JP2004352427A - 搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ガラス基板のような被搬送物を搬送ローラによって搬送する搬送装置において、被搬送物の波打ちや端面の垂れ下がりを抑制することにより、搬送ローラの磨耗や、端面の処理装置との衝突を回避できる、制御が容易な搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送ローラの軸として凹型あるいは凸型に撓んだ軸を用い、同一の直径を持つ複数のコロを、各取り付け位置において、軸に垂直に交わるように固定する。軸の中央部はベアリング入りの軸受けで支持し、両端は、ベアリング入りの軸受けまたは自在軸受けで支持する。
【選択図】 図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板等の被搬送物を搬送するための装置であって、特に、搬送ローラにより、被搬送物を搬送する搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置の製造ラインは、洗浄装置、塗布装置、乾燥装置、現像装置、剥離装置などの複数の処理装置からなり、これらの処理装置で、順次、ガラス基板に処理を施すことにより液晶表示装置が製造される。
【０００３】
これらの処理装置間でのガラス基板の搬送方法として、従来、水平に並べられた複数の搬送ローラによって搬送する方法がある。搬送ローラは、軸にコロを複数個取り付けたもので、コロが軸の回転とともに回転することにより、コロ上に載置されたガラス基板が水平に動き、搬送される。
【０００４】
近年、ガラス基板の大型化に伴い、比較的大きな基板を搬送するために、直径の異なるコロを備えた搬送ローラで、基板を撓ませて搬送する搬送装置が提案されている（特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平９−２０８０７８号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法では、軸に取り付けてあるコロの直径が異なるため、軸を同じ回転速度で回転させた場合、載置した基板の水平方向の搬送速度が、直径の大きいコロと小さいコロで異なるという問題が生じる。この問題を解決するためには、直径の大きさによって軸の回転速度を変えることが考えられるが、この場合、制御系が複雑になるという問題がある。
【０００７】
本発明は、このような問題に鑑みなされたもので、その目的とするところは、制御が容易で、大型の平板状の被搬送物を確実に搬送できる搬送装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために本発明は、被搬送物を搬送する搬送装置であって、撓んだ軸にローラを具備した搬送ローラを備え、搬送ローラ上に被搬送物を載置して搬送する搬送装置を提供する。ここで、被搬送物は、ガラス基板等である。
【０００９】
軸は支持部で支持され、軸と支持部との間にはベアリングが設けられることが、撓んだ軸を安定して支持する点から好ましい。支持部の数はローラ長や基板の重量に応じて適宜設定すればよい。また、軸を支持する支持部には自在軸受けを用いることができる。軸の撓み（曲率）は基板の重量による撓みより少なく、また、撓みによる軸材の応力が疲労破壊に至らない程度に設定しても良い。
軸材には棒状（中実）、パイプ状（中空）、コイルバネ状部材などを用いても良い。
【００１０】
上記構成によれば、撓んだ軸を持つ搬送ローラ上に載置され、搬送される被搬送物は、軸の撓みと同様の撓みを持った形状で搬送される。被搬送物は、撓ませることにより端部の垂れ下がりや波打ちが抑えられる。これにより、処理装置の搬入口やコロに被搬送物が衝突することのない、安定した搬送が可能な搬送装置を提供できる。また、ローラピッチを拡大できる為ローラ数を削減できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を詳細に説明する。図１は、本発明の１実施の形態にかかる搬送装置９、１３、１５、１７、１９を有する、塗布装置１および乾燥装置１１からなる製造ラインの概略構成図、図２は、搬送装置９、１３、１５、１７、１９を構成する搬送ローラ７を示す図である。
【００１２】
図１に示すように、搬送装置９、１３、１５、１７、１９は、液晶表示装置の製造過程において、ガラス基板Ｇにレジスト膜を形成するための塗布装置１、および、塗布したレジスト膜を乾燥するための乾燥装置１１から成る製造ラインに設置される。
【００１３】
このほかに、搬送装置は、液晶表示装置の製造ラインにおいて、洗浄装置、現像装置、剥離装置など、他の処理装置および処理装置間に設置することも可能である。
【００１４】
