KR20050087446A - 습식에칭장치 - Google Patents

Abstract

개시된 습식에칭장치는 에칭작업이 수행되는 에칭챔버와, 에칭챔버 내로 기판을 수직으로 세워서 이송하는 이송유닛과, 이송유닛에 의하여 에칭챔버 내로 이송되는 기판에 에칭액을 분사하는 에칭액 분사유닛 및 분사된 에칭액을 순환시켜 분사유닛에 재공급하는 순환유닛을 포함하여 구성된다.

이와 같은 구성의 습식에칭장치는 기판의 이송을 지면과 수직인 방향으로 하기 때문에, 에칭대상인 기판으로부터 에칭액의 원활한 배출을 할 수 있게 하여 균일한 에칭을 할 수 있게 될 뿐 아니라, 노즐 및 노즐파이프의 오실레이션 운동에 의해 에칭액이 균일하게 분사되도록 하여 에칭하고자 하는 소재인 기판의 에칭면을 균일하게 가공할 수 있는 효과를 제공할 수 있다.

Description

습식에칭장치{Apparatus For Wet Etching}

본 발명은 에칭 장치에 관한 것으로서, 특히 균일한 에칭을 위한 습식 에칭장치에 관한 것이다.

일반적으로 에칭은 결정표면을 청정화 하거나, 재료의 평가를 위해서 하기도 하나, 최근에는 미세가공을 위한 가공기술로서 광범위하게 응용되고 있다.

에칭방법은 습식에칭(wet etching) 방법과 건식에칭(dry etching) 방법으로 분류될 수 있다.

이중 건식에칭 방법은 플라즈마 내에 존재하는 원소와 에칭 대상의 표면 물질간의 화학반응과, 플라즈마 내에 존재하는 활성화 입자들과의 표면 충돌에 의한 반응촉진에 의해 진행되는 되는 플라즈마 에칭이 대표적이다.

또한 건식에칭방법으로 기상화학반응에 의한 건식에칭이 있고, 가속된 이온을 써서 시료 표면의 원자를 물리적으로 스퍼터링(sputtering) 해서 에칭하는 이온빔에 의한 에칭이 있다.

이러한 건식에칭 공정은 습식에칭에 비해 가공정밀도가 우수하여 미세가공분야에서 최근 널리 사용하고 있으나, 에칭속도가 늦고, 에칭장치의 처리능력이 낮아 경제적인 문제를 안고 있다.

반면 습식에칭 방법은 에칭하고자 하는 막과 화학적으로 반응하여 용해시킬 수 있는 화학용액(에칭액, etchant)을 사용하여 에칭하고자 하는 소재를 원하는 형상으로 에칭하는 방법이다.

이러한 습식에칭은 건식에칭에 비해 대량으로 작업이 가능하며, 작업속도도 빠르고, 경제적이기 때문에 건식에칭 방법보다는 정밀도를 요하지 않는 인쇄회로기판(PCB; Printed Circuit Board)이나 글라스 캡(glass cap) 등의 제조 분야에 널리 사용되고 있다.

이러한 습식에칭 공정은 에칭(etching)공정, 세정(rinse)공정, 건조(dry)공정의 순으로 진행됨이 일반적이며, 소재의 종류에 따라 건조공정은 생략되고 에칭공정과 세정공정으로 이루어지거나, 세정공정까지 생략되기도 한다.

에칭공정은 에칭하고자 하는 기판의 표면에 에칭액을 분사하거나 에칭액이 담겨 있는 배스(bath)에 에칭하고자 하는 기판을 침잠시켜 에칭액과 기판표면과의 화학반응에 의해 원하는 형상을 만드는 공정을 말하며, 세정공정은 에칭공정의 전 또는 후에 소재의 불순물이나 에칭에 따른 부산물을 제거하는 공정이며, 건조공정은 에칭된 소재에 기체를 분사하여 이를 건조시키는 공정을 말한다.

한편, 도 1은 일반적인 습식 에칭공정을 개략적으로 나타낸 것이다.

