JPH08244930A - 基板搬送装置 - Google Patents
基板搬送装置Info
- Publication number
- JPH08244930A JPH08244930A JP5263595A JP5263595A JPH08244930A JP H08244930 A JPH08244930 A JP H08244930A JP 5263595 A JP5263595 A JP 5263595A JP 5263595 A JP5263595 A JP 5263595A JP H08244930 A JPH08244930 A JP H08244930A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transport roller
- roller shaft
- side plates
- base board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Rollers For Roller Conveyors For Transfer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 大きなサイズの基板を搬送する場合にも、搬
送ローラ軸の自重による撓みによって搬送不良を生じる
ことのない基板搬送装置。 【構成】 一対の側板2a、2bが相互に一定距離だけ
離隔配置されて洗浄槽が構成されている。これらの側板
2a、2bには、互いに対向する位置にころがり軸受4
0、40が取り付けられ、搬送ローラ50の軸60を回
転自在に水平方向に支持する。この際、軸60の中央側
を中空パイプ部64で構成しているので、搬送ローラ5
0の中央側の重量に起因して発生する撓みを減少させる
ことができる。このため、軸60に基板Wを支持すべく
設けた段付ローラ70、70が傾斜することを防止で
き、搬送時における基板Wの支持不良を防止して搬送不
良の発生を防止することができる。
送ローラ軸の自重による撓みによって搬送不良を生じる
ことのない基板搬送装置。 【構成】 一対の側板2a、2bが相互に一定距離だけ
離隔配置されて洗浄槽が構成されている。これらの側板
2a、2bには、互いに対向する位置にころがり軸受4
0、40が取り付けられ、搬送ローラ50の軸60を回
転自在に水平方向に支持する。この際、軸60の中央側
を中空パイプ部64で構成しているので、搬送ローラ5
0の中央側の重量に起因して発生する撓みを減少させる
ことができる。このため、軸60に基板Wを支持すべく
設けた段付ローラ70、70が傾斜することを防止で
き、搬送時における基板Wの支持不良を防止して搬送不
良の発生を防止することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体ウエハ、液晶
用ガラス角型基板、プリント基板などの各種基板を、そ
の表面処理などのために、互いに平行に配置された多数
の搬送ローラによって水平方向に搬送する基板搬送装置
に関する。
用ガラス角型基板、プリント基板などの各種基板を、そ
の表面処理などのために、互いに平行に配置された多数
の搬送ローラによって水平方向に搬送する基板搬送装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、基板の表面に処理液を供給し
て基板処理を行う基板処理装置などにおいて、処理前、
処理中或いは処理後の基板をある場所から別の場所に搬
送するため、互いに平行に配置された多数の搬送ローラ
によって基板を水平方向に搬送する基板搬送装置が知ら
れている。
て基板処理を行う基板処理装置などにおいて、処理前、
処理中或いは処理後の基板をある場所から別の場所に搬
送するため、互いに平行に配置された多数の搬送ローラ
によって基板を水平方向に搬送する基板搬送装置が知ら
れている。
【0003】図3は、従来の基板処理装置に組み込まれ
た基板搬送装置の構造を説明する正面図である。従来の
基板搬送装置では、同図に示すように、一対の側板2
a、2bが相互に一定距離だけ離隔配置されて処理槽が
構成されている。これらの側板2a、2bには、互いに
対向する位置にそれぞれ貫通孔が形成され、両貫通孔に
それぞれスベリ型軸受4a、4bが取り付けられ、基板