塗布装置１は、ステージ５、ダイヘッド３、ガラス基板Ｇの搬入口１ａおよび搬出口１ｂ等を有する。ステージ５の上面には、ガラス基板Ｇより僅かに大きい矩形状のステージ面５ａが設けられ、この上にガラス基板Ｇが載置される。
【００１５】
ダイヘッド３は、ガラス基板Ｇの一辺程度の長さの直方体形状を有し、その長手方向が塗布装置１の搬入口１ａと搬出口１ｂを結ぶ方向に向けられている。また、ダイヘッド３の下面には、その長手方向に沿って塗布液を吐出するためのスリットがある。ダイヘッド３は、塗布液を吐出しながら、図１において手前から奥に向かう方向に移動し、ステージ面５ａ上に載置されたガラス基板Ｇの全面に塗布液を塗布する。
【００１６】
搬送口１ａの外側には、ガラス基板Ｇを搬入口１ａに搬入するための搬送装置９、搬出口１ｂの外側には、搬出口１ｂから搬出されるガラス基板Ｇを次の処理装置である乾燥装置１１に搬入するための搬送装置１３が設置される。搬送装置９、１３は、同一の方向に同一の速度で回転する複数個の搬送ローラ７を水平に配置したものである。
【００１７】
乾燥装置１１は、乾燥室２１、および、真空予備室２３、２５等を有し、減圧下でガラス基板Ｇを乾燥する。
【００１８】
乾燥室２１は加熱装置２７と搬送装置１７等を有し、図示していない減圧ポンプにより減圧される。また、乾燥室２１は、搬入口２１ａと搬出口２１ｂを持つ。
【００１９】
加熱装置２７は、遠赤外線による輻射加熱でガラス基板Ｇを乾燥する。搬入口２１ａおよび搬出口２１ｂにはゲートバルブが設けられており、搬送装置１７は、同一の方向に同一の速度で回転する複数個の搬送ローラ７を水平に配置したもので、ガラス基板Ｇを搬入口２１ａを介して真空予備室２３から受け入れ、また、乾燥済みのガラス基板Ｇを搬出口２１ｂを介して真空予備室２５に送り出す。
【００２０】
真空予備室２３は、図示していない減圧ポンプにより減圧が可能で、ゲートバルブが設けられた搬入口２３ａを持ち、搬送装置１５を備えている。同様に、真空予備室２５は、図示していない減圧ポンプにより減圧が可能で、ゲートバルブが設けられた搬出口２５ｂを持ち、搬送装置１９を備えている。搬送装置１５、１９は、同一の方向に同一の速度で回転する複数個の搬送ローラ７を水平に配置したものである。
【００２１】
塗布装置１によるレジスト膜の塗布が完了し、搬出口１ｂから搬出されたガラス基板Ｇは、搬送装置１３上を移動し、真空予備室２３の搬入口２３ａを介して搬送装置１５上に搬入され、搬送装置１５の所定の位置に至る。その後、搬入口２３ａのゲートバルブが閉じられ、真空予備室２３が所定の減圧度まで減圧される。
【００２２】
減圧完了後、ガラス基板Ｇは、搬送装置１５上を移動し、搬入口２１ａを介して乾燥室２１の搬送装置１７上に搬入され、搬送装置１７上の所定の位置で加熱装置２７により乾燥される。乾燥後、ガラス基板Ｇは乾燥装置１７上を移動し、乾燥室２１の搬出口２１ｂを介して減圧された真空予備室２５の搬送装置１９上に送り出される。その後、真空予備室２５が通常圧に戻され、ガラス基板Ｇは、搬出口２５ｂを介して乾燥装置１１から搬出される。
【００２３】
図２は、図１に示した搬送装置９、１３、１５、１７、１９を構成する搬送ローラ７の概略構成図である。
【００２４】
図２に示すように、搬送ローラ７は、軸６９、複数のコロ７１、中央支持部５１、および、側部支持部５３、５５等を有し、ガラス基板Ｇを載置して搬送する。軸６９は凹状に撓ませてあり、両端を、略直方体の側部支持部５３および５５によって、中央を、これも略直方体の中央支持部５１によって支持されている。軸６９は、表示されていないモータ等の駆動系により、一定の回転速度で回転する。
【００２５】
中央支持部５１には、円筒状の穴５７が、その中心線が水平になるように設けられ、この穴５７にベアリング５９が設けられる。軸６９を、ベアリング５９の入ったこの穴５７を貫通するように設置することにより、回転する撓んだ軸６９の中央部が支持される。
【００２６】
また、側部支持部５３、５５にも、それぞれ、円筒状の穴６１、６５が設けられ、さらに、それらの穴６１、６５に、それぞれ、ベアリング６３、６７が設けられる。軸６９の一端がベアリング６３の入った穴６１を、また、軸６９の他の一端がベアリング６７の入った穴６５を貫通するように設置することにより、軸６９の両端が支持される。
【００２７】
側部支持部５３および５５に設置する軸受けには、自在軸受けを用いることもできる。
【００２８】
軸６９には円盤状の複数のコロ７１が設けられる。各コロ７１は同一の直径を有する。コロ７１の個数は、ガラス基板Ｇの大きさや厚さ等の条件、搬送装置９、１３、１５、１７、１９の設置形態等の条件に合うように設定される。
【００２９】
各コロ７１は、それぞれの取り付け位置において、軸６９に対して垂直をなすように固定され、１本の搬送ローラ７に取り付けられた複数のコロ７１とガラス基板Ｇが接触する接触面は、軸６９の凹型の撓みが反映された形状をなす。
