JP3957419B2

JP3957419B2 - 基板処理装置

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Publication number: JP3957419B2
Application number: JP34949598A
Authority: JP
Inventors: 悟史山本
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-12-09
Filing date: 1998-12-09
Publication date: 2007-08-15
Anticipated expiration: 2018-12-09
Also published as: JP2000174095A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ用ガラス基板、半導体ウエハ等の各被処理基板に対して、基板に所定の処理液を供給することによって処理を行う基板処理装置、特に、基板を傾斜状態として処理を行う傾斜処理ユニットを有する基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板処理装置は、一般に、基板に処理液を供給して処理を施す処理ユニットを含む複数の処理ユニット、例えば、薬洗ユニット、水洗ユニット、乾燥ユニット等を有している。このような基板処理装置では、基板を搬送ローラ等の搬送手段によって各処理ユニットに運び、各処理ユニットにおいて基板に処理を施す。
【０００３】
上記の基板処理装置では通常基板を水平状態で保持・搬送して各処理ユニットで処理を施すが、近年、基板を傾斜状態で保持あるいは搬送しつつ基板に処理を施す装置が出現している。このように基板を傾斜姿勢として処理を行うと、処理液が基板の傾斜に沿って速やかに流下し、基板の処理効率が向上するというメリットが生じる。このため、最近は、基板を傾斜状態で処理する処理ユニットが増え、インラインシステムを構成する全ての処理ユニットを傾斜させる場合も多くなっている。
【０００４】
このように基板を傾斜姿勢で処理する基板処理装置の一例を図７に示す。この基板処理装置１は、液晶表示器用のガラス基板上に形成された薄膜にエッチングを施す装置であって、ローダ２と、基板姿勢変更装置３と、エッチングユニット４と、水洗処理ユニット５と、乾燥ユニット６と、基板姿勢変更装置７と、アンローダ８とから構成されている。
【０００５】
各ユニット４〜６は、基板を傾斜状態で保持・搬送して基板にそれぞれの処理を施す。一方、ローダ２に運ばれてくるカセットＣやアンローダ８から運び去られるカセットＣには基板が水平状態で収納されるので、基板姿勢変更装置３，７が基板の水平姿勢と基板の傾斜姿勢とを切り換えるために配備されている。基板姿勢変更装置３，７には、特開平９−１５５３０６号公報や特開平９−１５５３０７号公報に示されているような、基板を支持・搬送する搬送ローラを水平状態から傾斜状態に、あるいは傾斜状態から水平状態に変えることによって基板の姿勢を変更する方式の装置が採用されている。
【０００６】
ここでは、前工程からローダ２に運ばれてきたカセットＣ内の基板は、基板移載ロボット２ａのハンドによって取り出され、基板姿勢変更装置３内の水平状態となっている搬送ローラに載置される。そして、これらの搬送ローラが傾斜状態に変えられることで、基板姿勢変更装置３内で基板が水平姿勢から傾斜姿勢に変わる。その後基板は、傾斜姿勢のまま各ユニット４〜６に搬送されて処理を受け、基板姿勢変更装置７に移送される。ここで、基板の姿勢が傾斜姿勢から水平姿勢へと切り替えられ、アンローダ８の基板移載ロボット８ａのハンドにより基板姿勢変更装置７から水平姿勢の基板が取り出されて、アンローダ８のカセットＣに収納される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような基板を傾斜姿勢で処理する装置では、基板処理の処理効率や処理品質を向上させることができるが、処理の前後において基板の傾斜を水平状態と傾斜状態との間で変更する必要が生じる。このため従来においては、上記のように基板姿勢変更装置を配備して、この基板状態の変更を行っている。