Wを載置する搬送ローラ5を構成する搬送ローラ軸6の
両端を回転可能に支持している。
た基板搬送装置の構造を説明する正面図である。従来の
基板搬送装置では、同図に示すように、一対の側板2
a、2bが相互に一定距離だけ離隔配置されて処理槽が
構成されている。これらの側板2a、2bには、互いに
対向する位置にそれぞれ貫通孔が形成され、両貫通孔に
それぞれスベリ型軸受4a、4bが取り付けられ、基板
Wを載置する搬送ローラ5を構成する搬送ローラ軸6の
両端を回転可能に支持している。
【0004】なお、図示を省略するが、上記のような搬
送ローラ5は複数個互いに平行に水平方向に配置されて
いる。さらに、各搬送ローラ5に設けた搬送ローラ軸6
の一端に固定された駆動ギア8は、図示を省略する伝達
機構を介して、単一の駆動モータにそれぞれ連結されて
いる。このため、各搬送ローラ5を連動させて等速度で
回転させ、各搬送ローラ5の一対の段付ローラ7a、7
b上に載せられた基板Wを所定方向に搬送することがで
きる。
送ローラ5は複数個互いに平行に水平方向に配置されて
いる。さらに、各搬送ローラ5に設けた搬送ローラ軸6
の一端に固定された駆動ギア8は、図示を省略する伝達
機構を介して、単一の駆動モータにそれぞれ連結されて
いる。このため、各搬送ローラ5を連動させて等速度で
回転させ、各搬送ローラ5の一対の段付ローラ7a、7
b上に載せられた基板Wを所定方向に搬送することがで
きる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、基板
サイズの大型化が進み、基板Wを支持する一対の段付ロ
ーラ7a、7b間の間隔を広くしなければならなくな
り、それに応じて搬送ローラ軸6も長くせざるを得なく
なっている。
サイズの大型化が進み、基板Wを支持する一対の段付ロ
ーラ7a、7b間の間隔を広くしなければならなくな
り、それに応じて搬送ローラ軸6も長くせざるを得なく
なっている。
【0006】しかし、搬送ローラ軸6は、中実で円柱状
のステンレス材から形成されているので、その長さが長
くなるにつれてその重さも大きくなり、自重によって撓
んでしまう。このような撓んだ搬送ローラ軸6によって
基板Wを搬送しようとした場合、搬送ローラ軸6に固定
された一対の段付ローラ7a、7bが傾斜して、これら
段付ローラ7a、7b外周の基板支持面の平行度が悪く
なる。このため、基板Wが段付ローラ7a、7bの段の
上に乗り上げて搬送不良を生じてしまうなどの問題が生
じる。
のステンレス材から形成されているので、その長さが長
くなるにつれてその重さも大きくなり、自重によって撓
んでしまう。このような撓んだ搬送ローラ軸6によって
基板Wを搬送しようとした場合、搬送ローラ軸6に固定
された一対の段付ローラ7a、7bが傾斜して、これら
段付ローラ7a、7b外周の基板支持面の平行度が悪く
なる。このため、基板Wが段付ローラ7a、7bの段の
上に乗り上げて搬送不良を生じてしまうなどの問題が生
じる。
【0007】そこで、この発明は、大きなサイズの基板
を搬送する場合にも、搬送ローラ軸の自重による撓みに
よって搬送不良を生じることのない基板搬送装置を提供
することを目的とする。
を搬送する場合にも、搬送ローラ軸の自重による撓みに
よって搬送不良を生じることのない基板搬送装置を提供
することを目的とする。
【0008】また、この発明は、大きなサイズの基板を
搬送する場合にも搬送ローラ軸の撓みによって搬送不良
を生じることがなく、かつ基板の搬送中にその基板に処
理液を供給してその表面処理を行うことが可能な基板搬
送装置を提供することを目的とする。
搬送する場合にも搬送ローラ軸の撓みによって搬送不良
を生じることがなく、かつ基板の搬送中にその基板に処
理液を供給してその表面処理を行うことが可能な基板搬
送装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1の基板搬送装置は、基板を水平に支持して
搬送する基板搬送装置において、互いに一定間隔だけ離
隔して対向配置された一対の側板と、両端部が一対の側
板によってそれぞれ回転自在にかつ水平に支持され、中
央側に中空部を有する搬送ローラ軸と、搬送ローラ軸に
固定されて搬送ローラ軸とともに回転することにより、