이에 따라 설명하면, 종래의 습식에칭 장비는 에칭하고자 하는 대상 기판을 로딩(loading)하는 로더(loader)부(10)와, 상기 로더부(10)로부터 로딩된 에칭의 대상이 되는 기판이 이동되어 대기되는 버퍼(buffer)부(12)와, 상기 버퍼부(12)로부터 이동된 에칭하고자 하는 기판을 에칭 처리하는 에칭부(14)와, 에칭된 대상 기판을 세정하는 세정부(16)와 및 상기 세정부(16)로부터 에칭의 대상이 되는 기판을 언로딩시키는 언로더(unloader)부(18)로 구성된다.

도 2는 상기 에칭공정 중 에칭부(14)에 채용된 에칭장비를 개략적으로 나타낸 것이다.

이와 같은 종래의 에칭장비는 도 2에 나타낸 바와 같이 에칭액 분사수단(24)과, 에칭하고자 하는 기판(28)을 상기 에칭액 분사수단(24)으로 이송시키는 이송수단(20)을 구비한다.

상기 이송수단(20)은 일반적으로 롤러(roller) 또는 컨베이어 벨트(conveyor belt)로 구성된다.

상기 에칭액 분사수단(24)은 에칭하고자 하는 대상 기판(28)의 표면에 분사하는 노즐의 형태로 구성된다.

상기 에칭장비에서 에칭이 수행됨에 있어, 에칭액(etchant,26)을 일정하게 분사하는 노즐(nozzle,24) 아래로 이송수단(20)에 의해 이동된 에칭하고자 하는 기판(28)이 이동되면서 노즐(24)에 의하여 에칭액(26)이 에칭 대상인 기판(28)으로 분사되고, 상기 에칭액(26)과 기판(28) 사이의 화학적 반응이 일어나 습식에칭이 이루어지게 된다.

이때 에칭장치로 이송되는 기판(28)은 지면과 수평으로 버퍼부(12)로부터 에칭부(14)로 이송되고, 에칭챔버(22) 내에서 노즐(24)에서 분사되는 에칭액(26)과 접촉함으로써 화학반응이 일어나게 되고, 이에 의해 에칭이 수행된다.

이러한 에칭과정에서의 문제점은 에칭의 대상이 되는 기판(28)이 지면과 수평으로 이송됨에 따라 노즐(24)에서 분사된 에칭액(26)이 기판(28)의 위에 일정시간 머물게 되어, 에칭면에 균일한 에칭이 이루어지기 어렵고, 따라서 에칭면의 에칭정도가 일정치 않아 불량률이 높다는 문제가 있어 왔다.

즉, 수평상태에서 에칭의 대상이 되는 소재인 기판(28)을 에칭하였을 때, 기판(28)의 중심으로부터 같은 거리에 있는 지점일지라도, 그 에칭량은 차이를 보이며, 이는 기판(28) 상에서 에칭액(26)의 확산 속도가 균일하지 못할 뿐 아니라, 에칭된 부산물의 분포에 따라 에칭의 속도가 달라지기 때문이다.

더욱이, 종래의 습식 에칭장치에 의한 에칭은 수평상태에서 에칭을 함에 따라 에칭된 부산물이 기판(28)의 중심에 집중적으로 분포하게 되어, 상기 기판(28)의 중심에서는 에칭속도가 느리고, 상대적으로 기판(28)의 주변부로 갈수록 기판(28)의 에칭속도가 빨라져, 기판(28) 전면에 걸쳐 균일한 에칭속도를 제공하지 못하기 때문에, 한 장의 기판(28)에서 제작되는 생산물들의 두께나 투명도가 일정하지 않아 품질의 일정성을 유지하는데 문제가 된다.

게다가 대량생산을 위해 기판(28)의 크기를 크게 할 경우 기판(28)의 불균일한 에칭은 더욱 심해지는 문제점이 있으며, 상기 노즐(24)로부터 분사된 에칭액(26)이 에칭대상인 기판(28)의 상부에 일정시간 머무르게 되어 그 시간동안 원하지 않는 에칭이 더 진행되는 문제도 발생한다.