【０００８】
しかしながら、このように基板姿勢変更装置を配備する場合、基板処理装置全体の占有床面積（フットプリント）が大きくなるというデメリットがある。
【０００９】
また、被処理基板、特にガラス基板は年々大型化しており、例えば幅が１ｍを超えるガラス基板を上記の基板姿勢変更装置で適当な角度に傾斜させるためには、搬送ローラを傾斜させるシリンダーストロークが数百ｍｍとなってしまう。これにより、基板の姿勢変更に時間が取られてしまいスループットが低下するという問題も生じてくる。
【００１０】
本発明の課題は、基板を傾斜姿勢として基板処理を行う基板処理装置の占有床面積を小さくすることにある。
【００１１】
また、本発明の別の課題は、基板を傾斜姿勢として基板処理を行う基板処理装置において、基板の姿勢変更に要する時間を短縮することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る基板処理装置は、基板処理部と、基板搬入／搬出部と、基板移載ロボットと、制御部とを備えている。基板処理部は、傾斜状態の基板に対して処理を行う傾斜処理ユニットを含んでいる。基板搬入／搬出部は、基板を水平状態で搬入する、あるいは基板を水平状態で搬出する、あるいは基板を水平状態で搬出入する部である。すなわち、基板搬入／搬出部は、基板搬入部、基板搬出部、基板搬出入部のいずれかである。基板移載ロボットは、基板搬入／搬出部と基板処理部との間で基板の移載を行う。この基板移載ロボットは、基板を保持する保持部を有している。また、この基板移載ロボットは、その保持部の姿勢を、水平状態で基板を保持する姿勢及び傾斜状態で基板を保持する姿勢に変えることができる。制御部は、基板搬入／搬出部と基板処理部の傾斜処理ユニットとの間で基板の移載を行う際に、保持部の姿勢を、基板を水平／傾斜状態で保持する姿勢から基板を傾斜／水平状態で保持する姿勢に変えさせる。そして、傾斜処理ユニットは、傾斜状態の基板の下端に当接し基板の傾斜方向下方への移動を抑えるサイドガイドと、基板の下面を支持する支持部材とを有している。また、制御部は、保持部により基板を保持して傾斜処理ユニットから基板搬出部へと基板を移載する際に、基板がサイドガイドから離反するように、支持部材に支持される基板の傾斜に対して垂直な向きよりも鉛直上向きに近い方向あるいは鉛直上向きに沿って基板を持ち上げる。
【００１３】
本装置では、基板移載ロボットの保持部の姿勢を切り換えることができるようにして、保持部に保持された基板の姿勢を水平状態あるいは傾斜状態にさせる。すなわち、基板搬入／搬出部と基板処理部との間で基板の受け渡しを行う基板移載ロボットに、基板の姿勢を変更させる機能を与えている。
【００１４】
このため、基板搬入／搬出部から傾斜処理ユニットへ、あるいは傾斜処理ユニットから基板搬入／搬出部へと基板を移す際に、従来設置していた基板姿勢変更装置のようなものを介さなくても、基板移載ロボットのみによって基板を移すことができるようになる。例えば基板搬入／搬出部から傾斜処理ユニットへと基板を移す際には、基板移載ロボットの保持部を水平状態で基板を保持できる姿勢にして基板搬入／搬出部から基板を取り出し、この保持部を傾斜状態で基板を保持する姿勢に変えた後に、傾斜処理ユニットへと基板を移載する。
【００１５】
このように、ここでは基板搬入／搬出部と基板処理部との間で基板の受け渡しを行う基板移載ロボットに基板の姿勢を変更させる機能を与えたので、基板の姿勢を変更させる別の装置が不要となり、基板処理装置の占有床面積を小さく抑えることができる。
【００１６】
なお、傾斜処理ユニットではなく基板を水平状態で処理する水平処理ユニットと基板搬入／搬出部との間で基板の移載を行う場合にもこの基板移載ロボットを使用することができ、この場合には、保持部の姿勢を変化させずに移載を行わせることになる。
【００１７】
また、ここでは、傾斜処理ユニットにおいては基板が傾斜状態にあり、通常基板搬入／搬出部には基板が水平状態で存在することに鑑み、これらの両者の間で基板を移載する際に、制御部によって保持部の姿勢を変えさせている。
【００１８】
