JP2002346485A - 液晶表示パネルの洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
液晶表示パネルの洗浄方法及び洗浄装置Info
- Publication number
- JP2002346485A JP2002346485A JP2001150943A JP2001150943A JP2002346485A JP 2002346485 A JP2002346485 A JP 2002346485A JP 2001150943 A JP2001150943 A JP 2001150943A JP 2001150943 A JP2001150943 A JP 2001150943A JP 2002346485 A JP2002346485 A JP 2002346485A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cleaning
- display panel
- crystal display
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 水や純水などの薬剤を含まない洗浄液を使用
しても基板表面における洗浄むらが発生することのない
洗浄方法及び装置を提供する。 【解決手段】 液晶表示パネル用基板を搬送しながら薬
剤を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示パネルの洗
浄方法であって、洗浄液が基板４０の搬送方向とは反対
の方向に流れて基板の表面を覆うようにこれを基板表面
に供給するステップ（２０）と、基板表面４０の洗浄液
の流れに対して鋭角をなす方向からこれにカーテン状の
エアーを吹き付けるステップ（１０）を含み、基板４０
上を流れてきた洗浄液は前記エアーによって押しとどめ
られ、基板４０の表面を還流しながら排出されるように
したものである。
しても基板表面における洗浄むらが発生することのない
洗浄方法及び装置を提供する。 【解決手段】 液晶表示パネル用基板を搬送しながら薬
剤を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示パネルの洗
浄方法であって、洗浄液が基板４０の搬送方向とは反対
の方向に流れて基板の表面を覆うようにこれを基板表面
に供給するステップ（２０）と、基板表面４０の洗浄液
の流れに対して鋭角をなす方向からこれにカーテン状の
エアーを吹き付けるステップ（１０）を含み、基板４０
上を流れてきた洗浄液は前記エアーによって押しとどめ
られ、基板４０の表面を還流しながら排出されるように
したものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示パネルの洗
浄方法及び洗浄装置、特に、液晶表示パネルの基板表面
を洗浄する方法、並びにその方法の実施に使用する装置
に関するものである。
浄方法及び洗浄装置、特に、液晶表示パネルの基板表面
を洗浄する方法、並びにその方法の実施に使用する装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、液晶表示パネルの製造工程に
おける基板の洗浄は洗浄液を基板表面に供給して行って
いるが、ここで洗浄むらが起こった場合、種々の不具合
が生じる。例えば、配向膜印刷前の洗浄で洗浄むらが起
こった場合、配向膜の基板表面への密着性の変化が生
じ、その結果として配向膜印刷のむらが生じてしまうの
で、このような場合には、界面活性剤等の薬液を使用し
て基板洗浄を行っている。また、配向膜印刷後の洗浄の
場合、すなわち、配向膜はガラス基板上に形成された電
極面を被覆するようにポリイミド等の高分子膜を基板表
面に塗布し、その膜面をナイロンあるいはポリエステル
等の布で一方向に擦るラビング処理を行って配向性能が
付与されているが、このラビング処理において発生した
削りかすなどを除去するためにラビング処理後において
基板表面を洗浄する必要があり、この場合の基板表面の
洗浄はラビングで生じた配向性能が変化しないような方
法、例えばイソプロピルアルコール等の溶剤を使用して
行われていた。
おける基板の洗浄は洗浄液を基板表面に供給して行って
いるが、ここで洗浄むらが起こった場合、種々の不具合
が生じる。例えば、配向膜印刷前の洗浄で洗浄むらが起
こった場合、配向膜の基板表面への密着性の変化が生
じ、その結果として配向膜印刷のむらが生じてしまうの
で、このような場合には、界面活性剤等の薬液を使用し
て基板洗浄を行っている。また、配向膜印刷後の洗浄の
場合、すなわち、配向膜はガラス基板上に形成された電
極面を被覆するようにポリイミド等の高分子膜を基板表
面に塗布し、その膜面をナイロンあるいはポリエステル
