JP2004283777A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ローラ軸400および搬送ローラ40により基板200が支持され、処理液が供給されるスプレーパイプ2,2aが基板200の上方に支持部材12,13により並列にかつ回動可能に配列されている。スプレーパイプ2には、スプレーノズル1が設けられ、スプレーパイプ2aには、スプレーノズル1a,1bが互いに異なる吐出角度で設けられる。スプレーノズル1,1a,1bが揺動しつつ処理液を吐出する。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に処理液を供給することにより所定の処理を行う基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、半導体ウエハ等の基板に種々の処理を行うために基板処理装置が用いられている。
【0003】
例えば、薬液等の処理液を複数のスプレーパイプから基板に吐出する基板処理装置がある。このような基板処理装置では、スプレーパイプを回転揺動させながら基板に処理液を供給することにより基板表面へ処理液を均一に供給している。
【0004】
また、近年、基板を傾斜姿勢で搬送しつつ基板に対して薬液等の処理液を複数のスプレーパイプから吐出する基板処理装置が開発されている。この基板処理装置では、基板に吐出された処理液が傾斜した基板に沿って速やかに流下し、基板表面の処理効率が向上するという利点がある。
【0005】
しかし、上記の両構成を含む基板処理装置であっても複数のスプレーパイプから基板に対して処理液を吐出し始める際の吐出方向が一致していない場合、処理後の基板の表面に処理ムラが生じることがある。そこで、基板に対して処理液を吐出し始める際の吐出方向を一致させることにより処理ムラの度合いの差を抑制する基板処理装置が提案されている(特許文献1参照)。
【0006】
図11および図12は従来の基板処理装置の断面図である。
図11および図12に示すように、基板Wは搬送ローラ110により傾斜姿勢で支持されている。複数の上部スプレーパイプ210は、搬送ローラ110上の基板Wに対して平行に配置される。各上部スプレーパイプ210には、複数のスプレーノズル210aが設けられている。また、各上部スプレーパイプ210の一端は、その長手方向を軸として回動可能にケーシング130に支持されている。
【0007】
各上部スプレーパイプ210の他端には、連結プレート230の下端部が固着されている。この連結プレート230の上端部は、往復棒450のピン450aに回動自在に取り付けられている。往復棒450は、モータ410、円板420およびリンク機構430により往復運動する。それにより、各上部スプレーパイプ210がその長手方向を軸として回動し、図11に示す状態と図12に示す状態とを繰り返して、複数のスプレーノズル210aの向きを変化させながら基板Wに処理液(薬液)を吐出する。
【0008】
このように、図11および図12の基板処理装置では、基板Wにスプレーノズル210aにより処理液を供給し始める前からスプレーノズル210aを同じ方向に向けているため、基板W毎の処理ムラの度合いに差が生じなくなる。
【0009】
【特許文献1】
特開2000−188272号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来の基板処理装置では、図12の状態で基板Wの全体に処理液を供給するために基板Wの上方から外れた位置にもスプレーパイプ210を配置する必要がある。そのため、基板処理装置が大きくなるとともに設置面積が大きくなる。しかし、このような基板処理装置は、主にクリーンルーム等において使用されるため小型化が要求される。
【0011】
さらに、上記の従来の基板処理装置では、基板Wの上方から外れた位置にもスプレーパイプ210を設置する必要があるため、部品数が多くなり、部品コストおよび製造コストが高くなる。
【0012】
本発明の目的は、基板に処理液を均一に供給することができるとともに小型化、省スペース化および低コスト化を図ることができる基板処理装置を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
(第1の発明)
第1の発明に係る基板処理装置は、基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、基板を支持する基板支持手段と、基板支持手段により支持される基板の上方に並列にかつ回動可能に配列され、処理液が供給される複数の管状部材と、複数の管状部材にそれぞれ設けられ、各管状部材の軸心から外方を向く第1の方向に処理液を吐出する複数の第1の吐出部と、複数の管状部材のうち一方の外側の管状部材に設けられ、管状部材の軸心から外方を向きかつ第1の方向と異なる第2の方向に処理液を吐出する第2の吐出部と、複数の管状部材を一方向および逆方向に回動させることにより少なくとも複数の第1の吐出部および第2の吐出部のうちいずれかにより基板に処理液が供給されるように複数の第1の吐出部および第2の吐出部を揺動させる揺動手段とを備えるものである。
