 가장 후단에 배치되는데, 아쿠아 샤워시 일정 각도로 분사하여 기판(1) 상에 유체의 흐름을 발생시킴으로써, 기판(1) 상의 체류 파티클을 제거하는 효과가 있다.
이후, 기판(1) 상에 남아 있는 물(Wet)을 완전히 제거 및 건조하는 에어 나이프(60) 공정이 행해진다.
이후, 포토 전 세정 공정이 모두 끝나고, 아웃 컨베어(70)에서 기판(1)을 다음 공정 설비로 반출시켜 줌으로써 종료된다.
도 2는 도 1의 롤 브러쉬 공정이 진행되는 습식 세정 장치를 나타낸 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 롤 브러쉬 공정이 행해지는 배쓰(Bath, 200)는, 양측면에 측벽(220)이 놓여지고, 상부 개구부에는 상부 커버(230)를 통해 개폐할 수 있으며, 배기 포트(240)를 통해 롤 브러쉬 영역 내부의 미스트(mist) 등이 빠져나가게 한다.
또한, 롤 브러쉬 영역의 내부 구조를 기판(210)의 진행 방향 기준으로 살펴보면, 입구부 노즐 샤워(251)(254)와, 롤 브러쉬(257)(258) 및 롤브러쉬부 노즐 샤워(252)(255)와, 출구부 노즐 샤워(253)(256)의 순으로, 상하 대칭의 8개열의 노즐 샤워로 구성되어 있다.
이와 같이, 롤 브러쉬 영역에서 입구부, 롤 브러쉬부, 출구부 노즐 샤워를 실시하는데, 입구부 및 출구부 노즐 샤워(251)(254)(253)(256)는 브러쉬를 사용하지 않고 단순 린스(rinse)하는 정도이나, 롤 브러쉬부 노즐 샤워(252)(255)는 롤 브러쉬(257)(258)와 기판(210)간 표면 마찰을 줄이면서 롤 브러쉬(257)(258)를 통하여 제거된 파티클 등을 린스하여 준다.
이 과정 중에서 노즐 샤워 전에 브러쉬 사용에 따른 물방울의 튐 현상(212), 퓸(fume) 등에 의한 수분 응집 및 수로로 형성되는 부분적인 물방울(211), 또는 입구부 노즐의 불량 샤워 등에 따른 물방울(213)이, 기판(210)에 불균일하게 낙하하여, 후속 공정을 통해 패턴이 형성된 기판(210)에서 물얼룩(water mask)으로 나타나는 경우가 많았었다.
여기서, 롤 브러쉬 세정 단계에서 설명하였지만, 롤 브러쉬 세정 단계 뿐만 아니라 노즐 샤워를 실시하는 전 세정 단계에서도, 직접 샤워를 맞기 전에 물방울이 기판(210)에 불균일하게 낙하하는 현상이 나타나, 후속 공정을 통해 패턴이 형성된 기판(210)에서 물얼룩이 발생하는 문제점이 있었다.
본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 세정 단계의 입구부에서 프리 웨팅을 행하여 불량 웨팅이 되는 것을 미연에 방지함으로써, 후속 공정에 의해 패턴이 형성된 기판에서 물얼룩이 발생하지 않게 하는 습식 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일측면에 따르면,
기판 표면에 액체를 분사하여 프리 웨팅을 실시하는 아쿠아 나이프와, 상기 프리 웨팅된 기판에 세정액을 분사하여 상기 기판의 표면을 세정하는 세정 유닛을 구비하여 구성되는 습식 세정 장치를 제공한다.
