JP2007165643A - 基板の処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】チャンバ内で基板を搬送する搬送軸を、炭素繊維を用いて形成した場合、搬送軸のコスト上昇を抑制できるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】チャンバ１と、チャンバ内に供給された基板を所定方向に搬送する搬送機構２を具備し、
搬送機構は、チャンバ内に設けられ炭素繊維を用いて形成されるとともに、軸線方向の長さがチャンバ内の上記基板の搬送方向と交差する方向の寸法に比べて短く形成され基板を支持して搬送する搬送軸３と、回転駆動される第１の連結軸１６を有し、第１の連結軸をチャンバの内部に突出させてチャンバの外部に設けられ第１の連結軸のチャンバ内に突出させた端部が搬送軸の一端に連結される駆動ユニット１１と、搬送軸の他端を回転可能に支持した支持ユニット１２とによって構成されている。
【選択図】 図１

Description

この発明はたとえば大型サイズの液晶表示パネルなどの基板を搬送しながら処理液で処理する基板の処理装置に関する。

液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。

つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、レジストが除去された部分をエッチングする。そして、エッチング後に基板からレジストを除去するという一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。

このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらに処理液による処理後に洗浄液によって洗浄する工程が必要となる。

ところで、最近では液晶表示パネルが大型化する傾向にあり、それに伴い基板及び基板を処理する処理装置が大型化してきている。たとえば、基板としては２ｍ角或いはそれ以上の大きさのものが採用されており、そのような大型の基板を処理するためには処理装置のチャンバも大型化するから、基板を搬送するためにチャンバに組み込まれる搬送軸の長さも２ｍ以上となってしまう。

長さが２ｍ程度の搬送軸をステンレス鋼によって形成すると、その自重とヤング率との関係から上記搬送軸の撓み量が大きくなる。そのため、搬送軸によって搬送される基板が搬送軸とともに撓むから、基板の搬送を円滑かつ確実に行うことができなくなるということがあるばかりか、基板に供給される処理液の分布が不均一になり、処理液による基板の処理が均一に行なえなくなるということがある。

長尺化した上記搬送軸に撓みが生じるのを防止するため、チャンバ内にサポートを設け、そのサポートに設けられた軸受よって搬送軸の中央部を回転可能に支持するということが行われている。しかしながら、搬送シャフトをベアリングによって支持すると、回転するベアリングから塵埃が発生する。そのため、その塵埃が基板の汚れの原因になるということがあり、好ましくない。

そこで、上記搬送軸の剛性を低下させず、搬送軸の軽量化を図るため、炭素繊維を用いて搬送軸を形成するということが考えられている。

炭素繊維はステンレス鋼に比べてヤング率が高く、しかも十分に軽量である。そのため、炭素繊維を用いて搬送軸を形成すれば、この搬送軸を基板の大型化に伴い長尺化させても、ほとんど撓みが生じることなく、基板を支持して搬送することが可能となる。

ところで、炭素繊維は非常に高価である。そのため、搬送軸を基板の大きさに応じて長尺化すると、その長さに応じて炭素繊維の使用量が増大するから、上記搬送軸が非常に高価になり、処理装置の大幅なコストアップを招くということがある。

しかしながら、従来は上記搬送軸をチャンバの幅寸法よりも長尺に形成し、その両端部をチャンバの幅方向両側から外部に突出させている。そして、搬送軸の一端部はこの搬送軸を回転駆動する駆動機構に連結し、他端部は搬送軸を回転可能に支持する支持機構によって支持するようにしている。そのため、駆動軸はチャンバの幅寸法に比べて大幅に長尺化することが避けられないから、そのことによって炭素繊維の使用量が大幅に増大し、処理装置の大幅なコストアップを招いていた。

この発明は、炭素繊維を用いて搬送軸を形成する場合、基板が大型化しても、炭素繊維の使用量を増大させずに搬送軸を形成することができるようにした基板の処理装置を提供することにある。