さらに、本装置では、傾斜処理ユニットにおいて、基板は、下面を搬送ローラ等の支持部材に支持され、傾斜下端がサイドガイドによって支持されるが、この状態の基板を保持して基板移載ロボットが持ち上げる場合、基板の傾斜下端がサイドガイドに当接しているので、基板がサイドガイドと擦れ合ったり基板がサイドガイドと干渉する恐れがある。
【００１９】
そこで、ここでは、このような不具合を回避するために、傾斜処理ユニット内で支持部材に支持されている基板を持ち上げる際には、保持した基板がサイドガイドから離れるような向きに基板を持ち上げるように制御している。具体的には、支持部材によって支持されている基板の傾斜に対して垂直な向きよりも鉛直上向きに近い向き、あるいは鉛直上向きに基板を持ち上げさせている。このような制御により、基板移載ロボットによる基板移載の際に基板がサイドガイドと擦れ合うことが回避される。
【００２０】
請求項２に係る基板処理装置は、請求項１に記載の装置であって、基板移載ロボットの保持部は、基板を吸着することが可能である。また、保持部は、駆動手段によって所定の軸を中心に回動させられる。そして、制御部は、保持部の姿勢を水平状態で基板を保持する姿勢から傾斜状態で基板を保持する姿勢に、あるいは傾斜状態で基板を保持する姿勢から水平状態で基板を保持する姿勢に変えさせる際に、駆動手段によって前記の軸を中心として基板移載ロボットの保持部を回動させる。
【００２１】
本装置では、保持部が基板を吸着することができるようになっているため、保持部が基板を傾斜状態に保持する姿勢となったときにも、保持部は基板を位置ずれさせることなく確実に保持することができる。
【００２２】
また、保持部を所定の軸を中心として回動させることによって保持部の姿勢を変えさせる方式を採用しているため、基板の大きさが大きくなったときにも、同程度の時間で、保持部の姿勢変更、すなわち基板の姿勢変更を完了させることができる。すなわち、基板の大きさにかかわらず回動させる角度は一定であるため、基板が大きくなった場合にも短時間で基板の姿勢変更を終わらせることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
＜装置の全体構成＞
図１に本発明の一実施形態である基板処理装置１０を示す。基板処理装置１０は、液晶表示器用のガラスの基板上に形成された薄膜にエッチングを施す装置であって、主として、ローダ１２及びアンローダ１８と、基板移載ロボット２０と、基板処理部（エッチングユニット１４，水洗処理ユニット１５，乾燥ユニット１６）とから構成されている。各ユニット１４〜１６内には、図４及び図５に示す搬送ローラ（支持部材）４０及びサイドガイド５０が複数配備されている。また、各ユニット１４〜１６の下方の空間には、エッチングユニット１４に薬液を供給するための薬液槽や配管、水洗処理ユニット１５に純水を供給するための純水槽や配管、高圧空気・排気・排液・排水等の各種配管、制御装置や電気配線等が配置されている。
【００２４】
＜基板の各ユニットでの姿勢＞
本装置１０のエッチングユニット１４，水洗処理ユニット１５，及び乾燥ユニット１６では、搬送ローラ４０及びサイドガイド５０により、基板Ｗが傾斜状態で保持・搬送される（図４及び図５参照）。この基板Ｗの傾斜は、水平面Ｈに対して角度θだけ傾斜する傾斜である（図５参照）。そして角度θは、エッチングの効率等を考慮して、５゜〜１０゜の範囲で所定値に設定されている。
【００２５】
搬送ローラ４０は、図４に示すように基板搬送方向（図１の左から右に向かう方向）に直交して延びるもので、基板搬送方向に沿って概ね等間隔に複数配置されている。この搬送ローラ４０は、図５に示すように、水平面Ｈに対して角度θだけ傾斜する回転軸４１と、回転軸４１に固定される基板支持ローラ（支持部材）４２と、回転軸４１の上部に固定される鍔ローラ４３とから構成されている。回転軸４１は、その両端が各ユニットの側壁に軸受を介して回転自在に支持されている。また、図示しない搬送ローラ用駆動モータによって、複数の回転軸４１が回転させられる。基板支持ローラ４２は、基板Ｗの幅方向の両側部と中央部とを支持することができるように、回転軸４１の３箇所に固定されている（図４及び図５参照）。これらの基板支持ローラ４２の表面部分は、ゴムや合成樹脂等の基板Ｗに対する摩擦係数の大きな材料から構成されており、基板支持ローラ４２上で傾斜下方に基板Ｗが滑り難いようにしている。鍔ローラ４３は、回転軸４１の傾斜上部にある基板支持ローラ４２の上側において回転軸４１に固定される。この鍔ローラ４３は、円錐台形状であって、底面部分が基板支持ローラ４２よりも大径に設定されている。