또한, 이송수단(20)인 롤러나 컨베이어벨트 등에 의해 에칭액(26)이 에칭대상인 기판(28)의 에칭면에 도달하는 것이 방해받게 되고, 이에 의해 에칭면의 균일한 에칭을 방해받게 되는 문제점이 있다.

한편, 이와 같은 에칭장치의 예는 일본 특허공개 제2003-73861호에 개시된 바 있다. 이러한 에칭장치 및 에칭시스템에서는 프린트 기판 등의 에칭대상물을 이동시키면서 균일한 에칭을 하기 위한 기구가, 수평으로 에칭 대상물을 이송하는 이송체 및 상기 이송체의 하방에 배치되는 에칭액의 노즐부와 에칭 대상물의 윗면을 실(seal)하는 실(seal)체로 구성되고, 이송유닛은 소정간격으로 배치한 복수의 이송 롤러(roller)로 구성되며, 에칭대상물을 상하 반전하는 반전장치를 포함하여서, 제1의 에칭장치로 에칭 대상물의 하측면을 하방으로부터 에칭하고, 다음에 상기 반전장치로 에칭 대상물을 상하 반전하고, 제2의 에칭장치로 반전되는 윗면을 하방으로부터 에칭하도록 구성되어 있다.

이에 의하면 에칭 대상물의 에칭은 상하 반전장치에 의해 양면의 에칭이 수행되나, 이는 기존의 에칭장치에 비하여 반전장치가 더 필요하고, 에칭시스템의 차지하는 공간이 커짐에 따라 경제적으로 불리해지며, 한 면씩 차례로 에칭을 함으로써 에칭 속도가 떨어지게 되는 문제점이 있다.

또한 대한민국 특허청 공개특허공보 제2003-0035149호에 개시된 습식 에칭장치에 의하면 에칭대상을 로딩/언로딩시키는 로더/언로더부 및 상기 로더/언로더부로부터 로딩된 에칭의 대상을 에칭공정, 세정공정, 건조공정이 단일 공간에서 수행되도록 한 에칭(식각)처리부가 개시되어 있다.

이에 의하면, 에칭처리부는 에칭액을 분사하는 에칭액 공급부와, 순수(pure water)를 분사하는 순수 공급부 및 가스를 분사하는 가스 공급부를 구비하며, 상기 로더/언로더부로부터 로딩된 에칭 대상을 회전시킬 수 있는 회전부가 구비된다.

따라서 일반적인 기존의 에칭장치에 있어 회전부를 더 구비함으로써, 장치가 복잡하게 되고, 경제적으로도 불리해지게 된다.

본 발명은 상기의 필요성을 감안하여 창출된 것으로서, 에칭장치에서 에칭이 수행될 때, 기판에 머무는 에칭액을 빠른 시간 내에 배출할 수 있도록 함으로써 에칭면을 균일화하기 위해, 기판이 수직으로 이송되는 이송수단이 포함된 에칭장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 특정방향에 에칭량이 집중되는 것을 방지하고, 에칭액이 기판에 균일하게 분사되어 에칭 대상인 기판의 전면에 걸쳐 균일한 에칭분포를 가질 수 있도록 종래 고정되어 있던 노즐의 운동형태를 개선한 에칭장치를 제공하는 데 있다.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 습식에칭장치는, 에칭작업이 수행되는 에칭챔버와, 상기 에칭챔버 내로 기판을 수직으로 세워서 이송하는 이송유닛과, 상기 이송유닛에 의하여 에칭챔버 내로 이송되는 상기 기판에 에칭액을 분사하는 에칭액 분사유닛 및 분사된 에칭액을 순환시켜 상기 분사유닛에 재공급하는 순환유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.

여기에서 상기 이송유닛은 에칭라인 상에 연속적으로 배열한 복수개의 롤러로 이루어져, 에칭하고자 하는 기판이 롤러에 형성된 홈을 따라 수직으로 이송되도록 하는 이송롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 습식에칭장치에 있어, 상기 에칭부의 균일한 에칭액 분사를 위해 오실레이션(oscillation) 운동을 하는 것을 특징으로 하는 진동로드, 노즐파이프 및 노즐을 더 포함하는 것이 바람직하다.

이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식에칭장치의 외관을 도시한 사시도이며, 도 4는 본 발명의 내부구조를 도시한 측면도이다.