この発明は、基板を搬送しながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
チャンバと、
このチャンバ内に供給された上記基板を搬送する搬送機構を具備し、
上記搬送機構は、
上記チャンバ内に設けられ炭素繊維を用いて形成されるとともに、軸線方向の長さが上記チャンバ内の上記基板の搬送方向と交差する方向の寸法に比べて短く形成され上記基板を支持して搬送する搬送軸と、
回転駆動される第１の連結軸を有し、上記第１の連結軸を上記チャンバの内部に突出させて上記チャンバの外部に設けられ上記第１の連結軸の上記チャンバ内に突出させた端部が上記搬送軸の一端に連結される駆動ユニットと、
上記搬送軸の他端を回転可能に支持した支持ユニットと
によって構成されていることを特徴とする基板の処理装置にある。

上記支持ユニットは、回転可能に設けられた第２の連結軸を有し、この第２の連結軸を上記チャンバの内部に突出させて上記チャンバの外部に設けられ上記第２の連結軸の上記チャンバ内に突出させた端部が上記搬送軸の他端に連結されることが好ましい。

上記第１の連結軸と上記第２の連結軸は、上記搬送軸の一端と他端とに、それぞれ継ぎ手によって分解可能に連結されることが好ましい。

上記第１の連結軸と第２の連結軸との上記チャンバ内に突出した端部には、各連結軸を伝わって上記処理液が上記チャンバの外部に流れるのを防止する遮蔽部材が設けられていることが好ましい。

上記基板は上記チャンバ内を所定の傾斜角度で起立して搬送されるようになっていて、
上記搬送軸は軸線を上記チャンバの高さ方向に沿わせて設けられ、この搬送軸の上方に位置する一端が上記チャンバの外部上面に設けられた上記駆動ユニットの上記第１の連結軸に連結され、下方に位置する他端は上記チャンバの内部に設けられた上記支持ユニットによって回転可能に支持されていることが好ましい。

この発明によれば、搬送軸をチャンバの幅寸法よりも短い長さ寸法にし、この搬送軸の一端をチャンバの外部に設けられた駆動ユニットの第１の連結軸に連結したから、炭素繊維を用いて形成される搬送軸の長さを、その両端部をチャンバの両側から外部に突出させる場合に比べて短くすることができる。

以下、この発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１乃至図６はこの発明の第１の実施の形態を示す。図１は処理装置の縦断面図であって、この処理装置はチャンバ１を有する。このチャンバ１内には液晶表示パネルに用いられるガラス製の基板Ｗを搬送する搬送機構２が設けられている。チャンバ１の長手方向一端面には上記基板Ｗの搬入口１ａ（鎖線で示す）が形成され、他端面には搬出口（図示せず）が形成されている。そして、１ａからチャンバ１内に供給された基板Ｗは上記搬送機構２によって搬出口に向かって搬送されるようになっている。

上記搬送機構２は、軸線を上記チャンバ１の幅方向に沿わせるとともに、その幅方向と交差する方向に所定間隔で配置された複数の搬送軸３（１本のみ図示）を有する。搬送軸３は後述するように炭素繊維を用いて形成されている。

上記搬送軸３は図４に示すように円筒状の芯材４及びこの芯材４の外周面を厚さ１〜２ｍｍで被覆した外皮材５によって形成されている。上記搬送軸３は、長さ寸法が上記チャンバ１の幅寸法よりも短く、両端部は円錐状の支持部６に形成されている。つまり、搬送軸３は、軸線方向の長さが上記チャンバ１内の上記基板Ｗの搬送方向と交差する方向の幅寸法に比べて短く形成されている。