等の布で一方向に擦るラビング処理を行って配向性能が
付与されているが、このラビング処理において発生した
削りかすなどを除去するためにラビング処理後において
基板表面を洗浄する必要があり、この場合の基板表面の
洗浄はラビングで生じた配向性能が変化しないような方
法、例えばイソプロピルアルコール等の溶剤を使用して
行われていた。
【０００３】しかしながら、イソプロピルアルコールは
単体では可燃性のものであり、また、上記界面活性剤と
イソプロピルアルコールは使用後の廃棄時も産業廃棄物
となるなど取り扱いに注意する必要があり、昨今の環境
に対する取り組みからも純水のような薬剤を含まない洗
浄液による洗浄が求められるようになってきている。
単体では可燃性のものであり、また、上記界面活性剤と
イソプロピルアルコールは使用後の廃棄時も産業廃棄物
となるなど取り扱いに注意する必要があり、昨今の環境
に対する取り組みからも純水のような薬剤を含まない洗
浄液による洗浄が求められるようになってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、純水で
配向膜印刷前の洗浄を行った場合、基板表面が濡れ始め
た時期に洗浄むらが生じ、そのまま残ってしまうことが
多く、配向膜印刷前の洗浄でこのような洗浄むらが起こ
った場合、配向膜の基板表面への密着性の変化が生じ、
その結果として配向膜印刷のむらが生じてしまうため、
液晶表示パネルの表示品質に大きな悪影響を及ぼしてし
まう。また、ラビング処理後の基板表面を純水で洗浄し
た場合も基板表面が濡れ始めた時期に基板表面に洗浄む
らがしばしば発生し、その洗浄むらが消えずにそのまま
残ってしまうことが多く、その結果、配向膜の配向性能
が変化し、製造された液晶表示パネルの表示品質に大き
な悪影響を及ぼすことになる。
配向膜印刷前の洗浄を行った場合、基板表面が濡れ始め
た時期に洗浄むらが生じ、そのまま残ってしまうことが
多く、配向膜印刷前の洗浄でこのような洗浄むらが起こ
った場合、配向膜の基板表面への密着性の変化が生じ、
その結果として配向膜印刷のむらが生じてしまうため、
液晶表示パネルの表示品質に大きな悪影響を及ぼしてし
まう。また、ラビング処理後の基板表面を純水で洗浄し
た場合も基板表面が濡れ始めた時期に基板表面に洗浄む
らがしばしば発生し、その洗浄むらが消えずにそのまま
残ってしまうことが多く、その結果、配向膜の配向性能
が変化し、製造された液晶表示パネルの表示品質に大き
な悪影響を及ぼすことになる。
【０００５】このように基板表面に洗浄むらが発生する
原因としては、基板状の異物等が基板表面を一度濡れて
から移動した際に基板表面に固着することが考えられ、
また、ラビング処理後の基板については、基板上の非常
に小さいラビングくずあるいは異物等が基板の入水時に
移動し、既にラビングされて表面が活性化されている別
の場所の基板上に着地したときに、その表面に固着し、
その部分の表面の均一性を乱すため、その部分が表示む
らの原因となるものと考えられる。
原因としては、基板状の異物等が基板表面を一度濡れて
から移動した際に基板表面に固着することが考えられ、
また、ラビング処理後の基板については、基板上の非常
に小さいラビングくずあるいは異物等が基板の入水時に
移動し、既にラビングされて表面が活性化されている別
の場所の基板上に着地したときに、その表面に固着し、
その部分の表面の均一性を乱すため、その部分が表示む
らの原因となるものと考えられる。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
のであり、水や純水などの薬剤を用いない洗浄液を使用
して基板表面を洗浄する場合、基板表面における洗浄む
らが発生することのない洗浄方法及び装置を提供するこ
とを目的とするものである。
のであり、水や純水などの薬剤を用いない洗浄液を使用
して基板表面を洗浄する場合、基板表面における洗浄む
らが発生することのない洗浄方法及び装置を提供するこ
とを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示パネル
の洗浄方法は、液晶表示パネル用基板を搬送しながら薬
剤を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示パネルの洗
浄方法であって、洗浄液が前記基板の搬送方向とは反対
の方向に流れて基板の表面を覆うように、洗浄液を基板
表面に供給するステップと、前記基板表面の洗浄液の流
れに対して鋭角をなす方向からカーテン状のエアーを吹
き付けるステップを含み、基板上を流れてきた洗浄液
を、前記エアーによって押しとどめ、前記基板の表面を
還流しながら排出することを特徴とし、また本発明の液
