JP3638456B2 - 基板姿勢変更装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板処理のプロセスにおいて基板の姿勢を変更する必要がある場合に用いられる基板姿勢変更装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
基板処理装置は、一般に、基板に処理液を供給して処理を施す複数の処理部、例えば、薬洗部、水洗部、乾燥部等を有している。この基板処理装置では、基板を搬送ローラ等の搬送手段によって各処理部に運び、各処理部において基板に処理を施す。
【0003】
このような基板処理装置においては、通常基板を水平状態で保持・搬送して各処理部で処理を施すが、本願出願人は、特開平9−226916号公報等において、基板を傾斜状態で保持あるいは搬送しつつ基板に処理を施す技術を提案している。上記公報の基板処理装置では、基板は、ロボット等の上流引継ぎ手段を介して基板導入部(基板受入れ装置,入口側移載装置)に移され、搬送ローラによって薬洗部、水洗部、乾燥部等を有する処理装置本体に搬送される。この処理装置本体では基板は傾斜姿勢で処理を受けるようにされている。そして、上流引継ぎ手段から水平状態で受け渡された基板を処理装置本体に傾斜状態で送ることができるように、入口側移載装置を基板導入部に設けて、これにより基板の姿勢変更をさせている。
【0004】
この入口側移載装置は、搬送ローラ自体を水平状態から傾斜状態に変えることによって基板の姿勢を変更する方式の装置である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように基板を搬送方向に搬送するために設けられている搬送ローラ自体の状態を変更させる方式を採用する場合には、姿勢変更の装置が複雑となりコストがかかる傾向にある。
【0006】
また、上記の移載装置の場合には、上流引継ぎ手段が基板受入れ装置に対して平面的に精度よく基板を載置しなければ基板が平面的に傾いた状態で搬送されることになって基板処理に不都合が生じる恐れがあるため、前記の精度が高いレベルで求められる。
【0007】
本発明の課題は、簡易な構造で基板の姿勢を変更することのできる基板傾斜変更装置を提供し、さらには基板傾斜変更装置自身に基板の位置を平面的に整える機能を付加させることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1に係る基板姿勢変更装置は、基板を水平姿勢で保持しカセットに対して出し入れするロボットと、基板を傾斜させた状態で処理するために基板を傾斜状態で支持して搬送する搬送手段との間で、基板の姿勢を変更して受け渡しする装置であって、傾斜支持手段と、水平支持手段と、昇降手段とを備えている。傾斜支持手段は、基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持する。水平支持手段は、基板が実質的に水平状態である状態でロボットとの間で基板を受け渡しし、またその基板を支持して、傾斜支持手段に対して相対的に昇降する。昇降手段は、水平支持手段を傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる。
【0009】
本請求項に係る装置では、基板を水平状態から傾斜状態に姿勢変更するときには、傾斜支持手段よりも高い位置に保持された水平支持手段に基板を載置し、水平支持手段を傾斜支持手段に対して相対的に下降させる。すると、水平支持手段による基板の支持位置が傾斜支持手段による基板の支持位置よりも低くなるときに、基板が徐々に水平支持手段から傾斜支持手段へと移載される。一方、基板を傾斜状態から水平状態に姿勢変更するときには、傾斜支持手段に基板を載置し、水平支持手段を傾斜支持手段に対して相対的に上昇させる。すると、水平支持手段による基板の支持位置が傾斜支持手段による基板の支持位置よりも高くなるときに、基板が徐々に傾斜支持手段から水平支持手段へと移載される。
【0010】
ここでは、基板支持の姿勢が異なる2つの支持手段に基板を載せ変えることによって基板の姿勢を変更させており、その方法として両支持手段を相対的に昇降させるという簡易な方法を採用している。したがって、基板を支持する1つの支持手段自身の姿勢を変更することによって基板の姿勢も合わせて変更させる方法に較べて、傾斜角度や水平度の精度を確保するために駆動系を細かく制御することなく、傾斜状態及び水平状態をそれぞれ安定させることができる。すなわち、支持手段自身の姿勢を水平状態にしたり傾斜状態にしたりする場合にはその角度の精度を確保するように駆動系を制御する必要があるが、本装置では各支持手段の姿勢は一定であるため、昇降手段の制御をそれほどシビアに行う必要はない。
【0011】
請求項2に係る基板姿勢変更装置は、請求項1に記載の装置であって、サイドガイドをさらに備えている。サイドガイドは、傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得るものである。
【0012】
本請求項に係る装置では、サイドガイドを設けているため、水平支持手段に基板が支持されているときに基板をサイドガイドに当てるようにして基板を平面的に整える(以下、平面整列させるという。)ことができる。また、基板が傾斜状態となっているときに基板を傾斜下方にスライドさせることによってサイドガイドに当てて平面整列させることもできる。
