WO2017130395A1 - 搬送装置及び洗浄装置 - Google Patents

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知眞 仲谷
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堺ディスプレイプロダクト株式会社
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    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations

Definitions

  • the present invention relates to a transport device and a cleaning device that can prevent the glass substrate from cracking when cleaning the glass substrate while inclining it.
  • a glass substrate used in a liquid crystal display device is subjected to a cleaning process in a manufacturing process of the liquid crystal display device, for example, by a cleaning device in order to remove dirt on the surface before film formation.
  • a glass substrate cleaning apparatus for example, an apparatus that cleans a glass substrate by spraying cleaning water from above while transporting the glass substrate by a plurality of transport rollers to which transport rollers are attached is known.
  • the cleaning device disclosed in Patent Document 1 includes a flange portion having a diameter larger than that of other portions on the lower end side of the transport roller.
  • the lower end of the glass substrate may be damaged due to friction with the flange portion. Also, if there is a deviation in the height of the collar between adjacent transport rollers, the corners of the glass substrate may fall between the jaws of the adjacent transport rollers, and may be caught as they are, causing a glass break There is.
  • This invention is made
  • a transport apparatus includes a first frame, a second frame provided substantially parallel to the first frame at a position higher than the first frame, and the first frame A conveying roller that is pivoted between the first frame and the second frame and has a groove formed on a surface formed of an elastic body.
  • a cleaning device includes the above-described transport device and an injection unit that is provided above the transport device and injects cleaning water downward.
  • a transport device and a cleaning device that can prevent a glass substrate from being broken during transport when the glass substrate is cleaned while being tilted and transported.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing the cleaning device of the first embodiment.
  • FIG. 2 is a longitudinal sectional view schematically showing the cleaning device of the first embodiment.
  • 4 is an enlarged view of a conveyance roller in Embodiment 1.
  • FIG. It is a perspective view which shows typically the washing
  • FIG. It is a longitudinal cross-sectional view which shows the washing
  • FIG. 6 is an enlarged view of a conveyance roller in Embodiment 2. It is an enlarged view which shows the other example of a conveyance roller. It is an enlarged view which shows the other example of a conveyance roller.
  • FIG. 1 is a perspective view schematically showing the cleaning apparatus 100 according to the first embodiment
  • FIG. 2 is a longitudinal sectional view schematically showing the cleaning apparatus 100
  • FIG. 3 is an enlarged view of the transport roller 1 according to the first embodiment.
  • the cleaning device 100 includes a transport roller 1, a pulley 12, a frame 20 (frame 20 a and frame 20 b), a transport device 5 including a timing belt 3, and an injection unit 4.
  • the conveyance apparatus 5 conveys the workpiece
  • work W for example, glass substrate.
  • the cleaning device 100 cleans the workpiece W by spraying cleaning water onto the workpiece W being transported by the transport device 5.
  • At least the surface (outer peripheral surface) of the transport roller 1 is formed of an elastic material, for example, a resin having a gripping force.
  • the transport roller 1 has a roller shaft 11 that is a rotating shaft thereof, and a portion other than the roller shaft 11 is formed of an elastic material such as silicon rubber.
  • a groove 10 is provided on the surface of the conveying roller 1.
  • the groove 10 is a linear groove extending along the axial direction of the conveying roller 1, that is, a linear groove parallel to the axial direction of the conveying roller 1. As shown in FIG.
  • a plurality of (e.g., eight) grooves 10 are formed on the outer peripheral surface of the transport roller 1 so as to be evenly spaced in the circumferential direction over the entire length of the transport roller 1 in the axial direction.
  • the depth of the groove 10 is such that it does not reach the roller shaft 11.
  • the two frames 20 are installed so that they are substantially parallel at different heights.
  • the frame 20b is provided at a position higher than the frame 20a so as to be substantially parallel to the frame 20a.
  • the transport roller 1 is pivoted between the frame 20a and the frame 20b. Accordingly, as shown in FIG. 2, the roller shaft 11 is inclined at a predetermined angle (for example, less than 45 degrees) with respect to the horizontal plane.
  • Both ends of the roller shaft 11 protrude outward from the frame 20a and the frame 20b through shaft holes 21 formed in the frame 20 on each side.
  • a stopper 13 that restricts movement in the axial direction is attached to the protruding end on the higher frame 20b side.
  • a toothed transmission pulley 12 is attached to the protruding end of the roller shaft 11 in the lower frame 20a.
  • the timing belt 3 is stretched over the pulleys 12 arranged outside the frame 20a in the longitudinal direction of the frame 20a.
  • the timing belt 3 is rotated in a predetermined direction by driving a motor (not shown).
  • a motor not shown.