【0014】
第1の発明に係る基板処理装置においては、基板支持手段により基板が支持され、処理液が供給される複数の管状部材が基板の上方に並列にかつ回動可能に配列されている。また、複数の第1の吐出部が複数の管状部材にそれぞれ設けられている。さらに、第2の吐出部が複数の管状部材のうち一方の外側の管状部材に設けられている。
【0015】
複数の第1の吐出部により第1の方向に処理液が吐出され、第2の吐出部により第2の方向に処理液が吐出される。
【0016】
この場合、揺動手段により複数の管状部材が一方向および逆方向に回動されることにより少なくとも複数の第1の吐出部および第2の吐出部のうちいずれかにより基板に処理液が供給される。それにより、少ない数の管状部材により基板より広い領域に処理液を均一に供給することが可能となる。したがって、基板処理装置の小型化および省スペース化が可能となる。また、管状部材の数を削減することができるので、低コスト化が可能となる。
【0017】
(第2の発明)
第2の発明に係る基板処理装置は、第1の発明に係る基板処理装置の構成において、複数の管状部材のうち他方の外側の管状部材に設けられ、管状部材の軸心から外方を向きかつ第1および第2の方向と異なる第3の方向に処理液を吐出する第3の吐出部をさらに備え、揺動手段は、複数の管状部材を一方向および逆方向に回動させることにより少なくとも複数の第1の吐出部、第2の吐出部および第3の吐出部のうちいずれかにより基板に処理液が供給されるように複数の第1の吐出部、第2の吐出部および第3の吐出部を揺動させるものである。
【0018】
この場合、揺動手段により複数の管状部材が一方向および逆方向に回動されることにより、少なくとも複数の第1の吐出部、第2の吐出部および第3の吐出部のうちいずれかにより基板に処理液が供給されるので、より少ない数の管状部材により基板の全面に処理液を均一に供給することが可能となる。
【0019】
(第3の発明)
第3の発明に係る基板処理装置は、第1または第2の発明に係る基板処理装置の構成において、基板支持手段は、一方の外側の管状部材に近い端部が他方の端部よりも高くなるように基板を傾斜姿勢で支持するものである。
【0020】
この場合、複数の第1の吐出部または第2の吐出部により吐出された処理液が基板の一方の端部から他方の端部へ流下する。それにより、基板の全面に処理液が均一に供給される。
【0021】
(第4の発明)
第4の発明に係る基板処理装置は、第1または第2の発明に係る基板処理装置の構成において、前記基板支持手段は、基板を水平姿勢で支持するものである。
【0022】
この場合、複数の第1の吐出部または第2の吐出部により吐出された処理液が基板上に保持される。それにより、処理液による基板の処理時間を確保することができる。
【0023】
(第5の発明)
第5の発明に係る基板処理装置は、第1〜4の発明のいずれかに係る基板処理装置の構成において、基板支持手段は、揺動手段による揺動方向に交差する方向に基板を移動させる移動手段を含むものである。
【0024】
この場合、複数の第1の吐出部および第2の吐出部が揺動しつつ揺動方向に交差する方向に基板が移動するので、複数の第1の吐出部または第2の吐出部から吐出された処理液が基板の全面に均一に供給される。
【0025】
(第6の発明)
第6の発明に係る基板処理装置は、第5の発明に係る基板処理装置の構成において、移動手段は、揺動手段による揺動方向に交差する方向に基板を往復移動させるものである。
【0026】
この場合、複数の第1の吐出部および第2の吐出部が揺動しつつ揺動方向に交差する方向に基板が往復移動するので、複数の第1の吐出部および第2の吐出部から吐出された処理液が基板の全面により均一に供給される。
【0027】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施の形態について図を用いて説明する。
【0028】
(第1の実施の形態)
図1は本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置の概略平面図である。
【0029】
ここで、水平面内で直交する2方向をX方向およびY方向とし、鉛直方向をZ方向とする。なお、本実施の形態においては、基板処理装置100にX方向から基板(図示せず)が搬入される。また、基板とは、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウエハ等をいう。