上記芯材４は高強度弾性炭素繊維を合成樹脂、金属、セラミックス或いは炭素などのマトリックスによって円筒状に成形してなる。上記外皮材５はチャンバ１内で使用されるオゾン水、フッ酸、過酸化水素水或いは前工程から持ち込まれる現像液やエッチング液などの処理液に対して耐性を備えた樹脂、たとえばＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）、ＣＴＦＥ（クロトリフロロエチレン）或いはポリオレフィンなどを、上記芯材４の表面に所定の厚さで被覆して形成されている。

上記外皮材５を芯材４の外周面に被覆する方法としては、樹脂を溶融して芯材４の外周面に吹き付けたり、樹脂を内径寸法が上記芯材４の外形寸法とほぼ同じ筒状に形成し、上記芯材４の外周面に装着して設けるなどの方法があり、外皮材５を設ける手段は限定されるものでない。
上記支持部６はステンレス鋼などの耐薬品性を有する金属によって形成されていて、上記芯材４の両端面に接続固定される。
上記搬送軸３には、軸方向に所定間隔で複数の搬送ローラ７が設けられている。この搬送ローラ７は上記搬送軸３の外皮材５と同様、耐薬品性を有する合成樹脂によって形成されている。

長さ寸法が上記チャンバ１の幅寸法よりも短く形成された搬送軸３は、一端が駆動ユニット１１によって支持され、他端が支持ユニット１２によって支持される。上記駆動ユニット１１は図３と図５に示すようにチャンバ１の長手方向に沿って細長いベース板１３と、このベース板１３と平行に対向した複数の支持板１４（１つのみ図示）を有する。

上記ベース板１３と支持板１４には長手方向に所定間隔、つまりチャンバ１内に所定間隔で配置される複数の搬送軸３と同じ間隔で、２つで対をなす複数対の軸受１５（一対のみ図示）が設けられている。各一対の軸受１５にはそれぞれ第１の連結軸１６の一端部が回転可能に支持されている。

上記第１の連結軸１６の上記一対の軸受１５によって支持された部分には第１の歯車１７が取着されている。この第１の歯車１７には第２の歯車１８が噛合している。複数の第２の歯車１８は、軸線を上記チャンバ１の長手方向に沿わせて設けられた駆動軸１９に取付けられている。

図３に示すように、駆動軸１９はチャンバ１の長手方向中途部で２つに分割され、その分割部分は継ぎ手２１によって連結されている。この継ぎ手２１には従動歯車２２が外嵌されている。この従動歯車２２には駆動歯車２３が噛合されている。この駆動歯車２３は駆動源２４の出力軸２５に嵌着されている。したがって、駆動源２４の出力軸２５が回転駆動されれば、その回転が駆動軸１９を介して上記第１の連結軸１６に伝達されるようになっている。

一対の上記駆動軸１９は、軸方向両端部が上記ベース板１３の長手方向に所定間隔で設けられた支持部材２６に軸受２７によって回転可能に支持されている。上記ベース板１３はカバー２８によって覆われている。つまり、このカバー２８内に上記第１、第２の歯車１７，１８が収容される。

上記駆動ユニット１１は、上記チャンバ１の幅方向一側外方に設置される。すなわち、チャンバ１の幅方向一側外方には処理装置のベースなどの固定部３０に固定された第１の取付け部材３１が設けられている。この第１の取付け部材３１は取付け面３１ａを有し、この取付け面３１ａに上記駆動ユニット１１のベース板１３が高さ調整可能に取付けられている。

上記駆動ユニット１１を第１の取付け部３１に取付けることで、上記第１の連結軸１６の他端部が上記チャンバ１の一側壁に形成された開口部３２からチャンバ１内に突出する。チャンバ１内に突出した第１の連結軸１６の他端には上記チャンバ１内に設けられた搬送軸３の軸方向一端部が第１の継ぎ手３３によって着脱可能に連結される。

図５に示すように、第１の連結軸１６の上記開口部３２に挿通された部分には、チャンバ１の側壁の内面と外面に対向する一対の遮蔽部材３４が設けられている。一対の遮蔽部材３４はカップ状に形成されていて、チャンバ１内に位置する一方の遮蔽部材３４はチャンバ１の側壁内面に設けられたリング３５に対向している。