또한, 상기 아쿠아 나이프를 통해 분사되는 액체가 상기 기판을 따라 상기 기판의 진행과 반대 방향으로 흐르지 않도록 에어를 분사하는 에어 커튼이 더 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 아쿠아 나이프 및 에어 커튼을 감싸는 프리 웨팅 커버가 더 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 아쿠아 나이프가 배치된 프리 웨팅 영역과 상기 세정 유닛이 배치된 세정 영역을 구분하는 격벽이 더 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 격벽을 통해 분리된 상기 프리 웨팅 영역과 세정 영역에 배기 포트가 개별적으로 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 아쿠아 나이프 및 에어 커튼을 감싸는 프리 웨팅 커버로부터 상기 배기 포트로 연결되는 호스가 더 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 습식 세정이 완료된 기판 상에 포토 레지스트를 형성하는 포토 장비가 인-라인으로 배치된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 세정 유닛은 중간부 노즐 샤워와 출구부 노즐 샤워로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 아쿠아 나이프를 통해 프리 웨팅된 기판의 표면에 묻어 있는 파티클을 브러쉬 구동을 통해 제거하는 롤 브러쉬가 더 구비된 것을 특징으로 한다.
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이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예가 상세히 설명된다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 습식 세정 장치(300)를 나타낸 도면이다.
여기서, 도 3a의 경우는 일반적인 노즐 샤워 영역을 나타낸 것이고, 도 3b는 롤 브러쉬가 설치된 노즐 샤워 영역을 나타낸 것이다.
도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 습식 세정 장치(300)는, 양측면에 측벽(320)이 놓여지고, 상부는 상부 커버(330)를 통해 개폐할 수 있으며, 배기 통로2(342)를 통해 노즐 샤워 영역(302) 내의 기류가 빠져나가게 한다.
또한, 본 발명에 따른 습식 세정 장치에서는 종래의 전체 노즐 샤워 영역에서 입구부 노즐 샤워를 제거하고, 그 영역에 프리 웨팅(pre wetting) 영역(301)을 설정한다.
여기서, 상하부 포함하여, 전체 노즐 샤워 영역에 사용되는 노즐 샤워를 크게, 입구부 노즐 샤워, 중간부 노즐 샤워, 출구부 노즐 샤워로 나누고, 제거되는 부분을 입구부 노즐 샤워라 하고, 나머지를 중간부 노즐 샤워와 출구부 노즐 샤워로 정한다.
또한, 도 3b의 롤 브러쉬부 노즐 샤워(352)(355)는 도 3a의 중간부 노즐 샤워(351)(352)(354)(355)에 해당된다.
즉, 본 발명에서는, 노즐 샤워 영역의 전체 공간을 변화시키지 않고, 입구부 노즐 샤워를 제거한 부분의 프리 웨팅 영역(301)과 나머지 노즐 샤워 영역(302)로 나누어진다.
또한, 상기 프리 웨팅 영역(301)이 차지하는 부분은 전체 노즐 샤워 영역에서 1/2, 1/3, 1/4, 2/5 정도의 크기로, 필요에 따라 적정한 크기로 정해질 수 있다.
노즐 샤워 영역(302)의 내부 구조를 기판(310)의 진행 방향 기준으로 살펴보면, 도 3a에 도시된 바와 같이, 중간부 노즐 샤워(351)(352)(354)(355)와 출구부 노즐 샤워(353)(356) 순으로 구성된다.
또한, 도 3b에 도시된 바와 같이, 롤 브러쉬(357)(358) 및 롤 브러쉬부 노즐 샤워(352)(355)와, 출구부 노즐 샤워(353)(356)의 순으로 구성될 수 있다.
도 3a의 중간부 노즐샤워(351)(352)(354)(355), 도 3b의 롤 브러쉬부 노즐 샤워(352)(355)와, 도 3a 및 도 3b의 출구부 노즐 샤워(353)(356)의 개수는 한 예 이며, 적절한 범위내에서 소정의 개수가 사용될 수 있다.
또한, 제거되는 입구부 노즐 샤워의 개수도 전체 노즐 샤워 영역에서 프리 웨팅 영역(301)이 차지하는 공간 부분, 가령 1/2, 1/3, 1/4, 2/5 만큼 필요한 개수의 노즐 샤워가 제거된다.