【００３０】
その結果、搬送ローラ７に載置され、搬送されるガラス基板Ｇは、凹型に撓んだ形状を保って搬送される。このような凹型形状にすることにより、ガラス基板Ｇは波打つことなく、また、端面が垂れ下がることなく搬送される。
【００３１】
ガラス基板Ｇの端面の垂れ下がらないので、処理装置の搬入口や搬出口、例えば、図１に示した塗布装置１の搬入口１ａ、乾燥装置１１の真空予備室２３および乾燥室２１の搬入口２３ａ、２１ａ、乾燥室２１および真空予備室２５の搬出口２１ｂ、２５ｂとの衝突によるガラス基板Ｇの破損の問題が回避できる。
【００３２】
次に、搬送ローラ７の他の実施形態について説明する。図３は、凸型の軸９９を有する搬送ローラ７の概略構成図である。
【００３３】
図３に示すように、搬送ローラ７は、軸９９、複数のコロ１０１、中央支持部８１、および、側部支持部８３、８５等を有し、ガラス基板Ｇを載置して搬送する。軸９９は凸型に撓ませてあり、軸９９は、両端を略直方体の側部支持部８３および８５、中央をこれも略直方体の中央支持部８１によって支持され、表示されていないモータ等の駆動系により、一定の回転速度で回転する。
【００３４】
中央支持部８１には、円筒状の穴８７が、その中心線が水平になるように設けられ、この穴８７にベアリング８９が設けられる。軸９９を、ベアリング８９の入ったこの穴８７を貫通するように設置することにより、回転する撓んだ軸９９の中央部が支持される。
【００３５】
また、側部支持部８３、８５にも、それぞれ、円筒状の穴９１、９５が設けられ、さらに、それらの穴９１、９５に、それぞれ、ベアリング９３、９７が設けられる。軸９９の一端がベアリング９３の入った穴９１を、また、軸９９の他の一端がベアリング９７の入った穴９５を貫通するように設置することにより、軸９９の両端が支持される。側部支持部８３および８５に設置する軸受けには、自在軸受けを用いることもできる。
【００３６】
軸９９には複数の円盤状のコロ１０１が設けられる。各コロ１０１の直径は同一で、コロ１０１の個数は、ガラス基板Ｇの条件、搬送装の条件に合うように設定される。各コロ１０１は、それぞれの取り付け位置において、軸９９に対して垂直をなすように固定され、１本の搬送ローラ７に取り付けられた複数のコロ１０１のガラス基板Ｇとの接触面は、軸９９の凸型の撓みが反映された形状をなす。
【００３７】
その結果、搬送ローラ７によって搬送されるガラス基板Ｇは、凸型に撓んだ状態で搬送され、図２に示した凹型の搬送ローラの場合と同様に、ガラス基板Ｇの波打ちや端面の垂れ下がりを抑制でき、処理装置の搬入口や搬出口との衝突の問題が回避できる。
【００３８】
以上、本発明の実施の形態を詳細に説明したが、本発明は、前述した実施の形態に限定されるものでなく、種々の改変が可能であり、それらも、本発明の技術的範囲に含まれる。
【００３９】
例えば、前述した実施の形態では、液晶表示装置について説明したが、本発明は、プリント配線板等の可撓性基板の製造ラインにおいても用いることができる。
【００４０】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明によれば、制御が容易で、大型の平板状の被搬送物を確実に搬送できる搬送装置を提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の１実施の形態にかかる搬送装置９、１３、１５、１７、１９の概略構成図
【図２】搬送装置９、１３、１５、１７、１９に設けられた凹型の搬送ローラ７を示す図
【図３】搬送装置９、１３、１５、１７、１９に設けられた凸型の搬送ローラ７を示す図
【符号の説明】
９、１３、１５、１７、１９ ……… 搬送装置
７ ……… 搬送ローラ
５１ ……… 中央支持部
５３、５５ ……… 側部支持部
６９ ……… 軸
７１ ……… コロ
Ｇ ……… ガラス基板

Claims (4)

1. 被搬送物を搬送する搬送装置であって、
   撓んだ軸にローラが設けられた搬送ローラを有し、前記搬送ローラ上に前記被搬送物を載置して、前記被搬送物を搬送することを特徴とする搬送装置。
2. 前記軸は、支持部で支持され、前記軸と前記支持部との間にはベアリングが設けられることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
3. 前記軸を支持する支持部には自在軸受けが設けられることを特徴とする請求項２に記載の搬送装置。
4. 前記被搬送物は、基板であることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。

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