【0013】
請求項3に係る基板姿勢変更装置は、傾斜支持手段と、水平支持手段と、昇降手段と、サイドガイドと、補助支持手段とを備えている。傾斜支持手段は、基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持し、水平面に対する前記所定の傾斜を有する傾斜軸を中心に回転して傾斜軸と直交する方向に基板を搬送する複数の搬送ローラを有している。水平支持手段は、基板が実質的に水平状態となるように基板を支持して、傾斜支持手段に対して相対的に昇降する。昇降手段は水平支持手段を傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる。サイドガイドは傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得る。補助支持手段は、基板が水平支持手段から傾斜支持手段へと載り移る際あるいは基板が傾斜支持手段から水平支持手段へと載り移る際に、傾斜する基板の上部を支持しつつ、基板が搬送ローラの傾斜軸方向に沿った下向きに移動するのを許容するものである。
【0014】
傾斜支持手段は傾斜状態の基板を支持するものであるため、原則として傾斜支持手段上で基板が自重によって傾斜下方にスライドすることはない。しかしながら、両支持手段間を基板が載り移るときには、通常基板の傾斜上部が傾斜支持手段に支持され基板の傾斜下部が水平支持手段に支持される状態が生じる。このときには、必ずしも基板がスライドしないよう手当てされているとは限らない水平支持手段に一部が支持されている状態であるため、たとえ一部が傾斜支持手段に支持されていても基板が傾斜下方にスライドする恐れがある。そして、このときに基板がスライドするか否かは不確定であり、スライドするか否か及びスライドする量によって載り移った後の基板の平面的な位置が変わってしまう。基板の姿勢を変更することによってこのようにランダムに基板の平面的な位置が変わってしまうのでは、基板の搬送やその後の処理に支障を来す恐れが高い。
【0015】
本請求項に係る装置では、請求項1の構成及び請求項2の構成に加えて、傾斜手段が、傾斜軸を中心に回転して傾斜軸と直交する方向に基板を搬送する複数の搬送ローラを有している。そしてさらに補助支持手段を設け、基板が両支持手段間を載り移る際に傾斜する基板の上部を支持させ、ここでの基板が搬送ローラの傾斜軸方向に沿った下向きに移動するのを許容するようにしている。これにより、両支持手段間を基板が載り移るときに、基板の傾斜上部が補助支持手段に支持され基板の傾斜下部が水平支持手段に支持される状態、すなわち基板が傾斜支持手段に支持されていない状態が生じる。この状態では概ね基板が傾斜下方にスライドすることになるため、基板の下端がサイドガイドに当接して基板が平面整列される。すなわち、基板はサイドガイドによって平面的に位置決めされた状態で傾斜支持手段あるいは水平支持手段に支持されることになる。
【0016】
このように、本請求項に係る装置では、基板の支持位置がより安定する。
【0017】
請求項4に係る基板姿勢変更装置は、請求項3に記載の装置であって、補助支持手段の基板を支持する部分は、平面視におけるその位置において、傾斜支持手段よりも上方にある状態と傾斜支持手段よりも下方にある状態とが切り替えられる。
【0018】
本請求項に係る装置では、基板を水平支持手段から傾斜支持手段に載せ移す際に、基板をスライドさせるため、まず補助支持手段を傾斜支持手段よりも上方に位置させ載り移り始めに基板の傾斜上部が傾斜支持手段に載らないようにする。そして、水平支持手段が基板を支持しなくなるまで傾斜支持手段に対して相対的に下降し基板の傾斜下部が傾斜支持手段に支持されるようになった後に、補助支持手段を傾斜支持手段よりも下方に移動させ、傾斜支持手段のみにより基板を支持させるようにする。
【0019】
一方、基板を傾斜支持手段から水平支持手段に載せ移すときには、まず補助支持手段を傾斜支持手段よりも上方に位置させて基板の傾斜上部を補助支持手段で支持するようにする。そして、水平支持手段を傾斜支持手段に対して相対的に上昇させる。すると、水平支持手段及び補助支持手段により保持されているときに基板がスライドする。そして、補助支持手段が基板を支持しなくなるまで傾斜支持手段に対して水平支持手段が相対的に上昇すれば、基板が水平支持手段のみにより支持されるようになる。
【0020】
請求項5に係る基板姿勢変更装置は、請求項3又は4に記載の装置であって、補助支持手段は、基板を支持する部分に第1回転体を有している。この第1回転体は、傾斜により側方に移動する基板の移動方向に沿った回転が可能なものである。
【0021】
本請求項に係る装置では、補助支持手段の基板を支持する部分に第1回転体を配備して、第1回転体の回転によって側方への基板のスライドがより確実に為されるようにしている。
【0022】
請求項6に係る基板姿勢変更装置は、傾斜支持手段と、水平支持手段と、昇降手段と、サイドガイドとを備えている。傾斜支持手段は基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持する。水平支持手段は、基板が実質的に水平状態となるように基板を支持して、傾斜支持手段に対して相対的に昇降する。昇降手段は水平支持手段を傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる。サイドガイドは傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得る。そして、サイドガイドは、水平支持手段と一体となり、昇降手段によって傾斜支持手段に対して相対的に昇降する。