外周部に載置された基板を搬送する搬送ローラとを備え
ることを特徴とする。
め、請求項1の基板搬送装置は、基板を水平に支持して
搬送する基板搬送装置において、互いに一定間隔だけ離
隔して対向配置された一対の側板と、両端部が一対の側
板によってそれぞれ回転自在にかつ水平に支持され、中
央側に中空部を有する搬送ローラ軸と、搬送ローラ軸に
固定されて搬送ローラ軸とともに回転することにより、
外周部に載置された基板を搬送する搬送ローラとを備え
ることを特徴とする。
【0010】また、請求項2の基板搬送装置は、搬送ロ
ーラ軸が、側板によって支持される両端部で中実となっ
ていることを特徴とする。
ーラ軸が、側板によって支持される両端部で中実となっ
ていることを特徴とする。
【0011】また、請求項3の基板搬送装置は、さら
に、搬送ローラの外周部に載置されて搬送される基板の
表面に向けて所定の処理液を供給する処理液供給ノズル
を有することを特徴とする。
に、搬送ローラの外周部に載置されて搬送される基板の
表面に向けて所定の処理液を供給する処理液供給ノズル
を有することを特徴とする。
【0012】
【作用】請求項1の基板搬送装置では、両端部が一対の
側板によってそれぞれ回転自在にかつ水平に支持され、
中央側に中空部を有する搬送ローラ軸を備えるので、搬
送ローラ軸の主に中央側の重量に起因して発生する撓み
を減少させて搬送ローラのうちの基板を支持する部分の
傾斜を低減することができ、搬送時における基板の支持
不良を防止して搬送不良の発生を予防することができ
る。
側板によってそれぞれ回転自在にかつ水平に支持され、
中央側に中空部を有する搬送ローラ軸を備えるので、搬
送ローラ軸の主に中央側の重量に起因して発生する撓み
を減少させて搬送ローラのうちの基板を支持する部分の
傾斜を低減することができ、搬送時における基板の支持
不良を防止して搬送不良の発生を予防することができ
る。
【0013】また、請求項2の基板搬送装置では、搬送
ローラ軸が側板によって支持される両端部で中実となっ
ているので、搬送ローラ軸の強度を高めて基板の支持を
確実なものとすることができる。
ローラ軸が側板によって支持される両端部で中実となっ
ているので、搬送ローラ軸の強度を高めて基板の支持を
確実なものとすることができる。
【0014】また、請求項3の基板搬送装置では、さら
に搬送ローラの外周部に載置されて搬送される基板の表
面に向けて所定の処理液を供給する処理液供給ノズルを
有するので、基板を搬送しつつ基板処理が可能となる。
に搬送ローラの外周部に載置されて搬送される基板の表
面に向けて所定の処理液を供給する処理液供給ノズルを
有するので、基板を搬送しつつ基板処理が可能となる。
【0015】
【実施例】図1は、この発明に係る基板搬送装置を基板
洗浄装置に適用した実施例を示す概略斜視図である。こ
の装置は、洗浄すべき基板Wを収容する洗浄槽2を備え
る。この洗浄槽2は、互いに所定間隔をもって離間し互
いに対向して鉛直方向に延びる一対の側板2a、2bを
備える。なお、この洗浄槽2内では、洗浄液Lが基板W
上面に供給されて基板W上面の洗浄処理が行われる。
洗浄装置に適用した実施例を示す概略斜視図である。こ
の装置は、洗浄すべき基板Wを収容する洗浄槽2を備え
る。この洗浄槽2は、互いに所定間隔をもって離間し互
いに対向して鉛直方向に延びる一対の側板2a、2bを
備える。なお、この洗浄槽2内では、洗浄液Lが基板W
上面に供給されて基板W上面の洗浄処理が行われる。
【0016】洗浄槽2の上方位置には、基板2の上面に
洗浄液Lを供給するため複数のパイプ9が水平配置され
ており、パイプ9に接続されたポンプ(図示省略)を作
動させて洗浄液Lをパイプ9に圧送すると、各パイプ9
の下面側に一定間隔で穿設された孔から洗浄液Lが基板
Wの上面に向けて吐出されるようになっている。
洗浄液Lを供給するため複数のパイプ9が水平配置され
ており、パイプ9に接続されたポンプ(図示省略)を作
動させて洗浄液Lをパイプ9に圧送すると、各パイプ9
の下面側に一定間隔で穿設された孔から洗浄液Lが基板
Wの上面に向けて吐出されるようになっている。
【0017】また、これらのパイプ9の下方位置には、
複数の搬送ローラ50が一対の側板2a、2b間に水平
方向に平行かつ等間隔で連設されている。各搬送ローラ