晶表示パネルの洗浄装置は、液晶表示パネル用基板の基
板表面を薬剤を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示
パネルの洗浄装置であって、基板を所定方向に搬送する
基板搬送手段と、前記基板の搬送過程において洗浄液が
前記基板の搬送方向とは反対の方向に流れて基板の表面
を覆うように、洗浄液を基板表面に供給する洗浄液供給
手段と、前記基板表面の洗浄液の流れに対して鋭角をな
す方向からカーテン状のエアーを吹き付けるエアーナイ
フ手段を備え、基板上を流れてきた洗浄液を、前記エア
ーによって押しとどめ、前記基板の表面を還流しながら
排出することを特徴とする。
の洗浄方法は、液晶表示パネル用基板を搬送しながら薬
剤を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示パネルの洗
浄方法であって、洗浄液が前記基板の搬送方向とは反対
の方向に流れて基板の表面を覆うように、洗浄液を基板
表面に供給するステップと、前記基板表面の洗浄液の流
れに対して鋭角をなす方向からカーテン状のエアーを吹
き付けるステップを含み、基板上を流れてきた洗浄液
を、前記エアーによって押しとどめ、前記基板の表面を
還流しながら排出することを特徴とし、また本発明の液
晶表示パネルの洗浄装置は、液晶表示パネル用基板の基
板表面を薬剤を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示
パネルの洗浄装置であって、基板を所定方向に搬送する
基板搬送手段と、前記基板の搬送過程において洗浄液が
前記基板の搬送方向とは反対の方向に流れて基板の表面
を覆うように、洗浄液を基板表面に供給する洗浄液供給
手段と、前記基板表面の洗浄液の流れに対して鋭角をな
す方向からカーテン状のエアーを吹き付けるエアーナイ
フ手段を備え、基板上を流れてきた洗浄液を、前記エア
ーによって押しとどめ、前記基板の表面を還流しながら
排出することを特徴とする。
【０００８】この発明によれば、洗浄液となる水が例え
ばラビング処理後の基板の表面に入水したときに浮いた
ラビングくずや異物などによる何らかの溶出物が生じて
も、流速がそれほど落ちないために、これらラビングく
ずや異物などの基板表面への着地や溶出物の吸着がそれ
ほど生じないうちに洗浄液と一緒に基板表面から流れ落
ち、効果的な洗浄が行われる。
ばラビング処理後の基板の表面に入水したときに浮いた
ラビングくずや異物などによる何らかの溶出物が生じて
も、流速がそれほど落ちないために、これらラビングく
ずや異物などの基板表面への着地や溶出物の吸着がそれ
ほど生じないうちに洗浄液と一緒に基板表面から流れ落
ち、効果的な洗浄が行われる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。
いて図面を参照しながら説明する。
【００１０】図１は本発明の液晶表示パネルの洗浄方法
の一実施の形態においてこれを実施するための装置の概
略構成を模式的に示す側面図、図２は図１に示す装置の
要部をより具体的に示す図面であり、図２（ａ）は側面
図、図２（ｂ）は平面図である。
の一実施の形態においてこれを実施するための装置の概
略構成を模式的に示す側面図、図２は図１に示す装置の
要部をより具体的に示す図面であり、図２（ａ）は側面
図、図２（ｂ）は平面図である。
【００１１】図１において、前段処理室１にはローラー
搬送による基板搬送路の上方位置にエアーナイフ１０が
基板搬送方向（矢印Ｘ方向）に対して傾けられて設置さ
れている。このエアーナイフ１０は基板４０の表面に向
かってカーテン状の加圧エアーを吹き付け、図２（ａ）
に示すように、エアーナイフ１０より基板搬送方向側に
あるシャワー室２のスプレー管２０から供給された純水
が基板４０の表面を覆いながら基板搬送方向と反対側に
流れてくるのをせき止めるように配置されている。エア
ーナイフ１０より基板搬送方向側に設置されたスプレー
管２０は図２（ｂ）に示すように、基板４０の基板搬送
方向と直交する方向に複数個並列に設置されており、純
水を基板表面に吹き付けて基板４０の表面を枚葉方式に
より洗浄する。
搬送による基板搬送路の上方位置にエアーナイフ１０が
基板搬送方向（矢印Ｘ方向）に対して傾けられて設置さ
れている。このエアーナイフ１０は基板４０の表面に向
かってカーテン状の加圧エアーを吹き付け、図２（ａ）
に示すように、エアーナイフ１０より基板搬送方向側に
あるシャワー室２のスプレー管２０から供給された純水
が基板４０の表面を覆いながら基板搬送方向と反対側に
流れてくるのをせき止めるように配置されている。エア
ーナイフ１０より基板搬送方向側に設置されたスプレー
管２０は図２（ｂ）に示すように、基板４０の基板搬送