이와 같은 프리 웨팅 영역(301)의 구성을 살펴보면 다음과 같다.
즉, 프리 웨팅 영역(301)에는, 기판(310) 표면에 액체로 예를 들어 순수(DI Water)를 고르게 분사하여 프리 웨팅을 실시하는 아쿠아 나이프(AQUA Knife)(370)와, 상기 아쿠아 나이프(370)를 통해 프리 웨팅이 이루어질 때, 순수가 기판(310)을 따라 기판(310)의 진행과 반대 방향으로 흐르지 않도록 에어를 분사하는 에어 커튼(Air curtain)(360)을 구비한다.
여기서, 아쿠아 나이프(370)는 기판 표면에 일반적인 노즐 샤워를 실시하기 전에 기판(310)의 표면을 순수로 고르게 적셔주어(uniform pre wetting), 물방울의 불균일한 낙하에 의한 불량 웨팅을 사전에 막아준다.
또한, 전체 세정 영역을, 아쿠아 나이프(370)가 배치된 프리 웨팅 영역(301)과, 프리 웨팅된 기판(310) 표면을 세정하는 노즐 샤워 영역(302)로 나누고, 노즐 샤워 영역(302)에서 발생된 퓸 등이 기류를 따라 프리 웨팅 영역(301)으로 유입되는 것을 차단하고자 격벽(325)을 설치한다.
이와 같이, 노즐 샤워 영역(302)과 프리 웨팅 영역(301)을 구분하는 격벽(325)을 설치하여, 노즐 샤워 영역(302)에서 프리 웨팅 영역(301)으로 넘어올 수 있는 퓸을 최소화하여 프리 웨팅 영역(301) 내부에 결로 및 물방울이 형성되는 것 을 1차적으로 방지한다.
또한, 종래의 노즐 샤워 영역에는 배기 포트가 하나로 되어 있었는데, 본 발명에서는 격벽(325)을 사이에 두고 프리 웨팅 영역(301) 및 노즐 샤워 영역(302) 각각에 배기 포트(배기1, 배기2)(341)(342)를 배치하여, 노즐 샤워 영역(302)으로부터 격벽(325)을 통해 유입될 수도 있는 미세한 퓸 마저도 배기시킴으로써, 프리 웨팅 영역(301)에 물방울이 형성되는 것을 2차적으로 방지한다.
또한, 프리 웨팅 영역(301)의 아쿠아 나이프(370) 전단에서 물방울이 기판(310) 표면에 불균일하게 낙하되는 것을 방지하기 위해 에어 커튼(A/C)(360)과 아쿠아 나이프(370)를 감쌀 수 있는 프리 웨팅 커버(335)를 설치한다.
이와 같이, 아쿠아 나이프(370)와 에어 커튼(360) 상부로 커버링이 되어 있기 때문에 물방울 튐에 따른 불량 웨팅을 방지할 수 있다.
또한, 에어 커튼(360)과 아쿠아 나이프(370) 배관을 할 수 있는 공간은 프리 웨팅 커버(335)내에서 이루어지도록 하여 배관에 물방울이 맺혀 기판(310)의 표면에 불균일하게 낙하되는 것을 방지한다.
또한, 프리 웨팅 커버(335)가 설치되어 있는 공간 내부는, 에어 커튼(360)에서 나오는 공기에 의해 프리 웨팅 커버(335) 표면을 따라 결로가 형성될 수 있다.
따라서, 프리 웨팅 커버(335)를 호스(345)를 통해 배기 포트1(341)과 직접 연결시켜, 프리 웨팅 커버(335) 내부의 기류 및 프리 웨팅 커버(335) 표면의 결로를 직접 배기 포트1(341)로 배출시킨다.