【0030】
図1に示すように、基板処理装置100は、処理室30を有する。処理室30は、Y方向に平行な側壁30b,30dおよびX方向に平行な側壁30a,30cからなる。側壁30a,30cはZ方向に対して所定の角度傾斜して形成されている。側壁30a,30bの詳細については後述する。
【0031】
処理室30内には、X方向に平行に延びる複数のスプレーパイプ2がY方向に所定の間隔(ピッチ)Kで配置されている。また、処理室30の側壁30dの外側にはモータM1、リンク機構B1および可動板C1が設けられている。各スプレーパイプ2の下面には複数のスプレーノズル1がX方向に所定の間隔(ピッチ)Lで設けられている。
【0032】
複数のスプレーパイプ2に取り付けられた複数のスプレーノズル1は、千鳥状に配置されている。
【0033】
また、一端側のスプレーパイプ2aにおいては、X方向に所定の間隔(ピッチ)Lの半分の間隔(ピッチ)L/2でスプレーノズル1aおよびスプレーノズル1bが交互に設けられている。スプレーパイプ2aおよびスプレーノズル1a,1bの詳細については後述する。
【0034】
各スプレーパイプ2の一端は、回転継手9にそれぞれ接続されている。各回転継手9は処理液用配管3に接続されている。処理液用配管3は、側壁30cを貫通して外部に取り出されている。処理液用配管3は、処理室30外に設けられた処理液を貯留する貯留タンク(図示せず)に接続されている。ポンプ(図示せず)の動作により貯留タンク内の処理液が処理液用配管3を介して各スプレーパイプ1,1a,1bに供給される。処理液は、例えば、エッチング液、現像液、洗浄液などである。
【0035】
回転継手9は、耐薬品性樹脂(例えば塩化ビニル樹脂)からなる。回転継手9は、互いに回転可能に結合された2つの円形部材9a,9bからなる。円形部材9aにスプレーパイプ2,2aの一端が固定され、円形部材9bが処理液用配管3に固定されている。それにより、回転継手9は、スプレーパイプ2,2aを回動可能に保持している。
【0036】
複数のスプレーパイプ2の他端近傍は、Y方向に延びる支持板5により回転自在に支持されている。支持板5は、後述するように、支持部材を介して処理室30の上面部に固定されている。
【0037】
各スプレーパイプ2の他端にはマグネット円板7がそれぞれ取り付けられている。また、側壁30dを介して各マグネット円板7に対向するようにマグネット円板8がそれぞれ設けられている。各マグネット円板8は、回転軸10を中心として回転自在に設けられている。また、各マグネット円板8は、係止突起(図示せず)により可動板C1に係合している。可動板C1は、モータM1およびリンク機構B1によりY方向に往復運動する。それにより、複数のマグネット円板8が正方向および逆方向に回動する。マグネット円板7,8は非磁性体により形成される。例えば、マグネット円板7,8の材料として、PTFE(四フッ化エチレン)、PCTFE(三フッ化エチレン)等のフッ素樹脂、PCV(ポリ塩化ビニル)等の樹脂またはチタン、アルミニウム、ステンレス等の非磁性体の金属または合金を用いることができる。
【0038】
次いで、スプレーノズル1,1a,1bが揺動される状態について説明する。
図2および図3は、図1の基板処理装置100のA−A線模式的断面図である。図2は、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が最小の場合を示し、図3は、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が最大の場合を示す。
【0039】
ここで、揺動角度とは、スプレーノズル1,1aが基板200の表面の法線に対してなす角度をいう。
【0040】
図2に示すように、複数のスプレーパイプ2の下方に複数のローラ軸400が水平面に対して所定の角度傾斜した状態で配置されている。各ローラ軸400には複数の搬送ローラ40がほぼ等間隔で取り付けられている。
【0041】
さらに、ローラ軸400の低い側の端部近傍に基板200の端面に当接する補助ローラ41が回転可能に設けられている。
【0042】
複数のローラ軸400がモータ(図示せず)により回転されるとともに搬送ローラ40が回転する。それにより、水平面に対して所定の角度傾斜した姿勢で搬入された基板200が、水平面に対して所定の角度傾斜した状態で複数の搬送ローラ40および補助ローラ41によりX方向に搬送される。
【0043】
また、支持板5は、スプレーノズル1,1a,1bが基板200と平行になるように支持部材12,13により支持される。
【0044】
まず、図2に示すように、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が最小の場合、スプレーノズル1,1aから処理液が、基板200の表面に対してほぼ垂直方向に吐出される。