  • each transmission pulley 12 rotates, whereby the plurality of transport rollers 1 rotate in the same direction and at the same speed.
  • the injection unit 4 is provided above the transfer device 5 and injects cleaning water (for example, pure water) for cleaning the workpiece W downward.
  • the injection unit 4 includes a pipe through which cleaning water passes and a plurality of injection holes communicating with the pipe.
  • the tube of the injection unit 4 is, for example, substantially the same length as the transport roller 1 and is disposed substantially parallel to the roller shaft 11.
  • the injection holes are provided in a plurality of locations on the lower surface of the tube in the shape of a shower head.
  • the injection part 4 injects the wash water supplied from the pump which is not illustrated below.
  • the cleaning apparatus 100 configured as described above cleans the work W (glass substrate) sent onto the transport roller 1 by spraying cleaning water from the spray unit 4 while transporting the work W (glass substrate) by the rotation of the transport roller 1.
  • Each conveyance roller 1 is longer than the length in the direction orthogonal to the conveyance direction of the workpiece W, and supports the workpiece W with a line.
  • the surface of the transport roller 1 is formed of an elastic material (silicon rubber in this embodiment), and the contact area with the work W is increased compared to the conventional transport device that supports the work W by the transport roller. Increases grip.
  • the groove 10 provided on the outer peripheral surface of each of the transport rollers 1 serves to discharge cleaning water that enters the contact portion between the workpiece W and the transport roller 1.
  • FIG. 4 is a perspective view schematically showing the cleaning apparatus 100b of the second embodiment.
  • FIG. 5 is a longitudinal sectional view schematically showing the cleaning apparatus 100b.
  • FIG. 6 is an enlarged view of the transport roller 1b according to the second embodiment.
  • the same reference numerals are given to the same configurations as those in the first embodiment, and detailed description thereof is omitted.
  • the cleaning device 100b includes a transport roller 1b, a pulley 12, two frames 20a and 20b, a transport device 5b including the timing belt 3, and an injection unit 4.
  • the transport roller 1b in the second embodiment has a roller shaft 11 that is a rotation shaft thereof, and a portion other than the roller shaft 11 is formed of an elastic material such as silicon rubber. ing.
  • a groove 10b is provided on the surface of the transport roller 1b.
  • the groove 10b is a linear groove, and is inclined at a predetermined angle with respect to the axial direction of the transport roller 1b. Specifically, in the groove 10b, the end (lower end) on the frame 20a side of the two ends is more forward in the rotation direction of the transport roller 1b than the end (upper end) on the frame 20b side. It is provided to be located.
  • the inclination angle of the groove 10b with respect to the axial direction of the transport roller 1b is set in consideration of the rotational speed of the transport roller 1b. Specifically, the inclination angle is set to a larger value as the rotational speed of the transport roller 1b increases.
  • the inclination angle of the groove 10b may be so large that the groove 10b makes one or more rounds on the outer peripheral surface of the conveying roller 1b, or may be so small that the groove 10b does not make one round on the outer peripheral surface of the conveying roller 1b. As shown in FIG.
  • a plurality of (for example, eight) grooves 10b are formed on the outer peripheral surface of the transport roller 1b so as to be evenly spaced in the circumferential direction over the entire length in the axial direction of the transport roller 1b.
  • FIG. 6 shows the lower end of the groove 10b.
  • the direction from the left to the right in the drawing is the conveyance direction of the workpiece W.
  • the surface of the transport roller 1b is formed of an elastic material as in the cleaning device 100 according to the first embodiment, and the contact area between the transport roller 1b and the workpiece W is the conventional transport. Since it increases more than the conveyance roller using a roller, the grip power with respect to the workpiece
  • the groove 10b is inclined so that its lower end is positioned forward of the upper end in the rotation direction of the transport roller 1b. It is easy to be discharged downward along 10b. Thereby, the grip force with respect to the workpiece
  • the groove 10 of the first embodiment is linearly provided along the axial direction of the conveying roller 1, and the groove 10b of the second embodiment is inclined with respect to the axial direction of the conveying roller 1b.
  • the shape of the groove 10 provided in the transport roller 1 is not limited to these.
  • 7 and 8 are enlarged views showing other examples of the transport roller 1 and show other examples of the shape of the groove 10 provided in the transport roller 1.
  • the groove 10 c provided linearly along the axial direction of the conveying roller 1 is not continuous over the entire length of the conveying roller 1 and is divided to include a plurality of linear grooves 101 c.
  • the surface between each linear groove 101c may support the workpiece W.
  • the surface between the linear grooves 101c may be provided at different positions in the axial direction between the plurality of grooves 10c.
  • a groove 10 d may be provided so as to be orthogonal to the axial direction of the transport roller 1.