方向と直交する方向に複数個並列に設置されており、純
水を基板表面に吹き付けて基板４０の表面を枚葉方式に
より洗浄する。
【００１２】この時、エアーナイフ１０側に最も近いス
プレー管２０から基板４０の表面に供給された純水の一
部が、基板搬送方向と逆方向に基板表面を覆いながら流
れ始め、これが本実施形態による洗浄方法の最初のステ
ップとなる。次に、スプレー管２０に近い位置にあるエ
アーナイフ１０により純粋の流れに対して鋭角をなすカ
ーテン状のエアーが吹き付けられ、これが次のステップ
となって基板上の純水の流速が落ちない間に、その流れ
がせき止められるため、せき止められた部分の純水が絶
えず流動して還流し、純水はその状態のままエアーナイ
フ１０と一番エアーナイフ側に近いスプレー管２０の間
で、図２（ｂ）に示すように、基板の搬送方向と直交す
る方向（排出矢印の方向）に排出される。なお、基板表
面は初期の入水時からある程度の流速をもった水流に常
に接することが望ましい。
プレー管２０から基板４０の表面に供給された純水の一
部が、基板搬送方向と逆方向に基板表面を覆いながら流
れ始め、これが本実施形態による洗浄方法の最初のステ
ップとなる。次に、スプレー管２０に近い位置にあるエ
アーナイフ１０により純粋の流れに対して鋭角をなすカ
ーテン状のエアーが吹き付けられ、これが次のステップ
となって基板上の純水の流速が落ちない間に、その流れ
がせき止められるため、せき止められた部分の純水が絶
えず流動して還流し、純水はその状態のままエアーナイ
フ１０と一番エアーナイフ側に近いスプレー管２０の間
で、図２（ｂ）に示すように、基板の搬送方向と直交す
る方向（排出矢印の方向）に排出される。なお、基板表
面は初期の入水時からある程度の流速をもった水流に常
に接することが望ましい。
【００１３】このようにすると、一度基板表面から浮い
たラビングくずあるいは溶出したものが基板表面に着地
することなく純水と一緒に基板表面から排出されるた
め、基板４０の表面に洗浄むらが発生することなく洗浄
を行うことができる。この洗浄方法は特にラビング処理
後の基板洗浄で効果が大きいが、この場合は初期の入水
時から基板上の洗浄液の流速が基板表面に対して、ラビ
ングくずなどが再固着しない程度の流速にある内にこれ
が基板表面から排出されることが重要である。
たラビングくずあるいは溶出したものが基板表面に着地
することなく純水と一緒に基板表面から排出されるた
め、基板４０の表面に洗浄むらが発生することなく洗浄
を行うことができる。この洗浄方法は特にラビング処理
後の基板洗浄で効果が大きいが、この場合は初期の入水
時から基板上の洗浄液の流速が基板表面に対して、ラビ
ングくずなどが再固着しない程度の流速にある内にこれ
が基板表面から排出されることが重要である。
【００１４】また、シャワー室２には水切り室３が隣接
され、水切り目的で設置されたエアーナイフ３０が設置
されており、基板４０の表面に加圧エアーを吹き付け
て、水切りが行われ、その後に基板４０は乾燥されるこ
とになる。
され、水切り目的で設置されたエアーナイフ３０が設置
されており、基板４０の表面に加圧エアーを吹き付け
て、水切りが行われ、その後に基板４０は乾燥されるこ
とになる。
【００１５】以上のように、本実施の形態によれば、純
水などを使用した洗浄において、基板表面における洗浄
むらを生じることなく基板の洗浄を行うことができ、ラ
ビング処理後の基板洗浄に適用した場合は、配向膜の配
向性能を損なうことなく効果的な洗浄を行うことができ
る。
水などを使用した洗浄において、基板表面における洗浄
むらを生じることなく基板の洗浄を行うことができ、ラ
ビング処理後の基板洗浄に適用した場合は、配向膜の配
向性能を損なうことなく効果的な洗浄を行うことができ
る。
【００１６】なお、本発明の液晶表示パネルの洗浄方法
及び装置は上記説明及び図面の内容に限定されることな
く、その要旨を逸脱しない範囲内において種々の変形が
可能であり、例えばスプレー管として複数個の噴霧ノズ
ルを用いる代わりに、カーテン状に純水などの洗浄液を
供給する液ナイフを用いてもよく、また、純水の代わり
に炭酸ガスを含んだ洗浄液を用いるのも有効である。
及び装置は上記説明及び図面の内容に限定されることな
く、その要旨を逸脱しない範囲内において種々の変形が
可能であり、例えばスプレー管として複数個の噴霧ノズ
ルを用いる代わりに、カーテン状に純水などの洗浄液を
供給する液ナイフを用いてもよく、また、純水の代わり
に炭酸ガスを含んだ洗浄液を用いるのも有効である。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、水や純粋
などの薬剤を用いない洗浄液による洗浄において基板表
面における洗浄むらを生じることなく洗浄を行うことが