【0045】
続いて、スプレーノズル1,1a,1bが処理液を吐出しつつ、上述したモータM1の働きにより揺動角度が最大となるまでスプレーパイプ2,2aが回動する。
【0046】
これにより、基板200が傾斜姿勢で支持されるため、処理液が傾斜した基板200に沿って速やかに流下する。それにより、基板200全体に処理液が均一に供給されるとともに、処理液による処理の効率が向上する。
【0047】
図3に示すように、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が最大の場合、スプレーノズル1,1aから処理液が、基板200の表面に対して下方に傾斜した方向に吐出され、スプレーノズル1bから処理液が、基板200の表面に対してほぼ垂直方向に吐出される。
【0048】
続いて、スプレーノズル1,1a,1bが処理液を吐出しつつ上述したモータM1の働きにより揺動角度が最小となるまでスプレーパイプ2,2aが回動する。
【0049】
以上の動作を繰り返すことにより、スプレーノズル1,1a,1bが揺動しつつ、基板200の表面に所定の処理液を均一に供給することができる。
【0050】
次に、基板処理装置100のスプレーパイプ2aに取り付けられたスプレーノズル1a,1bの詳細について説明する。
【0051】
図4は、スプレーパイプ2aに取り付けられたスプレーノズル1a,1bを示す模式的斜視図である。
【0052】
図4に示すように、スプレーパイプ2aには、複数のスプレーノズル1aと複数のスプレーノズル1bとが所定の間隔(L/2)ごとに交互に取り付けられている。スプレーノズル1aとスプレーノズル1bとは、互いに所定の角度をなすように設けられている。
【0053】
スプレーパイプ2aが矢印R1の方向に回転するとともに、スプレーノズル1aが矢印R2の方向に揺動し、スプレーノズル1bが矢印R3の方向に揺動する。スプレーノズル1a,1bは揺動しながらスプレーパイプ2a内を通して供給される処理液を吐出する。
【0054】
次に、図5(a)は、スプレーノズル1aの揺動角度θが最小(θ=0°)の場合のスプレーノズル1a,1bを示す模式的拡大図であり、図5(b)は、スプレーノズル1aの揺動角度θが最大(θ=60°)の場合のスプレーノズル1a,1bを示す模式的拡大図である。
【0055】
図5(a)に示すように、スプレーノズル1aの吐出方向とスプレーノズル1bの吐出方向とは、角度差θabを有する。この角度差θabは、スプレーパイプ2の所定の間隔K、スプレーノズル1a,1bと基板200との距離およびスプレーノズル1a,1bの最大揺動角度に応じて設定される。
【0056】
本実施の形態においては、角度差θabは最大揺動角度と等しく60度に設定されている。したがって、図5(a)に示すように、スプレーノズル1aが基板200に対してほぼ垂直方向に処理液を吐出する場合、スプレーノズル1bは基板200外に処理液を吐出する。
【0057】
一方、図5(b)に示すように、スプレーノズル1aが基板200に対してほぼ斜め方向に処理液を吐出する場合、スプレーノズル1bは基板200に対してほぼ垂直方向に処理液を吐出する。
【0058】
次に、図を用いて本実施の形態における基板処理装置100の効果について説明する。
【0059】
図6は比較例の基板処理装置を用いて基板200の表面処理を行う状態を示す模式図であり、図7は本実施の形態に係る基板処理装置100を用いて基板200の表面処理を行う状態を示す模式図である。
【0060】
図6(a1)および図7(a1)は揺動角度が最小の場合のスプレーノズル1a,1bの状態を示し、図6(a2)および図7(a2)は揺動角度が最小の場合のスプレーノズル1,1a,1bから吐出された処理液の供給領域と基板200との関係を示す。
【0061】
また、図6(b1)および図7(b1)は揺動角度が最大の場合のスプレーノズル1a,1bの状態を示し、図6(b2)および図7(b2)は揺動角度が最大の場合のスプレーノズル1,1a,1bから吐出された処理液の供給領域と基板200との関係を示す。
【0062】
図6および図7において、丸印は各スプレーノズル1,1a,1bから吐出された処理液の基板200上での供給領域を示す。
【0063】
図6(a1)に示すように、比較例の基板処理装置には、n本のスプレーパイプ2が設けられる。このn本のスプレーパイプ2の各々に複数のスプレーノズル1が設けられている。以下、1本目のスプレーパイプ2に設けられた複数のスプレーノズル1を第1ラインのスプレーノズル1と呼び、(n−1)本目のスプレーパイプ2に取り付けられた複数のスプレーノズル1を第(n−1)ラインのスプレーノズル1と呼び、n本目のスプレーパイプ2に取り付けられた複数のスプレーノズル1を第nラインのスプレーノズル1と呼ぶ。