50は、これらの搬送ローラ軸60の一端側に設けたタ
イミングプーリ10、これらタイミングプーリ10に掛
け渡されたタイミングベルト12及びタイミングベルト
12の緩みを防ぐテンションプーリ14によって互いに
連結されている。したがって、モータ16の回転がタイ
ミングベルト18を介して1つのタイミングプーリ10
に伝達されると、各搬送ローラ50は同期して等速で回
転する。この結果、各搬送ローラ50に固定された段付
ローラ70上に水平に支持された基板Wは、矢印Aの方
向に定速で搬送されることとなる。よって、基板Wを水
平方向に一定速度で搬送しつつ基板W上に洗浄液Lを供
給することができ、基板Wの連続的な洗浄処理を行うこ
とが可能となる。
複数の搬送ローラ50が一対の側板2a、2b間に水平
方向に平行かつ等間隔で連設されている。各搬送ローラ
50は、これらの搬送ローラ軸60の一端側に設けたタ
イミングプーリ10、これらタイミングプーリ10に掛
け渡されたタイミングベルト12及びタイミングベルト
12の緩みを防ぐテンションプーリ14によって互いに
連結されている。したがって、モータ16の回転がタイ
ミングベルト18を介して1つのタイミングプーリ10
に伝達されると、各搬送ローラ50は同期して等速で回
転する。この結果、各搬送ローラ50に固定された段付
ローラ70上に水平に支持された基板Wは、矢印Aの方
向に定速で搬送されることとなる。よって、基板Wを水
平方向に一定速度で搬送しつつ基板W上に洗浄液Lを供
給することができ、基板Wの連続的な洗浄処理を行うこ
とが可能となる。
【0018】図2は、図1の装置の要部の正面構造を示
す部分断面図である。搬送ローラ50の搬送ローラ軸6
0の両端は、一対の側板2a、2b間に回転可能に支持
されている。この搬送ローラ軸60のうち両側板2a、
2bに近い位置には、それぞれ一対の段付ローラ70が
取り付けられており、これら一対の段付ローラ70を一
組として基板Wの両側部を支持する。なお、段付ローラ
70は、小輪70aとガイド輪70bとで構成されてお
り、小輪70aの外周面で基板Wの両側部を支持する一
方、ガイド輪70bで基板Wの蛇行を防止している。
す部分断面図である。搬送ローラ50の搬送ローラ軸6
0の両端は、一対の側板2a、2b間に回転可能に支持
されている。この搬送ローラ軸60のうち両側板2a、
2bに近い位置には、それぞれ一対の段付ローラ70が
取り付けられており、これら一対の段付ローラ70を一
組として基板Wの両側部を支持する。なお、段付ローラ
70は、小輪70aとガイド輪70bとで構成されてお
り、小輪70aの外周面で基板Wの両側部を支持する一
方、ガイド輪70bで基板Wの蛇行を防止している。
【0019】搬送ローラ軸60は、両端側の中実部6
2、62と中央側の中空パイプ部64とからなる。各中
実部62、62は、一対の側板2a、2bに設けた転が
り軸受40、40によって回転可能に支持されている。
一方、中空パイプ部64の両端は、両中実部62、62
に設けた段差部分62a、62aと嵌り合い溶接によっ
て固定されている。
2、62と中央側の中空パイプ部64とからなる。各中
実部62、62は、一対の側板2a、2bに設けた転が
り軸受40、40によって回転可能に支持されている。
一方、中空パイプ部64の両端は、両中実部62、62
に設けた段差部分62a、62aと嵌り合い溶接によっ
て固定されている。
【0020】以上から明らかなように、この実施例では
搬送ローラ軸60の中央側を中空パイプ部64で構成し
ているので、搬送ローラ50の中央側の重量に起因して
発生する撓みを減少させることができる。このため、搬
送ローラ軸60に基板Wを支持すべく設けた段付ローラ
70、70が傾斜することを防止でき、搬送時における
基板Wの支持不良を防止して搬送不良の発生を防止する
ことができる。なお、搬送ローラ50の中央側の重量を
減らすのは、転がり軸受40、40を支点とした場合、
中央側に加わる荷重ほど搬送ローラ軸60の撓みを生じ
させ易いこいとを考慮したものである。
搬送ローラ軸60の中央側を中空パイプ部64で構成し
ているので、搬送ローラ50の中央側の重量に起因して
発生する撓みを減少させることができる。このため、搬
送ローラ軸60に基板Wを支持すべく設けた段付ローラ