でき、ラビング処理後の基板洗浄に適用した場合は、洗
浄課程において配向膜の配向性能を損なうことがないと
いう有利な効果が得られる。
などの薬剤を用いない洗浄液による洗浄において基板表
面における洗浄むらを生じることなく洗浄を行うことが
でき、ラビング処理後の基板洗浄に適用した場合は、洗
浄課程において配向膜の配向性能を損なうことがないと
いう有利な効果が得られる。
【図１】本発明の液晶表示パネルの洗浄方法の一実施の
形態においてこれを実施するための装置の概略構成を模
式的に示す側面図
形態においてこれを実施するための装置の概略構成を模
式的に示す側面図
【図２】図１に示す装置の要部をより具体的に示し、図
２（ａ）は側面図、図２（ｂ）は平面図
２（ａ）は側面図、図２（ｂ）は平面図
１ 前段処理室 ２ シャワー室 ３ 水切り室 １０ エアーナイフ ２０ スプレー管 ３０ 水切り用エアーナイフ ４０ 基板
Claims (5)
- 【請求項１】 液晶表示パネル用基板を搬送しながら薬
剤を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示パネルの洗
浄方法であって、洗浄液が前記基板の搬送方向とは反対
の方向に流れて基板の表面を覆うように、洗浄液を基板
表面に供給するステップと、前記基板表面の洗浄液の流
れに対して鋭角をなす方向からカーテン状のエアーを吹
き付けるステップを含み、基板上を流れてきた洗浄液
を、前記エアーによって押しとどめ、前記基板の表面を
還流しながら排出することを特徴とする液晶表示パネル
の洗浄方法。 - 【請求項２】 液晶表示パネルの洗浄を、液晶表示パネ
ル用基板の表面に形成された高分子膜の膜面をラビング
処理した後に行うことを特徴とする請求項１記載の液晶
表示パネルの洗浄方法。 - 【請求項３】 洗浄液を純水としたことを特徴とする請
求項１または請求項２記載の液晶表示パネルの洗浄方
法。 - 【請求項４】 液晶表示パネル用基板の基板表面を薬剤
を含まない洗浄液により洗浄する液晶表示パネルの洗浄
装置であって、基板を所定方向に搬送する基板搬送手段
と、前記基板の搬送過程において洗浄液が前記基板の搬
送方向とは反対の方向に流れて基板の表面を覆うよう
に、洗浄液を基板表面に供給する洗浄液供給手段と、前
記基板表面の洗浄液の流れに対して鋭角をなす方向から
カーテン状のエアーを吹き付けるエアーナイフ手段を備
え、基板上を流れてきた洗浄液を、前記エアーによって
押しとどめ、前記基板の表面を還流しながら排出するこ
とを特徴とする液晶表示パネルの洗浄装置。 - 【請求項５】 洗浄液を純水としたことを特徴とする請
求項４記載の液晶表示パネルの洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001150943A JP2002346485A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 液晶表示パネルの洗浄方法及び洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001150943A JP2002346485A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 液晶表示パネルの洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002346485A true JP2002346485A (ja) | 2002-12-03 |
Family
ID=18995882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001150943A Pending JP2002346485A (ja) | 2001-05-21 | 2001-05-21 | 液晶表示パネルの洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002346485A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006290620A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-10-26 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | シート状物の洗浄方法およびこれに用いるシート状物の洗浄装置、板状重合物の製造方法 |
| JP2008242291A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Optrex Corp | 表示パネルの洗浄方法 |