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Abstract

 ガラス基板を傾斜させて搬送しつつ洗浄するに際し、搬送時におけるガラス基板の割れを防止することができる搬送装置及び洗浄装置を提供する。 本開示の搬送装置は、第1のフレームと、第1のフレームよりも高い位置に第1のフレームと略平行をなして設けられた第2のフレームと、第1のフレーム及び第2のフレーム間に軸架され、弾性材料で形成された表面に溝を設けた搬送ローラとを備える。本開示の洗浄装置は、搬送装置と、搬送装置の上方に設けられており、洗浄水を下方へ向けて噴射する噴射部とを備える。

Description

搬送装置及び洗浄装置
 本発明は、ガラス基板を傾斜させて搬送しつつ洗浄するに際し、ガラス基板の割れを防止し得る搬送装置及び洗浄装置に関する。
 液晶表示装置に使用されるガラス基板は、液晶表示装置の製造工程において、例えば成膜前に表面の汚れを落とすために洗浄装置により洗浄処理される。
 ガラス基板の洗浄装置として、例えば、搬送コロが取り付けられた複数の搬送ローラによりガラス基板を搬送しながら、上方から洗浄水を噴射してガラス基板を洗浄するものが知られている。
 また、ガラス基板の洗浄装置として、ガラス基板への洗浄水の液残りを防ぐため或いは洗浄水の節約のために、上記搬送ローラを傾けて配置したもの、すなわちガラス基板を傾斜させて搬送しながら洗浄するものが知られている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に開示の洗浄装置は、ガラス基板が下方へ滑り落ちるのを防止するために、搬送ローラの下端側に、その径が他の部分よりも大きい鍔部を備える。
特開2004-95926号公報
 しかしながら、搬送ローラの下端側に鍔部を設けた構成では、鍔部との摩擦によりガラス基板の下端が損傷する虞がある。また、隣り合う搬送ローラ間の鍔部の高さにずれが生じた場合、隣り合う搬送ローラの顎部の間にガラス基板の角部分が落ち込み、そのまま噛み込まれてガラス割れが発生する可能性がある。
 本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、搬送するガラス基板の割れを防止し得る搬送装置及び洗浄装置を提供することを目的とする。
 本開示の一実施形態に係る搬送装置は、第1のフレームと、該第1のフレームよりも高い位置に前記第1のフレームと略平行をなして設けられた第2のフレームと、前記第1のフレーム及び第2のフレーム間に軸架され、弾性体で形成された表面に溝を設けた搬送ローラとを備える。
 本開示の一実施形態に係る洗浄装置は、上述の搬送装置と、該搬送装置の上方に設けられており、洗浄水を下方へ向けて噴射する噴射部とを備える。
 本開示の実施形態によれば、ガラス基板を傾斜させて搬送しつつ洗浄するに際し、搬送時におけるガラス基板の割れを防止することができる搬送装置及び洗浄装置が提供される。
実施の形態1の洗浄装置を模式的に示す斜視図である。 実施の形態1の洗浄装置を模式的に示す縦断面図である。 実施の形態1における搬送ローラの拡大図である。 実施の形態2の洗浄装置を模式的に示す斜視図である。 実施の形態2の洗浄装置を模式的に示す縦断面図である。 実施の形態2における搬送ローラの拡大図である。 搬送ローラの他の例を示す拡大図である。 搬送ローラの他の例を示す拡大図である。
 以下に、本発明の実施の形態について図面に基づき具体的に説明する。なお、以下に示す実施の形態は例示であって、本発明は以下の構成に限られないことは勿論である。
 (実施の形態1)
 図1は、実施の形態1の洗浄装置100を模式的に示す斜視図であり、図2は洗浄装置100を模式的に示す縦断面図である。図3は、実施の形態1における搬送ローラ1の拡大図である。
 図1及び図2に示すように、洗浄装置100は、搬送ローラ1、プーリ12、フレーム20(フレーム20a及びフレーム20b)、並びにタイミングベルト3を備える搬送装置5と、噴射部4とを備える。搬送装置5は、ワークW(例えばガラス基板)を搬送する。洗浄装置100は、搬送装置5によって搬送されているワークWに対して洗浄水を噴射して、ワークWを洗浄する。