【００２６】
サイドガイド５０は、図４に示すように、基板搬送方向において搬送ローラ４０の間に配置されている。このサイドガイド５０は、搬送ローラ４０の回転軸４１とは直交する方向に延びる支持軸５１と、この支持軸５１に回転自在に装着されている下端支持ローラ５２とを有している。下端支持ローラ５２は、その周面が基板Ｗの傾斜下端と接するような位置において、支持軸５１に軸受を介して装着されている。また、下端支持ローラ５２の回転軸は基板Ｗと直交する方向に延びているため、基板Ｗの搬送方向への移動に従って下端支持ローラ５２は基板搬送方向に沿って回転する。このサイドガイド５０は、下端支持ローラ５２が基板Ｗの下端に当接しこれを側方から支持することによって、基板Ｗの傾斜下方への移動を抑える役割を果たす。
【００２７】
＜基板移載ロボットの構成＞
基板移載ロボット２０は、ローダ１２及びアンローダ１８にそれぞれ配備されるものであって、ローダ１２にあるカセットＣからエッチングユニット１４への基板の移載、あるいは乾燥ユニット１６からアンローダ１８にあるカセットＣへの基板の移載を行うロボットである。この基板移載ロボット２０は、ローダ１２やアンローダ１８の各カセットＣにハンド部２１を出入りさせる必要があるため、基板搬送方向と直交する方向（図１の上下方向）に移動が可能にされている。これは、図２に示すロボット載置部材２８が図示しない駆動装置によってレール２９に沿って移動することにより為される。レール２９は図１の上下方向に沿って設けられており、ロボット載置部材２８及び基板移載ロボット２０は制御部（図示せず）からの指令によってレール２９に沿って移動する。
【００２８】
基板移載ロボット２０は、主として、本体部２６と、３つのアーム部２３，２４，２５と、水平軸回転部２２と、ハンド部（保持部）２１から構成されている。
【００２９】
本体部２６は、断面がＬ字型の上記のロボット載置部材２８に載置され固定されている。この本体部２６には、鉛直方向に延びる円柱部材２６ａと、この円柱部材２６ａを上下に移動させる駆動手段が組み込まれている。円柱部材２６ａの上端には、第１アーム部２５が平面的に回動自在に連結されている。第１アーム部２５は、図２の矢印Ａ５で示す方向に回転可能である。第１アーム部２５の円柱部材２６ａとの連結部とは反対側の端部には、その上側に配置される第２アーム部２４の一端が平面的に回動自在に連結されている。この第２アーム部２４は、図２の矢印Ａ４で示す方向に回転可能である。第２アーム部２４の他端には、その上側に配置される第３アーム部２３の一端が平面的に回動自在に連結されている。この第３アーム部２３は、図２の矢印Ａ３で示す方向に回転可能である。第３アーム部２３の他端には、水平に延びる回転軸２２ａを有するサーボモータ（駆動手段）が組み込まれた水平軸回転部２２が固定されている。回転軸２２ａは、図２の矢印Ａ２で示す方向に回転可能である。
【００３０】
回転軸２２ａには、図２に示すハンド部２１が装着されている。このハンド部２１は、制御部の指令によるサーボモータの回転軸２２ａの回動によって、図３の実線で示す水平状態と、図３の点線で示す傾斜状態とが切り替えられる。また、ハンド部２１は、その上面で基板Ｗを支持するときに、図示しない吸着ポンプを駆動させることによって基板Ｗを吸着させることができる。
【００３１】
＜装置の動作＞
前工程からローダ１２に運ばれてきたカセットＣには、複数の基板が水平姿勢で収容されている。まず制御部は、ローダ１２の基板移載ロボット２０を所定のカセットＣの正面に移動させ、各アーム部２３〜２５の動きを制御して、このカセットＣに基板移載ロボット２０のハンド部２１を進入させる。このときのハンド部２１の姿勢は水平状態としておく。そして、保持する基板の下面にハンド部２１を接触させ、円柱部材２６ａを上昇させることで基板を少し持ち上げた後に、ハンド部２１に基板を吸着させる。