それによって、チャンバ１内に搬入されて上記搬送軸３により搬送される基板Ｗを後述するように処理液で処理したとき、その処理液が第１の連結軸１６を伝わってチャンバ１の外部に流出するのが阻止されるようになっている。

上記チャンバ１の側壁外面には樋３６が設けられている。チャンバ１内で基板Ｗを処理した処理液が上記リング３５とチャンバ１内の遮蔽部材３４との隙間に入り込み、上記第１の連結軸１６を伝わって開口部３２からチャンバ１の外部に流れた場合、その処理液はチャンバ１の外部に設けられた遮蔽部材３４から上記樋３６に滴下する。

図６に示すように上記支持ユニット１２は、上記駆動ユニット１１と同様、ベース板３８と、このベース板３８に所定間隔で対向して設けられた複数の支持板３９（１つだけ図示）を有する。上記ベース板３８と支持板３９には長手方向に所定間隔、つまり複数の搬送軸３と同じ間隔で、２つで対をなす複数対の軸受４１（一対のみ図示）が設けられている。各一対の軸受４１にはそれぞれ第２の連結軸４２の一端部が回転可能に支持されている。

上記ベース板３８にはカバー４３が設けられていて、このカバー４３によって上記第２の連結軸４２の上記ベース板３８から突出して軸受４１によって支持された端部が覆われている。

上記支持ユニット１２は、上記チャンバ１の幅方向他側外方に設置される。すなわち、チャンバ１の幅方向他側外方には固定部３０に固定されて第２の取付け部材４４が設けられている。この第２の取付け部材４４は取付け面４４ａを有し、この取付け面４４ａに上記支持ユニット１２のベース板３８が高さ調整可能に取付けられている。

上記支持ユニット１２のベース板３８が第２の取付け部材４４の取付け面４４ａに取付けられることで、上記第２の連結軸４２の他端部が上記チャンバ１の幅方向の他側壁に形成された開口部４５からチャンバ１内に突出する。チャンバ１内に突出した第２の連結軸４２の他端は上記チャンバ１内に設けられた搬送軸３の軸方向他端部に第２の継ぎ手４６によって着脱可能に連結される。

上記第２の連結軸４２の上記開口部４５に挿通された部分には、上記第１の連結軸１６と同様、一対の遮蔽部材３４とリング３５が設けられ、側壁外面には樋３６が設けられている。それによって、基板Ｗを処理する処理液がチャンバ１の外部に流出するのを防止するとともに、流出した処理液は樋３６によって受けられるようになっている。

上記支持ユニット１２は上記駆動ユニット１１よりも水平方向の高い位置に設けられている。それによって、一端が第１の連結軸１６に連結され、他端が第２の連結軸４２に連結された搬送軸３は、チャンバ１の幅方向に対して所定の角度で傾斜して設けられる。搬送軸３の傾斜角度は５〜１０度に設定される。

それによって、基板Ｗの上面に供給される処理液はその幅方向一端から他端に向かって流れるから、その流れによって基板Ｗ上に汚れた処理液が留まるのが防止されるようになっている。なお、搬送軸３は水平に設けるようにしてもよい。

上記第１の継ぎ手３３と第２の継ぎ手４６は図２に示すように第１、第２の半割部４７ａ，４７ｂが形成された半円筒状の継ぎ手本体４７を有する。この継ぎ手本体４７の一端には挿通孔４８ａが形成された第１の壁４８が設けられ、中途部には第２の壁４９が設けられている。