70、70が傾斜することを防止でき、搬送時における
基板Wの支持不良を防止して搬送不良の発生を防止する
ことができる。なお、搬送ローラ50の中央側の重量を
減らすのは、転がり軸受40、40を支点とした場合、
中央側に加わる荷重ほど搬送ローラ軸60の撓みを生じ
させ易いこいとを考慮したものである。
【0021】また、搬送ローラ軸60が一対の側板2
a、2bによって支持される両端部で中実となっている
ので、搬送ローラ50基板Wからの荷重が直接加わる部
分で搬送ローラ軸60の強度を高めて基板Wの支持を確
実なものとすることができる。なお、搬送ローラ軸60
の中央側に中空パイプ部64を設けているので、この部
分が中実である場合に比較して搬送ローラ軸60の慣性
質量が減少し、搬送ローラ50の回転の制御が容易にな
るとともに、駆動源であるモータ16の負荷を減少させ
ることができる。
a、2bによって支持される両端部で中実となっている
ので、搬送ローラ50基板Wからの荷重が直接加わる部
分で搬送ローラ軸60の強度を高めて基板Wの支持を確
実なものとすることができる。なお、搬送ローラ軸60
の中央側に中空パイプ部64を設けているので、この部
分が中実である場合に比較して搬送ローラ軸60の慣性
質量が減少し、搬送ローラ50の回転の制御が容易にな
るとともに、駆動源であるモータ16の負荷を減少させ
ることができる。
【0022】さらに、搬送ローラ軸60を中空パイプ部
64の両端に中実部62、62をはめ込んで固定する構
造となっているので、中空パイプ部64のみの量産や中
実部62、62のみの量産が可能となり、用途に応じて
様々な部品62、64を予め準備しておいてこれらを適
宜組み合わせることができるので、コストの削減を図る
ことができる。さらに、中空パイプ部64内の中空部に
対応する材料費を減少させることもできる。なお、段付
ローラ70、70は、シュパンリング方式によって搬送
ローラ軸60を締め付けて摩擦力によって搬送ローラ軸
60に固定するタイプのものであるので、中空パイプ部
64に孔開けする特別の加工が不要となり、中空パイプ
部64の加工を容易なものとすることができる。
64の両端に中実部62、62をはめ込んで固定する構
造となっているので、中空パイプ部64のみの量産や中
実部62、62のみの量産が可能となり、用途に応じて
様々な部品62、64を予め準備しておいてこれらを適
宜組み合わせることができるので、コストの削減を図る
ことができる。さらに、中空パイプ部64内の中空部に
対応する材料費を減少させることもできる。なお、段付
ローラ70、70は、シュパンリング方式によって搬送
ローラ軸60を締め付けて摩擦力によって搬送ローラ軸
60に固定するタイプのものであるので、中空パイプ部
64に孔開けする特別の加工が不要となり、中空パイプ
部64の加工を容易なものとすることができる。
【0023】以上、実施例に即してこの発明を説明した
が、この発明は上記実施例に限定されるものではない。
例えば、上記実施例では基板搬送機構10、12、1
6、18、50を基板洗浄装置に適用した例を示した
が、前処理用の剥離装置やレジスト用の現像装置などの
各種処理装置に適用することもできる。
が、この発明は上記実施例に限定されるものではない。
例えば、上記実施例では基板搬送機構10、12、1
6、18、50を基板洗浄装置に適用した例を示した
が、前処理用の剥離装置やレジスト用の現像装置などの
各種処理装置に適用することもできる。
【0024】また、上記実施例では搬送ローラ50の搬
送ローラ軸60の中央側を中空構造としているが、搬送
ローラ軸60全体を中空とすることもできる。ただしこ
の場合、搬送ローラ軸60の強度が所期の強度以上に保
たれるように、搬送ローラ軸60を構成するパイプの肉
厚、直径、長さ等の寸法を適宜調節する必要がある。
送ローラ軸60の中央側を中空構造としているが、搬送
ローラ軸60全体を中空とすることもできる。ただしこ
の場合、搬送ローラ軸60の強度が所期の強度以上に保
たれるように、搬送ローラ軸60を構成するパイプの肉
厚、直径、長さ等の寸法を適宜調節する必要がある。
【0025】
【発明の効果】以上のように、請求項1の装置によれ
ば、両端部が一対の側板によってそれぞれ回転自在にか