 搬送ローラ1は、少なくともその表面(外周面)が弾性材料、例えばグリップ力のある樹脂等で形成されている。本実施の形態において搬送ローラ1は、その回転軸であるローラ軸11を有し、ローラ軸11以外の部分がシリコンラバー等の弾性材料で形成されている。搬送ローラ1の表面には、溝10が設けられている。本実施形態において、溝10は、搬送ローラ1の軸方向に沿って延びる直線状の溝、すなわち搬送ローラ1の軸方向と平行な直線状の溝である。図3に示すように、搬送ローラ1の外周面には、搬送ローラ1の軸方向の全長に亘る複数本(例えば8本)の溝10が周方向に等配をなして形成されている。溝10の深さはローラ軸11に達しない程度である。
 図1及び図2に示すように、2本のフレーム20は、それらが異なる高さで略平行となるように設置されている。具体的には、フレーム20bは、フレーム20aよりも高い位置にフレーム20aと略平行をなして設けられている。搬送ローラ1は、フレーム20aとフレーム20bとの間に軸架されている。これにより図2に示すようにローラ軸11は水平面に対して所定角度(例えば45度未満)傾いている。
 ローラ軸11の両端は、夫々の側のフレーム20に形成された軸孔21を通してフレーム20a及びフレーム20bから外側に突出している。高い方のフレーム20b側における突出端には、軸方向の移動を制限するストッパ13が取り付けられている。低い方のフレーム20aにおけるローラ軸11の突出端には歯付の伝動プーリ12が取り付けられている。
 フレーム20aとフレーム20bとの間には、上述した搬送ローラ1が複数本、所定間隔を開けて軸架されている。そしてフレーム20aの外側でフレーム20aの長手方向に並ぶプーリ12には、タイミングベルト3が掛け渡してある。タイミングベルト3は図示しないモータの駆動によって所定の方向へ回転するようにしてある。モータが駆動されてタイミングベルト3が回転することで、各伝動プーリ12が回転し、それにより、複数の搬送ローラ1が同方向に同速度で回転する。
 噴射部4は、搬送装置5の上方に設けられ、ワークWを洗浄するための洗浄水(例えば純水)を下方へ向けて噴射する。噴射部4は、洗浄水が通る管、及び該管に連通する複数の噴射孔を有する。噴射部4の管は、例えば搬送ローラ1と略同長であってローラ軸11と略平行に配置される。噴射孔は管の下面の複数箇所に、シャワーヘッド状に設けられている。噴射部4は図示しないポンプから供給される洗浄水を下方に噴射させる。
 このように構成される洗浄装置100は、搬送ローラ1上に送り込まれたワークW(ガラス基板)を、搬送ローラ1の回転により搬送しながら、噴射部4から洗浄水を噴射させて洗浄する。搬送ローラ1は、夫々の長さがワークWの搬送方向と直交する方向における長さよりも長く、ワークWを線で支持する。搬送ローラ1の表面は弾性材料(本実施形態ではシリコンラバー)によって形成されており、搬送コロによりワークWを支持する従来の搬送装置よりもワークWとの接触面積が増大するから、ワークWに対するグリップ力が高まる。搬送ローラ1夫々の外周面に設けられた溝10は、ワークWと搬送ローラ1との接触部に入り込む洗浄水を排出する作用をなす。したがって、ワークWと搬送ローラ1との間への洗浄水の滞留が抑制され、洗浄水による摩擦抵抗力の低下、すなわち搬送ローラ1によるワークWへのグリップ力の低下を回避できる。これにより、ワークWは搬送ローラ1の傾斜方向に位置ずれすることなく搬送され、斜行及び滑落が防止される。そして、搬送ローラ1の構成によりワークWの斜行及び滑落を防止することができるので、従来の搬送装置で使用されていたような搬送ローラの下端側に備えられていた顎部は不要である。したがって、顎部との摩擦によるワークWの損傷、及び顎部を起因とするガラス割れ(例えば、ワークWが隣り合う顎部間へ落ち込むことによって起こるガラス割れ)の発生も防止される。