이와 같이, 본 발명에서는, 노즐 샤워 영역(302)에서 중간부 노즐 샤워 (351)(352)(354)(355), 출구부 노즐 샤워(353)(356)를 통한 세정이 이루어지기 전에 아쿠아 나이프(370)를 통해 기판(310)을 프리 웨팅 시킴에 의해 노즐 샤워의 물방울 튐에 따른 불량 웨팅을 방지한다.
한편, 도 3b에서는, 아쿠아 나이프(370)를 통해 액체로 예를 들어 순수를 고르게 분사하여 기판(370) 표면을 프리 웨팅하는 프리 웨팅 영역(301)과, 프리 웨팅 된 기판(310) 표면을 브러쉬(357)(358)를 사용하여 세정하는 노즐 샤워 영역(302)으로 나누고, 노즐 샤워 영역(302)에서 발생된 퓸 등이 기류를 따라 프리 웨팅 영역(301)으로 유입되는 것을 차단하고자 격벽(325)을 설치한다.
이와 같이, 노즐 샤워 영역(302)과 프리 웨팅 영역(301)을 구분하는 격벽(325)을 설치하여, 노즐 샤워 영역(302)에서 프리 웨팅 영역(301)으로 넘어올 수 있는 퓸 등을 최소화하여, 프리 웨팅 영역(301) 내부에 결로 및 물방울이 형성되는 것을 1차적으로 방지한다.
또한, 프리 웨팅 영역(301)에 대한 구성은, 아쿠아 나이프(370), 에어 커튼(360), 프리 웨팅 커버(335), 호스(345), 배기 포트1(341)로, 도 3a에 대한 구성과 동일하므로, 설명을 생략한다.
또한, 노즐 샤워 영역(302)에서, 브러쉬부 노즐 샤워(352)(355), 출구부 노즐 샤워(353)(356)를 실시하는데, 출구부 노즐 샤워(353)(356)는 브러쉬를 사용하지 않고 단순 린스(rinse)하는 정도이나, 롤 브러쉬부 노즐 샤워(352)(355)는 롤 브러쉬(357)(358)와 기판(310)간 표면 마찰을 줄이면서 롤 브러쉬(357)(358)를 통하여 제거된 파티클 등을 린스하여 준다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 습식 세정 장치에서 세정 공정을 살펴보면 다음과 같다.
본 발명에서는, 기존의 전체 노즐 샤워 영역을, 크게, 입구부 노즐 샤워 영역, 중간부 노즐 샤워 영역, 출구부 노즐 샤워 영역으로 나눈다.
또한, 상기 입구부 노즐 샤워를 제거하고, 상기 입구부 노즐 샤워 영역을 프리 웨팅 영역으로 설정하고, 나머지 중간부 노즐 샤워 영역 및 출구부 노즐 샤워 영역을 노즐 샤워 영역으로 설정한다.
또한, 격벽을 설치하여, 아쿠아 나이프를 통해 기판 표면을 프리 웨팅하는 프리 웨팅 영역과, 프리 웨팅 후 노즐 샤워를 사용하여 기판 표면을 세정하는 노즐 샤워 영역으로 나누는데, 각 영역에서의 세정 과정을 살펴보면 다음과 같다.
먼저, 아쿠아 나이프를 이용하여 액체로 예를 들어 순수를 분사하여 기판 표면을 프리 웨팅 한다(단계 1).
여기서, 아쿠아 나이프를 통해 프리 웨팅이 이루어질 때, 에어 커튼을 통해 순수가 기판을 따라 기판의 진행과 반대 방향으로 흐르지 않도록 에어를 분사하여 준다.
이후, 기판의 상하부에 형성된 노즐 샤워를 통해 린스함으로써, 프리 웨팅된 기판 표면을 세정한다(단계 2).
여기서, 롤 브러쉬를 사용하는 세정의 경우에는, 기판의 상부 및 하부에 형성된 롤 브러쉬 구동과 롤 브러쉬 노즐의 샤워를 통해 프리 웨팅된 기판 표면의 파티클을 제거하고, 제거된 파티클을 출구부 노즐 샤워를 통해 린스한다.