上記搬送軸３の端部は上記挿通孔４８ａに挿通されて第１の半割部４７ａに支持され、上記第１、第２の連結軸１６，４２の端部は上記第２の半割部４７ｂに支持される。そして、第１、第２の半割部４７ａ，４７ｂには半円弧状の連結具５０がねじ５０ａによって固定される。それによって、上記第１の継ぎ手３３は搬送軸３の一端に第１の連結軸１６を分解可能に連結し、第２の継ぎ手４６は他端に第２の連結軸４２を分解可能に連結するようになっている。

図１に示すように、上記チャンバ１内には搬送軸３によって搬送される上記基板Ｗの上方に処理液の供給管５１がチャンバ１の幅方向に沿って上記搬送軸３と同じ角度で傾斜して配置されている。この供給管５１には複数の連結管５２によってノズル管５３が接続され、このノズル管５３には複数のノズル５４が軸方向に所定間隔で設けられている。

上記供給管５１には処理液が供給される。供給管５１に供給された処理液は、上記ノズル管５３に設けられた複数のノズル５４から上記基板Ｗの上面に噴射されるようになっている。それによって、チャンバ１内を搬送される基板Ｗの上面が処理液によって処理される。

上記構成の処理装置によれば、搬送軸３の一端を駆動ユニット１１のチャンバ１内に突出した第１の連結軸１６に連結し、他端を支持ユニット１２の同じくチャンバ１内に突出した第２の連結軸４２に連結して支持するようにした。

そのため、上記搬送軸３の長さ寸法を、この搬送軸３の両端部をチャンバ１の幅方向両側から外方に突出させる場合に比べて十分に短くすることができるから、搬送軸３の芯材４を形成するために用いられる、高強度弾性炭素繊維の使用量を大幅に減少させることができる。つまり、搬送軸３のコストを低減することができる。

搬送軸３の一端は第１の継ぎ手３３によって第１の連結軸１６の着脱可能に連結され、他端は第２の継ぎ手４６によって第２の連結軸４２に着脱可能に連結されているから、上記搬送軸３を取り外すことができる。

そのため、長期の使用によって上記搬送軸３に設けられた搬送ローラ７が損傷したような場合、上記搬送軸３を取り外して上記搬送ローラ７の交換や点検などを容易に行なうことができる。

上記搬送軸３を回転駆動する駆動ユニット１１は第１の連結軸１６を有し、駆動ユニット１１の第１の連結軸１６を除く部分はチャンバ１の外部に設けられている。つまり、駆動ユニット１１の発塵の可能性がある部分はチャンバ１の外部に設けられている。そのため、駆動ユニット１１で発塵があっても、その塵埃によってチャンバ１内を搬送される基板Ｗが汚染されることがない。

同様に、搬送軸３の他端を回転可能に支持する支持ユニット１２も、搬送軸３に連結される第２の連結軸４２を除く部分、つまり第２の連結軸４２を回転可能に支持した軸受４１の部分がチャンバ１の外部に設けられている。そのため、軸受４１から発塵しても、その塵埃がチャンバ１内の基板Ｗを汚染するようなことがない。

しかも、搬送軸３を撓みが生じ難い高強度弾性炭素繊維で形成しただけでなく、上述したようにチャンバ１の幅寸法よりも短く形成したから、そのことによっても搬送軸３に撓みが生じ難くなる。

図７はこの発明の第２の実施の形態を示す。この実施の形態は、基板Ｗを立位状態である、たとえば水平面に対して７５度の角度で起立させて搬送しながら処理する処理装置に、この発明を適用した例である。なお、図１乃至図６に示す第１の実施の形態と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。

図７に示す処理装置は幅方向に比べて上下方向に長いチャンバ１Ａを有する。チャンバ１Ａ内には軸線を７５度の角度で傾斜させた複数の搬送軸３（１本のみ図示）が基板Ｗの搬送方向に所定間隔で配置されている。上記搬送軸３は、軸線方向の長さが上記チャンバ１内の上記基板Ｗの搬送方向と交差する高さ方向の寸法に比べて短く形成されている。