【0023】
サイドガイドを水平支持手段と一体化することによって、両支持手段間で基板を移載する際の水平支持手段に支持されており且つ傾斜状態である基板の下端を確実に支えることができる。
【0024】
請求項7に係る基板姿勢変更装置は、請求項6の装置と同様の、傾斜支持手段と、水平支持手段と、昇降手段と、サイドガイドと、基板水平移動手段とを備えている。基板水平移動手段は、水平支持手段に支持されている基板を水平に側方に移動させ、基板の端縁をサイドガイドに当接させる。
【0025】
本請求項に係る装置では、例えば別の装置によって水平支持手段上に載せられた基板の平面的な位置がずれている場合にも、あるいは傾斜支持手段から水平支持手段に載り移るときに基板の平面的な位置がすれている場合にも、基板水平移動手段によって水平支持手段上の基板をスライドさせてサイドガイドに当接させることによって、強制的に基板を平面整列させることができる。このように、本装置では、基板の平面的な位置のずれがより確実に修正されるようになって、後工程における基板処理に悪影響を与えることが無くなる。
【0026】
請求項8に係る基板姿勢変更装置は、請求項6の装置と同様の、傾斜支持手段と、水平支持手段と、昇降手段と、サイドガイドとを備え、傾斜支持手段は複数の搬送ローラを有している。これらの搬送ローラは、水平面に対する所定の傾斜を有する傾斜軸を中心に回転して、傾斜軸と直交する方向に基板を搬送する。また、サイドガイドは、基板の端縁に当接する部分に第2回転体を有している。この第2回転体は、搬送ローラによる基板の搬送方向に沿った回転が可能なものである。
【0027】
本請求項に係る装置では、傾斜支持手段が基板を搬送する搬送機能を兼ね備えており、傾斜軸を直交する方向に基板を搬送する。そして、基板はサイドガイドにより平面的に位置決めされるが、このサイドガイドとの摩擦により搬送される基板が損傷したり基板搬送を妨げたりすることを抑えるように、サイドガイドの基板に当接する部分に第2回転体を配している。この第2回転体は基板の搬送方向に沿った回転をするため、基板は第2回転体と接触しながらスムーズに搬送されることになる。すなわち、第2回転体の回転により基板とサイドガイドとの摩擦抵抗が少なくなって、サイドガイドの存在による基板の損傷や基板搬送の妨げが殆どなくなる。
【0028】
請求項9に係る基板姿勢変更装置は、請求項8に記載の装置であって、水平支持手段は複数の棒状部材を有している。これらの棒状部材は、平面視において搬送ローラと重ならない位置に配置され、概ね鉛直方向に延びている。また、棒状部材は、基板に当接するその上端に球状面が形成されている。
【0029】
上記のように、両支持手段間を基板が載り移るときには、基板の傾斜上部が補助支持手段に支持され基板の傾斜下部が水平支持手段に支持される状態となり、このときに基板が傾斜下方にスライドして基板の下端がサイドガイドに当接し基板が平面整列される。
【0030】
本請求項に係る装置では、水平支持手段の複数の棒状部材の上端に球状面を形成しているので、水平支持手段についても補助支持手段と同様に基板が側方へスライドし易いようになっている。これにより、基板が傾斜下方により確実にスライドするようになり、基板の平面整列がより確実に為される。さらに、棒状部材の基板と当接する上端が球状面となっているため、スライドするときに基板が傷つくことが抑えられる。
【0031】
また、棒状部材が搬送ローラと平面的に重ならないように鉛直方向に延びているため、水平支持手段と傾斜支持手段とが基板の受け渡し時に干渉しない。
【0032】
請求項10に係る基板姿勢変更装置は、請求項8に記載の装置であって、水平支持手段は複数の棒状部材を有している。これらの棒状部材は、平面視において搬送ローラと重ならない位置に配置され、概ね鉛直方向に延びている。また、棒状部材は、基板に当接するその上端が樹脂により形成されている。
【0033】
上記のように、両支持手段間を基板が載り移るときには、基板の傾斜上部が補助支持手段に支持され基板の傾斜下部が水平支持手段に支持される状態となり、このときに基板が傾斜下方にスライドして基板の下端がサイドガイドに当接し基板が平面整列される。
【0034】
本請求項に係る装置では、水平支持手段の複数の棒状部材の上端を樹脂により形成して基板との摩擦抵抗が小さくなるようにしているので、水平支持手段についても補助支持手段と同様に基板が側方へスライドし易いようになっている。これにより、基板が傾斜下方により確実にスライドするようになり、基板の平面整列がより確実に為される。さらに、棒状部材の基板と当接する上端が樹脂により形成されているため、スライドするときに基板が傷つくことが抑えられる。
【0035】
また、棒状部材が搬送ローラと平面的に重ならないように鉛直方向に延びているため、水平支持手段と傾斜支持手段とが基板の受け渡し時に干渉しない。
【0036】
請求項11に係る基板姿勢変更装置は、請求項8に記載の装置であって、水平支持手段は複数の棒状部材を有している。これらの棒状部材は、平面視において搬送ローラと重ならない位置に配置され、概ね鉛直方向に延びている。また、棒状部材は、基板に当接するその上端に第3回転体を有している。この第3回転体は、傾斜により側方に移動する基板の移動方向に沿った回転が可能なものである。