본 발명에 따른 에칭장치는, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 버퍼부(12, 도 1 참조)로부터 에칭챔버(30) 내로 기판(40)을 이송할 때, 에칭챔버(30) 내로 지면과 수직으로 이송되도록 에칭챔버(30)의 내측 저면에 홈이 형성된 다수 개의 이송롤러(80)가 구비된다.

에칭장치의 유지 및 보수를 편리하게 할 수 있도록 하기 위하여, 상기 에칭챔버(30)는 내부를 육안으로 볼 수 있도록 투명 또는 반투명한 재료에 의해 만들어지고, 에칭챔버(30)의 일면에 도어(32)를 구비하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명에 따른 습식에칭장치 중, 에칭액 순환유닛은 내부에 에칭액의 재활용을 위한 필터(62)를 내장하고 에칭액을 저장하는 컨테이너(60), 일단은 상기 컨테이너(60)에 연결되고, 타단은 노즐파이프(70)에 연결되어 에칭액을 공급하는 에칭액의 공급관(74), 상기 에칭액 공급관(74)에 연결되고 에칭액을 분사하는 노즐(72)이 설치된 노즐파이프(70), 에칭액을 가압하여 상기 컨테이너(60)로부터 에칭액 공급관(74)으로 배출시키기 위한 순환펌프(76), 상기 에칭챔버(30)로부터 에칭이 수행된 후의 에칭액을 다시 에칭액 저장 컨테이너(60)로 순환시키는 에칭액 배출관(64)으로 이루어지고, 상기 노즐파이프(70)에 형성되어 에칭액을 에칭 대상인 기판(40)으로 분사시키는 노즐(72)을 포함하여 구성된다.

상기 컨테이너(60)에 저장되는 에칭액은 순환모터(78)에 의해 구동되는 펌프(76)에 의해 에칭액 공급관(74)을 통하여 노즐파이프(70)에 설치되어 있는 노즐(72)로부터 에칭 대상인 기판(40)의 에칭면으로 분사된다.

이에 따라 분사된 에칭액과 기판(40)과의 화학반응에 의해 에칭이 이루어지고, 에칭된 후의 에칭액은 에칭챔버(30)의 저면으로 흘러 내려가 에칭액 배출관(64)을 따라 다시 컨테이너(60)로 회수된다.

상기 에칭액 배출관(64)을 따라 회수되는 에칭액은 에칭의 부산물을 포함하고 있으므로, 이의 재활용을 위해 컨테이너(60) 내부에 설치되는 필터(62)에 의해 걸러지게 된다.

상기 필터(62)에 의해 걸러지는 에칭액은 다시 컨테이너(60)의 에칭액 저장부(61)에 저장되고, 에칭액 공급관(74)으로 인도되는 순환과정을 거치게 된다.

도 5는 상기한 이송롤러(80)를 도시한 것이다.

상기 이송롤러(80)는 기판(40)의 두께에 따라 이송롤러(80)의 외면을 따라 홈(82)이 형성되어 안정적으로 기판(40)을 이송할 수 있게 된다.

이송모터(미도시)가 구동되면, 헬리컬기어(helical gear, 84)에 의해 상기 이송롤러(80)가 회전운동을 하게 되며, 상기 이송롤러(80)에 의해 기판(40)은 도시된 화살표 방향으로 일정하게 왕복운동을 하게 된다.

이때, 기판(40)을 보다 안정적인 상태에서 수직으로 이송하기 위하여는, 상기 에칭챔버(30) 내부의 상하방에 상기 이송롤러(80)를 평행하게 설치하여, 기판(40)의 상하단부를 동시에 지지하며 이송하도록 할 수도 있다.

이에 따라 기판(40)의 이송이 더욱 안정되고 원활하게 되며, 이송 중에 이송롤러(80)로부터 기판(40)이 이탈되는 것을 방지할 수 있다.

도 6은 상기 에칭액의 분사를 위한 노즐(72)이 오실레이션 운동을 하도록 하는 분사각 조절수단을 도시한 사시도이다.