上記搬送軸３は、第１の実施の形態と同様、図４に示すように高強度弾性炭素繊維を用いて形成された芯材４と、この芯材４を被覆した外皮材５とによって形成されている。

チャンバ１の外部上面には駆動ユニット１１Ａが排気ケース５９を介して設けられ、内底部には支持ユニット１２Ａが設けられている。上記排気ケース５９には図示しない排気管が接続され、その内部を排気できるようになっている。

上記駆動ユニット１１Ａは上記一実施の形態と同様、回転駆動される第１の連結軸１６を有し、この第１の連結軸１６をチャンバ１Ａの上部壁に形成された開口部６１から内部に突出させている。そして、第１の連結軸１６に上記搬送軸３の上端が継ぎ手６０によって着脱可能に連結されている。

上記支持ユニット１２Ａはチャンバ１の内底部に設けられた第１のブラケット６２を有する。この第１のブラケット６２の先端には逆Ｌ字状の第２のブラケット６３が設けられ、この第２のブラケットには軸受６４が設けられている。そして、この軸受６４に上記搬送軸３の下端部が回転可能に支持される。したがって、上記駆動ユニット１１Ａの駆動軸１９が回転駆動されれば、その回転が第１、第２の歯車１７，１８を介して搬送軸３に伝達される。

搬送軸３には支持ローラ７が設けられ、チャンバ１内を搬送される基板Ｗは上記支持ローラ７によって傾斜方向の下側の面が支持されるとともに、下端が駆動ローラ６６によって支持される。

上記駆動ローラ６６は第１の駆動軸６７の先端に嵌着されている。この第１の駆動軸６７は筒状体６８に挿通されていて、この筒状体６８はチャンバ１Ａの底部の傾斜壁６９に形成された通孔７１を気密に貫通している。

上記第１の駆動軸６７のチャンバ１Ａの外部に突出した後端には第３の歯車７２が嵌着されている。この第３の歯車７２には第４の歯車７３が噛合している。第４の歯車７３は第２の駆動軸７４に設けられている。この第２の駆動軸７４は駆動源７５によって回転駆動される。

第２の駆動軸７４が回転駆動されれば、その回転が第３、第４の歯車７２，７３を介して第１の駆動軸６７に伝達されるから、この第１の駆動軸６７の先端に設けられた駆動ローラ６６が連動して回転する。

すなわち、上記基板Ｗは、この基板Ｗの傾斜方向の下側の面を支持して搬送軸３とともに回転駆動される搬送ローラ７と、基板Ｗの下端を支持して第１の駆動軸６７とともに回転駆動される駆動ローラ６６とによって搬送方向への駆動力が付与されてチャンバ１Ａ内を所定方向に搬送される。チャンバ１Ａ内を搬送される基板Ｗは、ブラシユニットやシャワーユニットなどの処理手段７６によってその板面が処理される。

基板Ｗが搬送ローラ７と駆動ローラ６６とによって駆動されることで、上記処理手段７６で処理される際に基板Ｗが通常の搬送時に比べて大きな抵抗を受けても、その抵抗によって搬送速度が低下したり、円滑な搬送が損なわれるのが防止される。

このような構成の処理装置によれば、上記一実施の形態と同様、高強度弾性炭素繊維が用いられた搬送軸３の長さ寸法を、この搬送軸３が設けられるチャンバ１Ａの上下方向の高さ寸法よりも短くすることができる。

そのため、基板Ｗが大型化することで、チャンバ１Ａの高さ寸法が大きくなっても、搬送軸３の長さ寸法をチャンバ１Ａの高さ寸法よりも十分に短くすることができるから、上記搬送軸３によって処理装置のコストが上昇するのを抑制することができる。

駆動ユニット１１はチャンバ１Ａの上面に排気ケース５９を介して設けられている。そのため、駆動ユニット１１から塵埃が発生しても、その塵埃は排気ケース５９から外部に排出されるから、チャンバ１Ａ内に流入して基板Ｗを汚染する虞がない。