【００３２】
次に、ハンド部２１を水平状態のままカセットＣから引き出させ、ハンド部２１の向きを反転させるとともに基板移載ロボット２０をエッチングユニット１４の正面に移動させる。
【００３３】
次に、水平軸回転部２２のサーボモータを制御して、水平状態のハンド部２１を傾斜させ、基板を水平面に対して角度θだけ傾いた傾斜状態とさせる。そして、制御部は、エッチングユニット１４の搬入口を閉めていたシャッター（図示せず）を開けて、図４に示すように図示しない搬入口からエッチングユニット１４の内部にハンド部２１を進入させる。このときには、図５の点線で示すように搬送ローラ４０の基板支持ローラ４２の上面よりも少し高い位置に基板Ｗが保持された状態で、基板Ｗを保持した傾斜姿勢のハンド部２１がエッチングユニット１４の内部に入る。
【００３４】
ハンド部２１をエッチングユニット１４内の所定位置まで進入させると、次に制御部は、ほぼ鉛直下方にハンド部２１を下降させ、基板Ｗが基板支持ローラ４２の接触するときにハンド部２１による基板Ｗの吸着を解除する。すると、基板Ｗはハンド部２１から基板支持ローラ４２に載り移る。この後も制御部はハンド部２１の下降を少しだけ続けさせ、図５に示すようにハンド部２１を基板Ｗと搬送ローラ４０の回転軸４１との間に位置させる。このときには、基板Ｗは、下面が各基板支持ローラ４２に支持され、傾斜下端がサイドガイド５０の下端支持ローラ５２に側方から支持されている状態となる。
【００３５】
この基板Ｗの搬送ローラ４０への移載の詳細な好適動作は、エッチングユニット１４内に進入したハンド部２１が下降を開始すると共に吸着を解除し、基板支持ローラ４２に当接したとき約０．５秒待機した後、更に下降するのが望ましい。こうすることにより、基板Ｗとハンド部２１との吸着状態がスムーズに解除される。
【００３６】
また、基板Ｗの基板支持ローラ４２への移載位置は、基板Ｗの傾斜下端がサイドガイド５０と約１ｍｍの隙間を保つ位置とされる。これにより、基板Ｗがハンド部２１上で少なからず傾斜し吸着された状態で移載が行われ、基板Ｗの四隅の角部がサイドガイド５０に当接した状態で基板Ｗの搬送が行われることが防止される。すなわち、角部が当接していると少なからず搬送抵抗となるが、サイドガイド５０と隙間を有することにより、駆動がかかり搬送が開始された時、サイドガイド５０に沿って傾斜下端がサイドガイド５０に当接するため、基板Ｗはスムーズに搬送される。
【００３７】
このように基板Ｗの搬送ローラ４０への移載が完了すると、制御部はエッチングユニット１４からハンド部２１を抜き出させる。このときには、ハンド部２１は傾斜姿勢を保ったまま、基板搬送方向に沿って同じ高さ位置でまっすぐ抜き出される。そして、ハンド部２１がエッチングユニット１４から出た後に、エッチングユニット１４の搬入口が閉められ、エッチングユニット１４での基板処理が始められる。
【００３８】
エッチングユニット１４では、エッチング用の薬液が基板に噴射され、基板表面上の薄膜が所定の厚さだけ食刻される。このようにエッチングされた基板は、次に水洗処理ユニット１５に送られて、基板に付着した薬液が洗い流される。そして、水洗処理を終えた基板は、乾燥ユニット１６でエアー吹き付けによる乾燥処理が行われた後に、アンローダ１８の基板移載ロボット２０によってアンローダ１８のカセットＣに収容される。
【００３９】
乾燥ユニット１６での処理を終えて搬送ローラ４０上に載置されている基板Ｗは、以下のようにして、ローダ１２のカセットＣからエッチングユニット１４に基板を移載するときの手順とは概ね逆の手順で、アンローダ１８のカセットＣに収容される。
【００４０】
乾燥ユニット１６の搬出口付近において搬出を待つ状態の基板Ｗは、図５に実線で示されているように搬送ローラ４０及びサイドガイド５０に支持されている。ここから基板Ｗを搬出する際には、まず基板移載ロボット２０のハンド部２１を乾燥ユニット１６の基板Ｗの下方に傾斜姿勢で進入させる。そして、図５に示す状態からハンド部２１をほぼ鉛直上方（図５の矢印Ａ２の向き）に上昇させ、基板Ｗに接触するときに基板Ｗをハンド部２１に吸着させる。そして、ハンド部２１の上昇により基板Ｗが図５の点線で示す高さ位置まで持ち上がると、ハンド部２１を乾燥ユニット１６から抜き出す。そして、ハンド部２１を反転させ、ハンド部２１を傾斜状態から水平状態に変えさせ、基板移載ロボット２０を所定のカセットＣの正面に移動させる。そして、ハンド部２１を所定の高さに合わせてカセットＣに進入させ、基板をカセットＣ内に載置させる。