【0037】
上記のように、両支持手段間を基板が載り移るときには、基板の傾斜上部が補助支持手段に支持され基板の傾斜下部が水平支持手段に支持される状態となり、このときに基板が傾斜下方にスライドして基板の下端がサイドガイドに当接し基板が平面整列される。
【0038】
本請求項に係る装置では、水平支持手段の複数の棒状部材の上端に第3回転体を配して基板との摩擦抵抗が小さくなるようにしているので、水平支持手段についても補助支持手段と同様に基板が側方へスライドし易いようになっている。これにより、基板が傾斜下方により確実にスライドするようになり、基板の平面整列がより確実に為される。さらに、棒状部材の基板と当接する上端の第3回転体が基板のスライドに従って回転するため、スライドするときに基板が傷つくことが抑えられる。
【0039】
また、棒状部材が搬送ローラと平面的に重ならないように鉛直方向に延びているため、水平支持手段と傾斜支持手段とが基板の受け渡し時に干渉しない。
【0040】
【発明の実施の形態】
<装置の全体構成>
図1に本発明の一実施形態である基板姿勢変更装置3,7を含む基板処理装置1を示す。基板処理装置1は、液晶表示器用のガラスの基板W上に形成された薄膜にエッチングを施す装置であって、主として、基板姿勢変更装置3と、エッチングチャンバー4と、水洗処理チャンバー5と、乾燥チャンバー6と、基板姿勢変更装置7とから構成されている。各チャンバー4〜6内には搬送ローラが配備されており、各チャンバー4〜6の下方の空間には、エッチングチャンバー4に薬液を供給するための薬液槽や配管、水洗処理チャンバー5に純水を供給するための純水槽や配管、高圧空気・排気・排液・排水等の各種配管、制御装置や電気配線等が配置される。
【0041】
基板姿勢変更装置3,7は、基板の水平姿勢と傾斜姿勢とを切り替える。エッチングチャンバー4,水洗処理チャンバー5,及び乾燥チャンバー6は、基板を傾斜状態で保持・搬送して基板にそれぞれの処理を施す。
【0042】
<装置の動作概略>
前工程からローダ2に運ばれてきたカセットCからロボット2aのハンドによって取り出された基板は、このロボット2aのハンドによって水平状態で基板姿勢変更装置3に載置される。
【0043】
基板姿勢変更装置3では、基板の姿勢を、水平姿勢から傾斜姿勢へと切り替える。その後基板は、基板姿勢変更装置3内の搬送ローラ及びエッチングチャンバー4内の搬送ローラによって、エッチングチャンバー4に移動する。
【0044】
エッチングチャンバー4では、エッチング用の薬液が基板に噴射され、基板表面上の薄膜が所定の厚さだけ食刻される(図2参照)。このようにエッチングされた基板は、次に水洗処理チャンバー5に送られて、基板に付着した薬液が洗い流される。そして、水洗処理を終えた基板は、乾燥チャンバー6でエアー吹き付けによる乾燥処理が行われた後に、基板姿勢変更装置7に移送される。
【0045】
なおここでは、基板Wは各チャンバー4〜6において所定の傾斜状態とされて処理・搬送される(図2参照)。この基板の傾斜は、基板搬送方向(図1の左から右へ向かう方向)と直交する面と基板との交線が水平面Hに対して角度θ1だけ傾斜するような傾斜である(図2の角度θ1参照)。角度θ1は、エッチングの効率等を考慮して、5゜〜10゜の範囲で所定値に設定されている。
【0046】
基板姿勢変更装置7に搬送された基板は、ここで姿勢が傾斜姿勢から水平姿勢へと切り替えられる。そして、アンローダ12のロボット12aのハンドにより基板姿勢変更装置7から取り出された基板は、アンローダ12のカセットCに収納され次工程に運ばれていく。
【0047】
<基板姿勢変更装置の構成>
次に、基板姿勢変更装置3,7について説明する。
【0048】
基板姿勢変更装置3は、ローダ2のロボット2aから基板を水平姿勢で受け取り、これを傾斜姿勢に変えてエッチングチャンバー4に送り出す装置であり、基板姿勢変更装置7は、乾燥チャンバー6から傾斜姿勢で搬送されてきた基板を収容して、これを水平姿勢に変えてアンローダ12のロボット12aに取り出させる装置である。したがって、動作(制御)が概ね逆になるという点を除き、構造等については両装置3,7とも同様のものとなっている。
【0049】
基板姿勢変更装置3,7は、図3及び図4に示すように、主として、傾斜状態で固定されている複数の搬送ローラ(傾斜支持手段)30と、平面的に搬送ローラ30間に配置されている12本のリフトピン41a,41b,41c,41dを含む水平支持構造体(水平支持手段)と、この水平支持構造体を上下動させるエアーシリンダ(昇降手段)51と、サイドガイドローラ(サイドガイド;第2回転体)60と、高さ位置が可変である補助支持ローラ(第1回転体)71を含む補助支持機構(補助支持手段)70と、プッシャー(基板水平移動手段)49とを備えている。
【0050】
搬送ローラ30は、搬送方向(図4の左右方向)に沿って等間隔に並べられており、図3に示すように水平面に対して傾斜した状態でケーシング83の側壁に回転自在に支持されている。この傾斜角度は、上記の角度θ1に合わせられている。また、ケーシング83は、足部材82により接地されている台座81にフレーム84によって固定されている。
【0051】