 (実施の形態2)
 図4は、実施の形態2の洗浄装置100bを模式的に示す斜視図である。図5は洗浄装置100bを模式的に示す縦断面図である。図6は、実施の形態2における搬送ローラ1bの拡大図である。実施の形態2における洗浄装置100bの構成の内、実施の形態1と共通する構成については同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
 図4及び図5に示すように、洗浄装置100bは、搬送ローラ1b、プーリ12、2本のフレーム20a及びフレーム20b、並びにタイミングベルト3を備える搬送装置5bと、噴射部4とを備える。
 実施の形態2における搬送ローラ1bは、実施の形態1における搬送ローラ1と同様に、その回転軸であるローラ軸11を有し、ローラ軸11以外の部分がシリコンラバー等の弾性材料で形成されている。また、搬送ローラ1bの表面には、溝10bが設けられている。本実施形態において、溝10bは、直線状の溝であり、搬送ローラ1bの軸方向に対して所定の角度で傾斜している。具体的には、溝10bは、その2つの端部の内のフレーム20a側の端部(下端部)が、フレーム20b側の端部(上端部)よりも搬送ローラ1bの回転方向において前方に位置するように設けられている。例えば、搬送ローラ1bの軸方向に対する溝10bの傾斜角は、搬送ローラ1bの回転速度を考慮して設定され、具体的には搬送ローラ1bの回転速度が速いほどより大きい値に設定される。なお、溝10bの傾斜角は、溝10bが搬送ローラ1bの外周面を一周以上するほど大きくてもよいし、溝10bが搬送ローラ1bの外周面を一周しない程度に小さくてもよい。図6に示すように、搬送ローラ1bの外周面には、搬送ローラ1bの軸方向の全長に亘る複数本(例えば8本)の溝10bが周方向に等配をなして形成されている。なお、図6は、溝10bの下端部を示しており、図6において、図中左から右へ向かう方向がワークWの搬送方向である。
 実施の形態2における洗浄装置100bは、実施の形態1における洗浄装置100と同様に、搬送ローラ1bの表面が弾性材料によって形成されており、搬送ローラ1bとワークWとの接触面積が従来の搬送コロを用いた搬送ローラよりも増大するから、ワークWに対するグリップ力が高まる。そして、本実施形態では、溝10bは、その下端部が搬送ローラ1bの回転方向においてその上端部よりも前方に位置するように傾斜しているから、搬送ローラ1bの回転力によって洗浄水が溝10bに沿って下方へ排出され易くなっている。これにより、ワークWに対するグリップ力が更に高まり、搬送ローラ1bの傾斜方向に位置ずれすることなく搬送され、斜行及び滑落が防止される。搬送ローラ1bの構成においても、従来のような顎部を不要とするから、ガラス割れの発生が防止される。
 なお実施の形態1の溝10は搬送ローラ1の軸方向に沿って直線状に、実施の形態2の溝10bは搬送ローラ1bの軸方向に対して傾斜して設けられる構成とした。しかしながら、搬送ローラ1に設けられる溝10の形状はこれらに限らない。図7及び図8は、搬送ローラ1の他の例を示す拡大図であり、搬送ローラ1に設けられる溝10の形状の他の例を示している。図7に示すように、搬送ローラ1の軸方向に沿って直線状に設けられた溝10cは、搬送ローラ1の全長に亘って連続しておらず分断されて複数の線状溝101cを含んで構成され、各線状溝101c間の面がワークWを支持するようにしてもよい。このとき、線状溝101c間の面は、複数の溝10c間で軸方向において異なる位置に設けられてもよい。更に、図8に示すように、搬送ローラ1の軸方向に直交するように溝10dが設けられてもよい。
 開示された実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上述の説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
 W ワーク(ガラス基板)
 1,1b 搬送ローラ
 10,10b,10c,10d 溝
 20a,20b フレーム