【００４１】
この搬送ローラ４０及びサイドガイド５０に支持された基板Ｗの搬出の詳細な好適動作は、基板移載ロボット２０のハンド部２１の傾斜姿勢を、基板支持ローラ４２の傾斜角度にプラスアルファ（約１度加算）した角度に傾けた後、持ち上げる。ハンド部２１の吸着ポンプの駆動は、ハンド部２１の持ち上げ開始と同時で、基板Ｗにハンド部２１が接触したところで約０．５秒待機する。待機後、更にハンド部２１は上昇し、基板Ｗを搬送ローラ４０及びサイドガイド５０より完全に離脱させる。すなわち、基板Ｗの傾斜上端を若干持ち上げて、ハンド部２１に基板Ｗが確実に吸着される保持力を確保した状態で、基板Ｗの搬出を行う。
【００４２】
このようにアンローダ１８のカセットＣに収納された基板は、カセットＣごと次工程に運ばれていく。
【００４３】
＜装置の特徴＞
（１）
本装置１０では、基板移載ロボット２０のハンド部２１の姿勢を変えることができるように構成し、ハンド部２１に保持された基板の姿勢を水平状態あるいは傾斜状態にさせている。すなわち、ローダ１２やアンローダ１８のカセットＣと傾斜姿勢の基板に処理を施すユニット１４，１６との間で基板の受け渡しを行う基板移載ロボット２０に、基板の傾斜状態を変更させる機能を与えている。
【００４４】
このため、カセットＣからエッチングユニット１４へ、あるいは乾燥ユニット１６からカセットＣへと基板を移す際に、従来設置していた基板姿勢変更装置のようなものを介さなくても、基板移載ロボット２０のみによって基板の姿勢を変化させて基板を移載することができるようになっている。したがって、本装置１０では、図１と図７とを対比比較すればわかるように、基板の姿勢を変更させるための装置３，７（図７参照）に相当するものがなくなっており、占有床面積が小さく抑えられている。
【００４５】
（２）
本装置１０では、ハンド部２１に単に基板を載置させるだけではなく、ハンド部２１に基板を吸着させるように構成している。このため、ハンド部２１が基板を傾斜状態に保持する姿勢となったときにも、ハンド部２１は基板を位置ずれさせることなく確実に保持することができる。
【００４６】
（３）
本装置１０では、ハンド部２１をサーボモータの回転軸２２ａを中心として回動させることによって、ハンド部２１の姿勢を変えさせる方式を採用している（図３参照）。このため、基板の大きさが大きくなったときにも、ハンド部２１の姿勢変更、すなわち基板の姿勢変更にかかる時間を短く抑えることが容易である。すなわち、基板の大きさが大きくなっても回転軸２２ａを回動させる角度は変わらないため、基板が大きくなった場合にも短時間で基板の姿勢変更を完了させることができる。
【００４７】
（４）
本装置１０では、乾燥ユニット１６において、基板Ｗは、下面を搬送ローラ４０の基板支持ローラ４２に支持され、傾斜下端をサイドガイド５０の下端支持ローラ５２によって支持されている（図５参照）。そして、この状態の基板Ｗをハンド部２１により持ち上げさせる場合に、制御部は、基板Ｗを保持したハンド部２１を基板の傾斜に対して垂直な方向（図５の矢印Ａ１の向き）に持ち上げるのではなく、概ね鉛直方向（図５の矢印Ａ２の向き）に持ち上げている。このため、基板Ｗは、下端支持ローラ５２から離れるように上昇する。したがって、基板Ｗが基板支持ローラ４２から持ち上げられるときに、基板Ｗの傾斜下端が下端支持ローラ５２と擦れ合ったり、基板Ｗが下端支持ローラ５２に干渉して損傷するというような不具合が発生しない。
【００４８】
［他の実施形態］
（Ａ）上記実施形態においては、基板搬入部であるローダ１２のカセットＣからエッチングユニット１４に基板を移載する基板移載ロボット２０、及び乾燥ユニット１６から基板搬出部であるアンローダ１８のカセットＣに基板を移載する基板移載ロボット２０を有する基板処理装置１０を記載しているが、本発明はローダ１２とアンローダ１８との役割を兼ねたインデクサー（基板搬出入部）１１２により基板を搬出入する基板処理装置にも適用することが可能である。