この第２の実施の形態においては、搬送軸３を回転駆動する駆動ユニット１１をチャンバ１Ａの外部上面に設けるようにしたが、上記駆動ユニット１１はチャンバ１Ａの上端内部に設けるようにしてもよい。その場合、駆動ユニット１１をケース内に収容し、このケース内を排気することで、駆動ユニット１１から発生する塵埃がチャンバ１Ａ内に流出するのを防止することが好ましい。

上記各実施の形態では炭素繊維を用いた搬送軸として高強度弾性炭素繊維を合成樹脂、金属、セラミックス或いは炭素などのマトリックスによって円筒状に成形した芯材を、樹脂からなる外皮材で被覆して形成したが、外皮材は樹脂に代わりステンレス鋼などの処理液に対する耐性を有する金属であってもよく、さらに外皮材を用いずに高強度弾性炭素繊維を上記マトリックスによって円筒状に形成した状態のものであってもよい。さらに、搬送軸は円筒状でなく、円柱状であっても差し支えない。

この発明の第１の実施の形態を示す処理装置の縦断面図。 搬送軸と連結軸を分解可能に連結する継ぎ手の分解斜視図。 搬送軸を回転駆動する駆動ユニットの側面図。 搬送軸の一部断面した側面図 搬送軸の一端が連結される第１の連結軸を有する駆動ユニットの拡大断面図。 搬送軸の他端が連結される第２の連結軸を有する支持ユニットの拡大断面図。 この発明の他の実施の形態を示す処理装置の縦断面図。

符号の説明

１，１Ａ…チャンバ、２…搬送機構、３…搬送軸、７…搬送ローラ、１１…駆動ユニット、１２…支持ユニット、１６…第１の連結軸、３４…遮蔽部材、４２…第２の連結軸。

Claims (5)

1. 基板を搬送しながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
   チャンバと、
   このチャンバ内に供給された上記基板を搬送する搬送機構を具備し、
   上記搬送機構は、
   上記チャンバ内に設けられ炭素繊維を用いて形成されるとともに、軸線方向の長さが上記チャンバ内の上記基板の搬送方向と交差する方向の寸法に比べて短く形成され上記基板を支持して搬送する搬送軸と、
   回転駆動される第１の連結軸を有し、上記第１の連結軸を上記チャンバの内部に突出させて上記チャンバの外部に設けられ上記第１の連結軸の上記チャンバ内に突出させた端部が上記搬送軸の一端に連結される駆動ユニットと、
   上記搬送軸の他端を回転可能に支持した支持ユニットと
   によって構成されていることを特徴とする基板の処理装置。
2. 上記支持ユニットは、回転可能に設けられた第２の連結軸を有し、この第２の連結軸を上記チャンバの内部に突出させて上記チャンバの外部に設けられ上記第２の連結軸の上記チャンバ内に突出させた端部が上記搬送軸の他端に連結されることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。
3. 上記第１の連結軸と上記第２の連結軸は、上記搬送軸の一端と他端とに、それぞれ継ぎ手によって分解可能に連結されることを特徴とする請求項２記載の基板の処理装置。
4. 上記第１の連結軸と第２の連結軸との上記チャンバ内に突出した端部には、各連結軸を伝わって上記処理液が上記チャンバの外部に流れるのを防止する遮蔽部材が設けられていることを特徴とする請求項３記載の基板の処理装置。
5. 上記基板は上記チャンバ内を所定の傾斜角度で起立して搬送されるようになっていて、
   上記搬送軸は軸線を上記チャンバの高さ方向に沿わせて設けられ、この搬送軸の上方に位置する一端が上記チャンバの外部上面に設けられた上記駆動ユニットの上記第１の連結軸に連結され、下方に位置する他端は上記チャンバの内部に設けられた上記支持ユニットによって回転可能に支持されていることを特徴とする請求項１記載の基板の処理装置。

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