Claims (5)

  1.  第1のフレームと、
     該第1のフレームよりも高い位置に前記第1のフレームと略平行をなして設けられた第2のフレームと、
     前記第1のフレーム及び第2のフレーム間に軸架され、弾性材料で形成された表面に溝を設けた搬送ローラと
     を備えることを特徴とする搬送装置。
  2.  前記溝は前記搬送ローラの軸方向に沿って直線状に設けられている
     ことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
  3.  前記溝は前記搬送ローラの軸方向に対し、傾斜して設けられている
     ことを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
  4.  前記溝は、直線状の溝であり、第1のフレーム側の端部が、前記第2のフレーム側の端部よりも搬送ローラの回転方向において前方に位置するように設けられている
     ことを特徴とする請求項3に記載の搬送装置。
  5.  前記請求項1から4のいずれか1つの搬送装置と、
     該搬送装置の上方に設けられており、洗浄水を下方へ向けて噴射する噴射部と
     を備えることを特徴とする洗浄装置。
     
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110962436A (zh) * 2018-09-30 2020-04-07 东宸精密有限公司 晶圆撕膜机
CN112387732A (zh) * 2020-10-26 2021-02-23 成都晓桥科技有限公司 一种用于触控面板制造的预处理系统
WO2021212789A1 (zh) * 2020-04-23 2021-10-28 南京力泰智能科技有限公司 一种新型锻件氧化皮清洗机

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000174095A (ja) * 1998-12-09 2000-06-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2005095788A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Seiko Epson Corp 基板洗浄装置及び洗浄方法
JP2005217020A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2006196783A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Sharp Corp 基板表面処理装置
JP2006196781A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Sharp Corp 基板表面処理装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000174095A (ja) * 1998-12-09 2000-06-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2005095788A (ja) * 2003-09-25 2005-04-14 Seiko Epson Corp 基板洗浄装置及び洗浄方法
JP2005217020A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2006196783A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Sharp Corp 基板表面処理装置
JP2006196781A (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Sharp Corp 基板表面処理装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110962436A (zh) * 2018-09-30 2020-04-07 东宸精密有限公司 晶圆撕膜机
WO2021212789A1 (zh) * 2020-04-23 2021-10-28 南京力泰智能科技有限公司 一种新型锻件氧化皮清洗机
CN112387732A (zh) * 2020-10-26 2021-02-23 成都晓桥科技有限公司 一种用于触控面板制造的预处理系统
CN112387732B (zh) * 2020-10-26 2021-10-22 深圳市泰源兴光电科技有限公司 一种用于触控面板制造的预处理系统

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