これらの搬送ローラ30は、図4に示すように、回転軸32と、回転軸32に固着されている4つの基板支持部31a,31b,31c,31dとから構成されている。基板支持部31aは回転軸32の傾斜下部に固着されており、基板支持部31dは回転軸32の傾斜上部に固着されている。回転軸32は、ケーシング83の側壁外側に設けられているモータ35(図3参照)により図示しないギア機構を介して回転させられる。
【0052】
水平支持構造体は、リフトピン41a,41b,41c,41dの他、これらのリフトピン41a,41b,41c,41dの下端が固定される井桁状のフレーム42、ケーシング83の底面の開口を通って鉛直方向に延び上端にフレーム42が固定されている結合部材43、エアーシリンダ51のピストン先端と結合部材43とを結ぶ中間板44,中間板44から下方に延びて水平支持構造体を上下方向に案内し、かつ水平支持構造体の揺動を防ぐガイドロッド45等から成る構造体である。この水平支持構造体は、台座81に固定されたエアーシリンダ51により上下動をする。エアーシリンダ51の上部は、台座81から延びる固定部材52によって固定されている。この固定部材52にはまたガイド筒部材53が固定されており、ガイド筒部材53をガイドロッド45が貫通している。
【0053】
12本のリフトピン41a,41b,41c,41dは、処理する基板を保持できる位置に、具体的には図4に示す平面位置に配置されている。これらのリフトピン41a,41b,41c,41dは、図3に示すように基板Wを保持することができる。これらのリフトピン41a,41b,41c,41dは、それぞれ上端に回転自在なローラ(第3回転体)40を有しており、基板Wの横方向(図3の左右方向)へのスライドを許容する(図8参照)。各リフトピン41a,41b,41c,41dのローラ40の上端は概ね同じ高さに設定されており、基板Wがリフトピン41a,41b,41c,41dに水平状態で支持されるようになっている。なお、9つのリフトピン41b,41c,41dだけで基板Wを支持することが可能であるが、基板Wの垂れ変形を抑えるために、3つのリフトピン41aが基板Wの傾斜下端に近い傾斜下部を支持できる位置に配置されている。
【0054】
エアーシリンダ51は、上記のリフトピン41a,41b,41c,41dを含む水平支持構造体を上昇及び下降させるために、ケーシング83の下方に配置されている。
【0055】
サイドガイドローラ60は、水平支持構造体のフレーム42に3つ固定されており、リフトピン41a,41b,41c,41dとともに上昇あるいは下降する。このサイドガイドローラ60は、基板Wがリフトピン41a,41b,41c,41dに支持されている図3及び図8に示す状態のときも、基板Wが搬送ローラ30により支持されている図7及び図10(E)に示す状態のときも、常に基板Wの傾斜下端を側方から支持することができる位置に配される。サイドガイドローラ60の回転軸は、搬送ローラ30に支持されている傾斜状態の基板Wの表面に直交するような向きに延びており(図10(E)参照)、サイドガイドローラ60が基板の搬送方向に沿った回転をするようにされている。
【0056】
補助支持機構70は、図4に示すように、基板搬送方向(図4の左右方向)に延びる軸72と、ケーシング83の前壁及び後壁に固定され軸72の両端を回転自在に支持する軸受73と、軸72とリンクしてその動きにより軸72を所定角度だけ回動させることができるレバー部材74と、ケーシング83の外部に配されレバー部材74を動かす図示しない駆動装置と、搬送ローラ30間において軸72から上方に延びるローラ支持部材71aに回転自在に支持される補助支持ローラ71とから構成されている。この補助支持機構70では、図示しない制御部からの指令によって駆動装置が作動しレバー部材74が動かされると、軸72が回動して、補助支持ローラ71の位置が、図3及び図8に示す状態から図7及び図10(E)に示す状態に、あるいはその逆に変化する。すなわち、補助支持ローラ71の高さ位置は、平面視におけるその位置において、搬送ローラ30よりも上方にある状態(図3及び図8等参照)と搬送ローラ30よりも下方にある状態(図7及び図10等参照)とが切り替えられる。補助支持ローラ71は、傾斜する基板Wが傾斜下方にスライドするときにその方向に回転するローラであり、その回転軸は基板搬送方向に延びている。
【0057】
プッシャー49は、リフトピン41a,41b,41c,41dに支持された基板Wをサイドガイドローラ60に向けて水平方向に押すための手段であって、図示しないエアーシリンダにより作動する。このプッシャー49は、図4に示すように、基板Wを押す部分が基板搬送方向に沿って等間隔に3つ設けられている。図8(A)に示す状態がプッシャー49のホームポジションであり、ここから図8(B)に示すように基板Wがサイドガイドローラ60に当接するまでプッシャー49が基板Wを押す。
【0058】
なお、図示しないが、ケーシング83のローダ2/アンローダ12側の端面にはロボット2a/12aのハンド及び水平姿勢の基板が通過することのできる開口が形成されており、ケーシング83のエッチングチャンバー4/乾燥チャンバー6側の端面には傾斜姿勢の基板が通過することのできる開口が形成されている。
【0059】
<基板姿勢変更装置の動作・制御>
基板姿勢変更装置3がローダ2から基板Wを受け取るときには、図3及び図8(A)に示すようにリフトピン41a,41b,41c,41dが搬送ローラ30の基板支持部31a,31b,31c,31dよりも高い位置に位置するようにされており、図8(A)に示すようにプッシャー49がホームポジションに位置している。