【0064】
この場合、図6(a2)に示すように、比較例の基板処理装置において第1ラインから第(n−1)ラインまでのスプレーノズル1から吐出された処理液は基板200上に供給され、第nラインのスプレーノズル1から吐出された処理液は基板200上に供給されない。
【0065】
一方、図6(b1)に示すように、スプレーノズル1の揺動角度が最大(θ=60°)の場合、図6(b2)に示すように、比較例の基板処理装置において第2ラインから第nラインまでのスプレーノズル1から吐出された処理液は基板200上に供給され、第1ラインのスプレーノズル1から吐出された処理液は基板200上に供給されない。
【0066】
このように、比較例の基板処理装置では、スプレーノズル1を揺動させることによりスプレーノズル1から吐出される処理液の供給領域を基板200上で移動させることにより、基板200の表面に処理液を均一に供給することができる。
【0067】
一方、図7(a1)に示すように、本実施の形態に係る基板処理装置100では、図6に示す比較例の基板処理装置と比較して、スプレーパイプ2,2aの本数が1本少ない。すなわち、(n−1)本のスプレーパイプ2,2aが設けられる。この1本目から(n−2)本目までのスプレーパイプ2の各々に複数のスプレーノズル1が設けられ、(n−1)本目のスプレーパイプ2aに複数のスプレーノズル1a,1bが設けられている。
【0068】
以下、1本目のスプレーパイプ2に設けられた複数のスプレーノズル1を第1ラインのスプレーノズルと呼び、(n−1)本目のスプレーパイプ2aに設けられた複数のスプレーノズル1aを第(n−1)ラインのスプレーノズル1aと呼び、(n−1)本目のスプレーパイプ2aに取り付けられた複数のスプレーノズル1bを第(n−1)ラインのスプレーノズル1bと呼ぶ。
【0069】
この場合、図7(a2)に示すように、本実施の形態に係る基板処理装置100において、第1ラインから第(n−1)ラインまでのスプレーノズル1,1aから吐出された処理液は基板200上に供給され、第(n−1)ラインのスプレーノズル1bから吐出された処理液は基板200上に供給されない。
【0070】
一方、図7(b1)に示すように、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が最大(θ=60°)の場合、図7(b2)に示すように、本実施の形態に係る基板処理装置100においては、第2ラインから第(n−1)ラインまでのスプレーノズル1から吐出された処理液は基板200上に供給され、第1ラインのスプレーノズル1から吐出された処理液は基板200上に供給されない。
【0071】
すなわち、本実施の形態に係る基板処理装置100における第(n−1)ラインのスプレーノズル1bが、図6に示す基板処理装置の第nラインのスプレーノズル1と同じ領域に対して処理液を供給している。
【0072】
したがって、本実施の形態に係る基板処理装置100においては、スプレーパイプ2の本数を削減しても第(n−1)ラインのスプレーノズル1bが、図6に示す比較例の基板処理装置の第nラインのスプレーノズル1の代わりに基板200上に処理液を供給することができる。
【0073】
以上のように、本実施の形態に係る基板処理装置100においては、基板処理装置100内のスプレーパイプ2の本数を削減した場合でも、基板200の表面に均一に処理液を供給することができる。そのため、基板処理装置100の処理室30を小型化することにより、省スペース化を図ることが可能となる。さらに、スプレーパイプ2の数を削減することができるので、低コスト化を図ることができる。
【0074】
また、本実施の形態においては、ローラ軸400および搬送ローラ40が所定時間ごとに正回転および逆回転を繰り返すことにより、基板200をX方向およびその逆方向に往復動させながらスプレーノズル1,1a,1bから処理液を吐出してもよい。それにより、基板200の往復動の方向とスプレーノズル1,1a,1bの揺動方向が直交するので、基板200の表面に処理液をより均一に供給することができる。
【0075】
なお、本実施の形態において、スプレーパイプ2の本数の削減に伴って処理室30を小型化する代わりに処理室30内にスペースを確保することもできる。その場合、基板処理装置100のメンテナンスを容易に行うことができ、メンテナンス時の作業効率の向上を図ることができる。
【0076】
本実施の形態においては、スプレーパイプ2,2aが複数の管状部材に相当し、スプレーノズル1,1aが第1の吐出部に相当し、スプレーノズル1bが第2の吐出部に相当し、モータM1、リンク機構B1および可動板C1が揺動手段に相当し、ローラ軸400および搬送ローラ40が基板支持手段および移動手段に相当し、基板200が基板に相当する。