이와 같이, 본 발명에 따른 습식 세정 공정은, PR 코팅 전 또는 PR 코팅 되어 있는 기판 상에 또 다른 PR 코팅을 하기 전에 세정하는 단계에서 주로 행해지는데, 아쿠아 나이프를 통해 기판 표면에 프리 웨팅을 실시함으로써 물방울의 불균일한 낙하에 의한 불량 웨팅이 이루어지지 않게 할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 습식 세정 장치 및 방법을 적용하면, 패턴이 형성된 기판에 물얼룩이 발생하지 않게 된다.
또한, 아쿠아 나이프와 에어 커튼이 배치된 영역을 커버하는 프리 웨팅 커버를 설치하여, 프리 웨팅 영역의 아쿠아 나이프 전단에서 퓸, 결로, 수분 응집 등에 의거하여 발생하는 물방울이 불균일하게 낙하하는 것을 방지한다.
이상에서, 본 발명에 따른 습식 세정 장치에 대해 설명하였으나,포토 전 세정 공정 뿐만 아니라 노즐 샤워 사용에 따른 물얼룩이 발생하는 모든 세정 단계에 적용될 수 있다.
따라서, 본 발명은 상기의 실시예에 국한되는 것은 아니며 당해 기술분야에 있어서 통상의 지식을 가진자가 본 발명의 기술적 사상의 범위를 벗어나지 않는 범위내에서 설계 변경이나 회피설계를 한다 하여도 본 발명의 범위 안에 있다 할 것이다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 습식 세정 장치는, 입구부 노즐 샤워를 제거하고 그 영역에 아쿠아 나이프를 통한 프리 웨팅을 행하여 불량 웨팅이 되는 것을 미연에 방지할 수 있다.
또한, 노즐 샤워 불량 및 구조적 세정 불량에 따라 후속 PR 코팅 등 FPD 제조 공정에서 패턴이 형성된 기판에 나타나는 물얼룩 발생을 제거할 수 있다.
또한, 프리 웨팅 영역과 노즐 샤워 영역을 격벽으로 차단하여 노즐 샤워 영역에서 발생된 퓸 등이 프리 웨팅 영역으로 유입되는 것을 차단함으로써, 프리 웨팅 영역에 물방울이 형성되는 것을 방지할 수 있다.

Claims (13)

  1. 기판 표면에 액체를 분사하여 프리 웨팅을 실시하는 아쿠아 나이프와,
    상기 프리 웨팅된 기판에 세정액을 분사하여 상기 기판의 표면을 세정하는 세정 유닛과,
    상기 아쿠아 나이프를 통해 분사되는 액체가 상기 기판을 따라 상기 기판의 진행과 반대 방향으로 흐르지 않도록 에어를 분사하는 에어 커튼으로 구성하여 된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 아쿠아 나이프 및 에어 커튼을 감싸는 프리 웨팅 커버가 더 구비된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 아쿠아 나이프가 배치된 프리 웨팅 영역과 상기 세정 유닛이 배치된 세정 영역을 구분하는 격벽이 더 구비된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 격벽을 통해 분리된 상기 프리 웨팅 영역과 세정 영역에 배기 포트가 개별적으로 구비된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 아쿠아 나이프 및 에어 커튼을 감싸는 프리 웨팅 커버로부터 상기 배기 포트로 연결되는 호스가 더 구비된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 습식 세정이 완료된 기판 상에 포토 레지스트를 형성하는 포토 장비가 인-라인으로 배치된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 세정 유닛은 중간부 노즐 샤워와 출구부 노즐 샤워로 구성되는 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 아쿠아 나이프를 통해 프리 웨팅된 기판의 표면에 묻어 있는 파티클을 브러쉬 구동을 통해 제거하는 롤 브러쉬가 더 구비된 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
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  11. 삭제
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  13. 삭제
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