【0060】
ローダ2のロボット2aのハンドに水平状態で保持された基板Wは、このハンドが基板姿勢変更装置3内に入って下降することで、リフトピン41a,41b,41c,41d上に載り移る(図8(A)参照)。このようにリフトピン41a,41b,41c,41d上に基板Wが載置されたことは、図示しない基板検出センサによって検知され、この検知結果を受けて制御部がプッシャー49に作動指令を発する。
【0061】
プッシャー49は、図8(B)に示すように基板Wを水平方向に押して、基板Wの一端縁をサイドガイドローラ60に当接させる。これにより、図11に2点鎖線で示す基板Wのように平面的に傾いた状態でリフトピン41a,41b,41c,41d上に載置されて、基板Wとサイドガイドローラ60との間に図8(A)に示すような隙間Sが存在する場合にも、この基板Wがサイドガイドローラ60を位置決め基準として平面的に整列される。なお、リフトピン41a,41b,41c,41dの上端にはローラ40が配されているため、基板Wのサイドガイドローラ60側への移動はスムーズに行われる。
【0062】
このようにして基板Wの整列を終えると、制御部は、プッシャー49をホームポジションに戻して、エアーシリンダ51に水平支持構造体を下降させる指令を発する。このときには、補助支持機構70の補助支持ローラ71の高さ位置が、搬送ローラ30の基板支持部31d及び回転軸32よりも上方にある状態とされている(図8(B)参照)。
【0063】
水平支持構造体、すなわちリフトピン41a,41b,41c,41dが下降していくと、リフトピン41dの上端の高さが補助支持ローラ71の上端の高さよりも低くなった段階で、基板Wは一端近傍がリフトピン41aに他端近傍が補助支持ローラ71に支持される状態となって傾斜し始める(図5及び図9(C)参照)。そして、リフトピン41aのローラ40及び補助支持ローラ71が回転自在であるため、基板Wは自重によってサイドガイドローラ60側に移動しながらその下端縁をサイドガイドローラ60によって支持されている状態となる。
【0064】
さらにリフトピン41a,41b,41c,41dが下降して、リフトピン41aの上端の高さが搬送ローラ30の基板支持部31aの高さよりも低くなると、基板Wの傾斜下端付近の部分がリフトピン41aから基板支持部31aに載り移る(図6及び図9(D)参照)。ここでは、基板Wは、下端近傍が基板支持部31aに上端近傍が補助支持ローラ71に支持され、且つ傾斜下端がサイドガイドローラ60に当接している状態となる。
【0065】
次に制御部は、補助支持機構70の駆動装置に作動指令を発し、補助支持ローラ71をその上端が搬送ローラ30よりも高い位置にある状態(図9(D)参照)から搬送ローラ30の基板支持部31dの上端位置よりも低い位置にある状態(図10(E)参照)へと切り替える。これにより、図7及び図10(E)に示すように、基板Wが搬送ローラ30の基板支持部31a,31b,31c,31dによって支持される状態となる。但し、この状態においても、サイドガイドローラ60は基板Wの傾斜下端に当接している。
【0066】
このような動作によってリフトピン41a,41b,41c,41dにより水平姿勢で支持されていた基板Wを搬送ローラ30の基板支持部31a,31b,31c,31dにより傾斜姿勢で支持される状態に変えた後に、制御部は、モータ35により搬送ローラ30を回転させる。これにより、基板Wは、基板姿勢変更装置3からエッチングチャンバー4へと搬送されていく。なお、この搬送時において、サイドガイドローラ60は基板搬送方向に沿って回転する。このため、サイドガイドローラ60が基板Wの搬送ローラ30による搬送を阻害することはない。
【0067】
一方、基板姿勢変更装置7については、乾燥チャンバー6から傾斜状態で搬送されてきた基板Wを水平姿勢に変更するものであるため、上記の基板姿勢変更装置3の動作とは概ね逆の動作が行われる。すなわち、乾燥チャンバー6から基板Wを受け入れるときには図10(E)の状態となっており、受け入れた後は、補助支持ローラ71を図9(D)に示す位置に上げてリフトピン41a,41b,41c,41dを上昇させていき、最終的に図3に示すようなリフトピン41a,41b,41c,41dだけで基板Wを水平姿勢で支持する状態に基板姿勢を変更させる。ここでは、必ずしもプッシャー49を作動させる必要はない。
【0068】
<基板姿勢変更装置の特徴>
(1)
本装置3,7では、基板Wを支持する姿勢が異なる2つの支持手段(搬送ローラ30の基板支持部31a,31b,31c,31dと水平支持構造体のリフトピン41a,41b,41c,41d)に基板Wを載せ移すことによって基板Wの姿勢を変更させている。そして、その方法として、両支持手段を相対的に昇降させるという簡易な方法を採用している。したがって、各支持手段の姿勢(傾斜)は一定であり、基板Wが確実に所定の傾斜状態及び水平状態に保たれる。
【0069】
(2)
本装置3,7では、サイドガイドローラ60を設けているため、リフトピン41a,41b,41c,41dに基板Wが支持されているときにプッシャー49によって基板Wを平面的に整えることができる。また、基板Wが傾斜状態となっているとき(図9(C)参照)には基板Wが傾斜下方にスライドするため、基板Wの傾斜下端がサイドガイドローラ60に当たって基板Wの平面的な位置決めがされる。