에칭액을 분사하는 복수의 노즐(72)은 노즐파이프(70)에 구비되고, 다수의 노즐파이프(70)는 각각 노즐회전판(91)과 결합되어 진동로드(90)에 고정된다.

상기 진동로드(90)와 에칭챔버(30)의 외부에 위치하는 원판형의 캠(92)은 연결수단에 의해 연결되며, 상기 연결수단의 일단은 상기 진동로드(90)와, 타단은 체결수단(98)에 의해 상기 캠(92)과 연결된다.

상기 연결수단은 제1연결부재(97)와, 제2연결부재(93) 및 회전축(99)을 포함하여 구성된다.

또한, 상기 캠(92)의 중심에 위치하고 캠(92)의 하부로 고정된 캠축(96)은 오실레이션 모터(86)에 연결된다.

이에 따라, 상기 오실레이션 모터(86)가 작동하면, 이에 연결된 캠축(96)이 회전하게 되고, 상기 캠축(96)의 회전에 의해 캠(92)이 회전하고, 상기 캠(92)의 회전에 따라 연결수단으로 연결된 진동로드(90)는 X방향으로 직선 오실레이션 운동을 하게 된다.

상기 진동로드(90)가 X방향으로 오실레이션 운동을 함에 따라, 상기 진동로드(90)와 연결되는 노즐회전판(91)이 일정한 각도로 회전하게 되고, 상기 노즐회전판(91)에 고정되어 있는 노즐파이프(70)가 일정한 각도로 회전하는 오실레이션 운동을 하게 된다.

이에 따라 상기 노즐파이프(70)에 설치된 노즐(72)의 에칭액 분사각이 주기적으로 일정하게 변경된다.

또한 바람직하게는 상기 진동로드(90)와 캠(92)이 체결됨에 있어 그 사이의 각도를 90도로 함으로써, 또 하나의 에칭챔버가 유격 없이 설치될 수 있게 하여 작업능률을 향상시킬 수 있다.

즉, 이하 설명하는 바와 같이, 오실레이션 모터(86)와 캠(92) 및 캠축(96)이 에칭챔버(30)의 양쪽 옆면에 위치하게 되어, 다른 에칭챔버를 직렬로 배치시켜도 간섭되는 것이 없게 되므로, 에칭장치를 설치하는 공간을 절약할 수 있다.

상기 연결수단에 의해 오실레이션 모터(86)의 회전운동을 노즐(72)의 오실레이션 운동으로 변환하여 전달되는 메커니즘에 대해 상세히 살펴보면, 오실레이션 모터(86)의 구동에 따라 캠(92)이 회전하게 되고, 이에 따라 ㄷ자형 제1연결부재(97)가 Y방향으로 왕복운동을 하게 된다.

상기 제1연결부재(97)의 왕복운동에 의해 상기 제1연결부재(97)와 일단부가 연결된 ㄱ자형 제2연결부재(93)가 회전축(99)을 중심으로 일정각도로 회전운동을 하게 되고, 이에 따라 상기 제2연결부재(93)의 타단부에 결합되는 진동로드(90)는 X방향으로 왕복운동을 하게 되어, 상기 노즐(72)에서 에칭액이 균일하게 분사될 수 있게 된다.

상기의 실시예에서 고정부재(91)는 에칭챔버(30)의 내부 벽면에 고정된다.

도 7은 상기 노즐(72)의 오실레이션 운동을 위한 상기 캠의 다른 실시예를 도시한 것이다.

상기 캠(100)의 중심으로부터 방사상으로 복수 개의 구멍(102)이 형성되며, 진동로드(90)의 일단과 결합되는 연결수단 중 제1연결부재(97)의 일단이 캠(100)과 결합되고, 상기 캠(100)을 결합할 구멍(102)을 작업자의 의도에 따라 선택하여 체결수단(98)에 의해 체결함으로써, 노즐파이프(70)의 회전각도를 원하는 각도로 변경시킬 수 있게 된다.

도 8a는 상기 캠의 또 다른 실시예를 도시한 것이다.