【００４９】
図６に示す基板処理装置は、処理ユニット１１４〜１１６及び処理ユニット１１８〜１２０を備え、インデクサー１１２のカセットＣから処理ユニット１１４に搬入された基板を各処理ユニット１１５，１１６，１１８，１１９，１２０に順次搬送しながら基板処理を行い、処理ユニット１２０からインデクサー１１２のカセットＣに基板を戻すＵターン型の基板処理装置である。各処理ユニットは基板を傾斜させて処理を行う処理ユニットであり、処理ユニット１１６，１１８間は、基板を傾斜状態に保持して横にスライドさせるスライダー１１７によって結んでいる。
【００５０】
ここでは、上記実施形態で説明したものと同じ構成の基板移載ロボット２０が、インデクサー１１２のカセットＣから処理ユニット１１４への基板の移載と処理ユニット１２０からインデクサー１１２のカセットＣへの基板の移載との両方を行う。この移載の手順については、上記実施形態におけるローダ１２のカセットＣからエッチングユニット１４への基板の移載、乾燥ユニット１６からアンローダ１８のカセットＣへの基板の移載と同様である。
【００５１】
（Ｂ）上記実施形態においてはハンド部２１に吸着させた基板Ｗを水平状態でカセットＣから処理ユニット側へ反転させているが、この反転動作中にハンド部２１を傾斜状態へと駆動制御してもよい。
【００５２】
【発明の効果】
本発明では、基板搬入／搬出部と基板処理部との間で基板の受け渡しを行う基板移載ロボットに基板の姿勢を変更させる機能を与えたので、基板の姿勢を変更させる別の装置が不要となり、基板処理装置の占有床面積を小さく抑えることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成図。
【図２】基板移載ロボットの斜視図。
【図３】基板移載ロボットの正面図。
【図４】基板移載ロボットの動作一状態図。
【図５】搬送ローラ等の正面図。
【図６】他の実施形態の基板処理装置の概略構成図。
【図７】従来の基板処理装置の概略構成図。
【符号の説明】
１０基板処理装置
１２ローダ（基板搬入部）
１４エッチングユニット（傾斜処理ユニット）
１６乾燥処理ユニット（傾斜処理ユニット）
１８アンローダ（基板搬出部）
２０基板移載ロボット
２１ハンド部（保持部）
２２ａ回転軸（軸）
４０搬送ローラ（支持部材）
４２基板支持ローラ（支持部材）
５０サイドガイド
５２下端支持ローラ
１１２インデクサー（基板搬出入部）
１１４，１２０処理ユニット（傾斜処理ユニット）

Claims

傾斜状態の基板に対して処理を行う傾斜処理ユニットを含む基板処理部と、
水平状態で基板を搬入／搬出する基板搬入／搬出部と、
前記基板搬入／搬出部と前記基板処理部との間で基板の移載を行うロボットであって、基板を保持する保持部を有し、基板を水平状態で保持する姿勢及び基板を傾斜状態で保持する姿勢に保持部の姿勢を変えることができる基板移載ロボットと、
前記基板搬入／搬出部と前記基板処理部の傾斜処理ユニットとの間で基板の移載を行う際に、前記保持部の姿勢を、基板を水平／傾斜状態で保持する姿勢から基板を傾斜／水平状態で保持する姿勢に変えさせる制御部と、
を備え、
前記傾斜処理ユニットは、傾斜状態の基板の下端に当接し基板の傾斜方向下方への移動を抑えるサイドガイドと、基板の下面を支持する支持部材とを有しており、
前記制御部は、前記保持部により基板を保持して前記傾斜処理ユニットから前記基板搬出部へと基板を移載する際に、基板が前記サイドガイドから離反するように、前記支持部材に支持される基板の傾斜に対して垂直な向きよりも鉛直上向きに近い方向あるいは鉛直上向きに沿って基板を持ち上げることを特徴とする、
基板処理装置。
前記保持部は、基板を吸着することが可能であって、駆動手段によって所定の軸を中心に回動させられるものであり、
前記制御部は、前記保持部の姿勢を、水平／傾斜状態で基板を保持する姿勢から傾斜／水平状態で基板を保持する姿勢に変えさせる際に、前記駆動手段によって前記軸を中心として前記保持部を回動させる、
請求項１に記載の基板処理装置。