【0077】
(第2の実施の形態)
図8は、第2の実施の形態に係る基板処理装置の概略平面図である。
【0078】
第2の実施の形態に係る基板処理装置が第1の実施の形態に係る基板処理装置と異なるのは以下の点である。
【0079】
ここで、水平面内で直交する2方向をX方向およびY方向とし、鉛直方向をZ方向とする。なお、本実施の形態においては、基板処理装置100aにX方向から基板(図示せず)が搬入される。
【0080】
図8に示すように、基板処理装置100aは、処理室32を有する。処理室32は、Y方向に平行な側壁32b,32dおよびX方向に平行な側壁32a,32cからなる。処理室32内にX方向に平行に延びる複数のスプレーパイプ2がY方向に等間隔(ピッチ)Kで配置されている。また、処理室32の側壁32dの外側にはモータM1、リンク機構B1および可動板C1が設けられている。各スプレーパイプ2の下面には複数のスプレーノズル1がX方向に所定の間隔(ピッチ)Lで設けられている。複数のスプレーパイプ2に設けられた複数のスプレーノズル1は、千鳥状に配置されている。
【0081】
また、複数のスプレーパイプ2の両方の外側には、スプレーパイプ2aおよびスプレーパイプ2bがそれぞれ設けられている。スプレーパイプ2a,2bには、X方向に所定の間隔(ピッチ)Lの半分の間隔(ピッチ)L/2でスプレーノズル1a,1bが交互に設けられている。スプレーパイプ2a,1aおよび1bの詳細については後述する。
【0082】
次いで、スプレーノズル1,1a,1bが揺動される状態について説明する。
図9および図10は、図8の基板処理装置100aのB−B線模式的断面図である。ここで、スプレーノズル1,1a,1bは、図9の矢印W1の方向および図10の矢印W2の方向に揺動する。図9の矢印W1の方向を正方向と呼び、図10の矢印W2の方向を逆方向と呼ぶ。図9は、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が正方向の最大の場合を示し、図10は、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が逆方向の最大の場合を示す。
【0083】
図9に示すように、複数のスプレーパイプ2の下方に複数のローラ軸400が水平姿勢で配置されている。各ローラ軸400には複数の搬送ローラ40がほぼ等間隔(等ピッチ)で取り付けられている。複数の搬送ローラ40上に基板200が水平姿勢で支持される。
【0084】
また、図9および図10に示すように、支持板5は、スプレーノズル1,1a,1bが基板200と平行に並ぶように支持部材12,13により支持される
図9に示すように、スプレーノズル1,1aの揺動角度が正方向の最大の場合、スプレーパイプ2のスプレーノズル1およびスプレーパイプ2a,2bのスプレーノズル1aから処理液が、基板200に斜め方向に吐出される。
【0085】
続いて、スプレーノズル1,1a,1bが処理液を吐出しつつ上述したモータM1の働きにより逆方向にスプレーノズル1,1a,1bが回動する。
【0086】
図10に示すように、スプレーノズル1,1a,1bの揺動角度が逆方向の最大の場合、スプレーパイプ2のスプレーノズル1およびスプレーパイプ2a,2bのスプレーノズル1bから処理液が基板200に斜め方向に吐出され、スプレーパイプ2aのスプレーノズル1bから処理液が、基板200に逆の斜め方向に吐出される。
【0087】
続いて、スプレーノズル1,1a,1bが処理液を吐出しつつ上述したモータM1の働きにより正方向にスプレーノズル1,1a,1bが回動する。
【0088】
以上の動作を繰り返すことにより、スプレーノズル1,1a,1bが揺動し、正方向および逆方向に基板200の表面に処理液を均一に供給することができる。
【0089】
以上のように、本実施の形態に係る基板処理装置100aにおいては、基板処理装置100a内のスプレーパイプ2の本数を削減した場合でも、基板200の表面に均一に処理液を供給することができる。そのため、基板処理装置100aの処理室30を小型化することにより、省スペース化を図ることが可能となる。さらに、スプレーパイプ2の数を削減することができるので、低コスト化を図ることができる。
【0090】
また、本実施の形態においては、ローラ軸400および搬送ローラ40が所定時間ごとに正回転および逆回転を繰り返すことにより、基板200をX方向およびその逆方向に往復動させながらスプレーノズル1,1a,1bから処理液を吐出してもよい。それにより、基板200の往復動の方向とスプレーノズル1,1a,1bの揺動方向が直交するので、基板200の表面に処理液をより均一に供給することができる。また、スプレーノズル1,1a,1bにより吐出された処理液が基板200上に保持されるため、処理液による基板の処理時間を確保することができる。