| JP2011067722A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Kowa Kk | 介護用機器の洗浄装置 |
| CN104375295A (zh) * | 2014-11-25 | 2015-02-25 | 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 | Tft-lcd彩色滤光片返修设备的风帘防结晶装置 |
-
2001
- 2001-05-21 JP JP2001150943A patent/JP2002346485A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006290620A (ja) * | 2005-03-15 | 2006-10-26 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | シート状物の洗浄方法およびこれに用いるシート状物の洗浄装置、板状重合物の製造方法 |
| JP2008242291A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Optrex Corp | 表示パネルの洗浄方法 |
| JP2011067722A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Kowa Kk | 介護用機器の洗浄装置 |
| CN104375295A (zh) * | 2014-11-25 | 2015-02-25 | 南京中电熊猫液晶材料科技有限公司 | Tft-lcd彩色滤光片返修设备的风帘防结晶装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100629767B1 (ko) | 기판 처리장치 및 기판 세정유닛 | |
| JP4526288B2 (ja) | スリットノズル先端の調整装置及び調整方法 | |
| KR100323502B1 (ko) | 액정표시패널의 제조방법 및 이것에 사용되는 세정장치 | |
| CN101219427A (zh) | 基板处理装置 | |
| KR100563843B1 (ko) | 기판세정장치 및 기판세정방법 | |
| JP2009178672A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JP2007300129A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2002346485A (ja) | 液晶表示パネルの洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JP4812610B2 (ja) | ノズルの洗浄方法 | |
| JP2018006616A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2002022359A (ja) | 基板の乾燥装置 | |
| JP3866856B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH10223593A (ja) | 枚葉式ウェハ洗浄装置 | |
| JP2005019991A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR101151777B1 (ko) | 습식 세정 장치 | |
| JPH07308642A (ja) | 基板表面乾燥装置 | |
| JP2007073649A (ja) | レジスト剥離洗浄装置、レジスト剥離洗浄方法および基板製造方法 | |
| JP2656980B2 (ja) | ガラス基板洗浄方法 | |
| JP4365192B2 (ja) | 搬送式基板処理装置 | |
| JP2000252254A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR100454637B1 (ko) | 매엽식 반도체 웨이퍼용 약액 분사노즐 | |
| JP2002141269A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP4409901B2 (ja) | 残液除去装置 | |
| JPH03142929A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH0777677A (ja) | ラビング処理後の基板の洗浄方法並びに洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20061127 |