【0070】
(3)
搬送ローラ30の基板支持部31a,31b,31c,31dは傾斜状態の基板Wを支持するものであるため、原則として基板支持部31a,31b,31c,31d上で基板Wが自重によって傾斜下方にスライドすることはない。しかしながら、補助支持ローラ71無しにリフトピン41a,41b,41c,41dと基板支持部31a,31b,31c,31dとの間で基板Wを移し変えるときには、基板Wの傾斜上部が基板支持部31dに支持され基板Wの傾斜下部がリフトピン41aに支持される状態が生じる。このときには、たとえ上部が基板支持部31dに支持されていても基板Wが傾斜下方にスライドする恐れがある。そして、このときに基板Wがスライドするか否かは不確定であり、スライドするか否か及びスライドする量によって載り移った後の基板Wの平面的な位置が変わってしまう。基板Wの姿勢を変更することによってこのようにランダムに基板Wの平面的な位置が変わってしまうのでは、エッチングチャンバー4への基板Wの搬送やアンローダ12のロボット12aによるハンドリングに悪影響を及ぼす恐れが高くなる。
【0071】
これに対して本装置3,7では、補助支持ローラ71を含む補助支持機構70を設けている。そして、補助支持ローラ71に、基板Wが両支持手段間を載り移る際に傾斜する基板Wの上部を支持させ、ここでの基板Wの側方へのスライドを許容するようにしている。これにより、両支持手段間を基板Wが載り移るときに、基板Wの傾斜上部が補助支持ローラ71に支持され基板Wの傾斜下部がリフトピン41aに支持される状態、すなわち基板Wが搬送ローラ30に支持されていない状態が生じる。この状態では基板Wが必ず傾斜下方にスライドすることになるため、基板Wの下端がサイドガイドローラ60に当接して基板Wがこれにより位置決め及び平面整列される。このように、本装置3,7では、基板Wの支持位置がより安定するようになっている。
【0072】
[他の実施形態]
(A)
上記実施形態においてはリフトピン41a,41b,41c,41dの上端にローラ40を配して基板Wの側方へのスライドを許容し且つスライドにより基板Wに傷が付くことを抑えているが、これに代えて、上端が球状面となるように上端を丸めたり、上端を樹脂によって形成してもよい。これらを採用した場合にも、基板Wのスライドを許容し基板Wに傷が付くことを抑えることができる。
【0073】
(B)
上記実施形態では、搬送ローラ30を固定してリフトピン41a,41b,41c,41dの方を上下動させているが、反対にリフトピン41a,41b,41c,41dを固定として搬送ローラ30の方を上下動させてもよい。また、この上下動を行わせる手段としてエアーシリンダ51を採用しているが、油圧シリンダや電動ボールネジ等の他の手段を使用することもできる。
【0074】
(C)
上記実施形態ではプッシャー49により基板Wを平面的に整列させているが、プッシャー49を配備せずに、補助支持ローラ71及びリフトピン41aに支持されているときの基板W自身の傾斜下方へのスライドによって基板Wを平面的に整列させることも可能である。
【0075】
【発明の効果】
本発明では、基板支持の姿勢が異なる2つの支持手段に基板を載せ変えることによって基板の姿勢を変更させており、その方法として両支持手段を相対的に昇降させるという簡易な方法を採用している。したがって、基板を支持する1つの支持手段自身の姿勢を変更することによって基板の姿勢も合わせて変更させる方法に較べて、傾斜角度や水平度の精度を確保するために駆動系を細かく制御することなく、傾斜状態及び水平状態をそれぞれ安定させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る基板姿勢変更装置を含む基板処理装置の配置概略図。
【図2】エッチングチャンバーの概略斜視図。
【図3】基板姿勢変更装置の内部正面図。
【図4】図3のIV-IV矢視図。
【図5】基板姿勢変更装置の状態図。
【図6】基板姿勢変更装置の状態図。
【図7】基板姿勢変更装置の状態図。
【図8】基板姿勢変更の状態図。
【図9】基板姿勢変更の状態図。
【図10】基板姿勢変更の状態図。
【図11】基板の一載置状態図。
【符号の説明】
1 基板処理装置
3,7 基板姿勢変更装置
30 搬送ローラ(傾斜支持手段)
31a,31b,31c,31d 基板支持部
32 回転軸(傾斜軸)
40 ローラ(第3回転体)
41a,41b,41c,41d リフトピン(水平支持手段)
49 プッシャー(基板水平移動手段)
51 エアーシリンダ(昇降手段)
60 サイドガイドローラ(サイドガイド;第2回転体)
70 補助支持機構(補助支持手段)
71 補助支持ローラ(第1回転体)
Claims (11)
- 基板を水平姿勢で保持しカセットに対して出し入れするロボットと、基板を傾斜させた状態で処理するために基板を傾斜状態で支持して搬送する搬送手段との間で、基板の姿勢を変更して受け渡しする基板姿勢変更装置であって、
基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持する傾斜支持手段と、
基板が実質的に水平状態である状態で前記ロボットとの間で基板を受け渡しし、またその基板を支持して、前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降する水平支持手段と、