【0091】
なお、本実施の形態において、スプレーパイプ2の本数の削減に伴って処理室30を小型化する代わりに処理室30内にスペースを確保することもできる。その場合、基板処理装置100aのメンテナンスを容易に行うことができ、メンテナンス時の作業効率の向上を図ることができる。
【0092】
本実施の形態においては、スプレーパイプ2,2a,2bが複数の管状部材に相当し、スプレーノズル1,1aが第1の吐出部に相当し、スプレーノズル1bが第2の吐出部および第3の吐出部に相当し、モータM1、リンク機構B1および可動板C1が揺動手段に相当し、ローラ軸400および搬送ローラ40が基板支持手段および移動手段に相当し、基板200が基板に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置の概略平面図である。
【図2】図1の基板処理装置のA−A線模式的断面図である。
【図3】図1の基板処理装置のA−A線模式的断面図である。
【図4】スプレーパイプに取り付けられたスプレーノズルを示す模式的斜視図である。
【図5】(a)は揺動角度θが最小の場合のスプレーノズルを示す模式的拡大図、(b)は揺動角度θが最大の場合のスプレーノズルを示す模式的拡大図である。
【図6】比較例の基板処理装置を用いて基板の表面処理を行う状態を示す模式図である。
【図7】本実施の形態に係る基板処理装置を用いて基板の表面処理を行う状態を示す模式図である。
【図8】第2の実施の形態に係る基板処理装置の概略平面図である。
【図9】図8の基板処理装置のB−B線模式的断面図である。
【図10】図8の基板処理装置のB−B線模式的断面図である。
【図11】従来の基板処理装置の断面図である。
【図12】従来の基板処理装置の断面図である。
【符号の説明】
1,1a,1b スプレーノズル
2,2a,2b スプレーパイプ
5 支持板
7,8 マグネット円板
30a,30b,30c,30d 側壁
32 処理室
40 搬送ローラ
200 基板
400 ローラ軸
M1 モータ
B1 リンク機構
C1 可動板
Claims (6)
- 基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置であって、
基板を支持する基板支持手段と、
前記基板支持手段により支持される基板の上方に並列にかつ回動可能に配列され、処理液が供給される複数の管状部材と、
前記複数の管状部材にそれぞれ設けられ、各管状部材の軸心から外方を向く第1の方向に処理液を吐出する複数の第1の吐出部と、
前記複数の管状部材のうち一方の外側の管状部材に設けられ、前記管状部材の軸心から外方を向きかつ前記第1の方向と異なる第2の方向に処理液を吐出する第2の吐出部と、
前記複数の管状部材を一方向および逆方向に回動させることにより少なくとも前記複数の第1の吐出部および前記第2の吐出部のうちいずれかにより前記基板に処理液が供給されるように前記複数の第1の吐出部および前記第2の吐出部を揺動させる揺動手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記複数の管状部材のうち他方の外側の管状部材に設けられ、前記管状部材の軸心から外方を向きかつ前記第1および第2の方向と異なる第3の方向に処理液を吐出する第3の吐出部をさらに備え、
前記揺動手段は、前記複数の管状部材を一方向および逆方向に回動させることにより少なくとも前記複数の第1の吐出部、前記第2の吐出部および第3の吐出部のうちいずれかにより前記基板に処理液が供給されるように前記複数の第1の吐出部、前記第2の吐出部および前記第3の吐出部を揺動させることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記基板支持手段は、
前記一方の外側の管状部材に近い端部が他方の端部よりも高くなるように基板を傾斜姿勢で支持することを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 - 前記基板支持手段は、
基板を水平姿勢で支持することを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装置。 - 前記基板支持手段は、前記揺動手段による揺動方向に交差する方向に基板を移動させる移動手段を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記移動手段は、前記揺動手段による揺動方向に交差する方向に基板を往復移動させることを特徴とする請求項5記載の基板処理装置。
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