つ水平に支持され、中央側に中空部を有する搬送ローラ
軸を備えるので、搬送ローラ軸の主に中央側の重量に起
因して発生する撓みを減少させて搬送ローラのうちの基
板を支持する部分の傾斜を低減することができ、搬送時
における基板の支持不良を防止して搬送不良の発生を予
防することができる。
ば、両端部が一対の側板によってそれぞれ回転自在にか
つ水平に支持され、中央側に中空部を有する搬送ローラ
軸を備えるので、搬送ローラ軸の主に中央側の重量に起
因して発生する撓みを減少させて搬送ローラのうちの基
板を支持する部分の傾斜を低減することができ、搬送時
における基板の支持不良を防止して搬送不良の発生を予
防することができる。
【0026】また、請求項2の装置によれば、搬送ロー
ラ軸が側板によって支持される両端部で中実となってい
るので、搬送ローラ軸の強度を高めて基板の支持を確実
なものとすることができる。
ラ軸が側板によって支持される両端部で中実となってい
るので、搬送ローラ軸の強度を高めて基板の支持を確実
なものとすることができる。
【0027】また、請求項3の装置によれば、さらに搬
送ローラの外周部に載置されて搬送される基板の表面に
向けて所定の処理液を供給する処理液供給ノズルを有す
るので、基板を搬送しつつ基板処理が可能となる。
送ローラの外周部に載置されて搬送される基板の表面に
向けて所定の処理液を供給する処理液供給ノズルを有す
るので、基板を搬送しつつ基板処理が可能となる。
【図1】この発明にかかる基板処理装置の一実施例を示
す概略斜視図である。
す概略斜視図である。
【図2】図1の部分断面図である。
【図3】従来の基板処理装置を示す図である。
W 基板 2 洗浄槽 2a、2b 側板 10 タイミングプーリ 12、18 タイミングベルト 14 テンションプーリ 16 モータ 40 転がり軸受 50 搬送ローラ 60 搬送ローラ軸 62 中実部 64 中空パイプ部 70 段付ローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 H01L 21/68 A
Claims (3)
- 【請求項1】 基板を水平に支持して搬送する基板搬送
装置において、 互いに一定間隔だけ離隔して対向配置された一対の側板
と、 両端部が一対の側板によってそれぞれ回転自在にかつ水
平に支持され、中央側に中空部を有する搬送ローラ軸
と、 搬送ローラ軸に固定されて搬送ローラ軸とともに回転す
ることにより、外周部に載置された基板を搬送する搬送
ローラと、を備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 【請求項2】 搬送ローラ軸は、側板によって支持され
る両端部で中実となっていることを特徴とする請求項1
記載の基板搬送装置。 - 【請求項3】 さらに、搬送ローラの外周部に載置され
て搬送される基板の表面に向けて所定の処理液を供給す
る処理液供給ノズルを有することを特徴とする請求項1
記載の基板搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5263595A JPH08244930A (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5263595A JPH08244930A (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 基板搬送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08244930A true JPH08244930A (ja) | 1996-09-24 |
Family
ID=12920291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5263595A Pending JPH08244930A (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08244930A (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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