前記水平支持手段を前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる昇降手段と、
を備えた基板姿勢変更装置。 - 傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得るサイドガイドをさらに備えた、請求項1に記載の基板姿勢変更装置。
- 基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持し、水平面に対する前記所定の傾斜を有する傾斜軸を中心に回転して前記傾斜軸と直交する方向に基板を搬送する複数の搬送ローラを有する傾斜支持手段と、
基板が実質的に水平状態となるように基板を支持して、前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降する水平支持手段と、
前記水平支持手段を前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる昇降手段と、
傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得るサイドガイドと、
基板が前記水平支持手段と前記傾斜支持手段との間を載り移る際に、傾斜する基板の上部を支持しつつ、基板が前記搬送ローラの傾斜軸方向に沿った下向きに移動するのを許容する補助支持手段と、
を備えた基板姿勢変更装置。 - 前記補助支持手段の基板を支持する部分は、平面視におけるその位置において、前記傾斜支持手段よりも上方にある状態と前記傾斜支持手段よりも下方にある状態とが切り替えられる、請求項3に記載の基板姿勢変更装置。
- 前記補助支持手段は、基板を支持する部分に、傾斜により側方に移動する基板の移動方向に沿った回転が可能な第1回転体を有している、請求項3又は4に記載の基板姿勢変更装置。
- 基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持する傾斜支持手段と、
基板が実質的に水平状態となるように基板を支持して、前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降する水平支持手段と、
前記水平支持手段を前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる昇降手段と、
傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得るサイドガイドとを備え、
前記サイドガイドは、前記水平支持手段と一体となり、前記昇降手段によって前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降する、
基板姿勢変更装置。 - 基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持する傾斜支持手段と、
基板が実質的に水平状態となるように基板を支持して、前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降する水平支持手段と、
前記水平支持手段を前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる昇降手段と、
傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得るサイドガイドと、
前記水平支持手段に支持されている基板を水平に側方に移動させ、基板の端縁を前記サイドガイドに当接させる基板水平移動手段と、
を備えた基板姿勢変更装置。 - 基板が水平面に対して所定の傾斜を有する状態となるように基板を支持する傾斜支持手段と、
基板が実質的に水平状態となるように基板を支持して、前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降する水平支持手段と、
前記水平支持手段を前記傾斜支持手段に対して相対的に昇降させる昇降手段と、
傾斜したときに下端となる基板の端縁に当接し得るサイドガイドとを備え、
前記傾斜支持手段は、水平面に対する前記所定の傾斜を有する傾斜軸を中心に回転して前記傾斜軸と直交する方向に基板を搬送する複数の搬送ローラを有しており、
前記サイドガイドは、基板の端縁に当接する部分に、前記搬送ローラによる基板の搬送方向に沿った回転が可能な第2回転体を有している、
基板姿勢変更装置。 - 前記水平支持手段は、平面視において前記搬送ローラと重ならない位置に配置された概ね鉛直方向に延びる複数の棒状部材を有しており、
前記棒状部材は、基板に当接するその上端に球状面が形成されている、
請求項8に記載の基板姿勢変更装置。 - 前記水平支持手段は、平面視において前記搬送ローラと重ならない位置に配置された概ね鉛直方向に延びる複数の棒状部材を有しており、
前記棒状部材は、基板に当接するその上端が樹脂により形成されている、
請求項8に記載の基板姿勢変更装置。 - 前記水平支持手段は、平面視において前記搬送ローラと重ならない位置に配置された概ね鉛直方向に延びる複数の棒状部材を有しており、
前記棒状部材は、基板に当接するその上端に、傾斜により側方に移動する基板の移動方向に沿った回転が可能な第3回転体を有している、
請求項8に記載の基板姿勢変更装置。
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