캠(110)에 구멍을 형성할 때, 도 7의 경우와 달리 복수의 구멍(102)을 형성하는 것 대신에, 하나의 장공(112)을 형성하여, 작업자가 원하는 부분에 제1연결부재(90)의 일단이 체결수단(98)에 의하여 캠(110)의 장공(112)과 체결될 수 있도록 함으로써, 노즐파이프(70)가 회전하는 오실레이션 각도를 더욱 정밀하게 조절할 수 있도록 한 것이다.

도 8b는 도 8a에 도시된 I - I의 단면도이다.

상기 장공(112)이 형성된 캠(110)은 에칭챔버(30, 도 8a 참조)의 외부에서 체결수단(98)에 의해 제1연결부재(97)와 체결된다.

상기 도 상기 체결수단(98)은 볼트와 너트로서 구성될 수 있다.

상기에 상술한 바와 같이 구성되는 습식에칭장치에 있어서, 에칭작업이 수행됨에 따라 이송롤러(80)에 의해 기판(40)이 수직으로 이송되어 에칭액의 배출이 원활하게 되고, 노즐파이프(70)의 오실레이션 운동에 의하여 에칭액이 기판(40)의 에칭면에 고르게 분사됨으로써 에칭하고자 하는 기판(40)의 에칭면이 균일하게 되는 것이다.

이상에서 상술한 본 발명의 에칭장치는 다음과 같은 효과를 제공한다.

첫째, 에칭을 위한 이송유닛에 있어, 에칭하고자 하는 기판을 지면과 수직으로 이송하는 이송롤러를 포함하고, 습식에칭이 진행되는 동안 에칭의 부산물들과 에칭액이 소재인 기판에 머물지 않고 중력 및 노즐의 에칭액 방출 압력에 의해 하방으로 흘러내리게 함으로써, 특정방향으로 에칭량이 집중되는 것을 방지할 수 있게 된다.

이에 따라 소재인 기판의 전면에 걸쳐 균일한 에칭분포를 갖게 한다.

둘째, 에칭장치의 에칭액 분사를 위한 노즐에 있어, 노즐이 설치되는 파이프를 일정 속도로 오실레이션 운동을 시킴으로써, 분사되는 에칭액의 분사각에 따라 에칭액이 소재인 기판에 도달하는 에칭액의 양이 일정하게 유지될 수 있도록 한다.

셋째, 에칭하고자 하는 기판을 지면에 대하여 수직으로 세워서 이송하고, 노즐을 기판의 양면에 배치되도록 하여, 한번의 작업으로 기판의 양면을 동시에 에칭할 수 있게 되어, 에칭에 소요되는 작업시간이 짧아질 뿐 아니라, 시간당 작업량이 많아지게 된다.

넷째, 에칭하고자 하는 기판을 수직으로 세워서 이송하고, 에칭챔버를 투명하게 설계함으로써, 작업자가 에칭과정을 육안으로 볼 수 있게 하고, 에칭챔버에 도어를 달아 에칭장치에 문제가 발생하였을 때 에칭장치의 유지 보수를 쉽게 할 수 있도록 한다.

본 발명은 상기에 설명되고 도면에 예시된 것에 의해 한정되는 것이 아니며, 다음에 기재되는 청구의 범위 내에서 더 많은 변형 및 변용예가 가능한 것임은 물론이다.

도 1은 일반적인 습식 에칭공정의 공정도.

도 2는 일반적인 에칭장비에 의한 에칭공정의 개략도.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식에칭장치의 외관을 도시한 사시도.

도 4는 도 3에 도시된 습식에칭장치의 내부를 보인 측면도.

도 5는 도 4에 도시된 이송롤러의 사시도.

도 6은 도 4에 도시된 오실레이션 장치를 도시한 사시도.

도 7은 도 6에 도시된 캠의 다른 실시예를 도시한 사시도.

도 8a는 도 6에 도시된 캠의 또 다른 실시예를 도시한 사시도.

도 8b는 도 8a에 도시된 I - I의 단면도.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

30 : 에칭챔버 40 : 기판 60 : 컨테이너

64 : 에칭액 배출관 70 : 노즐파이프 72 : 노즐

74 : 에칭액 공급관 76 : 순환펌프 78 : 에칭액 순환모터

80 : 이송롤러 84 : 헬리컬 기어 86 : 오실레이션 모터

90 : 진동로드 92, 100, 110 : 캠 94, 102 : 구멍

96 : 캠축 98 : 체결수단 112 : 장공

Claims (9)

1. 에칭작업이 수행되는 에칭챔버와;

   상기 에칭챔버 내로 기판을 수직으로 세워서 이송하는 이송유닛과;

   상기 이송유닛에 의하여 에칭챔버 내로 이송되는 상기 기판에 에칭액을 분사하는 에칭액 분사유닛과;

   분사된 에칭액을 순환시켜 상기 분사유닛에 재공급하는 순환유닛을 포함하는 습식에칭장치.
2. 제 1항에 있어서,

   상기 이송유닛은 에칭챔버의 내측 하부에 기판을 수직으로 이송할 수 있도록 홈이 형성된 다수개의 롤러를 포함하고;

   상기 에칭액 순환유닛은 내부에 에칭액의 재활용을 위한 필터를 내장하고 에칭액을 저장하는 컨테이너와, 상기 컨테이너에 연결되고, 노즐파이프에 연결되어 에칭액을 공급하는 에칭액의 공급관과, 상기 에칭액 공급관에 연결되고 에칭액을 분사하는 노즐이 설치된 노즐파이프와, 상기 컨테이너로부터 에칭액 공급관으로 에칭액을 가압하여 배출시키기 위한 순환펌프 및 상기 에칭챔버로부터 에칭이 수행된 후의 에칭액을 다시 에칭액 저장 컨테이너로 순환시키는 에칭액 배출관을 포함하고;

   상기 에칭액 분사유닛은 노즐파이프에 형성되어 에칭액을 에칭 대상인 기판으로 분사시키는 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 습식에칭장치.
3. 제 2항에 있어서,

   상기 에칭챔버 내측의 하부에 설치되는 다수개의 롤러에 평행하게 상부에 동일한 홈이 형성된 복수 개의 롤러가 더 설치되어 있음을 특징으로 하는 습식에칭장치.
4. 제 2항에 있어서,

   에칭액의 균일한 분사를 위해 상기 노즐파이프를 회동시키며 분사각을 조절하는 분사각 조절수단이 더 구비되어 있음을 특징으로 하는 습식에칭장치.
5. 제 4항에 있어서,

   상기 분사각 조절수단은,

   상기 노즐파이프와 일단부가 결합되며, 상기 에칭챔버 내에서 회동 가능하게 설치되는 노즐회전판;

   오실레이션 운동을 위한 오실레이션 모터;

   상기 오실레이션 모터에 의해 회전하는 캠;

   상기 노즐회전판의 타단부와 결합되어 상기 에칭챔버 내에서 왕복이동 가능하게 설치된 진동로드 및;

   상기 캠의 회전운동을 진동로드의 왕복운동으로 전환시켜 전달되도록 상기 캠과 진동로드를 연결하는 연결수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 습식에칭장치.
6. 제 5항에 있어서,

   상기 연결수단은,

   상기 캠에 체결되고 캠의 회전에 따라 제1방향으로 왕복운동하는 제1연결부재와;

   상기 제1연결부재와 상기 진동로드에 양단부가 각각 결합되며 소정의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 설치되어, 상기 제1연결부재의 왕복운동에 따라 상기 진동로드가 제2방향으로 왕복운동되게 연결하는 제2연결부재를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 습식에칭장치
7. 제 6항에 있어서,

   상기 제1방향과 제2방향은 90도의 각도를 이루는 것을 특징으로 하는 습식에칭장치.
8. 제 6항에 있어서,

   상기 캠에는 상기 노즐의 오실레이션 동작 각도를 조절할 수 있도록 상기 제1연결부재가 선택적으로 체결되는 복수 개의 구멍이 형성된 것을 특징으로 하는 습식에칭장치.
9. 제 6항에 있어서,

   상기 캠에는 상기 노즐의 오실레이션 동작 각도를 조절할 수 있도록 상기 제1연결부재가 임의로 체결되는 장공이 형성된 것을 특징으로 하는 습식에칭장치.